JP5597550B2 - 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 - Google Patents
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Description
本発明は、光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体に関するものである。
アクリル樹脂は透明性に優れるため、導光板、拡散板、レンズ等の光学用成形体として広く使用されてきた。また、最近では、アクリル樹脂に代わり、光学用成形体としては種々のスチレン系樹脂も提案されて使用されている。
例えば、特許文献１では、メタクリル酸メチルとスチレン系単量体とを主成分とする共重合体からなる樹脂成形体が、また、特許文献２では、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合樹脂からなる導光板が提案されている。また、特許文献３及び４では、芳香族ビニル系単量体とメタクリル酸メチル単量体とからなる共重合体からなる樹脂組成物が提案されている。また、特許文献５にはスチレン系重合体やスチレン系単量体−メタクリル酸メチル共重合体の多層拡散板が提案されている。
例えば、特許文献１では、メタクリル酸メチルとスチレン系単量体とを主成分とする共重合体からなる樹脂成形体が、また、特許文献２では、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合樹脂からなる導光板が提案されている。また、特許文献３及び４では、芳香族ビニル系単量体とメタクリル酸メチル単量体とからなる共重合体からなる樹脂組成物が提案されている。また、特許文献５にはスチレン系重合体やスチレン系単量体−メタクリル酸メチル共重合体の多層拡散板が提案されている。
アクリル樹脂は光学用成形体として広く使用されているが、吸湿性が高いため、反りや寸法変化が生じやすいという問題がある。また、アクリル樹脂は成形時の熱分解性が高いため、高温で成形する場合、成形体に外観不良が発生しやすいという問題がある。
これらの問題に対し、上記のように、種々のスチレン系樹脂が提案され使用されているが、スチレン系樹脂はアクリル樹脂に比べ透明性や耐光性に劣るため、使用に制限があった。
特に、光学用成形体の中で光線透過距離が長い（以下「長光路」）用途における成形体、例えば、２０インチ以上の中〜大型ディスプレイの導光板には、光透過率の低いスチレン系樹脂が使用できないという問題があった。
これらの問題に対し、上記のように、種々のスチレン系樹脂が提案され使用されているが、スチレン系樹脂はアクリル樹脂に比べ透明性や耐光性に劣るため、使用に制限があった。
特に、光学用成形体の中で光線透過距離が長い（以下「長光路」）用途における成形体、例えば、２０インチ以上の中〜大型ディスプレイの導光板には、光透過率の低いスチレン系樹脂が使用できないという問題があった。
また、ディスプレイ光源には、一般的には蛍光管（FL管）、外部電極管（EEFL管）、冷陰極管（CCFL管）が使用されているが、最近ではＬＥＤの技術革新を背景に、ＬＥＤ光に適した新たな光学用成形体が望まれている。
本発明の目的は、吸湿性が低く、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性に優れた光学用成形体を提供することである。
また、本発明の目的は、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板または種々の光拡散体として有用である光学用成形体、特にＬＥＤを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である導光板、または照明等の用途に有用である光拡散体を提供することである。
また、本発明の目的は、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板または種々の光拡散体として有用である光学用成形体、特にＬＥＤを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である導光板、または照明等の用途に有用である光拡散体を提供することである。
本発明者は、上記の課題について、鋭意検討を行った結果、重合禁止剤が少なく、かつフェニルアセチレン系化合物含量が少ないスチレン系単量体を重合させることにより得られたスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体が、吸湿性が低く、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性に優れ、またこの光学用成形体が導光板や光拡散体に有用であることを見出し、本発明に至った。
本発明に係る光学用成形体は、重合禁止剤が１０ｐｐｍ未満であり、かつ、フェニルアセチレン系化合物が５０ｐｐｍ以下のスチレン系単量体を重合反応させることにより得られるスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体である。
本発明に係る光学用成形体、特に導光板及び光拡散体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性が良好である。また、光拡散体は全光線透過率や拡散率も良好である。
＜用語の説明＞
本願明細書において、「〜」という記号は「以上」及び「以下」を意味する。例えば、「Ａ〜Ｂ」なる記載は、Ａ以上でありＢ以下であることを意味する。
本明細書において、「光学用成形体」とは、例えば、導光板、拡散板、レンズ等の光学用途に用いるものを意味する。
また、本明細書においては、（メタ）アクリル酸エステル系単量体とは、アクリル酸エステル単量体及びメタクリル酸エステル単量体の総称である。
本願明細書において、「〜」という記号は「以上」及び「以下」を意味する。例えば、「Ａ〜Ｂ」なる記載は、Ａ以上でありＢ以下であることを意味する。
本明細書において、「光学用成形体」とは、例えば、導光板、拡散板、レンズ等の光学用途に用いるものを意味する。
また、本明細書においては、（メタ）アクリル酸エステル系単量体とは、アクリル酸エステル単量体及びメタクリル酸エステル単量体の総称である。
また、本明細書において「光拡散体」とは、拡散板や拡散カバーに代表される、光を拡散し、平面や曲面に面発光させるものを意味する。
以下、本発明に係る光学用成形体、特に導光板及び光拡散体の実施形態を詳細に説明する。
本実施形態に係る光学用成形体は、重合禁止剤が１０ｐｐｍ未満であり、かつ、フェニルアセチレン系化合物が５０ｐｐｍ以下のスチレン系単量体を重合反応させることにより得られるスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体である。
本実施形態に係る光学用成形体は、重合禁止剤が１０ｐｐｍ未満であり、かつ、フェニルアセチレン系化合物が５０ｐｐｍ以下のスチレン系単量体を重合反応させることにより得られるスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体である。
上記構成からなる光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性が良好である。また、光拡散体は全光線透過率や拡散率も良好である。
［スチレン系樹脂］
スチレン系樹脂は、スチレン系単量体を重合してなる重合体である。
スチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等を挙げることができるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレン系単量体は単独であっても二種以上混合したものであってもよい。
スチレン系樹脂は、スチレン系単量体を重合してなる重合体である。
スチレン系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等を挙げることができるが、好ましくはスチレンである。これらのスチレン系単量体は単独であっても二種以上混合したものであってもよい。
スチレン系樹脂は、スチレン系単量体及びスチレン系単量体と共重合可能な単量体との共重合体であってもよく、スチレン系単量体及び（メタ）アクリル酸エステル系単量体を共重合してなるスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体が好ましい。
上記スチレン系樹脂がスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であることにより、耐光性が良いという効果を得ることができる。
上記スチレン系樹脂がスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であることにより、耐光性が良いという効果を得ることができる。
（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートのメタクリル酸エステル、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、２−メチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、デシルアクリレート等のアクリル酸エステルが挙げられるが、特に好ましくはメチルメタクリレートが挙げられる。これらの（メタ）アクリル酸エステル系単量体は単独であっても二種以上混合したものであっても差し支えない。
スチレン系樹脂中の、スチレン系単量体単位の比は、３質量％以上であり、好ましくは６質量％〜９０質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％である。
スチレン系単量体単位の比が３質量％以上であると、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となる。スチレン系単量体単位の比が、６質量％〜９０質量％であれば、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となるばかりか、長光路の光透過率の損失が少ないという効果を得ることができる。
スチレン系単量体単位の比が３質量％以上であると、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となる。スチレン系単量体単位の比が、６質量％〜９０質量％であれば、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となるばかりか、長光路の光透過率の損失が少ないという効果を得ることができる。
また、スチレン系樹脂中の（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の比は９７質量％以下であり、好ましくは１０質量％〜９４質量％、さらに好ましくは４０質量％〜９０質量％である。
（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の比が９７質量％以下であると、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となる。（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の比が１０質量％〜９４質量％であれば、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となるばかりか、長光路の光透過率の損失が少ないという効果を得ることができる。
（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の比が９７質量％以下であると、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となる。（メタ）アクリル酸エステル系単量体単位の比が１０質量％〜９４質量％であれば、光学用成形体の吸湿性が低くなり、熱安定性が良好となるばかりか、長光路の光透過率の損失が少ないという効果を得ることができる。
スチレン系樹脂は、必要に応じて、スチレン系単量体及びスチレン系単量体と共重合可能なエチレン系不飽和単量体の共重合体であっても良く、このようなエチレン系不飽和単量体としては、例えば、アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸塩、無水マレイン酸等が挙げられる。導光板の耐熱性を向上させる場合、メタクリル酸や無水マレイン酸が好ましい。エチレン系不飽和単量体は二種以上混合したものであっても差し支えない。
ここで、スチレン系樹脂中のエチレン系不飽和単量体単位の比は３５質量％以下であり、好ましくは２５質量％以下、さらに好ましくは２０質量％以下である。
エチレン系不飽和単量体単位の比が３５質量％以下であると、スチレン系樹脂の特徴である低吸湿性や成形加工性を失うことなく、耐熱性等を向上できるという効果を得ることができる。
エチレン系不飽和単量体単位の比が３５質量％以下であると、スチレン系樹脂の特徴である低吸湿性や成形加工性を失うことなく、耐熱性等を向上できるという効果を得ることができる。
（スチレン系樹脂の分子量）
スチレン系樹脂の分子量としては、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）にて測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが７〜４５万であることが好ましく、分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は１．７〜２．３であることが好ましい。
Ｍｗが７万以上であると強い成形体が得られ、４５万以下であると射出成形時の加工性が良好となる。また、Ｍｗ／Ｍｎが１．７以上であると押出成形時の加工性が良好となり、２．３以下であると強い成形体を得ることができる。なお、ＭｗやＭｗ／Ｍｎは重合時の温度や重合開始剤量等で調整できる。
スチレン系樹脂の分子量としては、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）にて測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが７〜４５万であることが好ましく、分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は１．７〜２．３であることが好ましい。
Ｍｗが７万以上であると強い成形体が得られ、４５万以下であると射出成形時の加工性が良好となる。また、Ｍｗ／Ｍｎが１．７以上であると押出成形時の加工性が良好となり、２．３以下であると強い成形体を得ることができる。なお、ＭｗやＭｗ／Ｍｎは重合時の温度や重合開始剤量等で調整できる。
（スチレン系樹脂の光弾性係数）
スチレン系樹脂の光弾性係数は、−６×１０-12〜６×１０-12／Ｐａであることが好ましい。さらに好ましくは、−４×１０-12〜４×１０-12／Ｐａである。
光弾性係数が−６×１０-12〜６×１０-12／Ｐａの場合は、導光板とした場合に輝度ムラが少なくなり好ましい。なお、光弾性係数は、重合の際のスチレン系単量体と共重合可能な単量体の割合で調整できる。
スチレン系樹脂の光弾性係数は、−６×１０-12〜６×１０-12／Ｐａであることが好ましい。さらに好ましくは、−４×１０-12〜４×１０-12／Ｐａである。
光弾性係数が−６×１０-12〜６×１０-12／Ｐａの場合は、導光板とした場合に輝度ムラが少なくなり好ましい。なお、光弾性係数は、重合の際のスチレン系単量体と共重合可能な単量体の割合で調整できる。
（スチレン系樹脂のメルトマスフローレイト）
スチレン系樹脂のメルトマスフローレイト（ＭＦＲ、ＪＩＳ Ｋ７２１０に基づき、温度２００℃、荷重４９Ｎで測定したもの）は、好ましくは０．５〜３０ｇ／１０分、さらに好ましくは３〜２０ｇ／１０分である。
ＭＦＲが０．５ｇ／１０分以上では射出成形性が良好であり、３０ｇ／１０分以下では押し出し成形性が良好であり好ましい。ＭＦＲは、分子量、スチレン系単量体と共重合可能な単量体の種類や重合の際のその割合で調整できる。
スチレン系樹脂のメルトマスフローレイト（ＭＦＲ、ＪＩＳ Ｋ７２１０に基づき、温度２００℃、荷重４９Ｎで測定したもの）は、好ましくは０．５〜３０ｇ／１０分、さらに好ましくは３〜２０ｇ／１０分である。
ＭＦＲが０．５ｇ／１０分以上では射出成形性が良好であり、３０ｇ／１０分以下では押し出し成形性が良好であり好ましい。ＭＦＲは、分子量、スチレン系単量体と共重合可能な単量体の種類や重合の際のその割合で調整できる。
（スチレン系樹脂の形状）
スチレン系樹脂の形状は、ペレット形状であることが好ましい。ペレット化の方法は公知の方法が採用でき、特に限定されないが、例えば、ダイスノズルから直径が２〜５ｍｍのストランドを溶融押出し、さらに冷却水槽に通して冷却したストランドを、長さ２〜４ｍｍに切断することにより得られる。
スチレン系樹脂の形状は、ペレット形状であることが好ましい。ペレット化の方法は公知の方法が採用でき、特に限定されないが、例えば、ダイスノズルから直径が２〜５ｍｍのストランドを溶融押出し、さらに冷却水槽に通して冷却したストランドを、長さ２〜４ｍｍに切断することにより得られる。
ここで、ペレット中に含まれる切粉は３００ｐｐｍ未満であることが好ましく、さらに好ましくは１〜２００ｐｐｍである。切粉が３００ｐｐｍ未満であると、長光路における光透過率が高くなる。なお、切粉は、製造プロセス上、ペレット中に１ｐｐｍ以上含まれることが多い。
なお、切粉は、例えばタイラー２０メッシュの金網篩を用い、スチレン系樹脂１００ｇを５分間篩った時の金網を通過した切粉量を計測することにより算出できる。切粉量はストランド切断条件や分級等により調整できる。
なお、切粉は、例えばタイラー２０メッシュの金網篩を用い、スチレン系樹脂１００ｇを５分間篩った時の金網を通過した切粉量を計測することにより算出できる。切粉量はストランド切断条件や分級等により調整できる。
スチレン系樹脂中に残存する単量体と溶剤の合計量は、１０００ｐｐｍ未満であることが好ましく、さらに好ましくは、１０〜８００ｐｐｍである。なお、スチレン系樹脂中に残存する単量体と溶剤の量は、製造プロセス上、１０ｐｐｍ以上含まれることが多い。
スチレン系樹脂中に残存する単量体と溶剤の合計量が１０００ｐｐｍ未満の場合は、成形時の臭気や長期使用における変色を少なくすることができる。残存する単量体や残溶剤は脱揮における温度や圧力条件等で調整できる。
スチレン系樹脂中に残存する単量体と溶剤の合計量が１０００ｐｐｍ未満の場合は、成形時の臭気や長期使用における変色を少なくすることができる。残存する単量体や残溶剤は脱揮における温度や圧力条件等で調整できる。
スチレン系樹脂中のオリゴマー量は特に制限は無いが、オリゴマー量を低減すべく多量の重合開始剤を添加すると、長光路の光透過率が低下するため好ましくない。
スチレン系樹脂には、スチレン系樹脂１００質量部に対して、公知の酸化防止剤、耐光安定剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤を０．５質量部未満添加することができるが、特に、導光板である場合、添加しないことが好ましい。上記添加剤が０．５質量部未満であれば、長光路の光透過率の低下が少ない。
［重合禁止剤］
本実施形態に係る光学用成形体は、スチレン系単量体中の重合禁止剤の含有量が１０ｐｐｍ未満であることを特徴とする。重合禁止剤を１０ｐｐｍ未満とすることで、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
本実施形態に係る光学用成形体は、スチレン系単量体中の重合禁止剤の含有量が１０ｐｐｍ未満であることを特徴とする。重合禁止剤を１０ｐｐｍ未満とすることで、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
また、重合禁止剤の含有量は、好ましくは５ｐｐｍ未満、さらに好ましくは１ｐｐｍ未満である。重合禁止剤の含有量が５ｐｐｍ未満であることにより、さらに長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなるという効果を得ることができる。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン類やカテコール類等が挙げられる。
通常、市場で入手できるスチレン系単量体には１０〜３０ｐｐｍ程度の重合禁止剤が含まれているため、除去または減少させる必要がある。除去または減少させる方法としては、特に制限はなく、蒸留や吸着等の公知の手法が採用できる。この方法としては、減圧蒸留が好ましい。
なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系単量体と共重合可能な単量体中の重合禁止剤も夫々１０ｐｐｍ未満とすることが好ましい。
通常、市場で入手できるスチレン系単量体には１０〜３０ｐｐｍ程度の重合禁止剤が含まれているため、除去または減少させる必要がある。除去または減少させる方法としては、特に制限はなく、蒸留や吸着等の公知の手法が採用できる。この方法としては、減圧蒸留が好ましい。
なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系単量体と共重合可能な単量体中の重合禁止剤も夫々１０ｐｐｍ未満とすることが好ましい。
［フェニルアセチレン系化合物］
本実施形態に係る光学用成形体は、スチレン系単量体中のフェニルアセチレン系化合物の含有量が５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。フェニルアセチレン系化合物を５０ｐｐｍ以下とすることで、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
本実施形態に係る光学用成形体は、スチレン系単量体中のフェニルアセチレン系化合物の含有量が５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。フェニルアセチレン系化合物を５０ｐｐｍ以下とすることで、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
フェニルアセチレン系化合物の含有量は、好ましくは４０ｐｐｍ未満、さらに好ましくは２０ｐｐｍ未満である。フェニルアセチレン系化合物の含有量が４０ｐｐｍ未満であることにより、さらに長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなるという効果を得ることができる。
通常、スチレンにおけるフェニルアセチレンは沸点が近く分離が困難であるため、市場で入手できるスチレンには１５０ｐｐｍ程度のフェニルアセチレンが含まれており、除去または減少させる必要がある。除去または減少させる方法としては、特に制限はなく、水素化処理や吸着等の公知の手法が採用できる。この方法としては、水素化触媒の存在下で行う水素化処理が好ましい。
［重合反応］
本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系樹脂は、重合反応の中でも、特に溶液重合により得ることが好ましい。
本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系樹脂は、重合反応の中でも、特に溶液重合により得ることが好ましい。
溶液重合の溶剤としては公知の溶剤、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ヘキサン、シクロヘキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が使用できる。
溶剤の使用量は、使用する単量体の合計１００質量部に対して、好ましくは１〜７０質量部、さらに好ましくは２〜３０質量部である。
溶剤の使用量が、使用する単量体の合計１００質量部に対して、１〜７０質量部であれば、溶液重合により重合時の粘度制御が容易であるばかりか、共重合する場合、共重合組成分布が狭くなり長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。
溶剤の使用量は、使用する単量体の合計１００質量部に対して、好ましくは１〜７０質量部、さらに好ましくは２〜３０質量部である。
溶剤の使用量が、使用する単量体の合計１００質量部に対して、１〜７０質量部であれば、溶液重合により重合時の粘度制御が容易であるばかりか、共重合する場合、共重合組成分布が狭くなり長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。
また、重合反応としては、特にラジカル溶液重合であることが好ましい。ラジカル溶液重合では、アニオン重合やカチオン重合、配位重合に比べて、スチレン系樹脂中に残存する開始剤や助剤の影響が少なく、長光路の光透過率や耐光性が高い。
（重合開始剤）
ラジカル重合時に、ラジカル発生源として、有機過酸化物やアゾ化合物等公知の重合開始剤を添加することができる。
重合開始剤としては、１時間半減期温度が９５〜１４０℃で、水素引き抜き能が低く、ベンゼン環を含まないものが好ましい。水素引き抜き能が低いものは、ミクロなゲル成分が発生しにくいため、長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。また、ベンゼン環を含まないものは、着色成分が生成しにくく、長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。
ラジカル重合時に、ラジカル発生源として、有機過酸化物やアゾ化合物等公知の重合開始剤を添加することができる。
重合開始剤としては、１時間半減期温度が９５〜１４０℃で、水素引き抜き能が低く、ベンゼン環を含まないものが好ましい。水素引き抜き能が低いものは、ミクロなゲル成分が発生しにくいため、長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。また、ベンゼン環を含まないものは、着色成分が生成しにくく、長光路の光透過率の損失が少ないものとなる。
好ましい重合開始剤の例としては、１、１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３、３、５−トリメチルシクロヘキサン、１、１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−シクロヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキサイド等である。
また、重合開始剤の添加量は、単量体の合計１００質量部に対して、０.０１〜０．５質量部であることが好ましい。さらに好ましくは、０．０２〜０．２質量部である。重合開始剤の添加量が０.０１〜０．５質量部であると、長光路の光透過率と耐光性が良好なものとなる。
（連鎖移動剤）
また、ラジカル重合時に、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタンや２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等の公知の連鎖移動剤を添加してもよい。
連鎖移動剤の添加量は、好ましくは単量体の合計１００質量部に対して、０．００１〜０．５質量部、さらに好ましくは０．００５〜０．２質量部である。連鎖移動剤の添加量が０．００１〜０．５質量部であると、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
また、ラジカル重合時に、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタンや２、４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等の公知の連鎖移動剤を添加してもよい。
連鎖移動剤の添加量は、好ましくは単量体の合計１００質量部に対して、０．００１〜０．５質量部、さらに好ましくは０．００５〜０．２質量部である。連鎖移動剤の添加量が０．００１〜０．５質量部であると、長光路における光透過率が高くなり、耐光性が良好なものとなる。
スチレン系樹脂の重合時における重合温度は、好ましくは９０〜１８０℃、さらに好ましくは９５〜１７０℃である。９０〜１８０℃であると、長光路の光透過率と耐光性が良好なものとなる。
（溶存酸素の除去）
本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系単量体及び溶剤は、溶存酸素を除去した後に重合に供することが好ましい。溶存酸素を除去する方法としては特に制限はなく、窒素ガスを使用してバブリング処理する方法等が採用できる。
溶存酸素を除去すると、成形体の色が無色で光学用途に対し、良好なものとなる場合がある。なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系単量体と共重合可能な単量体の溶存酸素も除去した後に重合に供することが好ましい。
本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系単量体及び溶剤は、溶存酸素を除去した後に重合に供することが好ましい。溶存酸素を除去する方法としては特に制限はなく、窒素ガスを使用してバブリング処理する方法等が採用できる。
溶存酸素を除去すると、成形体の色が無色で光学用途に対し、良好なものとなる場合がある。なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系単量体と共重合可能な単量体の溶存酸素も除去した後に重合に供することが好ましい。
（異物の除去）
また、本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系単量体及び溶剤は、異物を除去した後に重合に供することが好ましい。異物を除去する方法としては特に制限はなく、フィルターで濾過する方法等が採用できる。
異物を除去すると、長光路の光透過率が高くなる場合がある。なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系樹脂と共重合可能な単量体の異物も除去した後に重合に供することが好ましい。
また、本実施形態に係る光学用成形体に使用するスチレン系単量体及び溶剤は、異物を除去した後に重合に供することが好ましい。異物を除去する方法としては特に制限はなく、フィルターで濾過する方法等が採用できる。
異物を除去すると、長光路の光透過率が高くなる場合がある。なお、スチレン系単量体と共重合可能な単量体を共重合する場合、スチレン系樹脂と共重合可能な単量体の異物も除去した後に重合に供することが好ましい。
本実施形態に係るスチレン系樹脂においては、スチレン系樹脂を射出成形法、押出成形法、溶剤キャスト法等公知の方法で成形して光学用成形体とすることができる。特に、射出成形法あるいは押出成形法が好ましい。
成形条件には特に制限は無いが、２００〜３００℃で成形することが好ましい。
成形条件には特に制限は無いが、２００〜３００℃で成形することが好ましい。
［導光板］
本実施形態に係る光学用成形体の用途としては、導光板、拡散板、レンズ等が挙げられる。特に、本実施形態に係る光学用成形体は、長光路における光透過率の損失が少なく、特に４００ｎｍ以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板として有用であり、特に、ＬＥＤを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である。
本実施形態に係る光学用成形体の用途としては、導光板、拡散板、レンズ等が挙げられる。特に、本実施形態に係る光学用成形体は、長光路における光透過率の損失が少なく、特に４００ｎｍ以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板として有用であり、特に、ＬＥＤを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である。
本実施形態の導光板の厚みは、好ましくは０．３〜８ｍｍ、さらに好ましくは０．４〜５ｍｍである。このような厚みからなる導光板は、２０インチ以上の中〜大型ディスプレイ用の導光板として十分に光を取り入れることができ、また取り扱う上で十分な剛性を有するという点において、効果がある。
本実施形態に係る導光板には、本実施形態の目的を損なわない範囲で、その他の成分として架橋アクリル系粒子、架橋スチレン系粒子、シロキサン樹脂粒子等の有機系光拡散剤、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機系光拡散剤を配合することができる。
[光拡散体]
また、本実施形態に係る光学用成形体の用途として光拡散体である場合にも、全光線透過率(あるいは光透過率)や拡散率などの光学物性が良好なものとなる。そのため、照明など様々な用途に用いられる光拡散体として有用である。
また、本実施形態に係る光学用成形体の用途として光拡散体である場合にも、全光線透過率(あるいは光透過率)や拡散率などの光学物性が良好なものとなる。そのため、照明など様々な用途に用いられる光拡散体として有用である。
光拡散体として光を拡散させる方法として、光拡散剤を練り込む方法や、表面への賦形による方法、光拡散剤の表面への塗布等、様々な方法を採用できる。
光拡散剤として、架橋アクリル系粒子、架橋スチレン系粒子、シロキサン樹脂粒子等の有機系光拡散剤、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化チタン等の無機系光拡散剤を用いる事ができる。架橋アクリル系粒子や架橋スチレン系粒子、シロキサン樹脂粒子、炭酸カルシウムが、光拡散体とした際に、全光線透過率や拡散率などの光学物性のバランスが良く、好ましい。
光拡散体中の光拡散剤の含有量に特に制限はないが、０．１質量％以上、１０質量％以下の範囲で含有すると、全光線透過率と拡散率それぞれに、あるいは両方のバランスに優れた光拡散体を得ることができる。光拡散剤を０．１質量％以上含有することで高い拡散性能を持たせる事ができ、１０質量％以下にすることで全光線透過率の低下が少ない。
光拡散体中に光拡散剤を含有させる手段として、押出し成形等の公知の手法を採用できる。
本実施形態に係る光拡散体には、スチレン系樹脂１００質量部に対して、公知の酸化防止剤、耐光安定剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、蛍光増白剤、蛍光材料、蓄光材料を０．５質量部未満添加することができる。上記添加剤が０．５質量部未満であれば、全光線透過率(あるいは光透過率)や拡散率等の光学物性の低下が小さい。
〈作用効果〉
以下、上記実施形態に係る光学用成形体、特に導光板及び光拡散体の作用効果について説明する。
以下、上記実施形態に係る光学用成形体、特に導光板及び光拡散体の作用効果について説明する。
上記実施形態に係る光学用成形体は、重合禁止剤が１０ｐｐｍ未満であり、かつ、フェニルアセチレン系化合物が５０ｐｐｍ以下のスチレン系単量体を重合反応させることにより得られるスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体である。
上記実施形態に係る光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性が良好である。
特に、上記スチレン系樹脂がスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体であることにより、反りや寸法変化、長光路における光透過率、耐光性のバランスがさらに良好になるという効果を得ることができる。
また、上記重合反応が、ラジカル溶液重合反応であることにより、スチレン系樹脂中に残存する開始剤や助剤の影響が少なく、長光路の光透過率や耐光性が高くなるという効果を得ることができる。
上記実施形態に係る光学用成形体は、長光路における光透過率の損失が少なく、特に、４００ｎｍ以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板として有用であり、特に、ＬＥＤを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である。
また、上記実施形態に係る光学用成形体は、全光線透過率(あるいは光透過率)や拡散率などの光学物性も良好なものとなる。そのため、照明など様々な用途に用いられる光拡散体として有用である。
以上、本発明に係る光学用成形体、特に導光板及び光拡散体について実施形態を挙げて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、本発明に係る光学用成形体は、反りや寸法変化が少ないため、中〜大型ディスプレイのみならず、精密なサイズ調整が求められる小型のディスプレイにも好ましく用いることができる。さらに、ディスプレイ以外の照明器具や表示器具用途にも好ましく用いることができる。
また、本発明に係る光学用成形体は、次の工程を含む製造方法によって得られてもよい。
スチレン系単量体を準備する工程と、スチレン系単量体に含まれる重合禁止剤を１０ｐｐｍ未満に減少させる工程と、スチレン系単量体に含まれるフェニルアセチレン系化合物を５０ｐｐｍ以下に減少させる工程と、スチレン系単量体を重合反応させてスチレン系樹脂を得る重合反応工程と、スチレン系樹脂を成形する成形工程とを含む光学用成形体の製造方法。
上記製造方法によって得られる光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性が良好である。
スチレン系単量体を準備する工程と、スチレン系単量体に含まれる重合禁止剤を１０ｐｐｍ未満に減少させる工程と、スチレン系単量体に含まれるフェニルアセチレン系化合物を５０ｐｐｍ以下に減少させる工程と、スチレン系単量体を重合反応させてスチレン系樹脂を得る重合反応工程と、スチレン系樹脂を成形する成形工程とを含む光学用成形体の製造方法。
上記製造方法によって得られる光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性が良好である。
以下、本発明に係る光学用成形体、特に導光板及び光拡散体の詳細な内容について、実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［スチレン系単量体］
先ず、実施例及び比較例で用いるスチレン系単量体について説明する。
（スチレン−１）
工業的なスチレンを準備したところ、重合禁止剤として４−ｔ−ブチルカテコールが１２ｐｐｍ、不純物としてフェニルアセチレンが１３０ｐｐｍ含まれていることがわかった。この工業的なスチレンを水素化触媒の存在下で水素化処理して、含有するフェニルアセチレンを選択的に水素化し、その後減圧蒸留して、４−ｔ−ブチルカテコールが０．１ｐｐｍ未満で、フェニルアセチレンが１０ｐｐｍ含まれるスチレン−１を得た。
（スチレン−２）
スチレン−１に４−ｔ−ブチルカテコールを添加して、４−ｔ−ブチルカテコールが７ｐｐｍ含まれるスチレン−２を得た。
（スチレン−３）
スチレン−１に４−ｔ−ブチルカテコールを添加して、４−ｔ−ブチルカテコールが１２ｐｐｍ含まれるスチレン−３を得た。
（スチレン−４）
スチレン−１にフェニルアセチレンを添加して、フェニルアセチレンが４３ｐｐｍ含まれるスチレン−４を得た。
（スチレン−５）
スチレン−１にフェニルアセチレンを添加して、フェニルアセチレンが１３０ｐｐｍ含まれるスチレン−５を得た。
先ず、実施例及び比較例で用いるスチレン系単量体について説明する。
（スチレン−１）
工業的なスチレンを準備したところ、重合禁止剤として４−ｔ−ブチルカテコールが１２ｐｐｍ、不純物としてフェニルアセチレンが１３０ｐｐｍ含まれていることがわかった。この工業的なスチレンを水素化触媒の存在下で水素化処理して、含有するフェニルアセチレンを選択的に水素化し、その後減圧蒸留して、４−ｔ−ブチルカテコールが０．１ｐｐｍ未満で、フェニルアセチレンが１０ｐｐｍ含まれるスチレン−１を得た。
（スチレン−２）
スチレン−１に４−ｔ−ブチルカテコールを添加して、４−ｔ−ブチルカテコールが７ｐｐｍ含まれるスチレン−２を得た。
（スチレン−３）
スチレン−１に４−ｔ−ブチルカテコールを添加して、４−ｔ−ブチルカテコールが１２ｐｐｍ含まれるスチレン−３を得た。
（スチレン−４）
スチレン−１にフェニルアセチレンを添加して、フェニルアセチレンが４３ｐｐｍ含まれるスチレン−４を得た。
（スチレン−５）
スチレン−１にフェニルアセチレンを添加して、フェニルアセチレンが１３０ｐｐｍ含まれるスチレン−５を得た。
［（メタ）アクリル酸エステル系単量体］
（ＭＭＡ−１）
次に、（メタ）アクリル酸エステル系単量体について説明する。
工業的なメタクリル酸メチルを準備したところ、重合禁止剤としてトパノールが５ｐｐｍ含まれることがわかった。これを、ＭＭＡ−１とする。
（ＭＭＡ−１）
次に、（メタ）アクリル酸エステル系単量体について説明する。
工業的なメタクリル酸メチルを準備したところ、重合禁止剤としてトパノールが５ｐｐｍ含まれることがわかった。これを、ＭＭＡ−１とする。
［実施例１］
上記スチレン−１を５２質量部、上記ＭＭＡ−１を４８質量部、溶剤としてエチルベンゼンを１２質量部混合し、窒素で１時間バブリングして溶存酸素を除去した後、上澄みを１μmのフィルターで濾過して原料溶液とした。
そして、撹拌機を付した容積約５リットルの第一完全混合型反応器、容積約１５リットルの第二完全混合型反応器、容積約４０リットルの塔式プラグフロー型反応器、予熱器を付した脱揮槽を直列に接続して構成した。
原料溶液に１、１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−シクロヘキサン（日本油脂社製パーヘキサＨＣ）０．０３質量部、ｎ−ドデシルメルカプタン（花王社製チオカルコール２０）０．０１５質量部を混合し、毎時６ｋｇで温度９５℃に制御した第一完全混合型反応器に導入した。
上記スチレン−１を５２質量部、上記ＭＭＡ−１を４８質量部、溶剤としてエチルベンゼンを１２質量部混合し、窒素で１時間バブリングして溶存酸素を除去した後、上澄みを１μmのフィルターで濾過して原料溶液とした。
そして、撹拌機を付した容積約５リットルの第一完全混合型反応器、容積約１５リットルの第二完全混合型反応器、容積約４０リットルの塔式プラグフロー型反応器、予熱器を付した脱揮槽を直列に接続して構成した。
原料溶液に１、１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−シクロヘキサン（日本油脂社製パーヘキサＨＣ）０．０３質量部、ｎ−ドデシルメルカプタン（花王社製チオカルコール２０）０．０１５質量部を混合し、毎時６ｋｇで温度９５℃に制御した第一完全混合型反応器に導入した。
なお、第一完全混合型反応器の攪拌機の回転速度は３００ｒｐｍで実施した。第一完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、温度１２５℃に制御した第二完全混合型反応器に導入した。
また、第二完全混合型反応器の攪拌機の回転速度は１８０ｒｐｍで実施した。第二完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、流れの方向に向かって温度１２５℃から１６０℃の勾配がつくように調整した塔式プラグフロー型反応器に導入した。
また、第二完全混合型反応器の攪拌機の回転速度は１８０ｒｐｍで実施した。第二完全混合型反応器より反応液を連続的に抜き出し、流れの方向に向かって温度１２５℃から１６０℃の勾配がつくように調整した塔式プラグフロー型反応器に導入した。
この反応液を予熱器で加温しながら、温度２４０℃で圧力１．０ｋＰａに制御した脱揮槽に導入し、溶剤や未反応単量体等の揮発分を除去した。
そして、この樹脂液をギアポンプで抜き出してストランド状に押出し、冷却しながら切断することによりペレット形状のスチレン系樹脂を得た。なお、ペレット中に含まれる微粉は分級により除去した。
そして、この樹脂液をギアポンプで抜き出してストランド状に押出し、冷却しながら切断することによりペレット形状のスチレン系樹脂を得た。なお、ペレット中に含まれる微粉は分級により除去した。
得られたスチレン系樹脂は、Ｍｗ＝１８万、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８であり、スチレン系樹脂中に残存する単量体と溶剤の合計量が１０００ｐｐｍ未満、切粉３００ｐｐｍ未満であることを確認した。
なお、切粉は、タイラー２０メッシュの金網篩を用い、スチレン系樹脂１００ｇを５分間篩った時の金網を通過した切粉量を計測することにより算出した。
なお、切粉は、タイラー２０メッシュの金網篩を用い、スチレン系樹脂１００ｇを５分間篩った時の金網を通過した切粉量を計測することにより算出した。
ペレットを電動射出成形機（株）日本製鋼所社製Ｊ３５０ＥＬIIIにより、成形温度２７０℃で縦２９２．５ｍｍ、横２２０ｍｍ、厚さ２ｍｍの成形体を得た。得られた成形体の光学特性評価を行った。その結果を表１に示す。
［実施例２］
スチレン−１を４０質量部、ＭＭＡ−１を６０質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１を４０質量部、ＭＭＡ−１を６０質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
［実施例３］
スチレン−１を１１質量部、ＭＭＡ−１を８９質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１を１１質量部、ＭＭＡ−１を８９質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
［実施例４］
スチレン−１を１００質量部、ＭＭＡ−１を０質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１を１００質量部、ＭＭＡ−１を０質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
［実施例５］
スチレン−１の代わりに、スチレン−２を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１の代わりに、スチレン−２を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
［実施例６］
スチレン−１の代わりに、スチレン−４を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１の代わりに、スチレン−４を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
なお、上記成形体の特性評価は下記の方法により行った。
（１）重合禁止剤（４−ｔ−ブチルカテコール）
試料に水酸化ナトリウムを加え撹拌し、着色した液を分光光度計で吸光度を測定（波長４８６ｎｍ）し、あらかじめ作成しておいた検量線より濃度を算出した。
（２）残存単量体、残存溶剤、フェニルアセチレン
下記記載のＧＣ測定条件で測定した。
装置名：島津製作所社製 ＧＣ１２Ａ ＦＩＤ検出器
カラム：ガラスカラム φ３ｍｍ×３ｍ
充填剤：ポリエチレングリコール
キャリヤー：窒素
温度：カラム１１５℃、注入口２２０℃
試料ペレット０．５ｇ、シクロペンタン０．００１ｇ、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶解させ、シクロペンタンを内部標準として測定した。
（３）吸湿性
成形したプレートを用い、ＪＩＳ Ｋ７２０９に基づき、Ａ法で飽和吸水率（単位：％）を求めた。１．５％未満を合格とした。
（４）Ｈａｚｅ
成形したプレートの２ｍｍ厚み部を、ＪＩＳ Ｋ７１０５に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ２０００）を用いてヘーズ（単位：％）を測定した。０．３％未満を合格とした。
（５）長光路の透明性（光透過率）
成形したプレートの端面を、メガロテクニカ（株）社製ゲート加工機ＧＣＰＢを用いて研磨した。日本電色工業（株）社製長光路測定機ＡＳＡ−３００Ａを用いて、研磨した面を垂直に透過する光の透過率（単位：％）を測定した。
（６）屈折率
成形したプレートの２ｍｍ厚み部を、アッベ屈折計（（株）アタゴ社製アッベ屈折計２−Ｔ）を用いて屈折率を測定した。
（７）反射率
下式を用い、（６）で測定した屈折率を用い、反射率（単位：％）を算出した。
（１）重合禁止剤（４−ｔ−ブチルカテコール）
試料に水酸化ナトリウムを加え撹拌し、着色した液を分光光度計で吸光度を測定（波長４８６ｎｍ）し、あらかじめ作成しておいた検量線より濃度を算出した。
（２）残存単量体、残存溶剤、フェニルアセチレン
下記記載のＧＣ測定条件で測定した。
装置名：島津製作所社製 ＧＣ１２Ａ ＦＩＤ検出器
カラム：ガラスカラム φ３ｍｍ×３ｍ
充填剤：ポリエチレングリコール
キャリヤー：窒素
温度：カラム１１５℃、注入口２２０℃
試料ペレット０．５ｇ、シクロペンタン０．００１ｇ、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶解させ、シクロペンタンを内部標準として測定した。
（３）吸湿性
成形したプレートを用い、ＪＩＳ Ｋ７２０９に基づき、Ａ法で飽和吸水率（単位：％）を求めた。１．５％未満を合格とした。
（４）Ｈａｚｅ
成形したプレートの２ｍｍ厚み部を、ＪＩＳ Ｋ７１０５に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ２０００）を用いてヘーズ（単位：％）を測定した。０．３％未満を合格とした。
（５）長光路の透明性（光透過率）
成形したプレートの端面を、メガロテクニカ（株）社製ゲート加工機ＧＣＰＢを用いて研磨した。日本電色工業（株）社製長光路測定機ＡＳＡ−３００Ａを用いて、研磨した面を垂直に透過する光の透過率（単位：％）を測定した。
（６）屈折率
成形したプレートの２ｍｍ厚み部を、アッベ屈折計（（株）アタゴ社製アッベ屈折計２−Ｔ）を用いて屈折率を測定した。
（７）反射率
下式を用い、（６）で測定した屈折率を用い、反射率（単位：％）を算出した。
下式を用い、（５）で測定した長光路の光透過率と、（７）で算出した反射率を用いて、透明損失率（単位：％）を算出した。なお、反射率を２倍しているのは、入光面と出光面の２面を表す。８％未満を合格とした。
ＩＫＧ社製単軸押出機ＰＭＳ４０を用いて、シリンダー温度２３０℃の条件で、三菱レイヨン（株）社製ＰＭＭＡ ＶＨ５、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）社製紫外線吸収剤ＴｉｎｕｖｉｎＰ、クラリアントジャパン（株）社製光安定剤ＨｏｓｔａｖｉｎＰＲ−２５を９９：０．５：０．５の質量比で溶融混練し、紫外光フィルター用樹脂を得た。この樹脂を電動射出成形機（株）日本製鋼所社製Ｊ３５０ＥＬIIIにより、成形温度２７０℃で縦２９２．５ｍｍ、横２２０ｍｍ、厚さ２ｍｍの紫外光フィルターを得た。この紫外光フィルターは、波長が４００ｎｍ未満の光はほとんど透過しないことを確認した。
実施例・比較例で得たスチレン系樹脂の成形体と紫外光フィルターを重ね、アトラス社製ウエザオメータＣｉ６５Ａを用いて、温度６３℃、照射強度０．３５Ｗ／ｍ２（３４０ｎｍにおける強度）の条件で紫外光フィルター側からキセノン光源の光を２００時間照射した。すなわち、スチレン系樹脂の成形体には紫外光フィルターを透過した４００ｎｍ以上の光が当たるようにした。光照射した成形体の２ｍｍ部におけるｂ値（単位：−）を、日本電色工業（株）社製色差計Σ８０を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定し、下記の式によりΔｂを算出した。Δｂが１未満を合格とした。
Δｂ＝２００時間照射後のｂ値−照射前のｂ値
表１を見るとわかるように、本発明に係る実施例の光学用成形体は、吸湿性が低く、長光路における光透過率の損失が少なく、耐光性が良好であった。
［比較例１］
スチレン−１を０質量部、ＭＭＡ−１を１００質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１を０質量部、ＭＭＡ−１を１００質量部とした以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
［比較例２］
スチレン−１の代わりに、スチレン−３を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１の代わりに、スチレン−３を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
［比較例３］
スチレン−１の代わりに、スチレン−５を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
スチレン−１の代わりに、スチレン−５を用いた以外は実施例１と同様に行った。その結果を表１に示す。
〈考察〉
本発明に係る実施例の光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、４００ｎｍ以上の耐光性が良好であった。
本発明に係る実施例の光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率の損失が少なく、４００ｎｍ以上の耐光性が良好であった。
比較例１では、アクリル樹脂のみを使用しているので、著しく吸湿性が高い。
また、比較例２では、長光路の光透過率が低く、長光路の光透過率損失が大きい。さらには、Δｂの値が大きく耐光性が悪いことがわかる。これは、重合禁止剤の含有量が１０ｐｐｍ以上であるためだと考えられる。
また、比較例３では、長光路の透明損失が大きく、特に、Δｂの値が著しく大きく耐光性が悪いことがわかる。これは、フェニルアセチレン系化合物の含有量が５０ｐｐｍ以上であるためだと考えられる。
また、比較例２では、長光路の光透過率が低く、長光路の光透過率損失が大きい。さらには、Δｂの値が大きく耐光性が悪いことがわかる。これは、重合禁止剤の含有量が１０ｐｐｍ以上であるためだと考えられる。
また、比較例３では、長光路の透明損失が大きく、特に、Δｂの値が著しく大きく耐光性が悪いことがわかる。これは、フェニルアセチレン系化合物の含有量が５０ｐｐｍ以上であるためだと考えられる。
以上のように、本発明に係る光学用成形体は、吸湿性が低いため反りや寸法変化が少なく、長光路における光透過率が高く、耐光性が良好である。
また、本発明に係る光学用成形体を導光板として用いた場合、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板として有用であり、特に、４００ｎｍ以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、ＬＥＤを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である。
また、本発明に係る光学用成形体を導光板として用いた場合、液晶ディスプレイ用の導光板や照明用の導光板として有用であり、特に、４００ｎｍ以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、ＬＥＤを光源とする中〜大型液晶ディスプレイ用の導光板として有用である。
[光拡散体]
本発明に係る光拡散体の詳細な内容について、実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
本発明に係る光拡散体の詳細な内容について、実施例を用いて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[スチレン系樹脂]
実施例及び比較例で用いるスチレン系樹脂について説明する。
実施例及び比較例で用いるスチレン系樹脂について説明する。
実施例１の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１と称する。実施例２の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂２と称する。実施例３の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂３と称する。実施例４の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂４と称する。
スチレン２を用いて実施例１と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂５と称する。スチレン２を用いて実施例２と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂６と称する。スチレン２を用いて実施例３と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂７と称する。スチレン２を用いて実施例４と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂８と称する。
スチレン３を用いて実施例１と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂９と称する。スチレン３を用いて実施例２と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１０と称する。スチレン３を用いて実施例３と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１１と称する。スチレン３を用いて実施例４と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１２と称する。
スチレン４を用いて実施例１と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１３と称する。スチレン４を用いて実施例２と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１４と称する。スチレン４を用いて実施例３と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１５と称する。スチレン４を用いて実施例４と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１６と称する。
スチレン５を用いて実施例１と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１７と称する。スチレン５を用いて実施例２と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１８と称する。スチレン５を用いて実施例３と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂１９と称する。 スチレン５を用いて実施例４と同様の方法で得たスチレン系樹脂をスチレン系樹脂２０と称する。
[実施例７]
東芝機械(株)製、二軸押出機ＴＥＭ−３５Ｂを用いて、先端温度２３０℃の条件でスチレン系樹脂１を９６質量％、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を４質量％の混合比となるように混練混合し、ペレット形状の樹脂組成物を得た。このペレット形状の樹脂組成物を(株)日本製鋼所製、射出成形機Ｊ１４０ＡＤ−１８０Ｈを用いて、シリンダー温度２３０℃、金型温度６０℃の条件で成形し、縦９０ｍｍ横９０ｍｍ厚さ２ｍｍの成形体を得た。
東芝機械(株)製、二軸押出機ＴＥＭ−３５Ｂを用いて、先端温度２３０℃の条件でスチレン系樹脂１を９６質量％、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を４質量％の混合比となるように混練混合し、ペレット形状の樹脂組成物を得た。このペレット形状の樹脂組成物を(株)日本製鋼所製、射出成形機Ｊ１４０ＡＤ−１８０Ｈを用いて、シリンダー温度２３０℃、金型温度６０℃の条件で成形し、縦９０ｍｍ横９０ｍｍ厚さ２ｍｍの成形体を得た。
[実施例８]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例９]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１０]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１１]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１２]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１３]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂３、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂３、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１４]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂３、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂３、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１５]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂４、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂４、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１６]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂５、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂５、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１７]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂５、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂５、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１８]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂５を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂５を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例１９]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂６、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂６、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２０]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂６、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂６、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２１]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂６を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂６を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２２]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂７、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂７、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２３]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂７、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂７、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２４]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂８、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂８、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２５]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１３、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１３、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２６]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１３、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１３、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２７]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１３を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１３を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２８]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１４、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１４、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例２９]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１４、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１４、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例３０]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１４を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１４を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例３１]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１５、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１５、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例３２]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１５、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１５、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[実施例３３]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１６、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１６、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例４]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂９、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂９、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例５]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂９、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂９、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例６]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂９を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂９を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例７]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１０、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１０、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例８]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１０、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１０、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例９]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１０を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１０を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１０]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１１、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１１、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１１]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１１、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１１、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１２]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１２、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１２、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１３]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１７、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１７、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１４]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１７、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１７、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１５]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１７を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１７を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１６]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１８、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１８、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１７]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１８、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１８、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１８]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１８を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１８を９８質量％、光拡散剤としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製、シロキサン樹脂粒子(製品名：トスパール１２０)を２質量％用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例１９]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１９、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１９、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋スチレン粒子(製品名：テクポリマーＳＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例２０]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１９、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂１９、光拡散剤として根本特殊化学(株)製炭酸カルシウム(製品名：ルミパールＤＳＮ−７)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
[比較例２１]
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２０、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
スチレン系樹脂としてスチレン系樹脂２０、光拡散剤として積水化成品工業(株)製、架橋アクリル粒子(製品名：テクポリマーＭＢＸ−８)を用いた以外は実施例７と同様に行った。
実施例７ないし実施例３３及び比較例４ないし比較例２１の各成形体について以下の評価を行った。
（１０）全光線透過率、Ｈａｚｅ
ＪＩＳ Ｋ７１０５に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ５０００）を用いて成形体の全光線透過率及びＨａｚｅ（単位：％）を測定した。
（１１）拡散率
変角光度計（日本電色工業社製、ＧＣ５０００Ｌ）を用いて、成形体の各角度における光透過率を測定した。特定の角度における光透過率の数値を用いて以下の式で定義される拡散率（％）を計算した（拡散率：ＪＩＳ Ｚ８１１３ 番号０４１００）。
（１０）全光線透過率、Ｈａｚｅ
ＪＩＳ Ｋ７１０５に基づき、ヘーズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ５０００）を用いて成形体の全光線透過率及びＨａｚｅ（単位：％）を測定した。
（１１）拡散率
変角光度計（日本電色工業社製、ＧＣ５０００Ｌ）を用いて、成形体の各角度における光透過率を測定した。特定の角度における光透過率の数値を用いて以下の式で定義される拡散率（％）を計算した（拡散率：ＪＩＳ Ｚ８１１３ 番号０４１００）。
（１２）照度の分散
照度計（ＴＯＫＹＯ ＯＰＴＩＣＡＬ製、ＩＭ−３）を用いてＪＩＳ Ｃ７６１２に基づき、以下に示す方法で照度測定をした。照明に取り付けた成形体からの垂直距離が１ｍである水平面における照度分布で、半値幅（単位：ｃｍ）を照度の分散とした。
[照度測定方法]
ＬＥＤ照明（東芝ライテック製、ミゼットレフ型、ＬＥＬ−ＳＬ５Ｎ−Ｆ ４０Ｗ）に備え付けのカバーを外し、各成形体を貼り付けた（ＬＥＤチップと成形体の距離は８ｍｍ）。これを暗所にて点灯し、３０分以上放置し光源を安定させた後、所定の場所の照度を測定した。
（１３）耐光性
試験品に実施例７ないし実施例３３及び比較例４ないし比較例２１の各成形体を用いた以外は「（９）耐光性」試験と同様に行った。
照度計（ＴＯＫＹＯ ＯＰＴＩＣＡＬ製、ＩＭ−３）を用いてＪＩＳ Ｃ７６１２に基づき、以下に示す方法で照度測定をした。照明に取り付けた成形体からの垂直距離が１ｍである水平面における照度分布で、半値幅（単位：ｃｍ）を照度の分散とした。
[照度測定方法]
ＬＥＤ照明（東芝ライテック製、ミゼットレフ型、ＬＥＬ−ＳＬ５Ｎ−Ｆ ４０Ｗ）に備え付けのカバーを外し、各成形体を貼り付けた（ＬＥＤチップと成形体の距離は８ｍｍ）。これを暗所にて点灯し、３０分以上放置し光源を安定させた後、所定の場所の照度を測定した。
（１３）耐光性
試験品に実施例７ないし実施例３３及び比較例４ないし比較例２１の各成形体を用いた以外は「（９）耐光性」試験と同様に行った。
以上の実施例及び比較例の結果を表２ないし表６に示す。
〈考察〉
表２から表４に示される様に、本発明に係る実施例の光学用成形体は、全光線透過率や拡散率が良好であり、４００ｎｍ以上の耐光性が良好であった。
表２から表４に示される様に、本発明に係る実施例の光学用成形体は、全光線透過率や拡散率が良好であり、４００ｎｍ以上の耐光性が良好であった。
比較例において拡散率が下がっているのは、禁止剤の量が１０ｐｐｍ以上、あるいはフェニルアセチレン系化合物の量が５０ｐｐｍ以上であるためだと考えられる。耐光性を示すΔｂ値が比較例において大きいのは、重合禁止剤の量が１０ｐｐｍ以上である事、及びフェニルアセチレン系化合物の含有量が５０ｐｐｍ以上であるためだと考えられる。
以上のように、本発明に係る光拡散体は、全光線透過率や拡散率が良好で、耐光性が良好である。したがって、照明など様々な用途に用いられる光拡散体として有用である。
また、４００ｎｍ以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、ＬＥＤを光源として用いた光拡散体（拡散板や拡散カバーなど）としても有用である。
また、４００ｎｍ以上の波長の光に対する耐光性が良好であるため、ＬＥＤを光源として用いた光拡散体（拡散板や拡散カバーなど）としても有用である。
Claims (6)
- 重合禁止剤が１０ｐｐｍ未満であり、かつ、フェニルアセチレン系化合物が５０ｐｐｍ以下のスチレン系単量体を重合反応させることにより得られるスチレン系樹脂を成形してなる光学用成形体。
- 前記スチレン系樹脂がスチレン−（メタ）アクリル酸エステル系共重合体である請求項１に記載の光学用成形体。
- 前記重合反応がラジカル溶液重合反応である請求項１又は２に記載の光学用成形体。
- 請求項１ないし３のいずれかに記載の光学用成形体を用いた導光板。
- 請求項１ないし３のいずれかに記載の光学用成形体を用いた光拡散体。
- 架橋アクリル系粒子、架橋スチレン系粒子、シロキサン樹脂粒子、炭酸カルシウムの群から選択される少なくとも1種の光拡散剤を０．１質量％以上１０質量％以下含む請求項５記載の光拡散体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010542986A JP5597550B2 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008321677 | 2008-12-17 | ||
| JP2008321677 | 2008-12-17 | ||
| JP2010542986A JP5597550B2 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
| PCT/JP2009/070978 WO2010071152A1 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2010071152A1 JPWO2010071152A1 (ja) | 2012-05-31 |
| JP5597550B2 true JP5597550B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=42268823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010542986A Active JP5597550B2 (ja) | 2008-12-17 | 2009-12-16 | 光学用成形体及びそれを用いた導光板及び光拡散体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5597550B2 (ja) |
| KR (1) | KR101653849B1 (ja) |
| CN (1) | CN102257021B (ja) |
| TW (1) | TWI471341B (ja) |
| WO (1) | WO2010071152A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101891855B (zh) * | 2010-07-09 | 2013-03-20 | 哈尔滨工程大学 | 以聚乳酸为侧链的新型光学活性聚苯乙炔合成方法 |
| CN106947177B (zh) * | 2011-12-20 | 2019-07-09 | 东洋苯乙烯股份有限公司 | 光学用苯乙烯系树脂组合物 |
| US20150025181A1 (en) * | 2012-04-02 | 2015-01-22 | Ps Japan Corporation | Polystyrene-based resin composition and light guide plate formed by molding same |
| JP6038497B2 (ja) * | 2012-06-18 | 2016-12-07 | Ｐｓジャパン株式会社 | ポリスチレン系樹脂組成物及び導光板 |
| JP6166058B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-07-19 | デンカ株式会社 | 導光板 |
| JP6104653B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-03-29 | Ｐｓジャパン株式会社 | 導光板用ポリスチレン系樹脂組成物及び導光板 |
| JP6220663B2 (ja) * | 2013-12-17 | 2017-10-25 | 株式会社カネカ | 難燃性を付与した発泡性スチレン系樹脂粒子とその製造方法 |
| JP6205278B2 (ja) * | 2014-01-27 | 2017-09-27 | 株式会社カネカ | 発泡性スチレン系樹脂粒子とその製造方法 |
| JP6575979B2 (ja) * | 2014-07-09 | 2019-09-18 | 出光興産株式会社 | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形品 |
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| JP2008208147A (ja) * | 2005-06-17 | 2008-09-11 | Denki Kagaku Kogyo Kk | スチレン系樹脂及びそれからなる光学用樹脂成形体 |
| JP2010211977A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Toyo Styrene Co Ltd | 導光板 |
Family Cites Families (7)
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| JP2001342263A (ja) | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 光学材料用樹脂成形体およびそれからなる導光板 |
| JP2003075648A (ja) | 2001-09-07 | 2003-03-12 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 導光板 |
| JP2006052349A (ja) | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Nippon A & L Kk | 低吸湿性光学用芳香族ビニル系樹脂組成物 |
| JP2006052350A (ja) | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Nippon A & L Kk | 光学特性に優れる芳香族ビニル系樹脂組成物 |
| JP4821597B2 (ja) | 2006-01-06 | 2011-11-24 | 住友化学株式会社 | 多層光拡散板 |
-
2009
- 2009-12-16 TW TW98143189A patent/TWI471341B/zh active
- 2009-12-16 KR KR1020117016492A patent/KR101653849B1/ko active IP Right Grant
- 2009-12-16 CN CN200980151249XA patent/CN102257021B/zh active Active
- 2009-12-16 WO PCT/JP2009/070978 patent/WO2010071152A1/ja active Application Filing
- 2009-12-16 JP JP2010542986A patent/JP5597550B2/ja active Active
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| JP2008208147A (ja) * | 2005-06-17 | 2008-09-11 | Denki Kagaku Kogyo Kk | スチレン系樹脂及びそれからなる光学用樹脂成形体 |
| JP2008158534A (ja) * | 2005-11-28 | 2008-07-10 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 光学フィルム |
| WO2008081791A1 (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | 流動性向上剤、芳香族ポリカーボネート系樹脂組成物、及びその成形品 |
| JP2010211977A (ja) * | 2009-03-09 | 2010-09-24 | Toyo Styrene Co Ltd | 導光板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201030027A (en) | 2010-08-16 |
| TWI471341B (zh) | 2015-02-01 |
| WO2010071152A1 (ja) | 2010-06-24 |
| KR20110105810A (ko) | 2011-09-27 |
| CN102257021B (zh) | 2013-07-17 |
| JPWO2010071152A1 (ja) | 2012-05-31 |
| CN102257021A (zh) | 2011-11-23 |
| KR101653849B1 (ko) | 2016-09-02 |
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Legal Events
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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