JP5075946B2 - パターン検査装置およびパターン検査方法 - Google Patents
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Description
前記比較部は、比較する際に、前記階調値或いは階調領域に応じて、複数の閾値を選択的に用い、
前記参照画像データは、前記光学画像データと同様の階調変換テーブルの比率で階調変換され、
前記参照データが示す階調レベルを基に、画素毎に、参照データの階調値が光学画像データにおいて階調分解能を上げた階調領域か、階調分解能を下げた階調領域かが判定される。
前記複数の階調変換テーブルは、階調値或いは階調領域に応じて階調変換するための変化度合が可変に作成され、
比較する際に、前記階調値或いは階調領域に応じて、複数の閾値を選択的に用いられ、
前記参照画像データは、前記光学画像データと同様の階調変換テーブルの比率で階調変換され、
前記参照データが示す階調レベルを基に、画素毎に、参照データの階調値が光学画像データにおいて階調分解能を上げた階調領域か、階調分解能を下げた階調領域かが判定される。
図1は、第1の実施形態におけるパターン検査装置の構成を示す概念図である。図1において、パターンが形成されたマスクやウェハ等の基板を試料して、かかる試料上のパターンの欠陥を検査するパターン検査装置100は、光学画像取得部150と制御系回路160を備えている。光学画像取得部150は、XYθテーブル102、光源103、拡大光学系104、フォトダイオードアレイ105、センサ回路106、レーザ測長システム122、オートローダ130、光量センサ142、及び照明光学系170を備えている。制御系回路160では、コンピュータとなる制御計算機110が、データ伝送路となるバス120を介して、位置回路107、比較回路108、展開回路111、参照回路112、センサ出力補正回路140、オートローダ制御回路113、テーブル制御回路114、磁気ディスク装置109、磁気テープ装置115、フレシキブルディスク装置(FD)116、CRT117、パターンモニタ118、プリンタ119に接続されている。また、XYθテーブル102は、X軸モータ、Y軸モータ、θ軸モータにより駆動される。センサ出力補正回路140は、センサ出力データの補正装置の一例となる。図1では、本第1の実施形態を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。パターン検査装置100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれることは言うまでもない。
被検査領域は、図3に示すように、Y方向に向かって、スキャン幅Wの短冊状の複数の検査ストライプに仮想的に分割され、更にその分割された各検査ストライプが連続的に走査されるようにXYθテーブル102の動作が制御され、X方向に移動しながら光学画像が取得される。フォトダイオードアレイ105では、図2に示されるようなスキャン幅Wの画像を連続的に入力する。そして、第1の検査ストライプにおける画像を取得した後、第2の検査ストライプにおける画像を今度は逆方向に移動しながら同様にスキャン幅Wの画像を連続的に入力する。そして、第3の検査ストライプにおける画像を取得する場合には、第2の検査ストライプにおける画像を取得する方向とは逆方向、すなわち、第1の検査ストライプにおける画像を取得した方向に移動しながら画像を取得する。このように、連続的に画像を取得していくことで、無駄な処理時間を短縮することができる。
(1) Fout=Gain×Fin+Offset
20 ゲイン補正回路
30 オフセット補正回路
40 階調変換回路
100 パターン検査装置
101 フォトマスク
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
140 センサ出力補正回路
150 光学画像取得部
160 制御回路
Claims (2)
- パターン形成された被検査マスクの光学画像を撮像するセンサと、
マスク種に応じて作成された複数の階調変換テーブルを記憶する記憶装置と、
前記記憶装置に記憶された複数の階調変換テーブルの中から前記被検査マスクの種類に対応する階調変換テーブルを選択し、選択された階調変換テーブルに沿って前記センサにより撮像された光学画像データの画素値を階調変換する階調変換部と、
階調変換された光学画像データの比較対象となる参照画像データを入力し、前記階調変換された光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に比較する比較部と、
を備え、
前記複数の階調変換テーブルは、階調値或いは階調領域に応じて階調変換するための変化度合が可変に作成され、
前記比較部は、比較する際に、前記階調値或いは階調領域に応じて、複数の閾値を選択的に用い、
前記参照画像データは、前記光学画像データと同様の階調変換テーブルの比率で階調変換され、
前記参照データが示す階調レベルを基に、画素毎に、参照データの階調値が光学画像データにおいて階調分解能を上げた階調領域か、階調分解能を下げた階調領域かが判定されることを特徴とするパターン検査装置。 - パターン形成された被検査マスクの光学画像をセンサが撮像する工程と、
マスク種に応じて作成された複数の階調変換テーブルを記憶する記憶装置に記憶された複数の階調変換テーブルの中から前記被検査マスクの種類に対応する階調変換テーブルを選択し、選択された階調変換テーブルに沿って前記センサにより撮像された光学画像データの画素値を階調変換する工程と、
階調変換された光学画像データの比較対象となる参照画像データを入力し、前記階調変換された光学画像データと前記参照画像データとを画素毎に比較する工程と、
を備え、
前記被検査マスクの種類に応じて、予め定められたレシピに従って、検査の光量、センサの撮像時間、センサゲインの設定、および階調変換のための階調変換テーブルの設定を行う工程をさらに備え、
前記複数の階調変換テーブルは、階調値或いは階調領域に応じて階調変換するための変化度合が可変に作成され、
比較する際に、前記階調値或いは階調領域に応じて、複数の閾値を選択的に用いられ、
前記参照画像データは、前記光学画像データと同様の階調変換テーブルの比率で階調変換され、
前記参照データが示す階調レベルを基に、画素毎に、参照データの階調値が光学画像データにおいて階調分解能を上げた階調領域か、階調分解能を下げた階調領域かが判定されることを特徴とするパターン検査方法。
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