JP5636508B2 - ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 - Google Patents
ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5636508B2 JP5636508B2 JP2013535864A JP2013535864A JP5636508B2 JP 5636508 B2 JP5636508 B2 JP 5636508B2 JP 2013535864 A JP2013535864 A JP 2013535864A JP 2013535864 A JP2013535864 A JP 2013535864A JP 5636508 B2 JP5636508 B2 JP 5636508B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- chemical strengthening
- layer
- thickness
- compressive stress
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73913—Composites or coated substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73911—Inorganic substrates
- G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
以下、本実施形態のガラス基板および当該ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。
ガラス溶融工程は、ガラス素材を溶融する工程である。ガラス基板の材料としては、リチウム(Li2O)を含有するものであればよく、Li2O−SiO2系ガラス、Li2O−Al2O3−SiO2系ガラス等を使用することができる。具体的には、SiO2:50〜70質量%、Al2O3:0〜20質量%、B2O3:0〜5質量%(ただし、SiO2+Al2O3+B2O3:50〜85質量%)、Li2O:2〜10質量%、Na2O:4〜15質量%、K2O:0.1〜5質量%、MgO+CaO+BaO+SrO+ZnO:2〜20質量%の範囲にあるガラス組成のものをガラス素材として使用することができる。Li2Oの含有量としては、2〜10質量%が好ましく、2〜6質量%であることがより好ましく、3〜5質量%であることがさらに好ましい。Li2Oの含有量が2質量%未満の場合、後述する化学強化工程において、リチウムイオンと置換されるアルカリイオンの量が少なく、圧縮応力層の厚みが小さくなり、充分な耐衝撃性を付与できない傾向がある。一方、10質量%を超える場合、応力緩和が起こりやすく、耐久性が悪くなってしまう傾向がある。ガラスの溶融方法としては特に限定されず、通常は上記ガラス素材を公知の温度、時間にて高温で溶融する方法を採用することができる。
成型工程は、溶融したガラス素材からガラス基板(ブランクス)を得る工程である。ブランクスを得る方法としては特に限定されず、たとえば溶融したガラス素材を下型に流し込み、上型によってプレス成型して円板状のガラス基板(ブランクス)を得る方法を採用することができる。なお、ブランクスは、プレス成型に限られず、たとえばダウンドロー法やフロート法等で形成したシートガラスを研削砥石で切り出して作製してもよい。この成型工程において、ブランクスの表面近傍には、異物や気泡が混入し、あるいはキズがついて、欠陥が発生することとなる。
熱処理工程は、プレス成型や切り出しによって作製されたガラス基板を耐熱部材のセッターと交互に積層し、高温の電気炉を通過させることにより、ガラス基板の反りの低減やガラスの結晶化を促進させる工程である。
第1ラッピング工程は、ガラス基板の両表面を研削加工し、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを予備調整する工程である。第1ラッピング工程では、後続の第2ラッピング工程を効率よく行うことができるように、ガラス基板の大きなうねり、欠け、ひび等を除去する。第1ラッピング工程を終えた時点でのガラス基板の主表面の面粗さは、Raが0.4〜0.8μm程度であることが好ましく、主表面の平坦度は、10〜15μm程度であることが好ましい。なお、ガラス基板における表面粗さは、原子間力顕微鏡(デジタルインスツルメンツ社製ナノスコープ)を用いて測定することができ、平坦度は、平坦度測定装置で測定することができる。
コアリング加工工程は、第1ラッピング工程を経たガラス基板の中心部に円形の孔を開ける工程である。孔開けは、たとえば、カッター部にダイヤモンド砥石等を備えたコアドリル等で研削することにより行う。孔の大きさとしては特に限定されないが、通常20mm程度である。
内・外加工工程は、ガラス基板の外周端面および内周端面を、たとえばダイヤモンド等を用いた鼓状の研削砥石により研削し、内・外径加工する工程である。
第2ラッピング工程は、ガラス基板の両表面を再び研削加工し、ガラス基板の平行度、平坦度および厚みを微調整する工程である。
端面研磨加工工程は、第2ラッピング工程を経たガラス基板の外周端面および内周端面を、端面研磨機を用いて研磨加工する工程である。
第1ポリッシング工程は、ガラス基板の両表面を研磨加工する工程である。すなわち、第1ポリッシング工程は、後続する化学強化工程後に行われる第2ポリッシング工程において最終的に必要とされる面粗さが効率よく得られるように、ガラス基板の表面の面粗さを向上させ、かつ、最終のガラス基板の形状が効率よく得られるように研磨加工を行う工程である。
化学強化工程は、ガラス基板を化学強化処理液に浸漬する工程(化学強化処理液浸漬工程)を経ることにより、ガラス基板の主表面、外周端面および内周端面に強化層(イオン交換層および圧縮応力層)を形成する工程である。ガラス基板の主表面に強化層を形成することにより、ガラス基板の反りや主表面の粗面化を防止することができる。ガラス基板の外周端面および内周端面に強化層を形成することにより、ガラス基板の耐衝撃性、耐振動性および耐熱性等を向上させることができる。
第2ポリッシング工程は、化学強化工程後のガラス基板の両表面をさらに精密に研磨加工する工程である。第2ポリッシング工程では、第1ポリッシング工程で使用する両面研磨機と同様の両面研磨機を使用することができる。
洗浄工程は、第2ポリッシング工程後のガラス基板を洗浄する工程である。洗浄方法としては特に限定されず、ポリッシング工程後のガラス基板の表面を清浄にできる洗浄方法であればいずれの洗浄方法でも構わない。本実施形態では、スクラブ洗浄を採用する。
検査工程は、ガラス基板のキズ、割れ、異物の付着等の有無を目視にて検査する工程である。なお、目視でキズ等が判別できない場合には、光学表面アナライザ(たとえば、KLA−TENCOL社製の「OSA6100」)を用いて検査を行う。
次に、上述したガラス基板を用いて製造した情報記録媒体について説明する。本実施形態の情報記録媒体は、ガラス基板の少なくとも一方の表面に、記録層が設けられている。
以下の工程により、ガラス基板および情報記録媒体を作製した。
ガラス素材として、Tgが480℃のガラス素材(組成は下記のとおり)を用い、溶融したガラス素材をプレス成型して、外径が68mmの円板状のブランクスを作製した。ブランクスの厚みは0.93mmとした。
SiO2:65質量%、
Al2O3:15質量%、
B2O3:0.1質量%
(SiO2+Al2O3+B2O3:80質量%)、
Li2O:4質量%、
Na2O:11質量%、
K2O:0.4質量%、
MgO+CaO+BaO+SrO+ZnO:5質量%
外径が70mm、厚みが2mm、材質がアルミナのセッターとブランクスとを交互に積層し、約430℃に設定された高温の電気炉を2時間かけて通過させることにより、ブランクスの反りや内部応力を低減させた。
ブランクスの両表面を、両面研削機(HAMAI社製)を用いて研削加工した。研削条件として、ダイヤモンドペレットは#1200メッシュのものを用い、加重は100g/cm2とし、上定盤の回転数は20rpmとし、下定盤の回転数は30rpmとした。得られたブランクスの平坦度は15μm、表面粗さRaは0.5μmであった。
円筒状のダイヤモンド砥石を備えたコアドリルを用いてブランクスの中心部に直径が18mmの円形の孔を開けた。
鼓状のダイヤモンド砥石を用いて、ブランクスの外周端面および内周端面を、外径65mm、内径20mmに内・外径加工した。
ブランクスの両表面を、両面研削機(HAMAI社製)を用いて再び研削加工した。研削条件として、ダイヤモンドペレットは#1700メッシュのものを用い、加重は100g/cm2とし、上定盤の回転数は20rpmとし、下定盤の回転数は30rpmとした。
ブランクスを100枚重ね、この状態で、ブランクスの外周端面および内周端面を、端面研磨機を用いて研磨加工した。研磨機のブラシ毛として、直径が0.2mmのナイロン繊維を用いた。研磨液は、平均粒径が3μmの酸化セリウムを砥粒(研磨材)として含有するスラリーを用いた。
ブランクスの両表面を、両面研磨機(HAMAI社製)を用いて研磨加工した。研磨条件として、研磨パッドは、硬度Aで80度の発泡ウレタン製のものを用い、研磨液は、平均粒径が1.5μmの酸化セリウムを砥粒(研磨材)として水に分散させてスラリー状にしたものを用い、水と砥粒との混合比率は、2:8とした。また、加重は100g/cm2とし、上定盤の回転数は30rpmとし、下定盤の回転数は50rpmとした。
ブランクスを化学強化処理液に浸漬してブランクスの表面に強化層(圧縮応力層およびイオン交換層)を形成した。化学強化処理液としては、KNO3とNaNO3との混合溶融塩の水溶液を用いた。混合比は質量比で9:1とした。化学強化処理液の温度は500℃とし、浸漬時間は30分とした。化学強化処理の前後において、ガラス基板を500℃で20分間、保持した。
ブランクスの両表面を、両面研磨機(HAMAI社製)を用いてさらに精密に研磨加工した。研磨条件として、研磨パッドは、硬度がAsker−Cで70度の発泡ウレタン製のものを用い、研磨液は、平均粒径が60nmのコロイダルシリカを砥粒(研磨材)として水に分散させてスラリー状にしたものを用い、水と砥粒との混合比率は、2:8とした。また、加重は90g/cm2とし、上定盤の回転数は20rpmとし、下定盤の回転数は30rpmとした。
ガラス基板をスクラブ洗浄した。洗浄液として、KOHとNaOHとを質量比で1:1に混合したものを超純水(DI水)で希釈し、洗浄能力を高めるために非イオン界面活性剤を添加して得られた液体を用いた。洗浄液の供給は、スプレー噴霧によって行った。スクラブ洗浄後、ガラス基板の表面に残る洗浄液を除去するために、水リンス洗浄工程を超音波槽で2分間行い、IPA洗浄工程を超音波槽で2分間行い、最後に、IPA蒸気によりガラス基板の表面を乾燥させた。
化学強化工程において、強化時間を60分に変更し、前後の保持時間を30分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは3μmであり、圧縮応力層の厚みは270μmであった。
化学強化工程において、浸漬時間を10分とし、前後の保持時間を10分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは0.5μmであり、圧縮応力層の厚みは10μmであった。比較例1にかかるガラス基板の測定結果を図3に示す。図3は、比較例1にかかるガラス基板の圧縮応力層の厚みを説明するための説明図である。図3において、参照符号d2は、比較例1にかかるガラス基板の圧縮応力層の厚みを示す。
化学強化工程において、浸漬時間を20分とし、強化温度を450℃とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製し、上述した試験に供した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは1μmであり、圧縮応力層の厚みは30μmであった。
化学強化工程において、化学強化処理液におけるKNO3とNaNO3との混合比を8:2とし、浸漬時間を30分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは1μmであり、圧縮応力層の厚みは110μmであった。
化学強化工程において、強化温度を550℃とし、浸漬時間を15分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは2μmであり、圧縮応力層の厚みは80μmであった。
化学強化工程において、強化温度を550℃とし、浸漬時間を20分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは2.5μmであり、圧縮応力層の厚みは100μmであった。
化学強化工程において、強化温度を550℃とし、浸漬時間を25分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは3.5μmであり、圧縮応力層の厚みは140μmであった。
化学強化工程において、強化温度を550℃とし、浸漬時間を30分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは4μmであり、圧縮応力層の厚みは160μmであった。
化学強化工程において、浸漬時間を20分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは1.5μmであり、圧縮応力層の厚みは60μmであった。
化学強化工程において、浸漬温度を530℃とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは3μmであり、圧縮応力層の厚みは120μmであった。
化学強化工程において、浸漬時間を10分とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは1μmであり、圧縮応力層の厚みは40μmであった。
化学強化工程において、化学強化処理液におけるKNO3とNaNO3との混合比を8.5:1.5した以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは4μmであり、圧縮応力層の厚みは160μmであった。
化学強化工程において、化学強化処理液におけるKNO3とNaNO3との混合比を8.5:1.5とし、浸漬温度を530℃とした以外は、実施例1と同様の方法により、ガラス基板を作製した。得られたガラス基板のカリウムイオン交換層の厚みは5μmであり、圧縮応力層の厚みは200μmであった。
まず、得られたガラス基板の主表面の上に磁性膜(記録層)を設けて情報記録媒体とした。すなわち、ガラス基板側から、Ni−Alからなる下地層(厚み約100nm)、Co−Cr−Ptからなる記録層(厚み20nm)、DLC(Diamond Like Carbon)からなる保護膜(厚み5nm)を順次積層した。情報記録媒体は、実施例1〜11および比較例1〜3のいずれも100枚作製した。作製した情報記録媒体の耐衝撃性を評価するために、情報記録媒体をHDDに装填し、図4に示す落下衝撃試験機にて落下衝撃試験に供した。図4は、落下衝撃試験に使用する落下衝撃試験機の模式図である。図4において、参照符号1は支柱、参照符号2は衝突台、参照符号3は被試験物載置台、参照符号4は衝撃G値測定器、参照符号Xは情報記録媒体を装填したHDD(ハードディスクドライブX)を示す。
ガラス基板を18MΩ・cmの超純水(80℃)20mLに浸漬させ、30分間静置した。この時、撹拌などは行わなかった。作業中は容器の蓋を閉め、クラス100(FED−STD−209D、アメリカ連邦規格)の部屋で作業を行った。30分経過後、抽出液をイオンクロマトグラフ(ダイオネクス社製ICS−2100)で測定した。80℃で行うことにより一部存在する難溶性の塩も溶解させた。
○:ガラス基板1枚あたりのLiの溶出量が30ppb未満であった。
△:ガラス基板1枚あたりのLiの溶出量が31〜60ppbであった。
×:ガラス基板1枚あたりのLiの溶出量が61ppb以上であった。
使用機器:ダイオネクス社製 ICS−2100
使用したカラム:IonPac CS12A(ダイオネクス社製)
使用したバッファ:20mM メタンスルホン酸
2 衝突台
3 被試験物載置台
4 衝撃G値測定器
d1、d2 圧縮応力層の厚み
X ハードディスクドライブ
Claims (10)
- 化学強化処理液を用いてガラス素材の表面にカリウムイオン交換層および圧縮応力層からなる強化層を形成したガラス基板であって、
前記ガラス素材は、リチウムを含有し、
前記圧縮応力層の厚みは、前記カリウムイオン交換層の厚みの35倍以上100倍以下であることを特徴とする、ガラス基板。 - 前記カリウムイオン交換層の厚みが、2〜3μmである請求項1記載のガラス基板。
- 前記ガラス素材は、ガラス成分全体に対して、
2〜10質量%のLi2Oを含有することを特徴とする請求項1または2記載のガラス基板。 - 前記強化層の表層から1μmにおけるカリウムのイオン置換率は、20〜40質量%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のガラス基板。
- 圧縮応力値が150〜200MPaであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のガラス基板。
- プラッタのサイズが2.5インチであり、片面あたりの記憶容量が250GBであるハードディスクドライブに用いられることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のガラス基板。
- ガラス基板を化学強化処理液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化処理液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換する化学強化を行う化学強化工程を有するガラス基板の製造方法であって、
前記化学強化工程は、450〜550℃で15〜30分間、前記化学強化処理液に浸漬する化学強化処理液浸漬工程を含み、
前記ガラス基板は、Liを含有し、
前記化学強化処理液は、カリウム塩とナトリウム塩とを質量比8:2〜9.5:0.5の割合で含有することを特徴とする請求項1記載のガラス基板の製造方法。 - 前記カリウム塩がKNO3であり、前記ナトリウム塩がNaNO3であることを特徴とする請求項7記載のガラス基板の製造方法。
- 前記化学強化工程は、
化学強化処理液浸漬工程の前に、ガラス基板を450〜550℃で15〜30分間、保持する前処理工程と、
化学強化処理液浸漬工程の後に、浸漬後のガラス基板を、450〜550℃で15〜30分間、保持する後処理工程とをさらに含むことを特徴とする請求項7または8記載のガラス基板の製造方法。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載のガラス基板と、該ガラス基板の少なくとも一方の表面に設けられた記録層とを備えることを特徴とする情報記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013535864A JP5636508B2 (ja) | 2011-09-27 | 2012-09-12 | ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011211055 | 2011-09-27 | ||
JP2011211055 | 2011-09-27 | ||
JP2013535864A JP5636508B2 (ja) | 2011-09-27 | 2012-09-12 | ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 |
PCT/JP2012/005801 WO2013046575A1 (ja) | 2011-09-27 | 2012-09-12 | ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5636508B2 true JP5636508B2 (ja) | 2014-12-03 |
JPWO2013046575A1 JPWO2013046575A1 (ja) | 2015-03-26 |
Family
ID=47994664
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013535864A Active JP5636508B2 (ja) | 2011-09-27 | 2012-09-12 | ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5636508B2 (ja) |
CN (1) | CN104054130B (ja) |
MY (1) | MY167782A (ja) |
SG (1) | SG11201401008UA (ja) |
WO (1) | WO2013046575A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6261399B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2018-01-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 磁気記録媒体用アルミニウム基板 |
JP2020155676A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-09-24 | 住友理工株式会社 | 誘電膜およびその製造方法 |
CN112851140B (zh) * | 2021-01-22 | 2022-09-23 | 昆山国显光电有限公司 | 玻璃盖板制作方法、玻璃盖板及显示模组 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001002451A (ja) * | 1999-06-16 | 2001-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガラス基板およびその製造方法 |
JP2008127243A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Konica Minolta Opto Inc | 化学強化処理液、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 |
JP2008130180A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Konica Minolta Opto Inc | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1424271A (zh) * | 2002-12-26 | 2003-06-18 | 上海莹力科技有限公司 | 一种磁记录盘玻璃基片离子交换表面增强方法 |
JP4535692B2 (ja) * | 2003-05-28 | 2010-09-01 | セントラル硝子株式会社 | 化学強化ガラス |
US7891212B2 (en) * | 2004-03-25 | 2011-02-22 | Hoya Corporation | Magnetic disk glass substrate |
DE102004022629B9 (de) * | 2004-05-07 | 2008-09-04 | Schott Ag | Gefloatetes Lithium-Aluminosilikat-Flachglas mit hoher Temperaturbeständigkeit, das chemisch und thermisch vorspannbar ist und dessen Verwendung |
CN102898023B (zh) * | 2006-05-25 | 2016-11-23 | 日本电气硝子株式会社 | 强化玻璃及其制造方法 |
US7882709B2 (en) * | 2006-11-22 | 2011-02-08 | Konica Minolta Opto, Inc. | Glass substrate for an information recording medium, method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium, and an information recording medium |
US8349454B2 (en) * | 2007-06-07 | 2013-01-08 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Strengthened glass substrate and process for producing the same |
-
2012
- 2012-09-12 JP JP2013535864A patent/JP5636508B2/ja active Active
- 2012-09-12 MY MYPI2014700728A patent/MY167782A/en unknown
- 2012-09-12 WO PCT/JP2012/005801 patent/WO2013046575A1/ja active Application Filing
- 2012-09-12 CN CN201280058230.2A patent/CN104054130B/zh active Active
- 2012-09-12 SG SG11201401008UA patent/SG11201401008UA/en unknown
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001002451A (ja) * | 1999-06-16 | 2001-01-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガラス基板およびその製造方法 |
JP2008127243A (ja) * | 2006-11-21 | 2008-06-05 | Konica Minolta Opto Inc | 化学強化処理液、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体 |
JP2008130180A (ja) * | 2006-11-22 | 2008-06-05 | Konica Minolta Opto Inc | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104054130A (zh) | 2014-09-17 |
WO2013046575A1 (ja) | 2013-04-04 |
JPWO2013046575A1 (ja) | 2015-03-26 |
SG11201401008UA (en) | 2014-07-30 |
CN104054130B (zh) | 2017-07-28 |
MY167782A (en) | 2018-09-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2008004471A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、磁気ディスクおよびその製造方法 | |
JP5321594B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2009193608A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP5636508B2 (ja) | ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 | |
US20100081013A1 (en) | Magnetic disk substrate and magnetic disk | |
JP5536481B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 | |
JP4631971B2 (ja) | ガラス基板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 | |
WO2011021478A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 | |
JP5755952B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の検品・選別方法、hdd用情報記録媒体の製造方法、及びhdd用ガラス基板 | |
JP5781845B2 (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP5706250B2 (ja) | Hdd用ガラス基板 | |
JP5235916B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク | |
JP5719785B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、および情報記録装置 | |
JP5859757B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP5492276B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスク | |
JP5071603B2 (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2012203937A (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5360331B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP2005285276A (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク | |
WO2012042735A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2013012282A (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP6034636B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板の製造方法 | |
JP5722618B2 (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2013016217A (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP2012079370A (ja) | 磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140924 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141020 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5636508 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |