JP5660704B2 - 回転機器および回転機器の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、回転機器および回転機器の製造方法に関する。

ハードディスクドライブなどのディスク駆動装置は、小型化、大容量化が進み、種々の電子機器に搭載されている。特に携帯電話や携帯型音楽再生機器などの携帯型の電子機器へのディスク駆動装置の搭載が進んでいる。このような携帯型の電子機器に搭載されるディスク駆動装置に対しては、デスクトップＰＣ（Personal Computer）などの据置型の電子機器に搭載されるものと比べて、落下などの衝撃にも耐えうるように耐衝撃性の向上が求められている。

その一方で携帯型の電子機器にとっては小型薄型化や軽量化が命題であり、それに搭載されるディスク駆動装置にも小型薄型化や軽量化が求められる。しかしながら小型薄型化や軽量化を追求すると耐衝撃性が低下する可能性がある。つまり携帯型の電子機器に搭載されるディスク駆動装置には、二律背反の要請が課せられていると言える。

例えば、デスクトップＰＣでの使用を想定した場合には、ディスク駆動装置に加わる衝撃は小さく、実使用で障害を生じることはほとんどないと考えられる。しかしながら、携帯型の電子機器での使用を想定すると、落下などの強い衝撃を受けうるので、ディスク駆動装置に加わる衝撃は大きい場合が多い。したがって、相当な耐衝撃性がないと実使用で障害を生じる可能性がある。

これに対応するため、従来ではディスク駆動装置には流体動圧軸受ユニット（以下Fluid Dynamic Bearing：ＦＤＢと称す）が搭載される。このＦＤＢでは、スリーブの張出部材とハウジングの一端面との間に挟まれるフランジ部が筒状の内胴部内に形成される。そのフランジ部とスリーブの張出部材との間に潤滑剤が介在されているとともに、フランジ部とハウジングの一端面との間にも潤滑剤が介在されている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００７−１９８５５５号公報

このような状況の下、本発明者は以下の課題を認識した。
例えば特許文献１に見られるように、典型的なディスク駆動装置ではベースにＦＤＢが取り付けられ、このＦＤＢを介してハブがベースに対して回転自在に支持される。このハブに磁気記録ディスクを載置して回転駆動する。このようなディスク駆動装置に衝撃による加速度が加わると、磁気記録ディスクとハブとＦＤＢとコアとコイルとの合計質量に衝撃による加速度を乗じた値に応じた大きさの応力がベースの中央付近に加わる。特に、ベースのうち上側に突出してＦＤＢを保持する環状の壁部の根元にこの応力が集中する傾向がある。

ディスク駆動装置の耐衝撃性を維持するためには、ベースは環状の壁部の根元に集中する応力に耐えねばならない。そのため従来では、ベースをこの応力に耐えうる程度に厚くする必要があった。しかしながら、ディスク駆動装置の薄型化に際し、この厚みがボトルネックとなる可能性がある。

本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は耐衝撃性に優れた回転機器の提供にある。

本発明のある態様は、回転機器に関する。この回転機器は、記録ディスクが載置されるべきハブと、流体動圧軸受ユニットを介してハブを回転自在に支持するベースと、ベースに固定され、円環部とそこから半径方向に伸びる複数の突極とを含むコアと、複数の突極に巻き線されて形成されるコイルと、を備える。流体動圧軸受ユニットはラジアル動圧溝が形成される部材を固定するハウジングを含み、ベースは、ハブ側に突出して外周部にコアの円環部の中心孔を通して接着固定されると共に内周部に形成された軸受孔にハウジングが挿入され接着固定されるコア外設ハウジング環囲部と、コア外設ハウジング環囲部の半径方向外側に連続して設けられると共にコア外設ハウジング環囲部に近いほど厚く形成された厚み増大部と、を一体に有し、ラジアル動圧溝はハウジングに環囲され、ハウジングはコア外設ハウジング環囲部に環囲され、コア外設ハウジング環囲部は厚み増大部に環囲されると共に、ハブの回転軸に沿った軸方向に軸方向座標を定義するとき、厚み増大部のハブ側の面のハブから遠い側の端がラジアル動圧溝の軸方向座標範囲内に位置する。

この態様によると、厚み増大部が設けられているので、応力を分散できる。

本発明の別の態様は、回転機器の製造方法である。この方法は、流体動圧軸受を有する回転機器の製造方法であって、潤滑剤が注入されていない流体動圧軸受を所定の作業空間に準備する工程と、作業空間を減圧する工程と、流体動圧軸受の潤滑剤を貯める貯留領域に潤滑剤を吐出する工程と、作業空間を復圧することで、貯留領域に貯められた潤滑剤を流体動圧軸受の潤滑剤が存在すべき領域に導入する工程と、潤滑剤が導入された流体動圧軸受について、第１気圧のもとでの回転軸方向における潤滑剤の液面の第１高さを計測する工程と、潤滑剤が導入された流体動圧軸受について、第１気圧とは異なる第２気圧のもとでの回転軸方向における潤滑剤の液面の第２高さを計測する工程と、潤滑剤が導入された流体動圧軸受について、計測された第１高さと計測された第２高さとを基に検査をする工程と、を含む。

この態様によると、異なる気圧のもとで潤滑剤の液面の高さを計測できる。

なお、以上の構成要素の任意の組み合わせや、本発明の構成要素や表現を方法、装置、システムなどの間で相互に置換したものもまた、本発明の態様として有効である。

本発明によれば、耐衝撃性に優れた回転機器を提供できる。

図１（ａ）〜（ｃ）は、実施の形態に係るディスク駆動装置を示す上面図および側面図および下面図である。 図１のＡ−Ａ線断面図である。 図２の吸引プレートを示す上面図である。 図２のディスク駆動装置のスラストリング付近の拡大断面図である。 図２の左半分を拡大した拡大断面図である。 図６（ａ）〜（ｃ）は、シミュレーションにより得られた応力分布を等高線で示す応力分布図である。 図７（ａ）、（ｂ）は、計測工程を説明するための説明図である。 変形例に係るディスク駆動装置の断面図である。

以下、本発明を好適な実施の形態をもとに図面を参照しながら説明する。各図面に示される同一または同等の構成要素、部材には、同一の符号を付するものとし、適宜重複した説明は省略する。また、各図面における部材の寸法は、理解を容易にするために適宜拡大、縮小して示される。また、各図面において実施の形態を説明する上で重要ではない部材の一部は省略して表示する。

実施の形態に係るディスク駆動装置は回転機器の一例であり、磁気記録ディスクを搭載するハードディスクドライブとして好適に用いられる。
実施の形態に係るディスク駆動装置では、ベースの軸受ユニットを環囲して支える部分に向けてベースの厚みを徐々に増やす。これにより、ベースの耐衝撃性を改善できる。

（ディスク駆動装置１００）
図１（ａ）〜（ｃ）は、実施の形態に係るディスク駆動装置１００を示す上面図および側面図および下面図である。図１（ａ）は、実施の形態に係るディスク駆動装置１００の上面図である。図１（ａ）では、ディスク駆動装置１００の内側の構成を示すため、トップカバー２を外した状態が示される。ディスク駆動装置１００は、ベース４と、ロータ６と、磁気記録ディスク８と、データリード／ライト部１０と、トップカバー２と、を備える。
以降ベース４に対してロータ６が搭載される側を上側として説明する。

磁気記録ディスク８は、ロータ６に載置され、ロータ６の回転に伴って回転する。ロータ６は、図１（ａ）では図示しない軸受ユニット１２を介してベース４に対して回転可能に取り付けられる。ベース４はアルミニウムの合金をダイカストにより成型して形成される。ベース４は、ディスク駆動装置１００の底部を形成する底板部４ａと、磁気記録ディスク８の載置領域を囲むように底板部４ａの外周に沿って形成された外周壁部４ｂと、を有する。外周壁部４ｂの上面４ｃには、６つのねじ穴２２が設けられる。

データリード／ライト部１０は、記録再生ヘッド（不図示）と、スイングアーム１４と、ボイスコイルモータ１６と、ピボットアセンブリ１８と、を含む。記録再生ヘッドは、スイングアーム１４の先端部に取り付けられ、磁気記録ディスク８にデータを記録し、磁気記録ディスク８からデータを読み取る。ピボットアセンブリ１８は、スイングアーム１４をベース４に対してヘッド回転軸Ｓの周りに揺動自在に支持する。ボイスコイルモータ１６は、スイングアーム１４をヘッド回転軸Ｓの周りに揺動させ、記録再生ヘッドを磁気記録ディスク８の上面上の所望の位置に移動させる。ボイスコイルモータ１６およびピボットアセンブリ１８は、ヘッドの位置を制御する公知の技術を用いて構成される。

図１（ｂ）は、実施の形態に係るディスク駆動装置１００の側面図である。トップカバー２は、６つのねじ２０を用いてベース４の外周壁部４ｂの上面４ｃに固定される。６つのねじ２０は、６つのねじ穴２２にそれぞれ対応する。特にトップカバー２と外周壁部４ｂの上面４ｃとは、それらの接合部分からディスク駆動装置１００の内側へリークが生じないように互いに固定される。ここでディスク駆動装置１００の内側とは具体的には、ベース４の底板部４ａと、ベース４の外周壁部４ｂと、トップカバー２と、で囲まれる清浄空間２４である。この清浄空間２４は密閉されるように、つまり外部からのリークインもしくは外部へのリークアウトが無いように設計される。清浄空間２４は、パーティクルが除去された清浄な気体（gas）で満たされる。これにより、磁気記録ディスク８へのパーティクルなどの異物の付着が抑えられ、ディスク駆動装置１００の動作の信頼性が高められている。

清浄空間２４に充填される清浄な気体は、例えば空気（air）であってもよく、あるいはまたヘリウムの分子（単原子分子）などの分子量の小さな分子からなる気体を所定の割合で含んでもよく、あるいはまたほぼ純粋なヘリウムガスであってもよい。
磁気記録ディスク８の回転中、その回転により生じる風圧によって磁気記録ディスク８は浮き上がろうとする。この浮き上がりの力が強いと、接触を避けるため記録再生ヘッドと磁気記録ディスク８との隙間を広めに設計する必要がある場合がある。しかしながら、清浄空間２４に充填される清浄な気体がヘリウムガスを含む場合、ヘリウムの分子量は小さいので磁気記録ディスク８の回転中の風圧も相対的に小さくなりうる。したがって、記録再生ヘッドと磁気記録ディスク８との隙間をより狭くして磁気記録ディスク８の単位面積当たりの記録データ量を多くすることができる。
また、原理的には記録再生ヘッドと磁気記録ディスク８との隙間の下限は、清浄空間２４に充填される清浄な気体の分子の大きさに対応するところ、清浄な気体が小さな分子を相対的に多く含むことにより、その隙間をより狭くすることができる。

図１（ｃ）は、実施の形態に係るディスク駆動装置１００の下面図である。図１（ａ）〜図１（ｃ）を参照すると、ステンレス製のピンなどを固定するため、もしくはその他の目的で、ベース４の底板部４ａには第１貫通孔８２ａが、外周壁部４ｂには第２貫通孔８２ｂが設けられる。ディスク駆動装置１００の薄型化、軽量化のために底板部４ａや外周壁部４ｂを薄くした場合、ピンが挿入され機械的に固定された第１貫通孔８２ａや第２貫通孔８２ｂにおけるリーク量が増大しうる。特に清浄空間２４に充填される清浄な気体がヘリウムガスを多く含む場合、分子量のより大きな気体と比べてリーク量は相対的に多くなる。リーク量が多くなると、清浄空間２４に充填される清浄な気体の総量やヘリウムガスの割合が、例えば経時試験で使用される期間内で有意に変化しうる。それらが変化すると記録再生ヘッドと磁気記録ディスク８との隙間も変化しうるので、正常なデータリード／ライトを妨げる可能性がある。

そこで、ベース４の下面４ｋにおいて、第１貫通孔８２ａの縁に沿って第１シール部材８４ａが設けられる。特に第１シール部材８４ａは第１貫通孔８２ａを覆う。また、外周壁部４ｂの側面４ｂａにおいて、第２貫通孔８２ｂの縁に沿って第２シール部材８４ｂが設けられる。特に第２シール部材８４ｂは第２貫通孔８２ｂを覆う。第１シール部材８４ａおよび第２シール部材８４ｂのそれぞれを、例えば樹脂を含むシート状の材料を所定の形状、例えば円盤状に加工して接着剤で固定することによって形成してもよい。この場合、容易に作業しうる点で好ましい。あるいはまた、第１シール部材８４ａおよび第２シール部材８４ｂのそれぞれを、液状の硬化性樹脂を塗布した後に、加熱やＵＶ照射等により硬化させて形成してもよい。この場合、衝撃によるシール部材の脱落を抑えうる点で好ましい。
また、第１シール部材８４ａや第２シール部材８４ｂを設けた後、経時試験を行ってもよい。この経時試験では、所定の期間が経過した後の、清浄空間２４に充填された清浄な気体の総量やヘリウムガスの割合の変化を確認する。ここで所定の基準変化量以上の変化量が認められる被試験体はシール不良として取り除かれてもよい。
以上より、ディスク駆動装置１００の信頼性が向上しうる。

図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。ロータ６は、シャフト２６と、ハブ２８と、スラストリング３０と、円筒状マグネット３２と、を含む。ハブ２８のディスク載置面２８ａ上に磁気記録ディスク８が載置される。ハブ２８の上面２８ｂには３つのディスク固定用ねじ穴３４がロータ６の回転軸Ｒの周りに１２０度間隔で設けられている。クランパ３６は、３つのディスク固定用ねじ穴３４に螺合される３つのディスク固定用ねじ３８によってハブ２８の上面２８ｂに圧着されると共に磁気記録ディスク８をハブ２８のディスク載置面２８ａに圧着させる。

ハブ２８は、軟磁性を有する例えばＳＵＳ４３０Ｆ等の鉄鋼材料から形成される。ハブ２８は、鉄鋼板を例えばプレス加工や切削加工することにより形成され、略カップ状の所定の形状に形成される。ハブ２８の鉄鋼材料としては、例えば、大同特殊鋼株式会社が供給する商品名ＤＨＳ１のステンレスはアウトガスが少なく、加工容易である点で好ましい。また、同様に同社が供給する商品名ＤＨＳ２のステンレスはさらに耐食性が良好な点でより好ましい。

シャフト２６は、ハブ２８の中心に設けられた孔２８ｃであってロータ６の回転軸Ｒと同軸に設けられた孔２８ｃに圧入と接着とを併用した状態で固着される。

スラストリング３０は円環形状を有し、スラストリング３０の断面は、逆Ｌ字形状を有する。スラストリング３０は、ハブ２８の下垂部２８ｄの内周面２８ｅに接着により固定される。スラストリング３０は、例えばＳＵＳ３０３やＳＵＳ４３０Ｆ等の鉄鋼材料から形成される。スラストリング３０は、鉄鋼板を例えばプレス加工や切削加工することにより形成される。スラストリング３０の鉄鋼材料としては、例えば、大同特殊鋼株式会社が供給する商品名ＤＨＳ１のステンレスはアウトガスが少なく、加工容易である点で好ましい。また、同様に同社が供給する商品名ＤＨＳ２のステンレスはさらに耐食性が良好な点でより好ましい。

スラストリング３０をハブ２８、特に下垂部２８ｄより柔らかい鉄鋼材料から形成する場合、スラストリング３０を下垂部２８ｄの内周面２８ｅに装着する際にスラストリング３０が変形しやすい。スラストリング３０が変形すると、周囲との隙間を必要なだけ確保できない可能性がある。そこでスラストリング３０は、ハブ２８と実質的に同じ硬さの鉄鋼材料から形成される。この場合、スラストリング３０の変形を抑えうる。

円筒状マグネット３２は、略カップ形状のハブ２８の内側の円筒面に相当する円筒状内周面２８ｆに接着固定される。円筒状マグネット３２は、ネオジウム、鉄、ホウ素などの希土類材料によって形成され、積層コア４０の１２本の突極と半径方向に対向する。円筒状マグネット３２にはその周方向に１６極の駆動用着磁が施される。円筒状マグネット３２の表面には電着塗装やスプレー塗装などによる防錆処理が施される。

ディスク駆動装置１００は、軸受ユニット１２と、積層コア４０と、コイル４２と、吸引プレート８６と、をさらに備える。ベース４は、軸受ユニット１２を介してハブ２８を回転自在に支持する。ベース４の上面４ｄには、ロータ６の回転軸Ｒを中心とし、上側に突出して軸受ユニット１２を環囲する円環状の環状壁部４ｅが設けられる。環状壁部４ｅの内周面は軸受ユニット１２が挿入され接着固定される軸受孔４ｈを形成する。ベース４は、環状壁部４ｅに近いほど厚く形成された厚み増大部４ｎを有する。厚み増大部４ｎの断面の上辺は、下に凸で滑らかな関数もしくは直線とされる。図２において、厚み増大部４ｎのハブ２８側の面はハブ２８から遠い側の端４ｎｄから半径方向内側に向かって延在してハブ２８に近い側の端４ｎｕに至る。

軸受ユニット１２は、ハウジング４４と、スリーブ４６と、を含み、ロータ６をベース４に対して回転自在に支持する。
ハウジング４４はベース４の軸受孔４ｈに接着により固定される。ハウジング４４は、円筒部と底部とが一体に形成された有底カップ形状を有し、その底部を下にしてベース４に対して接着固定される。
スリーブ４６は、ハウジング４４の内側の側面に接着により固定される円筒状の部材である。スリーブ４６の上端には径方向外側に向けて張り出した張出部４６ａが形成されている。この張出部４６ａは、スラストリング３０と協働してロータ６の軸方向の移動を制限する。

ハウジング４４を有底カップ形状とすることにより、円筒部と底部とを別々に形成して結合する場合と比べて高い強度を実現できる。また、組立にかかる手間を軽減できる。また、円筒部と底部とを別々に形成して結合する場合は、所定の接着強度を実現するために接着用の領域を設ける必要がありハウジングの軸方向の寸法を小さくすることが難しい。そこでハウジング４４を有底カップ形状とすることにより、ハウジング４４をより薄くすることができる。

スリーブ４６にはシャフト２６が収まる。シャフト２６およびハブ２８およびスラストリング３０と軸受ユニット１２との間の空間である潤滑剤充填空間８８には潤滑剤４８が注入される。潤滑剤充填空間８８は、スリーブ４６の内周面に設けられ、上下に離間した１組のヘリングボーン形状のラジアル動圧溝５０に対応する２つの溝部９０ａ、９０ｂと、２つの溝部９０ａ、９０ｂの間の動圧溝がない領域に対応する非溝部９２と、を有する。

軸受ユニット１２は、２つの溝部９０ａ、９０ｂの軸方向の長さのそれぞれが非溝部９２の軸方向の長さよりも長くなるように形成される。この場合、ディスク駆動装置１００を薄くした場合にもラジアル動圧の低下を抑制しうる。

また、軸受ユニット１２は、２つの溝部９０ａ、９０ｂのうちロータ６に近い側（上側）の溝部９０ａの軸方向の長さがもう一方の溝部９０ｂの軸方向の長さよりも長くなるように形成される。この場合、溝部９０ａの軸方向の長さを相対的に長くすることによって、そこでの軸受剛性を高めることができる。これにより、ロータ６に近い側の溝部９０ａはもう一方の溝部９０ｂよりも相対的に大きなラジアル荷重を負うという状況において、そのような状況に合致して効率的にラジアル荷重に対処することができる。

ハウジング４４の上面に対向するスラストリング３０の下面には、ヘリングボーン形状またはスパイラル形状の第１スラスト動圧溝（不図示）が形成される。張出部４６ａの下面に対向するスラストリング３０の上面には、ヘリングボーン形状またはスパイラル形状の第２スラスト動圧溝（不図示）が形成される。ロータ６の回転時には、ラジアル動圧溝およびスラスト動圧溝が潤滑剤４８に生成する動圧によって、ロータ６はラジアル方向およびスラスト方向に支持される。
なお、１組のヘリングボーン形状のラジアル動圧溝をシャフト２６に形成してもよい。また、第１スラスト動圧溝をハウジング４４の上面に形成してもよく、第２スラスト動圧溝を張出部４６ａの下面に形成してもよい。あるいはまた、スラスト動圧溝を、ハブ２８の下面のうち張出部４６ａと対向する面または張出部４６ａの上面に設けてもよい。

ハウジング４４の上側には、スラストリング３０の内周面３０ｃとハウジング４４の外周面４４ａとの間の隙間が下方に向けて徐々に広がる部分であるキャピラリーシール部ＴＳが形成される。清浄空間２４に充填される清浄な気体と潤滑剤４８との境界面すなわち液面はキャピラリーシール部ＴＳの中間に位置する。キャピラリーシール部ＴＳは潤滑剤充填空間８８の入口を形成する。キャピラリーシール部ＴＳは毛細管現象により潤滑剤４８の漏れ出しを防止する。スラストリング３０の内周面３０ｃは軸方向下向きに径が小さくなるように形成される。この場合、ロータ６の回転に伴う遠心力により潤滑剤４８に奥向きの力が加えられる。図２に示すように、ベース４は、キャピラリーシール部ＴＳの一部が環状壁部４ｅの半径方向内側領域に進入するように構成されている。

積層コア４０は円環部とそこから半径方向外側に伸びる１２本の突極とを有し、ベース４の上面４ｄ側に固定される。積層コア４０は、６枚の薄型電磁鋼板を積層しカシメにより一体化して形成される。積層コア４０の表面には電着塗装や粉体塗装などによる絶縁塗装が施される。それぞれの突極にはコイル４２が巻回される。このコイル４２に３相の略正弦波状の駆動電流が流れることにより突極に沿って駆動磁束が発生する。

厚み増大部４ｎはコイル４２側に厚くなっている。したがって、何ら対策を施さずディスク駆動装置に衝撃が加わった場合、厚み増大部４ｎとコイル４２とが接触して両者の絶縁を維持できなくなる可能性がある。これに対応して、コイル４２は、厚み増大部４ｎと所定の間隔、例えば０．１ｍｍより大きな間隔を有するように形成される。すなわち、厚み増大部４ｎとコイル４２との間の距離の最小値は０．１ｍｍ以上である。これにより、ディスク駆動装置１００に衝撃が加わった場合に厚み増大部４ｎとコイル４２とが接触する可能性を低減できる。

特にコイル４２は、厚み増大部４ｎのプロファイルに対応して薄くなる厚み減少部４２ａを有する。厚み減少部４２ａは、回転軸Ｒに近づくほど薄くなるように形成される。例えばコイル４２の巻数を回転軸Ｒに近くなるほど少なくすることで、厚み減少部４２ａを形成できる。あるいはまた、コイル４２の回転軸Ｒに近い部分を厚み方向からプレスして薄くすることで厚み減少部４２ａを形成できる。

積層コア４０はその円環部の中心孔４０ａを通して、環状壁部４ｅの外周面４ｇに圧入されもしくは隙間ばめによって接着固定される。ここでの嵌め合わされ方としては、積層コア４０は、軸受孔４ｈの側面のうちハウジング４４の外周面４４ａと接する部分を環囲する位置に固定される。この場合、積層コア４０をベース４に取り付けてから軸受ユニット１２をベース４に取り付けるという工程を経ることにより、軸受ユニット１２の取り付けの際にはベース４の環状壁部４ｅが積層コア４０によって径方向に固定されているので、軸受ユニット１２を軸受孔４ｈに挿入することに伴う環状壁部４ｅの変形を抑えることができる。この結果、挿入後の軸受ユニット１２の直角度が改善される。特に、ベース４は金属としては比較的軟らかいアルミニウムから形成される場合が多いが、本実施の形態はそのような場合に好適である。

ハウジング４４とベース４との接着部分について説明する。ベース４の軸受孔４ｈの側面には、ロータ６の回転軸Ｒを中心とする環状の第１の溝４ｊが設けられる。第１の溝４ｊの断面は半円形状を有する。軸受孔４ｈの側面と接するハウジング４４の外周面４４ａには、回転軸Ｒに沿った方向において第１の溝４ｊとは異なる位置に、回転軸Ｒを中心とする環状の第２の溝４４ｂが設けられる。第２の溝４４ｂの断面は半円形状を有する。
なお、第１の溝４ｊの断面の形状および第２の溝４４ｂの断面の形状はそれぞれ、多角形状や半楕円形状や丸みを帯びた形状であってもよい。
第１の溝４ｊおよび第２の溝４４ｂは接着剤を保持する。

導電性樹脂５２は、ベース４の下面４ｋにおける軸受孔４ｈの縁部４ｌに塗布される。この導電性樹脂５２によってベース４とハウジング４４とが電気的に接続される。ベース４の下面４ｋには、軸受孔４ｈの縁部４ｌに沿って切削した切削部４ｍが設けられる。切削部４ｍの径方向の幅は、切削部４ｍの切削の深さより大きい。導電性樹脂５２は切削部４ｍからハウジング４４の底面４４ｃに亘って塗布される。特に、切削部４ｍにおいては、導電性樹脂５２はその高さ（回転軸Ｒに沿った方向の厚み）が切削部４ｍの切削の深さよりも小さくなるように塗布される。

導電性樹脂５２としては、種々の材料を採用し得る。例えばエポキシ樹脂に銀パウダーを混合した主剤に硬化剤としてポリオキシプロピレンジアミンを作用させたいわゆる二液性エポキシ導電性樹脂は、塗布が容易で強靭で可撓性を有し耐衝撃性に優れる。また揮発成分が少ない点で好ましい。

ハウジング４４とベース４とを接着する接着剤としては、種々の接着剤を採用し得る。例えばアクリル酸エステルを主成分とする嫌気性接着剤は、作業が容易となる点で好ましい。この嫌気性接着剤は空気に触れている間は硬化せず、ハウジング４４とベース４との嵌合部に入ると急速に反応し重合硬化し、短時間で初期の強度が得られる。また収縮が少ないので、嵌合部におけるリークを防止するシール剤としても好ましい。さらには、かかる接着剤に紫外線硬化性を付与したものは、はみ出した接着剤を紫外線の照射により短時間で硬化させることで早期に取り扱いを可能とする点で好ましい。

なお、これらの接着剤や導電性樹脂５２は揮発成分を徐々に放出することがある。これらの揮発成分は清浄空間２４を汚染し、正常なデータのリード／ライト動作の障害となる場合がある。これに対応して、接着剤を用いてベース４と軸受ユニット１２とを接着し導電性樹脂５２を塗布してベース４とハウジング４４との間の導通を確保した後、ロータ６に磁気記録ディスク８が搭載される前に、組立中のディスク駆動装置１００を高温槽に長時間放置してもよい。この場合、接着剤や導電性樹脂５２の揮発成分をより早く除去できる。例えば高温槽の温度を６５℃以上に保ち１時間以上放置することで、接着剤や導電性樹脂５２の揮発成分がほぼ除去される。また、高温槽の温度を７５℃以上に保ち１時間以上放置することで、接着剤や導電性樹脂５２の揮発成分が十分に除去される。なお、高温槽の温度を１００℃以下に保つことで、高温による接着剤や導電性樹脂５２の変性や強度低下を防止し得る。

図３は、吸引プレート８６を示す上面図である。図３のＡ−Ａ線は図２の断面に対応する。吸引プレート８６は、回転軸Ｒ方向において円筒状マグネット３２と対向する。吸引プレート８６は磁性材料により形成される。吸引プレート８６は、円環部８６ｂとそこから半径方向内側に伸びる６本の突出部８６ａとを有する。吸引プレート８６は、６本の突出部８６ａがベース４に例えばカシメにより固定されることによってベース４に固定される。吸引プレート８６は磁性材料により形成されるので、円筒状マグネット３２と引き付け合う。これにより円筒状マグネット３２に軸方向下向きの力が加わり、ロータ６の回転中にロータ６の浮き上がりが抑制される。

図４は、図２のディスク駆動装置１００のスラストリング３０付近の拡大断面図である。スラストリング３０は、軸方向に沿ってハブ２８と対向するハブ対向面を有する。ハブ対向面は、外周領域３０ａと内周領域３０ｂとを有する。外周領域３０ａはハブ２８の下面２８ｇに当接している。内周領域３０ｂは、第２スラスト動圧溝を有する。内周領域３０ｂは張出部４６ａ下側で回転する。

外周領域３０ａと内周領域３０ｂとを軸方向において異なる高さに形成する場合、内周領域３０ｂの軸方向の高さの精度を高めることは難しい。ハブ２８の下面２８ｇの製造上の寸法誤差に外周領域３０ａと内周領域３０ｂとの製造上の寸法誤差が加わるからである。内周領域３０ｂの軸方向の高さの精度が低いと張出部４６ａとの隙間の精度が低下する。この隙間の精度が低いと、これらの接触を防止するためにこの隙間を広くする必要があり、その分だけディスク駆動装置を薄くすることが難しくなる。

これに対応してスラストリング３０の外周領域３０ａと内周領域３０ｂとは、回転軸Ｒと直交する平面に接するように形成されてもよい。すなわち、スラストリング３０はハブ対向面が実質的に平坦となるように形成されてもよい。この場合、外周領域３０ａと内周領域３０ｂとは軸方向において同一面内にあり、内周領域３０ｂはハブ２８の下面２８ｇと軸方向において同一の位置に配置される。その結果、内周領域３０ｂの軸方向高さの精度を高く維持できる。

キャピラリーシール部ＴＳに存在する潤滑剤４８の軸方向の長さＬ３と、軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１とは、一方を長くすると、他方が短くなる関係にある。また、ディスク駆動装置１００の軸方向の寸法（厚み）を一定とする場合は、下垂部２８ｄの軸方向の長さＬ２を長くすると、軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１はその分短くなる。

潤滑剤４８の軸方向の長さＬ３を軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１より長くすることもできる。あるいはまた、下垂部２８ｄの軸方向の長さＬ２を軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１より長くすることもできる。しかしながら、軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１が短くなると、ディスク駆動装置１００に衝撃が加えられた場合にベース４と軸受ユニット１２の接着部分が剥離し易くなる。この接着の剥離が生じると、狭い隙間で構成されたディスク駆動装置に接触等の障害が生じうる。これに対応して、ディスク駆動装置１００は、軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１がキャピラリーシール部ＴＳに存在する潤滑剤４８の軸方向の長さＬ３より長くなるように構成されてもよい。また、ディスク駆動装置１００は、軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１が下垂部２８ｄの軸方向の長さＬ２より長くなるように構成されてもよい。これらの場合、ベース４と軸受ユニット１２との接着部分の耐衝撃性を高めることができる。

図５は、図２の左半分を拡大した拡大断面図である。図５では、回転軸Ｒに沿ってｚ座標を定義する。ベース４の下面４ｋのｚ座標をｚ＝０とする。
ハウジング４４と環状壁部４ｅとの接触部分はｚ座標においてｚ０＜ｚ＜ｚ２の範囲を占める。また、積層コア４０はｚ座標においてｚ１＜ｚ＜ｚ３の範囲を占める。ここでディスク駆動装置１００は、ｚ０＜ｚ１＜ｚ２＜ｚ３となるように、言い換えるとハウジング４４と環状壁部４ｅとの接触部分のｚ座標の範囲と積層コア４０のｚ座標の範囲とに重なり合う部分が存在するように、形成される。この場合、接触部分を多めに確保できるので、ベース４と軸受ユニット１２との接着部分の耐衝撃性を高めることができる。また、図５に示すように、ベース４は、厚み増大部４ｎのｚ座標範囲が軸受ユニットと環状壁部４ｅとの接触部分のｚ座標範囲と重なり合う部分を有している。

吸引プレート８６はｚ座標においてｚ_４＜ｚ＜ｚ_６の範囲を占める。ハブ２８はｚ座標においてｚ_５＜ｚ＜ｚ_７の範囲を占める。ここでディスク駆動装置１００は、ｚ_４＜ｚ_５＜ｚ_６＜ｚ_７となるように、言い換えると吸引プレート８６のｚ座標の範囲とハブ２８のｚ座標の範囲とに重なり合う部分が存在するように、形成される。これにより、ハブ２８の内側の空間と外側の空間との間に、吸引プレート８６とハブ２８のマグネット保持部２８ｈとによるラビリンス構造が設けられる。この場合、ハブ２８の内側の空間に潤滑剤４８の飛沫などの異物が存在していても、ラビリンス構造によりそのような異物のハブ２８の外側への飛散は抑制される。

環状壁部４ｅの内周面は軸受孔４ｈの側面の一部を形成している。環状壁部４ｅの上部にはハブ２８側にさらに突出した環状凸部４ｒが設けられる。環状凸部４ｒの外周面は積層コア４０の円環部と嵌め合わされる。下垂部２８ｄとスラストリング３０とは環状凸部４ｒの回転軸Ｒ側の領域で回転する。つまり、ベース４は、スラストリング３０の一部が、環状壁部４ｅの半径方向内側の領域に進入するように構成されている。また、図５に示すように、ベース４は、厚み増大部４ｎのハブ２８側の端部から半径方向内向きに延在してコア４０の端面と軸方向に接する端面が形成されている。
厚み増大部４ｎは、環状凸部４ｒの半径方向外側に設けられ、環状凸部４ｒに向けて厚みが増大する形状を有する。つまり、厚み増大部４ｎは環状壁部４ｅの半径方向外側に設けられている。コイル対向部４ｐは、厚み増大部４ｎの半径方向外側に厚み増大部４ｎと隣接して設けられ、実質的に均一な厚みＨ_０を有する。厚みＨ_０は、軸受孔４ｈの軸方向の長さＬ１の２分の１よりも小さい。厚み増大部４ｎのハブ２８側の面とコイル対向部４ｐのハブ２８側の面とはスムーズに接続されている。
コイル対向部４ｐの厚みＨ_０は０．７ｍｍ以下とすることができる。ディスク駆動装置１００を薄く構成できる点で有利である。また、コイル対向部４ｐの厚みＨ_０を薄くしていくと、アルミダイカスト工程や切削加工の際にピンホールを生じる可能性が高くなる。このため、コイル対向部４ｐの厚みＨ_０は０．４ｍｍ以上としてもよい。ピンホールの発生を抑えうる点で好ましい。

図５において、回転軸Ｒと交差し回転軸Ｒに垂直な直線に沿ってｘ座標を定義する。回転軸Ｒのｘ座標をｘ＝０とする。
厚み増大部４ｎは、

が満たされるように形成される。ここで、ｘは厚み増大部４ｎにおけるある位置のｘ座標、ｘ_０は厚み増大部４ｎの最も回転軸Ｒ側のｘ座標、Ｈ（ｘ）は厚み増大部４ｎの位置ｘにおける厚み、である。ｘ、ｘ_０、Ｈ（ｘ）、Ｈ_０は全て同じ単位、例えばｍｍ単位とする。
また、Ｈ_０＝０．７ｍｍ、ｘ_０＝４．８ｍｍ、Ｈ_１＝Ｈ（ｘ_０）＝０．８８ｍｍ、（厚み増大部４ｎの最も半径方向外側のｘ座標ｘ_１）＝５．８ｍｍである。

軸方向においてコイル４２と対向するハブ２８の部分と、同じく軸方向においてコイル４２と対向するベース４のコイル対向部４ｐと、に着目する。ディスク駆動装置１００の薄型化を進めるに際し、軸方向においてコイル４２と対向するハブ２８の部分を薄くすることが考えられる。しかしながらこの場合、コイル対向部４ｐを薄くする場合と比べて、磁気記録ディスク８を載置して高速で回転させたときに磁気記録ディスク８に振動が生じ易くなることが本発明者によって認識された。そこで、ディスク駆動装置１００では、軸方向においてコイル４２と対向するハブ２８の部分はコイル対向部４ｐよりも厚く形成される。言い換えると、（軸方向においてコイル４２と対向するハブ２８の部分の厚みＨ_２）＞Ｈ_０である。

以上のように構成されたディスク駆動装置１００の動作について説明する。磁気記録ディスク８を回転させるために、３相の駆動電流がコイル４２に供給される。その駆動電流がコイル４２を流れることにより、１２本の突極に沿って駆動磁束が発生する。この駆動磁束によって円筒状マグネット３２にトルクが与えられ、ロータ６およびそれに嵌合された磁気記録ディスク８が回転する。同時にボイスコイルモータ１６がスイングアーム１４を揺動させることによって、記録再生ヘッドが磁気記録ディスク８上の揺動範囲を行き来する。記録再生ヘッドは磁気記録ディスク８に記録された磁気データを電気信号に変換して制御基板（不図示）へ伝え、また制御基板から電気信号の形で送られてくるデータを磁気記録ディスク８上に磁気データとして書き込む。

ディスク駆動装置１００を薄型化する場合、上記の通り回転中の振動の観点からハブ２８よりもベース４を薄くすることが考えられる。ベース４を薄くする場合に考慮すべき点のひとつとして耐衝撃性がある。ディスク駆動装置１００に衝撃による加速度が加わると、磁気記録ディスク８とハブ２８と軸受ユニット１２と積層コア４０とコイル４２との合計質量に衝撃による加速度を乗じた値に応じた大きさの応力が、ベース４の中央部分に加わる。特に環状壁部４ｅと厚み増大部４ｎとの境目の部分にこの応力が集中する傾向にある。

厚み増大部４ｎが設けられず、環状壁部４ｅから厚み一定のコイル対向部が環状壁部４ｅに隣接して設けられる場合は、コイル対向部における衝撃による応力は概ね回転軸Ｒからの距離に反比例して分布する。したがって、環状壁部４ｅとコイル対向部との境目の部分、特に角の部分に応力が集中してそこから塑性変形や亀裂が生じやすい。
そこで本実施の形態に係るディスク駆動装置１００によると、厚み増大部４ｎは環状壁部４ｅに近いほど厚く形成される。したがって、環状壁部４ｅと厚み増大部４ｎとの境目の部分における応力は分散され、その境目は全体としてより大きな応力に耐えることができる。言い換えると、応力の分布を回転軸Ｒからの距離によらずに実質的に均一にすることができる。その結果、ディスク駆動装置１００はより大きな衝撃に耐えることができる。
また、厚み増大部４ｎを設けて耐衝撃性が向上した分だけベース４を薄くすることができるので、ディスク駆動装置１００をより薄くすることができる。

本発明者は、厚み増大部４ｎの形状を変えては応力分布をシミュレーションすることを繰り返した。その結果、コイル対向部４ｐの厚みＨ_０が０．５ｍｍから１．２ｍｍの範囲にあり、厚み増大部４ｎの最も回転軸Ｒ側のｘ座標ｘ_０が４ｍｍから１５ｍｍの範囲にある場合に、厚み増大部４ｎが

が満たされるように形成されると、応力が適切に分散されシミュレーション上応力がベースの材料の弾性限界を超えないで、ベースの変形が実使用上問題とならない範囲に抑えられることを見出した。ここでｋはベースの材料の機械的強度によって定まる定数である。ｋは実験により求めることができる。

本シミュレーションではベースはアルミダイカスト（ＪＩＳ名ＡＤＣ１２）であることを想定した。この場合、引張強度は３００ＭＰａ程度である。しかしながら本発明者の当業者としての経験から、１５０ＭＰａ程度の応力でも既に０．２％程度の変形が生じる場合がある。したがって、応力は１２０ＭＰａ程度以下に抑えると好適である。また、ベースをアルミダイカストで構成する場合には、いわゆる鋳巣と呼ばれる密度の低い領域が存在する場合がある。鋳巣が存在する領域における応力が１５０ＭＰａを超えると、ベースに大きな変形を生じうる。このため、応力は１００ＭＰａ程度以下に抑えることができると一層好適である。この判断基準のもと本発明者は、ディスク駆動装置に上向きに１１７６０ｍ／ｓ^２（１２００Ｇ）の衝撃による加速度が加わり、かつ、ベースがアルミニウムから形成されている場合のしきい値としてｋ＝１．２５を得た。すなわち、ｋ＝１．２５のときの上記式１を満たすディスク駆動装置であれば、１２００Ｇの試験衝撃荷重を受けても所定のハブの高さを維持することができる。

図６（ａ）〜（ｃ）は、シミュレーションにより得られた応力分布を等高線で示す応力分布図である。ここで使用されたシミュレーションは、有限要素法を応用したコンピュータシミュレーションである。図６（ａ）は、ベースが厚み増大部４ｎを有さない場合のシミュレーション結果を示す。図６（ａ）に示される通り、ベースが厚み増大部４ｎを有さない場合、ベースの角部２００で等高線が密となっており応力が集中している。特に角部２００付近には応力が１８０ＭＰａを超える領域２０２が見られる。またその周辺には応力が１５０ＭＰａを超える領域２０４が広く見られる。応力が１５０ＭＰａを超える領域２０４に鋳巣が存在すると大きな変形を生じうる。

図６（ｂ）は、厚み増大部４ｎが、

が満たされるように形成される場合のシミュレーション結果を示す。図６（ｂ）では、応力が最も高くなる領域２０６においても応力は１００ＭＰａ程度となっている。したがって、この厚み増大部４ｎの形状では、応力が適切に分散されていると言える。

図６（ｃ）は、厚み増大部４ｎが、

が満たされるように形成される場合のシミュレーション結果を示す。図６（ｃ）では図６（ｂ）の場合と比べて厚み増大部４ｎがより厚く形成されている。したがって、より一層応力は分散され、最大でも８０ＭＰａ程度となっている。したがって、鋳巣が存在してもそこでの変形を抑制できる。

ディスク駆動装置の設計では、ディスク駆動装置を薄くしてもトルクを十分に得たいという要請がある。薄型化によるトルクの低下を抑えるために、円筒状マグネット３２を相対的に厚くすることが一般的である。円筒状マグネット３２を相対的に厚くするために、その分吸引プレートを薄くすることも考えられる。しかしながら、吸引プレートの全内周に亘って均一な荷重を加えて吸引プレートをベース４に固定する場合、吸引プレートを薄くすると、内周に加えるカシメ荷重に僅かな不均一があっても吸引プレートに大きな変形を生じる可能性がある。吸引プレートが変形すると円筒状マグネット３２との隙間を周方向に均一に保つことが難しくなる。この隙間が不均一になると円筒状マグネット３２との引き付け合う力が周方向で変化して、ロータ６の回転が不安定となり、最悪の場合吸引プレートが円筒状マグネット３２に接触する可能性がある。これを避けるため、本発明者の当業者としての経験から、吸引プレートの全内周に亘って均一な荷重を加えて吸引プレートをベース４に固定する場合は、一般的には吸引プレートを０．５ｍｍ厚以下に形成することは難しい。

これに対応して、本実施の形態に係るディスク駆動装置１００では、吸引プレート８６は、円環部８６ｂとそこから半径方向内側に伸びる６本の突出部８６ａとを有する。吸引プレート８６は、６本の突出部８６ａがベース４に例えばカシメにより固定されることによってベース４に固定される。ここでは６本の突出部８６ａに荷重が加えられる。したがって、吸引プレートの全内周に亘って均一な荷重を加えて吸引プレートをベース４に固定する場合と比較して、吸引プレート８６の変形を抑制しうる。また、吸引プレート８６をより薄くしてその分円筒状マグネット３２を厚くし、トルクを増やすことができる。特に吸引プレート８６を０．５ｍｍ厚以下、より好ましくは０．４ｍｍ厚以下に形成することができる。

なお、吸引プレート８６を薄くしすぎると磁気飽和を生じ易くなり所定の吸引力を確保することが難しくなる。このため、吸引プレート８６を０．１ｍｍ厚以上に形成してもよい。この場合、所定の吸引力を確保しうる点で有利である。吸引プレート８６の厚みを０．２〜０．３ｍｍとすると、その変形を抑制しつつ安定した吸引力を得ることができるので好ましい。

本実施の形態では、図５を参照すると、吸引プレート８６の中央を通り回転軸Ｒに平行な直線に沿った寸法は、
ハブ２８の厚みＬ１＝１．５ｍｍ
円筒状マグネット３２の厚みＬ２＝２．０ｍｍ
円筒状マグネット３２と吸引プレート８６との隙間Ｌ３＝０．３８ｍｍ
吸引プレート８６の厚みＬ４＝０．２５ｍｍ
ベース４の厚みＬ５＝０．７ｍｍ
ディスク駆動装置１００の厚み＝４．８３ｍｍ
とされている。
なお、吸引プレート８６の厚みＬ４を０．４ｍｍで設計する場合は、円筒状マグネット３２の厚みＬ２を１．８５ｍｍとすればよい。

突出部８６ａの数が少ないと吸引プレート８６が傾いて固定される可能性がある。このため、突出部８６ａの数を３つ以上としてもよい。この場合、吸引プレート８６が傾いて固定される可能性を低減できる。また突出部８６ａの数が多いと、これらに加える荷重が不均一となり変形が生じうる。そこで突出部８６ａの数を１２以下としてもよい。この場合、変形を抑えうる。

実施の形態に係るディスク駆動装置１００によると、接着剤で満たされた第１の溝４ｊおよび第２の溝４４ｂは接着剤溜まりの役割を果たすので、ベース４と軸受ユニット１２との間の接着の強度がより強まる。また、その溝においてより確実に気密性が保たれる。

（製造方法）
実施の形態に係るディスク駆動装置１００の製造方法を説明する。以下、シャフト２６とハブ２８とスラストリング３０と軸受ユニット１２と潤滑剤４８とをまとめて流体動圧軸受と呼ぶ。
軸受組立工程では、潤滑剤４８が注入されない状態の流体動圧軸受を組み立てる。
準備工程では、潤滑剤４８を注入する前の流体動圧軸受を、キャピラリーシール部ＴＳの入口を上に向けて減圧可能な作業空間に載置する。そして作業空間の気圧である作業圧力をたとえば１００Ｐａ以下に減圧することで、潤滑剤充填空間８８を減圧する。
注入工程ではまず潤滑剤４８を吐出する吐出ノズルをキャピラリーシール部ＴＳの入口の内部に挿入する。この際、吐出ノズルは入口に対応する水平位置まで移動し、次に入口の内部まで鉛直方向に移動する。これにより、潤滑剤４８を注入する前の流体動圧軸受を作業空間にセットする際に吐出ノズルが邪魔をすることはなく、流体動圧軸受を容易に短時間でセットできる。
吐出ノズルをキャピラリーシール部ＴＳの入口の内部に挿入した後、潤滑剤４８を吐出ノズルから吐出する。吐出される潤滑剤４８の量はキャピラリーシール部ＴＳからあふれ出ない量、たとえばキャピラリーシール部ＴＳを満たす程度の量とする。
引き込み工程では、作業空間を大気圧などの潤滑剤充填空間８８内部の圧力よりも高い圧力まで復圧し、潤滑剤充填空間８８の内部と外部との圧力差によって潤滑剤４８を潤滑剤充填空間８８の内部へ引き込む。これにより、潤滑剤充填空間８８に潤滑剤４８が充填される。

この引き込み工程において、流体動圧軸受に充填した潤滑剤４８の中に空気などの気体が残留することがある。流体動圧軸受に空気が多く残留したままだと、高温で低圧力の状態になった場合に、残留した空気が膨張して潤滑剤４８を軸受ユニット１２から押し出して飛散させる可能性がある。潤滑剤４８が飛散するとディスク駆動装置の信頼性を損なうおそれがある。これに対応して、本製造方法は、引き込み工程の後に、流体動圧軸受に充填した潤滑剤４８の中に残留した空気の量が所定の量より多い流体動圧軸受を検出して、不良品として除去する残留気体検査工程を含む。この場合、かかる検査工程を経て製造されたディスク駆動装置について、残留した空気に起因して潤滑剤４８が流出する可能性が低減される。

残留気体検査工程は、第１計測工程と、第２計測工程と、除去工程と、を含む。
図７（ａ）、（ｂ）は、計測工程を説明するための説明図である。
図７（ａ）は、第１計測工程を説明するための説明図である。第１計測工程では、潤滑剤４８が導入された流体動圧軸受について、第１気圧、例えば１０１３ｈＰａ（１気圧）のもとでの回転軸Ｒ方向における潤滑剤４８の液面４８ａの第１高さｈ_１を、スラストリング３０の下面を基準として計測する。図７（ａ）は、キャピラリーシール部ＴＳの上部に残留空気９４が存在する場合を示す。

図７（ｂ）は、第２計測工程を説明するための説明図である。第２計測工程では、潤滑剤４８が導入された流体動圧軸受について、第１気圧より低い第２気圧、例えば３０Ｐａのもとでの回転軸Ｒ方向における潤滑剤４８の液面４８ａの第２高さｈ_２をスラストリング３０の下面を基準として計測する。第２気圧は１００Ｐａ以下であり、３０〜５０Ｐａが好ましい。第２気圧は第１気圧より低いので、残留空気９４は図７（ａ）の場合と比べて膨張する。その分潤滑剤４８の液面４８ａは下方に移動し、第２高さｈ_２は小さくなる。

除去工程では、潤滑剤４８が導入された流体動圧軸受について、計測された第１高さｈ_１と計測された第２高さｈ_２とを基に検査をする。より具体的には、第１高さｈ_１と第２高さｈ_２との差の絶対値が所定の基準値よりも大きい場合、その流体動圧軸受は基準を満たさない流体動圧軸受とする。基準を満たさないと判断された流体動圧軸受は除去される。

この残留気体検査工程によると、残留気体に起因する影響を高精度で検出しうる。例えば、第１高さｈ_１と第２高さｈ_２の差（ｈ_１−ｈ_２）が５０μｍを超える流体動圧軸受を不良品として除去してもよい。

ステータ組立工程では、残留気体検査工程の後、コイル４２を巻いた積層コア４０を予めベース４に固定し、そのベース４の軸受孔４ｈに、流体動圧軸受の軸受ユニット１２を接着固定する。
高温工程では、軸受ユニット１２を接着した後、６５〜１００℃の清浄雰囲気の高温槽に１〜３時間放置する。なお、第１シール部材８４ａ、第２シール部材８４ｂが液状の硬化性樹脂である場合は、高温工程の前いずれかの工程でそれらを塗布してもよい。高温工程で硬化が促進する点で有利である。また、第１シール部材８４ａ、第２シール部材８４ｂがシート状の部材を固定して形成される場合は、高温工程の後の工程で固定してもよい。シール部材が劣化しない点で好ましい。

ディスク組立工程では、磁気記録ディスク８やデータリード／ライト部１０等の部材が組み付けられる。ディスク組立工程では、ねじ２０を用いてトップカバー２をベース４の外周壁部４ｂの上面４ｃに固定する。この際、ベース４に設けた開口部を介して清浄空間２４に清浄な気体を充填する。その後、当該開口部を所定の閉塞部材を用いて塞ぐ。その後、所定の性能検査工程等を経てディスク駆動装置１００が製造される。

以上、実施の形態に係るディスク駆動装置１００の構成と動作およびその製造方法について説明した。これらの実施の形態は例示であり、それらの各構成要素の組み合わせにいろいろな変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。

実施の形態では、コイル４２は、厚み増大部４ｎのプロファイルに対応して薄くなる厚み減少部４２ａを有する場合について説明したが、これに限られない。例えば、コイル４２に厚み減少部４２ａを設ける代わりに、厚み増大部を、コイルと所定の間隔、例えば０．１ｍｍより大きな間隔を有するように形成してもよい。この場合でも、ディスク駆動装置に衝撃が加わった場合に厚み増大部とコイルとが接触する可能性を低減できる。

実施の形態では、吸引プレート８６は、円環部８６ｂとそこから半径方向内側に伸びる６本の突出部８６ａとを有する場合について説明したが、これに限られない。例えば、吸引プレートは、円環部とそこから半径方向外側に伸びる複数の突出部とを有してもよい。この場合、吸引プレートは、複数の突出部がベース４に例えばカシメにより固定されることによってベース４に固定される

実施の形態では、ハウジング４４は、円筒部と底部とが一体に形成された有底カップ形状を有する場合について説明したが、これに限られない。例えば、ハウジングは、環状壁部との接触部分の直径が他の部分の直径よりも大きくなるように形成されてもよい。
図８は、変形例に係るディスク駆動装置３００の断面図である。ハウジング４４’は、ベース４’の軸受孔４’ｈとの接触部分の直径Ｄ１が、他の部分、例えばハウジング４４’上部の直径Ｄ２よりも大きくなるように形成される。ベース４’は、軸受孔４’ｈの直径がスラストリング３０の直径よりも大きくなるように形成される。
本変形例によると、ハウジング４４’とベース４’との接着部分の面積を実施の形態よりも増やすことができるので、接着強度を高めることができる。

実施の形態では、円筒状マグネット３２が積層コア４０の外側に位置する、いわゆるアウターロータ型のディスク駆動装置１００について説明したが、これに限られない。たとえば円筒状マグネットが積層コアの内側に位置する、いわゆるインナーロータ型のディスク駆動装置であってもよい。

実施の形態では、軸受ユニット１２がベース４に固定され、シャフト２６が軸受ユニット１２に対して回転する場合について説明したが、たとえばシャフトがベースに固定され、軸受ユニットがハブと共にシャフトに対して回転するようなシャフト固定型であってもよい。

実施の形態では、ベース４に直接軸受ユニット１２が取り付けられる場合について説明したが、これに限られない。例えば、ロータ、軸受ユニット、積層コア、コイルおよびベースからなるブラシレスモータを別途形成した上で、そのブラシレスモータをシャーシに取り付ける構成としてもよい。

実施の形態では積層コアを用いる場合について説明したが、コアは積層コアでなくてもよい。

実施の形態では、ハウジング４４とスリーブ４６とは別体である場合について説明したが、これに限られず、ハウジングとスリーブとは一体に形成されてもよい。この場合、部品点数を削減でき、組立の手間を軽減できる。

以上、実施の形態にもとづき本発明を説明したが、実施の形態は、本発明の原理、応用を示しているにすぎないことはいうまでもなく、実施の形態には、請求の範囲に規定された本発明の思想を逸脱しない範囲において、多くの変形例や配置の変更が可能であることはいうまでもない。

４ ベース、 ４ｈ 軸受孔、 ４ｎ 厚み増大部、 ６ ロータ、 ８ 磁気記録ディスク、 １０ データリード／ライト部、 １２ 軸受ユニット、 ２６ シャフト、 ２８ ハブ、 ３０ スラストリング、 ３２ 円筒状マグネット、 ４０ 積層コア、 ４２ コイル、 ４４ ハウジング、 ４６ スリーブ、 ４８ 潤滑剤、 ８６ 吸引プレート、 １００ ディスク駆動装置、 Ｒ 回転軸。

Claims (11)

1. 記録ディスクが載置されるべきハブと、
   流体動圧軸受ユニットを介して前記ハブを回転自在に支持するベースと、
   前記ベースに固定され、円環部とそこから半径方向に伸びる複数の突極とを含むコアと、
   前記複数の突極に巻き線されて形成されるコイルと、を備え、
   前記流体動圧軸受ユニットはラジアル動圧溝が形成される部材を固定するハウジングを含み、
   前記ベースは、前記ハブ側に突出して外周部に前記コアの前記円環部の中心孔を通して接着固定されると共に内周部に形成された軸受孔に前記ハウジングが挿入され接着固定されるコア外設ハウジング環囲部と、前記コア外設ハウジング環囲部の半径方向外側に連続して設けられると共に前記コア外設ハウジング環囲部に近いほど厚く形成された厚み増大部と、を一体に有し、
   前記ラジアル動圧溝は前記ハウジングに環囲され、前記ハウジングは前記コア外設ハウジング環囲部に環囲され、前記コア外設ハウジング環囲部は前記厚み増大部に環囲されると共に、前記ハブの回転軸に沿った軸方向に軸方向座標を定義するとき、前記厚み増大部の前記ハブ側の面の前記ハブから遠い側の端が前記ラジアル動圧溝の軸方向座標範囲内に位置することを特徴とする回転機器。
2. 前記厚み増大部の前記ハブ側の面の前記ハブに近い側の端が前記コアの端面と軸方向に接すると共に前記ラジアル動圧溝の軸方向座標範囲内に位置することを特徴とする請求項１に記載の回転機器。
3. 前記ハブに固定され前記ハブの回転軸を中心とする円環状の部材であって、前記ベース側の端面及び前記ベースと反対側の端面のそれぞれにスラスト動圧溝が形成されるスラストリングを備え、
   前記スラストリングは、前記厚み増大部の半径方向内側に位置すると共に、前記コア外設ハウジング環囲部と前記ハウジングの半径方向隙間に進入する部分を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の回転機器。
4. 前記厚み増大部の前記ハブ側の面の軸方向座標範囲が前記流体動圧軸受ユニットと前記コア外設ハウジング環囲部との接触部分の軸方向座標範囲に含まれることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の回転機器。
5. 前記ハウジングの側面に毛細管現象により潤滑剤の漏れ出しを防止するキャピラリーシール部が軸方向に延在し、
   前記キャピラリーシール部は、前記厚み増大部の半径方向内側に位置すると共に、前記コア外設ハウジング環囲部の半径方向内側領域に進入する部分を有することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の回転機器。
6. 前記ハブの回転軸に直交する半径方向に半径方向座標を定義するとき、
   前記厚み増大部は、その半径方向座標範囲が前記コイルの半径方向座標範囲と重なり合う部分を有すると共に、前記厚み増大部の軸方向座標範囲が前記コイルの軸方向座標範囲と重なり合う部分を有することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の回転機器。
7. 前記コイルは、前記厚み増大部と軸方向に対向する部分に前記厚み増大部の形状に対応して前記コア外設ハウジング環囲部に近いほど薄くなる厚み減少部を有し、前記厚み減少部のうち前記コアより前記厚み増大部側にある部分の軸方向座標範囲が前記厚み増大部の軸方向座標範囲に含まれることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の回転機器。
8. 前記流体動圧軸受ユニットと前記コア外設ハウジング環囲部との接触部分の軸方向座標範囲と、前記コアの軸方向座標範囲とに重なり合う部分が存在することを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の回転機器。
9. 前記ベースに対して前記ハブ側となる空間は、ヘリウムを所定の割合で含む気体によって満たされ、
   前記ベースは、前記厚み増大部が前記ヘリウムを含む気体に接触することを特徴とする請求項１から８のいずれかに記載の回転機器。
10. 前記厚み増大部における前記ハブの回転軸からの距離をｘ、所定の基準距離をｘ_０、前記厚み増大部の距離ｘにおける厚みをＨ（ｘ）、所定の基準厚みをＨ_０、ｋを所定の定数とするとき、前記厚み増大部は、
    

    

    が満たされるように形成されることを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の回転機器。
11. 記録ディスクが載置されるべきハブと、
    流体動圧軸受ユニットを介して前記ハブを回転自在に支持するベースと、
    前記ベースに固定され、円環部とそこから半径方向に伸びる複数の突極とを含むコアと、
    前記複数の突極に巻き線されて形成されるコイルと、を備え、
    前記流体動圧軸受ユニットはラジアル動圧溝を環囲する円筒部を含み、
    前記ベースは、前記ハブ側に突出して外周部に前記コアの前記円環部の中心孔を通して接着固定されると共に内周部に形成された軸受孔に前記流体動圧軸受ユニットが挿入され接着固定される環囲部と、前記環囲部の半径方向外側に連続して設けられると共に前記環囲部に近いほど厚く形成された厚み増大部と、を一体に有し、
    前記ラジアル動圧溝を環囲する前記円筒部は前記環囲部に環囲され、前記環囲部は前記厚み増大部に環囲されると共に、前記ハブの回転軸に沿った軸方向に軸方向座標を定義するとき、前記厚み増大部の前記ハブ側の面の軸方向座標範囲は前記ラジアル動圧溝の軸方向座標範囲と重なり合う部分を有することを特徴とする回転機器。

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