JP5563993B2 - 反射性物品 - Google Patents

Description

本発明は、一般に被覆基板、具体的な一実施形態において、太陽の電磁放射などの電磁放射の反射に特に有用な被覆ガラス基板に関する。

化石系燃料のコストが増加するにつれて、ソーラーパワーはより商業上許容され、経済的に実現可能なエネルギー源になりつつある。知られている１つの応用は、発電のためにソーラーパワーを集める鏡を用いている。高い太陽光反射率を有する鏡は「太陽集光熱発電」（ＣＳＴＰ）設備に用いられる。いくつかの異なる鏡の幾何形状がこれらの用途に用いられている。１つの従来システムでは、焦線に沿って位置した管の上に太陽エネルギーを集めるために、湾曲した放物線の太陽鏡を用いる。管中の伝熱媒体は、それが発電に用いられる発電機基地に吸収した熱エネルギーを運ぶ。別の従来システムでは、太陽塔を用い、いくつかの平らな太陽鏡が太陽エネルギーを塔の特定の位置に向ける。焦点を合わせた太陽エネルギーによって生じた熱は、ナトリウムなどの作動流体に運ばれ、熱せられた作動流体は発電に用いられる。

この種の鏡の別の用途は「集光型太陽光発電」（ＣＰＶ）用である。この用途において、鏡は太陽エネルギーを高性能光起電力（ＰＶ）装置に焦点を合わせ又は集め、それによって装置当たりのエネルギー出力を改善する。

これらの知られているシステムにおいて、鏡はできるだけ太陽エネルギーを反射することが望ましい。また、鏡の頻繁な取り換えを排除するために、鏡ができるだけ長い実用的寿命を有することが望ましい。

従来の鏡技術は、銀が硝酸銀溶液からガラス基板上に沈殿する湿式化学塗布法を使用している。この既知のシステムに関する問題は、使用済みの溶液が環境にやさしい方法で処分されなければならないことである。さらに、この種の従来方式では、銀層を堆積した後に高温（例えば熱強化、焼き入れ又は曲げ加工のための）で被覆物品を処理することができないが、これは高温が銀層を損傷するためである。いくつかの従来の鏡が、銀の腐食を遅らせるために銀層上に湿式化学薬品が施された銅層を有するが、これらの従来の銅層は、被覆ガラスがその軟化点に加熱され得るほど十分に銀層を保護することができない。さらに、湿式化学法による銅の堆積は、特に湿式化学廃棄物流の処分による環境上の理由により魅力がない。

したがって、この種の従来の物品に関連した問題の少なくともいくつかをなくす又は軽減する反射性物品、及び反射性物品を製造する方法を提供することは有利であろう。

反射性物品は、第１の主面及び第２の主面を有する透明基板を含む。ベースコートは該第２の主面の少なくとも一部を覆って形成される。主反射コーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）は該ベースコートの少なくとも一部を覆って形成される。無機保護コーティングは該主反射コーティングの少なくとも一部を覆って形成される。限定されない一実施形態において、ベースコートは透明誘電体材料などの無機材料を含有する。

別の反射性物品は、第１の主面及び第２の主面を有する透明ガラス基板を含む。無機ベースコートは該第２の主面の少なくとも一部を覆って形成され、該ベースコートは、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、酸化スズ又はこれらの混合物若しくは組合せから選択される少なくとも１種の金属酸化物を含み、０．１ｎｍから５ｎｍの範囲の厚さを有する。主反射コーティングは該ベースコートの少なくとも一部を覆って形成され、白金、イリジウム、オスミウム、パラジウム、アルミニウム、金、銅、銀又はこれらの混合物、合金若しくは組合せから選択される少なくとも１種の金属を含み、５０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有し、可視光に対して不透明である。耐食コーティングは該主反射コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、元素周期表の２〜１６族のメンバーからの少なくとも１種の金属又は金属合金を含み、２０ｎｍから４０ｎｍの範囲の厚さを有する。トップコートは、該耐食コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、金属酸化物、窒化物、オキシナイトライド、ホウ化物、フッ化物又は炭化物から選択される材料を含む少なくとも１つの層を含み、５ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有する。無機保護コーティングは、該トップコートの少なくとも一部を覆って形成され、シリカ、アルミナ、又はシリカとアルミナの混合物から選択される材料を含み、５０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有する。

さらなる反射性物品は，第１の主面及び第２の主面を有する透明ガラス基板を含む。無機ベースコートは、該第２の主面の少なくとも一部を覆って形成され、該ベースコートは、１ｎｍから３ｎｍの範囲の厚さを有するチタニアを含む。主反射コーティングは該ベースコートの少なくとも一部を覆って形成され、該主反射コーティングは５０ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有する銀を含む。耐食コーティングは該主反射コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、２０ｎｍから４０ｎｍの範囲の厚さを有するニッケル含有合金を含む。トップコートは該耐食コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、１００ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有するスズ酸亜鉛を含む。無機保護コーティングは、該トップコートの少なくとも一部を覆って形成され、シリカ、アルミナ、又はシリカとアルミナの混合物から選択される材料を含み、５０ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有する。

反射性物品を製造する一方法は、第１の主面及び第２の主面を有する透明基板を準備するステップと、該第２の主面の少なくとも一部を覆って無機ベースコートを堆積させるステップと、該ベースコートの少なくとも一部を覆う、可視光に対して不透明な、少なくとも１つの主反射コーティングを堆積させるステップと、及び該主反射コーティングの少なくとも一部を覆って無機保護コーティングを堆積させるステップとを含む。

本発明を以下の図面を参照して記載し、全体を通して類似の参照番号は類似の部品を示す。

本発明の特徴を組み込む、反射性物品の側面断面図（正確な寸法ではない）である。 本発明の特徴を組み込む、別の反射性物品の側面断面図（正確な寸法ではない）である。 本発明の特徴を組み込む、さらなる反射性物品の側面断面図（正確な寸法ではない）である。 本発明の別の反射性物品の側面断面図（正確な寸法ではない）である。 本発明のさらなる反射性物品の側面断面図（正確な寸法ではない）である。 本発明の追加の反射性物品の側面断面図（正確な寸法ではない）である。 基部にとり付けられた本発明の反射性物品の側面図（正確な寸法ではない）である。

本明細書で用いられるとき、「左側（ｌｅｆｔ）」「右側（ｒｉｇｈｔ）」「内側（ｉｎｎｅｒ）」、「外側（ｏｕｔｅｒ）」、「より上に（ａｂｏｖｅ）」、「より下に（ｂｅｌｏｗ）」などの空間又は方向の用語は、図面に示されている状態の本発明に関する。しかし、本発明は、代わりの様々な方向性を想定できるものと理解されるべきであり、したがってそのような用語は非限定的なものとして考えるべきである。さらに、本明細書で用いられるとき、本明細書及び特許請求の範囲で用いられている寸法、物理的特徴、処理パラメーター、成分の量、反応条件等を表現する全ての数字は、どの場合でも用語「約」によって修飾できるものとして理解すべきである。したがって、そうでないと示されていない限り、次の明細書及び特許請求の範囲中に記載された数値は、本発明によって得られるように求められる所望の特性に依存して変化させることができる。最低限でも、且つ、特許請求の範囲に対する均等論の適用を制限しようとする意図としてではなく、各数値は、少なくとも、報告された有効数字の桁数に照らし、通常の端数を丸める技法を適用するものと解釈すべきである。さらに、本明細書に開示した範囲全ては、範囲の始まりと終わりの値及びその中に含まれるどのような小範囲でも全て包含されるものと理解すべきである。例えば、「１〜１０」と述べた範囲は、１の最小値と１０の最大値の間に入る（それらの数値をも含めて）どのような小範囲でも全て、即ち、１以上の最小値で始まり、１０以下の最大値で終わる全ての小範囲、例えば、１〜３．３、４．７〜７．５、５．５〜１０などを包含するものと解釈されるべきである。更に、本明細書において用いられる用語、「を覆って形成される（ｆｒｏｍｅｄ ｏｖｅｒ）」、「を覆って堆積される（ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ｏｖｅｒ）」、又は「を覆って設けられる（ｐｒｏｖｉｄｅｄ ｏｖｅｒ）」とは、上ではあるが、その上に形成され、堆積され又は設けられることを意味するが、必ずしも面と直接接触していることを意味しない。例えば、基板「を覆って形成される」被覆層とは、形成した被覆層と基板の間に位置する同じか異なる組成の１つ又は複数の他の被覆層又はフィルムが存在することを排除するものではない。本明細書で使用する用語「ポリマー」又は「ポリマーの」はオリゴマー、ホモポリマー、コポリマー及びターポリマー、例えば、２種以上のモノマー又はポリマーから形成されたポリマーを含む。用語「可視領域」又は「可視光」とは、３８０ｎｍから７８０ｎｍの範囲の波長の電磁波を指す。用語「赤外領域」又は「赤外線」とは、７８０ｎｍより大きく、１００，０００ｎｍまでの範囲の波長を有する電磁波を指す。用語「紫外領域」又は「紫外線」とは、１００ｎｍから３８０ｎｍ未満の範囲の波長を有する電磁波エネルギーを意味する。さらに、本明細書で参照する、発行された特許及び特許出願などの、しかしこれらに限定されない全ての文献は、それらの全体中が「参照により包含される」と解釈されるべきである。また、「可視光透過率」及び「可視光反射率」などのパラメーターなどは、従来法を用いて測定されるものである。当業者は、可視光透過率又は可視光反射率などの特性が、試験物品の物理的な寸法、例えば厚さによって変化し得ることを理解している。したがって、本発明に対するいかなる比較も等価な厚さで算定されるべきである。

以下の議論の目的として、電磁太陽光を反射する太陽鏡などの、しかしこれに限定されない、電磁波を反射する反射性物品を用いる使用に関して、本発明を論じる。本明細書で使用する、用語「太陽鏡」は、例えば太陽集光発電システムにおいて使用するため、可視光及び／又は赤外線及び／又は紫外線などの電磁太陽光を反射するように構成された任意の物品を指す。しかし、本発明が、太陽鏡を用いる使用に限定されないで、積層した若しくは積層していない住宅用及び／若しくは商業用の鏡、又は、二，三の例を挙げれば、高性能光学装置（例えば、ビデオプロジェクター又は光学スキャナ）用の反射器などが例示されるが、これらに限定されない他の分野の物品を用いて実施することができることは、理解されるべきである。したがって、具体的に開示された典型的な実施形態は、単に本発明の一般的な概念について説明するために示されたものであり、本発明はこれらの具体的で典型的な実施形態に限定されないことが理解されるべきである。

広範囲の態様において、本発明の反射性物品は、以下の要素のうちの少なくともいくつかを含む：（１）物品が反射するのが望ましい電磁スペクトルの領域（単数又は複数）の太陽光の吸収率が低い、光透過性基板又は表板、（２）反射するのが望ましい電磁スペクトルの領域（単数又は複数）の太陽光の反射率が高い、１つ又は複数の主要な反射層、（３）反射層（単数又は複数）の反射特性を保持することを、及び／又は隣接する部品の接着を改善することを、助けることができる、任意的な「プライマー」又は「ブロッカー」又は「障壁」層（単数又は複数）、（４）所望の波長帯の一部若しくは全てにわたり物品の反射率を高め、並びに／又は主要な反射層（単数又は複数）を保護する役目をし、並びに／又は層及び／若しくは基板／表板の間の化学種の拡散を阻止する役目をすることができる、追加の金属、半導体、誘電体及び／又は複合材層などの１つ又は複数の任意的な第２の反射層、（５）任意的な、腐食を抑制する層（単数又は複数）、（６）要素２、３及び／又は４を含む材料より腐食しやすい傾向を示す材料を含む、任意的な犠牲層（単数又は複数）、（７）任意的な、耐腐食性の及び／又は環境中の化学反応性の化学種が他の成分と相互作用／反応するのを阻止する不動態化層を形成する材料の層（単数又は複数）（例えば金属又は金属合金）、（８）環境ハザード（ｈａｚａｒｄ）（例えば大気汚染物、水、機械的なハザード）による攻撃から下にある層（特に反射層（単数又は複数））を保護する、任意的な封止層（単数又は複数）、（９）物品の下にある任意的な薄膜／板／基板／表板又は他の支持構造に物品を結合する、任意的な、接着層（単数又は複数）、（１０）任意的な、ポリマー層（単数又は複数）、（１１）任意的な、追加の薄膜／板／基板／表板、（１２）任意的な、維持に手間のかからない（例えば親水性及び／又は光触媒又は疎水性）トップ面、（１３）任意的な、エッジシーラント（ｅｄｇｅ ｓｅａｌａｎｔ）。

本発明の特徴を組み込む、限定されない反射性物品を、図１Ａに図示し、太陽鏡１として本明細書に記載する。太陽鏡１は、電磁スペクトル（例えば紫外線、可視光、近赤外線、遠赤外線、マイクロ波、電波など）内の関心のある領域（単数又は複数）の任意の所望の反射率又は透過率を有することができる。例えば、太陽鏡１は、少なくとも９０％などの、少なくとも９５％などの、少なくとも８５％の、５５０ｎｍの波長での可視光反射率を有することができる。

図１Ａに図示した実施形態において、太陽鏡１は、第１の主面１４（即ち外側の主面）及び反対側の第２の主面１６（即ち内側の主面）を有する基板又は板１２を含む。以下の議論において、第１の主面１４は入射光に面する。また、第２の面１６は入射光の方向と反対に面する。任意的なベースコート１０２を、第２の主面１６などの主面の１つの少なくとも一部を覆って設けることができる。図示した限定的でない実施形態において、主反射コーティング２２は、第２の主面１６の少なくとも一部を覆って、例えば、ベースコート１０２が存在する場合その少なくとも一部を覆って形成される。保護コーティング５０が主反射コーティング２２の少なくとも一部を覆って設けられる。図示した実施形態において、コーティングは第２の主面１６を覆って形成されるが、代わりに、コーティングのうちの少なくとも一部を第１の主面１４を覆って形成することができることが理解される。

本発明の広範囲の実施において、板１２は、任意の所望の特性を有する任意の所望の材料を含むことができる。例えば、板１２は可視光に透明又は半透明であってよい。「透明」とは、可視光などの所望の波長帯において、０％より大きく１００％までの透過率を有することを意味する。あるいは、板１２は半透明であってもよい。「半透明」とは、電磁波（例えば可視光）を透過させるが、この光を拡散又は散乱することを意味する。板１２に適する材料の例は、熱可塑性、熱硬化性又はエラストマー的な高分子材料、ガラス、セラミック、及び金属又は金属合金、並びにこれらの組合せ、複合材又は混合物を含むが、これらに限定されない。適切な材料の具体的な例は、プラスチック基板（ポリアクリレートなどのアクリルポリマー；例えばポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリメタクリル酸プロピルなどのポリメタクリル酸アルキル；ポリウレタン；ポリカーボネート；例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリアルキルテレフタレート；ポリシロキサン含有ポリマー；又はこれらを製造するためのいずれかのモノマーのコポリマー、又はこれらのいずれかの混合物）；セラミック基板；ガラス基板；又は上記のもののうちのいずれかの混合物又は組合せを含むが、これらに限定されない。例えば、板１２は従来のソーダ石灰珪酸ガラス、ホウケイ酸ガラス又は鉛ガラスを含むことができる。ガラスは透明ガラスであってもよい。「透明ガラス」は、ティンテッド（ｔｉｎｔｅｄ）でなく、着色もしていないガラスを意味する。あるいは、ガラスはティンテッド又は他の方法による着色ガラスとすることができる。ガラスはアニール又は熱処理したガラスであってもよい。本明細書で使用する用語「熱処理した」は、焼き入れ、曲げ加工、熱強化又は積層したことを意味する。ガラスは、従来のフロートガラスなど、いかなる種類のものでもよく、いかなる光学的性質、例えば、いかなる可視光透過率、紫外線透過率、赤外線透過率及び／又は全太陽エネルギー透過率の値を有するいかなる組成のものでもよい。板１２は、例えば、透明なフロートガラス、又はティンテッド若しくは着色ガラスであってもよい。本発明を限定するものではないが、板１２に適するガラスの例は米国特許第４，７４６，３４７、同４，７９２，５３６、同５，０３０，５９３、同５，０３０，５９４、同５，２４０，８８６、同５，３８５，８７２及び同５，３９３，５９３号明細書に記載されている。板１２は任意の所望の寸法、例えば、長さ、幅、形状又は厚さであってもよい。典型的な一実施形態において、第１の板１２は、１ｍｍ〜１０ｍｍなど０より大きく１０ｍｍまでの厚さ、例えば１ｍｍ〜５ｍｍの厚さ、例えば４ｍｍ未満の厚さ、例えば３ｍｍ〜３．５ｍｍの厚さ、例えば３．２ｍｍの厚さであってもよい。さらに、板１２は、例えば平坦、曲面、放物線形など、任意の所望の形状であってもよい。また、主要な反射層（単数又は複数）２２が物品の第２の主面１６に存在する場合、板１２は反射することが望まれる電磁波の領域（単数又は複数）において電磁波の吸収率が低い１種又は複数の材料を含むことができる。

限定されない一実施形態において、板１２は、５５０ナノメートル（ｎｍ）の基準波長及び３．２ｍｍの基準厚さで高い可視光透過率を有することができる。「高い可視光透過率」は板の３．２ｍｍ基準厚さで、８７％以上などの、９０％以上などの、９１％以上などの、９２％以上などの、９３％以上などの、９５％以上などの、８５％以上の５５０ｎｍでの可視光透過率を意味する。本発明の実施のための特に有用なガラスは米国特許第５，０３０，５９３号及び同５，０３０，５９４号明細書に開示されている。本発明の実施に用いることができるガラスの限定されない例は、スターファイヤー（Ｓｔａｒｐｈｉｒｅ）（いずれかの国における登録商標）、ソーラーファイヤー（Ｓｏｌａｒｐｈｉｒｅ）（いずれかの国における登録商標）、ソーラーファイヤー（Ｓｏｌａｒｐｈｉｒｅ）（いずれかの国における登録商標）ＰＶ、ソーラーグリーン（Ｓｏｌａｒｇｒｅｅｎ）（いずれかの国における登録商標）、ソレクストラ（Ｓｏｌｅｘｔｒａ）（いずれかの国における登録商標）、ＧＬ−２０（いずれかの国における登録商標）、ＧＬ−３５（商標）、ソーラーブロンズ（Ｓｏｌａｒｂｒｏｎｚｅ）（いずれかの国における登録商標）、クリアー（ＣＬＥＡＲ）、ソーラーグレイ（Ｓｏｌａｒｇｒａｙ）（いずれかの国における登録商標）ガラス（全てペンシルバニア州ピッツバーグのＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．から市販されている）を含むが、これらに限定されない。

ベースコート１０２は、板１２及び主反射コーティング２２の間のより強い又はより耐久性のある界面をもたらすことができる。ベースコート１０２は、板１２と主要な反射層２２の間の界面より、ベースコート１０２と主反射コーティング２２の間の界面が、機械的、化学的及び／又は環境上より安定になるように選択された１種又は複数の材料を含むことができる。また、ベースコート１０２は、特に、被覆物品を、例えば曲げ加工又は熱強化のために高温にさらす結果として生じることがあるような、板１２と主反射コーティング２２の間の元素のやりとり（上に重なるコーティング（単数又は複数）の中へのガラス基板からのナトリウムの移行、又は金属、例えば主反射コーティング２２からガラスへの銀の移行など）に対する拡散障壁として役立つことができる。それに加えて、又はその代替として、ベースコート１０２は、上塗りするコーティング、例えば主反射コーティング２２、を堆積させる、より平滑又はより平坦な面をもたらすことができる。ベースコート１０２に適する材料の例は、金属酸化物若しくは金属酸化物の組合せ、複合材又は混合物などの透明な低吸収誘電体などの、しかしこれらに限定されない、無機材料を含むが、これらに限定されない。適切な金属酸化物の例は、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、酸化スズ、又はこれらの混合物若しくは組合せを含む。ベースコート１０２の他の例は、二酸化ケイ素及び／又は窒化ケイ素の１つ又は複数の層を含む。限定的でない一実施形態において、ベースコート１０２はチタニアを含む。ベースコート１０２は、十分な機能（例えば機械的、化学的、不動態化、平坦化、接着、拡散障壁特性、環境上の耐久性向上、光学的）を物品に備えるために任意の組成物又は厚さを有することができる。ベースコート１０２がチタニアである具体的な実施形態において、ベースコート１０２は、０．１ｎｍから３ｎｍなどの、０．５ｎｍから３ｎｍなどの、１ｎｍから３ｎｍなどの、０．５ｎｍから２ｎｍなどの、１ｎｍから２ｎｍなどの、１．５ｎｍから２ｎｍなどの、１．８ｎｍなどの、０．１ｎｍから５ｎｍの範囲の厚さを有する。

主反射コーティング２２は、第２の主面１６の少なくとも一部を覆って、例えば、ベースコート１０２が存在する場合その少なくとも一部を覆って、形成される。主反射コーティング２２は、太陽の電磁放射の範囲の１つ又は複数の部分などの、電磁スペクトルの１つ又は複数の部分を反射するように選択された１種若しくは複数の無機又は有機誘電体、金属又は半導体を含む。限定されない一実施形態において、主反射コーティング２２は、１つ又は複数の光反射性金属フィルム又は層を含む。適切な反射する金属の例は、金属の白金、イリジウム、オスミウム、パラジウム、アルミニウム、金、銅、銀、又はこれらの混合物、合金若しくは組合せを含むが、これらに限定されない。限定的でない一実施形態において、主反射コーティング２２は、５０ｎｍから３００ｎｍなどの、６０ｎｍから４００ｎｍなどの、６０ｎｍから３００ｎｍなどの、７０ｎｍから３００ｎｍなどの、８０ｎｍから２００ｎｍなどの、８０ｎｍから１５０ｎｍなどの、９０ｎｍから１５０ｎｍなどの、９０ｎｍから１４０ｎｍなどの、９０ｎｍから１３０ｎｍなどの、１００ｎｍから１３０ｎｍなどの、１２０ｎｍから１３０ｎｍなどの、５０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有する金属銀層を含む。具体的な限定的でない一実施形態において、主反射コーティング２２は金属銀を含み、少なくとも６０ｎｍなどの、少なくとも７０ｎｍなどの、少なくとも８０ｎｍなどの、少なくとも５０ｎｍの厚さを（例えば７０ｎｍから９０ｎｍの範囲で）有する。主反射コーティング２２は、物品１が反射を望む範囲の任意の具体的な所望のレベルの反射率を有するような厚さに堆積することができる。主反射コーティング２２は、主コーティング２２が可視光などの所望の波長帯において不透明になるのに十分な厚さに堆積することができる。主反射コーティング２２は、可視光及び太陽の赤外線エネルギーを反射するのに特に有用になり得る。具体的な限定的でない一実施形態において、主反射コーティング２２は、より詳細に以下に記載するように従来のスパッタリングプロセスによって堆積させる。別の限定的でない一実施形態において、主反射コーティング２２は、複数の交互の高及び低屈折率材料を含む「高反射体」を含むことができる。

保護コーティング５０は、製造、移動、取り扱い、処理中及び／又はフィールドにおける鏡の使用年数中の機械的及び化学的攻撃から、主要な反射層２２などの下にある層を保護するのに役立つ。保護コーティング５０は、また液体水、水蒸気及び他の環境汚染物（固体、液体又は気体であろうと）の進入から下にある層を保護するのを助ける。保護コーティング５０は、例えば、加熱又は曲げ加工などの、続いて起こる処理中に、下にある層の中への周囲の酸素の通過を阻止又は軽減する酸素障壁被層になり得る。保護コーティング５０は、１種又は複数の無機材料などの、しかしこれらに限定されない、任意の所望の材料又は材料の混合物のものであってもよい。典型的な一実施形態において、保護コーティング５０は、アルミニウム、シリコンの酸化物又はこれらの混合物などの、しかしこれらに限定されない、１種又は複数の金属酸化物材料を有する層を含むことができる。例えば、保護コーティング５０は、１重量％から９９重量％のアルミナ及び９９重量％から１重量％のシリカなどの、５重量％から９５重量％のアルミナ及び９５重量％から５重量％のシリカなどの、１０重量％から９０重量％のアルミナ及び９０重量％から１０重量％のシリカなどの、１５重量％から９０重量％のアルミナ及び８５重量％から１０重量％のシリカなどの、５０重量％から７５重量％のアルミナ及び５０重量％から２５重量％のシリカなどの、５０重量％から７０重量％のアルミナ及び５０重量％から３０重量％のシリカなどの、３５重量％から１００重量％のアルミナ及び６５重量％から０重量％のシリカなどの、例えば７０重量％から９０重量％のアルミナ及び３０重量％から１０重量％のシリカ、例えば７５重量％から８５重量％のアルミナ及び２５重量％から１５重量％のシリカ、例えば８８重量％のアルミナ及び１２重量％のシリカ、例えば、６５重量％から７５重量％のアルミナ及び３５重量％から２５重量％のシリカ、例えば７０重量％のアルミナ及び３０重量％のシリカの、例えば６０重量％から７５重量％未満のアルミナ及び２５重量％を超え４０重量％までのシリカなどの、０重量％から１００重量％の範囲のアルミナ及び／又は１００重量％から０重量％のシリカを含む単一コーティング膜であってもよい。特定の限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、８５重量％のシリカ及び１５重量％のアルミナなどの、４０重量％から１５重量％のアルミナ及び６０重量％から８５重量％のシリカを含む。アルミニウム、クロム、ハフニウム、イットリウム、ニッケル、ホウ素、リン、チタン、ジルコニウム及び／又はこれらの酸化物などの他の材料もまた、保護コーティング５０の屈折率を調節するために存在してもよい。限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０の屈折率は、１から２などの、１．４から２などの、１．４から１．８などの、１から３の範囲にあってもよい。

限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、シリカ及びアルミナの組合せを含む。保護コーティング５０は、２つの陰極（例えば１つのシリコン及び１つのアルミニウム）から、又はシリコン及びアルミニウムの両方を含む単一陰極からスパッタすることができる。このシリコン／酸化アルミニウム保護コーティング５０はＳｉ_ｘＡｌ_１−ｘＯ_{１．５＋ｘ／２}と書くことができ、式中、ｘは０を超え１未満まで変わることがある。具体的な限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、５ｎｍから１，０００ｎｍなどの、１０ｎｍから１００ｎｍなどの、例えば、１０ｎｍから５０ｎｍ、１０ｎｍから４０ｎｍなどの、２０ｎｍから３０ｎｍなどの、２５ｎｍなどの、５ｎｍから５，０００ｎｍの範囲の厚さを有する、シリコン／酸化アルミニウムコーティング（Ｓｉ_ｘＡｌ_１−ｘＯ_{１．５＋ｘ／２}）であることができる。さらに、保護コーティング５０は不均一な厚さのものであってもよい。「不均一な厚さ」は保護コーティング５０の厚さが所与の単位面積にわたって変わる場合があることを意味し、例えば、保護コーティング５０に高低のある場所又は領域があってもよい。別の限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、８５重量％のシリカ及び１５重量％のアルミナなどのシリコン／酸化アルミニウムコーティング又はシリカ及びアルミナの混合物を含み、２０ｎｍから３００ｎｍなどの、５０ｎｍから３００ｎｍなどの、例えば、５０ｎｍから２００ｎｍ、５０ｎｍから１５０ｎｍなどの、５０ｎｍから１２０ｎｍなどの、７５ｎｍから１２０ｎｍなどの、７５ｎｍから１００ｎｍなどの、１０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有する。具体的な限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも７５ｎｍなどの、少なくとも１００ｎｍなどの、少なくとも１１０ｎｍなどの、少なくとも１２０ｎｍなどの、少なくとも１５０ｎｍなどの、少なくとも２００ｎｍなどの厚さを有することができる。

別の限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、１０ｎｍから８０ｎｍなどの、２０ｎｍから８０ｎｍなどの、３０ｎｍから７０ｎｍなどの、４０ｎｍから６０ｎｍなどの、５０ｎｍなどの１０ｎｍから１００ｎｍの範囲の厚さを有するシリカを含む。さらなる限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、１０ｎｍから４００ｎｍなどの、２０ｎｍから３００ｎｍなどの、５０ｎｍから２００ｎｍなどの、７５ｎｍから１５０ｎｍなどの、７５ｎｍから１２０ｎｍなどの１０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有するシリカを含む。

別の限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は多層膜構造、例えば、第１の層を覆って形成された少なくとも１つの第２の層を有する第１の層を含むことができる。具体的な限定的でない一実施形態において、第１の層は、アルミナ又はアルミナ及びシリカを含む混合物若しくは合金を含むことができる。例えば、第１の層は、１０重量％を超えるアルミナなどの、１５重量％を超えるアルミナなどの、３０重量％を超えるアルミナなどの、４０重量％を超えるアルミナなどの、５０重量％から７０重量％のアルミナなどの、７０重量％から１００重量％のアルミナ及び３０重量％から０重量％のシリカの範囲などの、９０重量％を超えるアルミナなどの、９５重量％を超えるアルミナなどの、５重量％のアルミナを有するシリカ／アルミナ混合物を含むことができる。限定的でない一実施形態において、第１の層は全て又は実質的に全て、アルミナを含む。限定的でない一実施形態において、第１の層は、５ｎｍから１０ｎｍなどの、１０ｎｍから２５ｎｍなどの、１０ｎｍから１５ｎｍなどの、０ｎｍを超え１ミクロンまでの範囲の厚さを有することができる。第２の層は、シリカ又はシリカ及びアルミナを含む混合物若しくはアロイを含むことができる。例えば、第２の層は、５０重量％を超えるシリカなどの、６０重量％を超えるシリカなどの、７０重量％を超えるシリカなどの、８０重量％を超えるシリカなどの、８０重量％から９０重量％のシリカ及び１０重量％から２０重量％のアルミナの範囲などの、例えば、８５重量％のシリカ及び１５重量％のアルミナの、４０重量％を超えるシリカを有するシリカ／アルミナ混合物を含むことができる。限定的でない一実施形態において、第２の層は、５ｎｍから５００ｎｍなどの、５ｎｍから２００ｎｍなどの、１０ｎｍから１００ｎｍなどの、３０ｎｍから５０ｎｍなどの、３５ｎｍから４０ｎｍなどの、０ｎｍを超え２ミクロンまでの範囲の厚さを有することができる。別の限定的でない一実施形態において、第２の層は、５ｎｍから１０ｎｍなどの、１０ｎｍから２５ｎｍなどの、１０ｎｍから１５ｎｍなどの、０ｎｍを超え１ミクロンまでの範囲の厚さを有することができる。別の限定的でない一実施形態において、保護コーティング５０は、金属酸化物を含有する層（例えば、シリカ及び／又はアルミナを含有する第２の層）を覆って形成される別の金属酸化物を含有する層（例えば、シリカ及び／又はアルミナを含有する第１の層）によって形成される二重層であってもよい。多層膜保護コーティングの個別の層は任意の所望の厚さであってもよい。適切な保護コーティングの限定的でない例は、例えば、米国特許出願第１０／００７，３８２、同１０／１３３，８０５、同１０／３９７，００１、同１０／４２２，０９４、同１０／４２２，０９５及び同１０／４２２，０９６号明細書に記載されている。

上に論じたように、本発明の反射性物品は１つ又は複数の追加の任意的なフィルム、層、コーティング又は構造を含むことができる。そのような追加の構造を組み込む本発明の追加の反射性物品を次に記載する。しかし、記載された具体的な任意的な構造又はコーティングは、具体的に図示する実施形態に限定されず、本発明の実施形態のうちのいずれにおいてもこれらの構造を交換可能に使用することができることが理解されるべきである。

本発明の特徴を組み込む、別の限定的でない反射性物品を、太陽鏡３として図１Ｂに図示する。図１Ｂに図示する実施形態において、上に記載されるように、太陽鏡３は、第１の主面１４（即ち外側の主面）及び対向した第２の主面１６（即ち内側の主面）を有する板１２を含む。任意的なベースコート１０２は、第２の主面１６などの主面の１つの少なくとも一部を覆って設けることができる。主反射コーティング２２は、第２の主面１６の少なくとも一部を覆って、例えばベースコート１０２が存在する場合、その少なくとも一部を覆って形成される。１つ又は複数の任意的な腐食耐性の又は耐食のコーティング１０４は、例えば、主反射コーティング２２の少なくとも一部を覆って設けることができる。プライマーフィルム１０６は、耐食コーティング１０４の少なくとも一部を覆って又はその下に設けることができる。トップコート４０は、耐食コーティング１０４の少なくとも一部を覆って、例えば、プライマーフィルム１０６の少なくとも一部を覆って設けることができる。保護コーティング５０は、トップコート４０の少なくとも一部を覆って設けることができる。任意的な封止構造体２４は、保護コーティング５０の少なくとも一部を覆って設けることができる。耐食コーティング１０４を１つだけ示しているが、本物品は、耐食コーティング１０４の上及び／又は下のいずれかに、複数の耐食コーティング１０４及び複数のプライマーフィルム１０６を有してもよい。

板１２、ベースコート１０２、主反射コーティング２２及び保護コーティング５０は、上に記載された通りであってもよい。しかし、この実施形態において、反射性物品３は、また他の機能を有する他の層も含む。

例えば、耐食コーティング１０４は腐食防止及び紫外線を遮蔽する便益などの様々な便益をもたらすことができる。また、耐食コーティング１０４はいくらかの量の電磁エネルギー反射をもたらすことができ、より薄い主要な反射層２２を用いることを可能にすることができる。耐食コーティング１０４はまた、下にあるコーティング層に対して機械的及び／又は化学的保護をもたらすことができる。耐食コーティング１０４は、１つ又は複数のコーティング層、例えば、主反射コーティング（単数又は複数）２２、又はトップコート４０（以下に述べる）の下、上又は間に設けることができる。代替として又はそれに加え、耐食コーティング１０４は、保護コーティング５０の１つ又は複数の層の下、上、又は間に設けることができる。耐食コーティング１０４は、下にあるコーティングの耐食性を増加させ、及び／又は太陽鏡３を反射する可視光を増強し、及び／又はＵＶ光の通過を遮断又は低減すると考えられている。耐食コーティング１０４に適する材料の例は、元素周期表の２−１６族のメンバーである金属元素及び２種以上の金属元素の合金を含むが、これらに限定されず、ニッケル及びニッケルを含む合金、合金鉄、及びステンレス鋼などの鉄を含む合金、アルミニウム及びアルミニウムを含む合金、銅及び銅を含む合金、クロム及びクロムを含む合金、チタン及びチタンを含む合金、ネーバル黄銅（Ｃｕ、Ｚｎ及びＳｎの合金）などの黄銅、アドミラルティー黄銅（Ｚｎ、Ｓｎ及びＣｕの合金）、及びアルミニウム黄銅（Ｃｕ、Ｚｎ及びＡｌの合金）、コバルト並びにコバルト及びクロムの合金などのコバルトを含む合金、亜鉛及び亜鉛を含む合金、スズ及びスズを含む合金、ジルコニウム及びジルコニウムを含む合金、モリブデン及びモリブデンを含む合金、タングステン及びタングステンを含む合金、ニオブ及びニオブを含む合金、インジウム及びインジウムを含む合金、鉛及び鉛を含む合金、ビスマス及びビスマスを含む合金を含むが、これらに限定されない。具体的な限定的でない実施形態は耐腐食性の金属及び金属合金を含み、ニッケル及びニッケルを含む合金、例えばニッケル２００、インコネル６００及びインコネル６２５などのインコネル（いずれかの国における登録商標）合金、ステンレス鋼３０４及びステンレス鋼３１６などのステンレス鋼、モネル４００などのモネル（いずれかの国における登録商標）合金、ハステロイ（いずれかの国における登録商標）合金、コバルト並びにステライト（いずれかの国における登録商標）合金などのコバルトを含む合金、インコアロイＣ−２７６及びインコアロイ０２０などのインコアロイ、インコロイ８００及びインコロイ８２５などのインコロイ（いずれかの国における登録商標）合金、銅及び黄銅、とりわけネーバル黄銅（およそ５９％の銅、４０％の亜鉛、１％のスズ）及びアドミラルティー黄銅（およそ６９％の銅、３０％の亜鉛、１％のスズ）などの銅を含む合金、シリコン及びシリコンを含む合金、チタン及びチタンを含む合金、及びアルミニウム並びにアルミニウム６０６１などのアルミニウムを含む合金を含むが、これらに限定されない。耐食コーティング（単数又は複数）１０４は、存在する場合、任意の所望の厚さを有することができる。いくつかの限定的でない実施形態において、耐食コーティング１０４は、１ｎｍから４００ｎｍなどの、１ｎｍから３００ｎｍなどの、１ｎｍから２００ｎｍなどの、１ｎｍから１００ｎｍなどの、１０ｎｍから１００ｎｍなどの、２０ｎｍから１００ｎｍなどの、３０ｎｍから１００ｎｍなどの、４０ｎｍから１００ｎｍなどの、５０ｎｍから１００ｎｍなどの、２０ｎｍから４０ｎｍなどの、３０ｎｍから４０ｎｍなどの、３０ｎｍから３５ｎｍなどの、１ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有することができるが、これに限定されない。他の限定的でない実施形態において、耐食コーティング（単数又は複数）１０４は、少なくとも２０ｎｍなどの、少なくとも３０ｎｍなどの、少なくとも４０ｎｍなどの、少なくとも５０ｎｍなどの、少なくとも１００ｎｍなどの、少なくとも２００ｎｍなどの、少なくとも１０ｎｍの厚さを有することができる。具体的な限定的でない一実施形態において、耐食コーティング（単数又は複数）１０４はインコネルを含み、１０ｎｍから８０ｎｍなどの、１５ｎｍから５０ｎｍなどの、２０ｎｍから４０ｎｍなどの、３０ｎｍから４０ｎｍなどの、３０ｎｍから３５ｎｍなどの、１０ｎｍから１００ｎｍの範囲の厚さを有することができる。

任意的なプライマー層１０６は、耐食コーティング（単数又は複数）１０４の上及び／又は下に形成することができる。プライマー層１０６は、下記の機能の一方又は両方に役立つ。即ち、（ａ）（物品に対して内因性か外因性のいずれにせよ）酸素又は他の化学のようなこれらのための種が主反射コーティング２２ではなくプライマー層（単数又は複数）と反応する化学ゲッター及び／又は（ｂ）化学種が主反射コーティング２２に達して（必ずしも化学反応によってではなく）影響を与えるのを阻止する、物理的な拡散障壁。具体的な一実施形態において、任意的なプライマー層（単数又は複数）１０６は、酸素への強い親和性を有する金属若しくは金属合金及び／又は酸素との金属若しくは金属合金の化学反応生成物を含むことができる。任意的なプライマー層（単数又は複数）１０６はまた、拡散した分子状若しくは原子状酸素、水蒸気又は他のガス状化学種が主反射コーティング２２と化学的反応するのを阻止するように、拡散障壁を構成する材料を含んでもよい。具体的な一実施形態において、プライマー層１０６はチタン、酸化チタン、又はこれらの混合物／組合せを含む。具体的な一実施形態において、プライマー層１０６は、０．５から５ｎｍなどの、０．５から４ｎｍなどの、０．５から２ｎｍなどの、１ｎｍから２ｎｍなどの、０．１から１０ｎｍの範囲の厚さを有することができる。

トップコート４０は、主反射コーティング２２の少なくとも一部を覆って、例えば耐食層１０４の少なくとも一部を覆って、例えばプライマー層１０６の少なくとも一部を覆って形成される。トップコート４０は、１つ又は複数の層、例えば、１つ又は複数の金属酸化物、窒化物、オキシナイトライド、ホウ化物、フッ化物又は炭化物などの１つ又は複数の誘電体層を含むことができる。限定的でない一実施形態において、トップコート４０は、スズ酸亜鉛などの亜鉛及び酸化スズを含む単層であってもよい。別の具体的な限定的でない実施形態において、図１Ｃに関して下に述べるように、トップコート４０は多重フィルム構造を含むことができる。しかし、本発明が酸化物コーティング法に限定的でないことが理解されるべきである。限定的でない一実施形態において、トップコート４０はスズ酸亜鉛を含む。トップコートは、少なくとも２０ｎｍなどの、少なくとも５０ｎｍなどの、少なくとも７５ｎｍなどの、少なくとも１００ｎｍなどの、少なくとも１５０ｎｍなどの、又は少なくとも２００ｎｍなどの、少なくとも１０ｎｍの厚さを有することができる。具体的な限定的でない一実施形態において、トップコートは、１０ｎｍから５００ｎｍなどの、５０ｎｍから５００ｎｍ、例えば５０ｎｍから３００ｎｍ、１００ｎｍから２５０ｎｍなどの、１００ｎｍから２００ｎｍなどの、１２０ｎｍから１６５ｎｍなどの、又は１１０ｎｍから１６５ｎｍなどの、５ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有することができる。一般に、トップコートが厚いほど、下にあるコーティング層に対してもたらす保護は大きい。

上に記載された被覆板１２の少なくとも一部を覆って及び／又はそのまわりに任意的な封止構造体２４を形成することができる。限定されない一実施形態において、封止構造体２４は、封止材料９２によって少なくとも部分的に形成される。適切な封止材料９２はポリマー材料、無機材料、又はこれらの複合材、組合せ、ブレンド、混合物及びアロイを含むことができる。封止材料９２のかなりの部分又は全てがポリマー材料を含む場合、封止材料９２は、刷毛塗り、ロールコーティング、吹付塗、カーテンコーティング、浸し塗り、スピンコーティング、ナイフエッジコーティング、スクリーン印刷、フラッドコーティング、電着塗装（別名電着）、及び粉体塗装などのいずれかの従来手段によっても堆積することができるが、これらに限定されない。適切なポリマーの封止材料９２は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマー、及び付加重合又は縮合重合によって形成された、架橋した又は架橋していない熱可塑性エラストマー、及びこれらのコポリマー、複合材、組合せ、混合物、ブレンド及びアロイを含むが、これらに限定されない。しかし、ポリマー材料を含む封止剤は、開始剤、光開始剤、可塑剤、安定剤、防腐剤、殺生物剤、平坦化剤、流動剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、界面活性剤、染料、顔料及び無機又は有機充填材を含む様々な添加剤及び充填材を使用してもよい。可能性のある全ポリマーの封止材料は、ポリアクリレート、ポリアルキド、ポリアクリロニトリル、ポリエステル、ポリフルオロカーボン、ポリビニル、ポリ尿素、ポリメラミン及びポリカーボネートを含むことができるが、これらに限定されない。例えば、封止構造体２４はアクリル系コーティング、ウレタン系コーティング、フロロポリマー及び／又はクロロフルオロポリマーコーティング（例えば、ポリフロロエチレン、ポリ三フッ化一塩化エチレンなど）、ポリ塩化ビニリデン系コーティング、エチレンビニルアルコール系コーティング、ポリアクリロニトリル系コーティング、環状オレフィンポリマー又はコポリマー系コーティング、無機／有機複合コーティング：均一又は不均一いずれかにプラズマ噴霧した無機物コーティング内に分散した、１つ又は複数の無機相（例えば二酸化ケイ素及び酸化アルミニウムなどのセラミック）を有する有機ポリマーマトリックス：セラミック（例えば二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、ホウ化チタン、炭化チタン、窒化ホウ素、炭化ケイ素）及び金属／金属合金（アルミニウム、チタン、インコネルなどのニッケル系合金、ステンレス鋼などの合金鉄）、加硫ブタジエン系のコーティング（例えば硫黄橋架けを有する合成ゴム）、ＵＶ硬化性ポリシロキサンコーティング、ポリマー中間層（例えばエチレン酢酸ビニル又はポリ塩化ビニリデン中間層）を含む積層物、及びガラス裏板を含むことができる。限定されない一実施形態において、ポリマー材料は鉛などの重金属を含まない。全無機の材料を含む封止剤については、適切な材料は、金属、金属合金、又はセラミック及びこれらの複合材若しくは組合せを含むが、これらに限定されない。この種の無機封止剤を堆積させる適切な方法の例は、物理蒸着法（例えばスパッタ堆積、電子ビーム蒸着、熱蒸着、陰極アーク堆積、プラズマ噴霧堆積、火炎溶射堆積、熱分解噴霧堆積、イオンアシスト蒸着）、化学蒸着法（例えば熱ＣＶＤ、プラズマ支援又はプラズマ助長ＣＶＤ）、ゾル−ゲル堆積、他の湿式化学プロセス（例えばセラミックエナメル）及びこれらの組合せを含む。さらに、封止構造体２４は、ポリマー及び無機の材料の両方を組み合わせて含んでもよい。

封止構造体２４に適する具体的なコーティングは、ペンシルバニア州ピッツバーグのＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃ．から市販のコーティング、コラボンド（Ｃｏｒａｂｏｎｄ）（いずれかの国における登録商標）ファミリー（コラボンド（Ｃｏｒａｂｏｎｄ）（いずれかの国における登録商標）ＨＣ７７０７コーティングなどの）、フェロ（Ｆｅｒｒｏ） ＧＡＬ−１８７５「エッチ（Ｅｔｃｈ）」セラミックエナメル、コスミクローム（Ｃｏｓｍｉｃｈｒｏｍｅ）（いずれかの国における登録商標）コーティング（Ｇｏｌｄ Ｔｏｕｃｈ，Ｉｎｃ．から市販）、シュアガード（Ｓｕｒｅｇｕａｒｄ）（いずれかの国における登録商標）鏡裏コーティング（Ｓｐｒａｙｌａｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから市販）、エコブライト（ＥｃｏＢｒｉｔｅ）（いずれかの国における登録商標）インクコーティング（ＰＰＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃから市販）、ＰＲＣ ＤｅＳｏｔｏから市販のＰＲＣ ４４２９及びＰＲＣ ４４００、スプレイラット ラクリル シリーズ（Ｓｐｒａｙｌａｔ Ｌａｃｒｙｌ Ｓｅｒｉｅｓ）７００又は８００コーティング（Ｓｐｒａｙｌａｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから入手可能）を含むが、これらに限定されない。代替として、耐食コーティング１０４に関して上に記載したものなど、封止構造体２４は、１つ又は複数の金属層によって形成するように、金属層（単数又は複数）を覆って形成された任意的なポリマー材料で副反射コーティング２２を覆って形成された金属であってもよい。非ポリマー／無機封止剤の追加の例は、セラミックエナメル、ゾル−ゲルセラミックコーティング、フレーム噴霧セラミック又は金属被覆、プラズマ噴霧セラミック又は金属被覆、及び陰極アーク噴霧セラミック又は金属被覆を含む。具体的な限定的でない一実施形態において、封止構造体２４は、低鉛又は無鉛ベースコート及び低鉛又は無鉛トップコートを有する二重層コーティングなどの多層膜構造であってもよい。

本発明の特徴を組み込む、さらに限定的でない太陽鏡１０を図１Ｃに示す。図１Ｃに示した実施形態において、上に記載したように、太陽鏡１０は、第１の主面１４（即ち外側の主面）及び対向する第２の主面１６（即ち内側の主面）を有する第１の板１２を含む。限定的でない一実施形態において、任意的な副反射コーティング２０は内側の面１６の少なくとも一部を覆って形成される。別の限定的でない一実施形態において、任意的な副反射コーティング２０は、外側の主面１４の少なくとも一部を覆って形成することができる。主反射コーティング２２は、第２の主面１６の少なくとも一部を覆って、例えば副反射コーティング２０が存在し第２の主面１６にある場合、副反射コーティング２０の少なくとも一部を覆って、形成される。耐食コーティング１０４は、主反射コーティング２２の少なくとも一部を覆って形成することができる。トップコート４０は、耐食コーティング１０４の少なくとも一部を覆って形成することができる。保護コーティング５０は、トップコート４０の少なくとも一部を覆って形成することができる。鏡１０はまた封止構造体２４を含むことができる。

任意的な副反射コーティング２０は、存在する場合、太陽鏡１０に１つ又は複数の機能を備えることができる。限定的でない一実施形態において、電磁波の特定の領域又は範囲で、反射性物品の全体の電磁波反射を増強するために、副反射コーティング２０を選択することができる。電磁スペクトル（例えば可視光、赤外線、紫外線）の１つ又は複数の部分で電磁波の反射を増強するために、副反射コーティング２０を選択又は設計することができる。限定的でない一実施形態において、６００ｎｍ未満などの、５５０ｎｍ未満などの、４００ｎｍから５５０ｎｍの範囲のなどの短波長光の反射を増強するために、副反射コーティング２０を選択することができる。あるいは、副反射コーティング２０はＵＶ光を反射するためにその厚さを変えるなどによって調整することができる。副反射コーティング２０は、金属酸化物材料の１つ又は複数の層などの反射材料の１つ又は複数の層を含むことができる。具体的な限定的でない一実施形態において、副反射コーティング２０は、比較的高い屈折率材料及び比較的低い屈折率材料の交互の層を含む。「高い」屈折率材料は、「低い」屈折率材料より高い屈折率を有する任意の材料である。限定的でない一実施形態において、低屈折率材料は１．７５以下の屈折率を有する材料である。低屈折率材料の限定的でない例は、シリカ、アルミナ、フッ化物（フッ化マグネシウム及びフッ化カルシウムなどの）及びこれらのアロイ、混合物又は組合せを含む。限定的でない一実施形態において、高屈折率材料は１．７５を超える屈折率を有する。この種の材料の限定的でない例は、チタニア、ジルコニア、スズ酸亜鉛、窒化ケイ素、酸化亜鉛、スズドープした酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化タンタル及びこれらのアロイ、混合物又は組合せを含む。副反射コーティング２０は、例えば、第１の層２６（例えば第１の誘電体層）及び第２の層２８（例えば第２の誘電体層）を有する図１Ｃに示すような多層膜コーティングであってもよいが、本発明を限定するものではない。限定的でない一実施形態において、第１の層２６は高屈折率を有し、第２の層２８は低屈折率を有する。限定的でない一実施形態において、第１の層２６はチタニアを含み、第２の層２８はシリカを含む。具体的な限定的でない一実施形態において、第１の層（例えばチタニア）は、２０ｎｍから３０ｎｍなどの、２２ｎｍから２７ｎｍなどの、又は２５ｎｍなどの、１５ｎｍから３５ｎｍの範囲の厚さを有する。第２の層（例えばシリカ）は、３５ｎｍから５０ｎｍなどの、４０ｎｍから５０ｎｍなどの、又は４２ｎｍなどの、３０ｎｍから６０ｎｍの範囲の厚さを有することができる。副反射コーティング２０の材料は金属酸化物に限定されないことを理解するべきである。酸化物、窒化物、オキシナイトライド、フッ化物など、これらに限定されない、任意の材料を使用することができる。

図１Ｃに示す、限定的でない実施形態において、任意的な接着剤層３０は副反射コーティング２０と主反射コーティング２２の間に設けることができる。接着剤層３０は、副及び主反射コーティング、２０と２２の間の接着を増強する、又は副又は主反射コーティング、２０、２２の機械的及び／又は化学的耐久性を改善する何らかの層であってもよい。接着剤層３０は誘電体、半導体、ポリマー、有機物又は金属若しくは金属合金の層から選択される少なくとも１つの材料を含むことができる。限定的でない一実施形態において、接着剤層３０は、酸化亜鉛、チタニア、又はスズ酸亜鉛などの亜鉛／スズ酸化物などの、しかしこれらに限定されない、亜鉛、スズ、チタンの酸化物、窒化物若しくはオキシナイトライド又はこれらの組合せから選択される少なくとも１種の材料を含む。例えば、接着剤層３０は、４ｎｍ以下などの、３ｎｍ以下などの、２ｎｍ以下などの、又は１ｎｍ以下などの、５ｎｍ以下の厚さを有する。

図１Ｃに示す、図示した典型的な実施形態において、トップコート４０は、主反射コーティング２２の少なくとも一部を覆って形成される。トップコート４０は上に記載した通りであってもよい。具体的な限定的でない一実施形態において、トップコートは、１つ又は複数の層、例えば、１種又は複数の金属酸化物、窒化物、オキシナイトライド、ホウ化物、フッ化物又は炭化物などの１つ又は複数の誘電体層を含むことができる。具体的な限定的でない一実施形態において、トップコート４０は、第１のフィルム４２（例えば金属酸化物フィルム）、第２のフィルム４４（例えば金属合金酸化物、又は酸化物混合物フィルム）、任意的に、第３のフィルム４６（例えば金属酸化物コーティング）を有する多重フィルム構造を含む。しかし、本発明が酸化物コーティングに限定されず、窒化物又はオキシナイトライドなどの、しかしこれらに限定されない他のコーティングを用いることができることを理解するべきである。限定されない一実施形態において、トップコート４０は酸化亜鉛又はスズ酸亜鉛などの亜鉛／スズ酸化物を含むことができ、５ｎｍから５００ｎｍなどの、１０ｎｍから５００ｎｍなどの、５０ｎｍから５００ｎｍなどの、例えば５０ｎｍから３００ｎｍ、１００ｎｍから２５０ｎｍなどの、１００ｎｍから２００ｎｍなどの、又は１２０ｎｍから１６５ｎｍなどの、１ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有することができる。

限定的でない一実施形態において、第１のフィルム４２は酸化亜鉛などの亜鉛含有フィルムであってもよい。酸化亜鉛フィルムは、陰極の導電率及びスパッタ特性を改善するために他の材料を含む、亜鉛陰極から堆積することができる。例えば、亜鉛陰極は、陰極のスパッタ特性を改善するために、スズなどの少量の導体材料（例えば０重量％から５重量％などの、１０重量％以下）を含むことができる。その場合には、結果として得られる酸化亜鉛フィルムは、小さい百分率の酸化スズ（例えば０から１０重量％の酸化スズ、例えば０から５重量％の酸化スズ）を含む。１０重量％以下のスズを有する亜鉛陰極から堆積したコーティング層は、たとえ少量のスズ（例えば１０重量％）が存在しても、本明細書においては「酸化亜鉛」層と呼ぶ。陰極中の少量のスズは、主に酸化亜鉛を含有するフィルム中で少量の酸化スズを形成すると考えられる。限定されない一実施形態において、酸化亜鉛第１フィルム４２は９０重量％の亜鉛及び１０重量％のスズを含み、１ｎｍから１５０ｎｍなどの、１ｎｍから１００ｎｍなどの、１ｎｍから５０ｎｍなどの、１ｎｍから２５ｎｍなどの、１ｎｍから２０ｎｍなどの、１ｎｍから１０ｎｍなどの、２ｎｍから８ｎｍなどの、３ｎｍから８ｎｍなどの、４ｎｍから７ｎｍなどの、５ｎｍから７ｎｍなどの、又は６ｎｍなどの、１ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有する。

限定的でない一実施形態において、第２のフィルム４４は、亜鉛／スズ合金酸化物又は亜鉛／スズ混合酸化物フィルムであってもよい。亜鉛／スズ合金酸化物は、１０重量％から９０重量％の亜鉛及び９０重量％から１０重量％のスズの比率の亜鉛及びスズを含むことができる亜鉛及びスズの陰極から、マグネトロンスパッタリング真空蒸着によって得られるものであってもよい。第２のフィルム４４に存在することができる１つの適切な金属合金酸化物は、スズ酸亜鉛である。「スズ酸亜鉛」はＺｎ_ＸＳｎ_１−ＸＯ_２−Ｘ（式１）の組成物を意味し、「ｘ」は０を超え１未満の範囲で変化する。例えば、「ｘ」は０を超え、０を超え１未満の間の任意の分数又は小数であってもよい。例えばｘ＝２／３である場合、式１はＺｎ_２／３Ｓｎ_１／３Ｏ_４／３であり、より一般には「Ｚｎ_２ＳｎＯ_４」と記述される。スズ酸亜鉛含有フィルムは、フィルムの主成分となる量で式１の１種又は複数の形式を有する。限定的でない一実施形態において、スズ酸亜鉛の第２のフィルム４４は、１ｎｍから１５０ｎｍなどの、１ｎｍから１００ｎｍなどの、１ｎｍから５０ｎｍなどの、１ｎｍから２５ｎｍなどの、１ｎｍから２０ｎｍなどの、５ｎｍから１５ｎｍなどの、６ｎｍから１４ｎｍなどの、８ｎｍから１４ｎｍなどの、１０ｎｍから１４ｎｍなどの、１１ｎｍから１３ｎｍなどの、又は１２ｎｍなどの、１ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有することができる。

限定的でない一実施形態において、任意的な第３のフィルム４６は、第１のフィルム４２（例えば酸化亜鉛フィルム）に類似する亜鉛含有フィルムであってもよい。限定的でない一実施形態において、任意的な酸化亜鉛第３フィルム４６は、１ｎｍから１５０ｎｍなどの、１ｎｍから１００ｎｍなどの、１ｎｍから５０ｎｍなどの、１ｎｍから２５ｎｍなどの、１ｎｍから１０ｎｍなどの、２ｎｍから８ｎｍの範囲などの、３ｎｍから８ｎｍの範囲などの、４ｎｍから７ｎｍの範囲などの、５ｎｍから７ｎｍの範囲などの、又は６ｎｍなどの、１ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有する。

限定的でない一実施形態において、太陽鏡１０は、第１の面１４の少なくとも一部を覆って形成された、光触媒及び／又は光親水性コーティングなどの光活性コーティング６０を有することができる。光活性コーティング６０に適切な１つの材料の限定的でない例はチタニアである。光活性コーティング６０は、直接第１の面１４に、又は、第１の面１４と光活性コーティング６０の間に設けることができるナトリウムイオン拡散障壁（ＳＩＤＢ）層６４などの障壁層に堆積することができる。適切なＳＩＤＢ多層材料の限定的でない例は、シリカ若しくはアルミナ又はこれらの組合せである。あるいは、光活性コーティング６０はなくすことができ、第１の面１４を覆ってＳＩＤＢ層のみ形成される。

本発明の反射性物品のために上に記載したコーティングのいくつか又は全て、湿式化学的手法（例えば溶液からのコーティングの沈殿、無電解めっき、ゾル−ゲル化学処理法など）、電気化学法（例えば電気めっき／電着）、スパッタ堆積（例えばマグネトロンスパッタ蒸着（ＭＳＶＤ））、蒸発（例えば熱又は電子ビーム蒸着）、化学蒸着法（ＣＶＤ）、噴霧熱分解、火炎溶射又はプラズマ溶射などの任意の従来法によって堆積することができるが、これらに限定されない。限定的でない一実施形態において、コーティングのいくらか又は全ては、ＭＳＶＤによって堆積することができる。ＭＳＶＤコーティング装置及び方法の例は当業界の通常の技術者によって十分に理解され、例えば米国特許第４，３７９，０４０、同４，８６１，６６９、同４，８９８，７８９、同４，８９８，７９０、同４，９００，６３３、同４，９２０，００６、同４，９３８，８５７、同５，３２８，７６８及び同５，４９２，７５０号明細書に記載されている。例えば、所望の場合、主反射コーティング２２は湿式化学的手法（例えば「湿式銀」堆積−硝酸銀溶液から銀の沈殿）によって施すことができる。限定的でない一実施形態において、副反射コーティング２０の１つ又は複数の層は、従来のＣＶＤ法、例えば、リボンがスズ浴にある間、フロートガラスリボンに施すことができる。次いで、主反射コーティング２２及びトップコート４０の１つ又は複数の層は、ＭＳＶＤなどの異なる方法によって施すことができる。あるいは、コーティングの全部はＭＳＶＤなどの同一の方法によって施すことができる。コーティングのうちの少なくともいくつかをスパッタリングによって施すことは、他の多くの技術に対して有利であると考えられている。例えば、単一の真空槽に広範囲の材料を堆積させることが可能である。また、スパッタ堆積は従来の湿式化学的方法より化学的に高純度を有する層を与えると予想される。さらに、スパッタリングは、湿式化学的手法から出る液体廃棄物流をなくし、また他の金属が容易に堆積することを可能にする。さらに、スパッタリングは、接着層、化学的障壁及び機械的保護に用いるために無機酸化物を堆積させることができる。

封止構造体２４は、上に記載された被覆板の少なくとも一部を覆って及び／又はそのまわりに形成することができる。封止構造体２４は上に記載された例に限定されず、化学的及び／又は機械的な攻撃から下にあるコーティング材料を保護するために任意の材料を含むことができる。例えば、図２に示す太陽鏡８０において、封止構造体２４は、ポリマー層８４によって第１の板１２に（例えば保護コーティング５０に）連結された第２の板８２を含む。第２の板８２は第１の板１２に関して上に記載された材料から選択することができ、第１の板１２と同じか又は異なる。さらに、第２の板８２は、電磁スペクトルの任意の部分の電磁波に対して透明である必要がない。

ポリマー層８４は任意の所望の材料であってもよく、１種又は複数の層又は板を含むことができる。層（単数又は複数）８４は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマー及び／又は熱可塑性エラストマーを含んでいてもよい。層８４は、例えば、ポリビニルブチラール、可塑化ポリ塩化ビニル、又は、ポリエチレンテレフタレート、エチレン酢酸ビニル（ＥＶＡ）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカーボネート、ポリアクリレート（例えばポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル）、ポリシロキサン、フルオロポリマー、ポリエステル、メラミン、ポリ尿素、ポリウレタン、ポリアルキド、ポリフェノールホルムアルデヒドなどを含む多層熱可塑性材料などの、ポリマー又はプラスチック材料であってもよい。適切な材料は米国特許第４，２８７，１０７及び同３，７６２，９８８号明細書に開示されているが、これらに限定されない。層８４は第１及び第２の板を一緒に固定し、エネルギー吸収をもたらすことができ、層状組織の強度を高めることができる。限定的でない一実施形態において、層８４はポリビニルブチラールで、０．７５ｍｍから０．８ｍｍなどの、０．５ｍｍから１．５ｍｍの範囲の厚さを有する。

図３に示す本発明の太陽鏡９０において、上に記載された封止材料９２によって少なくとも部分的に形成されたポリマーの封止構造体２４を用いることができる。封止材料９２は、太陽鏡９０の側面（より小さな面）の少なくとも一部のまわりを包むことができ、物品のエッジシールを設ける。あるいは、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）などの、しかしこれに限定されない、従来のエッジシーラントを、封止材料を施す前に、物品のエッジ（より小さな副面）に施すことができる。

本発明の別の太陽鏡１００を図４に示す。太陽鏡１００は上に記載された第１の板１２を含む。この実施形態において、副反射コーティング２０は存在しない。主反射コーティング２２は、第２の主面１６の少なくとも一部を覆って施すことができる。特定の実施形態において、ベースコート１０２は、第２の主面１６と主反射コーティング２２の間に設けられる。ベースコート１０２は上に記載されたのと同じであってもよい。

この実施形態において、主反射コーティング２２は、前の実施形態に関し上に記載した材料のいずれかであってもよい。特定の一実施形態種において、主反射コーティング２２は、５０ｎｍから５００ｎｍなどの、５０ｎｍから３００ｎｍなどの、５０ｎｍから２００ｎｍなどの、１００ｎｍから２００ｎｍなどの、１００ｎｍから１５０ｎｍなどの、１１０ｎｍから１４０ｎｍなどの、１２０ｎｍから１４０ｎｍなどの、又は１２８ｎｍから１３２ｎｍなどの１０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有する金属銀を含む。別の特定の実施形態において、主反射コーティング２２は、５０ｎｍから５００ｎｍなどの、５０ｎｍから３００ｎｍなどの、５０ｎｍから２００ｎｍなどの、５０ｎｍから１５０ｎｍなどの、７０ｎｍから１５０ｎｍなどの、９０ｎｍから１２０ｎｍなどの、９０ｎｍから１３０ｎｍなどの、９０ｎｍから１００ｎｍなどの、又は９０ｎｍから９５ｎｍなどの、１ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有する金属銀を含む。

トップコート４０は、第１の層１１０及び第２の層１１２を有する単層又は多層構造であってもよい。特定の一実施形態において、第１の金属酸化物層１１０は、１ｎｍから２５ｎｍなどの、５ｎｍから２０ｎｍなどの、１０ｎｍから２０ｎｍなどの、又は１０ｎｍから１７ｎｍなどの、１ｎｍから３０ｎｍの範囲の厚さを有する酸化亜鉛を含む。第２の層１１２は、４０ｎｍから４５ｎｍなどの、１０ｎｍから１００ｎｍの範囲の厚さを有する、スズ酸亜鉛を含む。

太陽鏡１００はまた、上に記載した保護コーティング５０と同じ又は類似する保護コーティング１１４を含むことができる。特定の一実施形態において、保護コーティング１１４は、１０ｎｍから３００ｎｍなどの、１０ｎｍから１００ｎｍなどの、２０ｎｍから１００ｎｍなどの、３０ｎｍから８０ｎｍなどの、４０ｎｍから６０ｎｍなどの、５０ｎｍから６０ｎｍなどの、又は５７ｎｍなどの、１０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有するシリカを含む。

図５は、支持基部１２０に搭載する本発明の反射性物品（例えば本発明の太陽鏡１、３、１０、８０、９０、１００）を示す。反射性物品は、第１の主面１４が外に向かって面するように搭載する。反射性物品は、二，三の例を挙げれば、接着剤によって又は物品を機械的に枠に固定することによるなどの、任意の従来法で搭載することができる。基部１２０は上に記載したような封止構造体２４に連結することができる。あるいは、封止構造体２４はなくすことができ、基部１２０は、コーティングスタック（例えば保護コーティング５０）の外側の被覆層と結合する。基部１２０は、金属（例えばアルミニウム、ステンレス鋼などの）又はプラスチックなどのポリマー材料などの任意の所望の材料のものであってもよいが、これらに限定されない。

本発明は、太陽鏡などの、しかしこれらに限定されない多くの用途に有用な、高度に反射性の物品を提供する。本発明の反射性物品には少なくとも６０％などの、少なくとも７０％などの、少なくとも８０％などの、少なくとも９０％などの、少なくとも９１％などの、少なくとも９２％などの、少なくとも９３％などの、少なくとも９４％などの、少なくとも９５％などの、又は９０％から９６％の範囲などの、少なくとも５０％の半球太陽加重積分Ｒｇ反射率（ｈｅｍｉｓｐｈｅｒｉｃａｌ ｓｏｌａｒ−ｗｅｉｇｈｔｅｄ，ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｒｇ ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ）（ＷＩＲｇ）を有することができる。

上に記載したように、及び以下の実施例に示すように、従来の湿式化学的な鏡に対する本発明の反射性物品の利点は、本発明の反射性物品を、（任意のポリマー封止構造を適用する前に）被覆して、次に、物品の反射率に不利な影響を与えることなく、被覆物品を熱処理又は曲げ加工をするのに十分な温度に加熱することができることである。また、本発明のコーティングは、加熱後にスペクトル性能（即ち、測定したスペクトル範囲の一部又は全てにわたる反射率の増加）の改善、及び太陽加重積分反射率の増加を示すことができる。例えば、ベースコート及び／又は主反射コーティング及び／又は副反射コーティング及び／又は耐食コーティング及び／又はトップコート及び／又は、保護コーティングを有する本発明の反射性物品は、封止構造体を施す前に、物品を曲げ加工又は熱処理するのに十分な温度に加熱することができる。例えば、基板及びコーティングを、少なくとも３５０°Ｆ（１７７℃）などの、少なくとも４００°Ｆ（２０４℃）などの、少なくとも５００°Ｆ（２６０℃）などの、少なくとも７５０°Ｆ（３９９℃）などの、少なくとも８００°Ｆ（４２７℃）などの、少なくとも９００°Ｆ（４８２℃）などの、少なくとも１０００°Ｆ（５３８℃）などの、少なくとも１０２２°Ｆ（５５０℃）などの、少なくとも１１００°Ｆ（５９３℃）などの、少なくとも１２００°Ｆ（６４９℃）などの、少なくとも１３００°Ｆ（７０４℃）などの、又は３５０°Ｆ（１７７℃）から１３００°Ｆ（７０４℃）の範囲などの、少なくとも３００°Ｆ（１４９℃）に加熱することができる。

本発明の様々な態様を組み込む様々な鏡構造を説明する具体的な実施例に関連して、本発明を記載する。しかし、本発明がこれらの具体的な実施例に限定されないことを理解するべきである。

表１は、本発明の様々な鏡（試料１〜１０）の構造を示す。

表２は、加熱前後の試料１〜１５の鏡の半球のＷＩＲｇ反射率（半球太陽加重積分Ｒｇ反射率）を示す。これらの結果から、本発明の鏡の半球太陽加重積分Ｒｇ反射率が、加熱で増加し得ることがわかる。「軟化点」列は、被覆物品が１３００°Ｆ（７０４℃）のオーブンに置かれガラスの軟化点（被覆面の最高温度は約１１８５°Ｆ（６４１℃）であった。）に（約５分）加熱されたことを意味する。

前の説明で開示された概念から外れずに、本発明に対して修正をなすことができることは、当業者によって容易に認識されよう。したがって、詳細に本明細書に記載された具体的な実施形態は単に例示であって、本発明の範囲を限定するものではなく、本発明の範囲は、添付の請求の範囲及びこれらのあらゆる均等物の全てにわたる広さを与えるべきである。

Claims (15)

1. 第１の主面及び第２の主面を有する透明基板、
   該第２の主面の少なくとも一部を覆って形成されたベースコートであって、１ｎｍから３ｎｍの範囲の厚さを有するチタニアを含む上記ベースコート、
   該ベースコートの少なくとも一部を覆って形成された主反射コーティング、
   該主反射コーティングの少なくとも一部を覆って形成された無機保護コーティングであって、シリカ、アルミナ、及びシリカとアルミナの混合物からなる群から選択される材料を含む上記無機保護コーティング、
   前記主反射コーティングと前記無機保護コーティングの間に形成され、１００ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有するスズ酸亜鉛を含む、トップコート、及び
   前記主反射コーティングと前記無機保護コーティングの間に位置する耐食コーティングであって、元素周期表の２〜１６族のメンバーからの少なくとも１種の金属又は金属合金を含む単層を有し、２０ｎｍから４０ｎｍの範囲の厚さを有する、上記耐食コーティング、
   を含む反射性物品。
2. 前記主反射コーティングが、可視光に不透明であり少なくとも１種の金属フィルムを含む、請求項１に記載の反射性物品。
3. 前記主反射コーティングが、白金、イリジウム、オスミウム、パラジウム、アルミニウム、金、銅、銀、又はこれらの混合物、合金若しくは組合せから選択される、少なくとも１種の金属を含む、請求項２に記載の反射性物品。
4. 前記主反射コーティングが銀を含む、請求項３に記載の反射性物品。
5. 前記主反射コーティングが５０ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有する、請求項３に記載の反射性物品。
6. 前記無機保護コーティングが、７５ｎｍから１２０ｎｍの範囲の厚さを有する、請求項１に記載の反射性物品。
7. 前記無機保護コーティングの少なくとも一部を覆って形成された封止構造体を含む、請求項１に記載の反射性物品。
8. 前記封止構造体がポリマー材料を含む、請求項７に記載の反射性物品。
9. 前記第１の主面の少なくとも一部を覆って形成された光活性コーティングをさらに含む、請求項１に記載の反射性物品。
10. 第１の主面及び第２の主面を有する透明ガラス基板、
    該第２の主面の少なくとも一部を覆って形成され、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、スズ酸亜鉛、酸化スズ又はこれらの混合物若しくは組合せから選択される少なくとも１種の金属酸化物を含み、０．１ｎｍから５ｎｍの範囲の厚さを有する無機ベースコート、
    該ベースコートの少なくとも一部を覆って形成され、白金、イリジウム、オスミウム、パラジウム、アルミニウム、金、銅、銀又はこれらの混合物、合金若しくは組合せから選択される少なくとも１種の金属を含み、５０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有し、可視光に対して不透明である主反射コーティング、
    該主反射コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、元素周期表の２〜１６族のメンバーからの少なくとも１種の金属又は金属合金を含む単層からなり、２０ｎｍから４０ｎｍの範囲の厚さを有する耐食コーティング、
    誘電体であり、該耐食コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、スズ酸亜鉛を含み、５ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有するトップコート、並びに
    該トップコートの少なくとも一部を覆って形成され、シリカ、アルミナ、及びシリカとアルミナの混合物からなる群から選択される材料を含み、５０ｎｍから５００ｎｍの範囲の厚さを有する無機保護コーティング
    を含む反射性物品。
11. 第１の主面及び第２の主面を有する透明ガラス基板と、
    該第２の主面の少なくとも一部を覆って形成され、１ｎｍから３ｎｍの範囲の厚さを有するチタニアを含む無機ベースコート、
    該ベースコートの少なくとも一部を覆って形成され、５０ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有する銀を含む主反射コーティング、
    該主反射コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、２０ｎｍから４０ｎｍの範囲の厚さを有するニッケル含有合金を含む単層からなる耐食コーティング、
    該耐食コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、１００ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有するスズ酸亜鉛を含むトップコート、並びに
    該トップコートの少なくとも一部を覆って形成され、シリカ、アルミナ、及びシリカとアルミナの混合物からなる群から選択される材料を含み、５０ｎｍから２００ｎｍの範囲の厚さを有する無機保護コーティング
    を含む反射性物品。
12. 前記無機保護コーティングの少なくとも一部を覆って形成され、ポリマー材料を含む封止構造体を含む、請求項１１に記載の反射性物品。
13. 前記無機保護コーティングの前記材料が、シリカ、及びシリカとアルミナの混合物からなる群から選択される、請求項１に記載の反射性物品。
14. 前記無機保護コーティングの前記材料が、前記シリカとアルミナの混合物からなる、請求項１に記載の反射性物品。
15. 前記耐食コーティングの前記単層が、ニッケル含有合金を含む、請求項１に記載の反射性物品。

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