JP5553754B2 - カーボン製反応容器 - Google Patents
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Description
SiCl4+H2→SiHCl3+HCl
この反応は、ガス化したテトラクロロシランと水素との混合ガスを800℃〜1300℃に加熱したカーボン製反応容器等において行われる(特許文献1)。
また、カーボン製略円筒体の上端または下端に肉厚の薄い部位が形成されないため、搬送時等に受け得る物理的衝撃に対しても優れた耐性を有する。さらに、カーボン製略円筒体の構造が単純であるため、製造も容易である。
炭化ケイ素被膜は化学的分解に対して極めて高い耐性を有するため、カーボン組織の化学的浸食を防止できる。従って、かかるカーボン製反応容器によれば、カーボン製略円筒体の表面を腐食から保護することができる。
2:略円筒体
3:リング
4:反応容器天蓋部
5:反応容器底板部
6:導入口
7:抜出口
8:抜出管
9:雄ネジ部
10:雌ネジ部
11:充填部材
100:反応容器
101:略円筒体
102:肩部
103:突出部
図示実施形態のカーボン製反応容器1は、複数のカーボン製略円筒体2を、端部同士を突き合わせて略同軸に上下に配し、突き合わせ端部を外側からカーボン製リング3で螺合締結することにより構成されている。上端に配された略円筒体2は、上端側が閉塞されて反応容器1の天蓋部4とされ、下端に配された略円筒体2は、下端側が閉塞されて反応容器1の底板部5が構成されている。また、その底板部5の中央部に原料ガスの導入口6が形成されると共に、該導入口から遠い上方側の略円筒体2の側壁には、反応後のガスの抜出口7が形成され、該抜出口7に抜出管8が接続されている。
このカーボン製反応容器1を、上下方向に延びる複数の長尺のヒータを内部に備える外筒内に配置し、ヒータで反応容器1の外壁を加熱することにより、導入口から導入されるテトラクロロシランおよび水素ガスが約800℃から約1300℃の高温で反応させられ、反応抜出口7からトリクロロシランを含む反応生成物ガスの形で抜き出される構成とされている。
本実施形態のカーボン製略円筒体2は、図3に示すように、上下の端部外周に雄ネジ部9が形成された略円筒状であり、従来のカーボン製反応容器に用いられていた円筒体のように上端もしくは下端に肩部や突出部が形成されていない。そのため、大きな凹凸のない極めて単純な形状であるとともに、肉厚をその長さ方向全体にわたってほぼ均一とすることができることから、物理的衝撃や熱的衝撃に対して優れた耐性を有する。
上端外周面および下端外周面における雄ネジ部9の形成幅は、特に限定されるものではないが、カーボン製リング3との螺合締結を確実なものとするために、カーボン製略円筒体2の円筒高さの8/100以上、さらには9/100以上とするのが好ましい。
形成する雄ネジ部9の巻きの方向、条数、ネジ山の形状、径およびピッチは、特に限定されるものではない。
本実施形態のカーボン製リング3は、図4に示すように、内周面に雌ネジ部10が形成された略円筒状のリングである。上記カーボン製略円筒体2と同様に、大きな凹凸のない極めて単純な形状であるとともに、肉厚もその幅方向にわたってほぼ均一であることから、物理的衝撃や熱衝撃に対して優れた耐性を有する。
カーボン製略円筒体2およびカーボン製リング3は、カーボンを主材料とするため、反応容器内に供給される水素や、水素の燃焼により生成する水によって、以下に示すように、組織の減肉または脆化を受けてしまう。
C+2H2→CH4
C+H2O→H2+CO
C+2H2O→2H2+CO2
炭化ケイ素被膜はこれらの化学的分解に対して極めて耐性が高いため、カーボン製略円筒体2およびカーボン製リング3の表面に炭化ケイ素被膜を形成することが好ましい。
CVD法によりカーボン製略円筒体2およびカーボン製リング3の表面に炭化ケイ素被膜を形成するには、例えば、テトラクロロシラン又はトリクロロシランのようなハロゲン化珪素化合物とメタンやプロパンなどの炭化水素化合物との混合ガスを用いる方法、またはメチルトリクロロシラン、トリフェニルクロロシラン、メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシランのような炭化水素基を有するハロゲン化珪素化合物を水素で熱分解しながら、加熱されたカーボン製略円筒体2およびカーボン製リング3の表面に炭化ケイ素を堆積させる方法を用いることができる。
上記カーボン製略円筒体2をカーボン製リング3を用いて連結するには、第一のカーボン製略円筒体2の上端にカーボン製リング3を嵌め合わせ、第一のカーボン製略円筒体2の上端がカーボン製リング3の幅の半分に達するまで螺入させ、さらに当該カーボン製リング3の開放端側に第二のカーボン製略円筒体2の下端を嵌め合わせ、当該第二のカーボン製略円筒体2の下端が前記第一のカーボン製略円筒体2の上端に当接するまで当該第二のカーボン製略円筒体2を前記カーボン製リング3に螺入させる。以上の作業を、所望の大きさの容器本体部が得られるまで、順次繰り返す。
例えば、上記実施の形態では、カーボン製略円筒体の上端外周面および下端外周面またはカーボン製リングの内周面にネジ山またはネジ溝を設け、両部材を螺合させる場合について説明したが、カーボン製略円筒体の上端外周面および下端外周面とカーボン製リングとを締結できるものであればどのような構造であってもよい。例えば、カーボン製略円筒体の上端および下端の外径が円筒部分の外径より縮小され、この上端および下端をカーボン製リングに嵌め込んで、シール材で接合する構成としてもよい。さらに、カーボン製略円筒体の上端および下端外周面にその周方向に間隔をあけて凸部が形成され、カーボン製リングの内周の対応する位置に凹部が形成されていてもよい。
この場合に、通気孔を設ける位置、個数、大きさ等は、任意に設定可能であるが、確実にガス成分を混合し、かつ、滞留時間をより長く確保できるように設定することが好ましい。
さらに、耐熱衝撃性に優れていることから、カーボン製充填部材11が黒鉛製であれば好適である。
外径15cm、高さ10cm、厚さ3cmの等方性黒鉛からなる直円筒状のカーボン製略円筒体であって、上端から3.5cmにわたる外周面および下端から3.5cmにわたる外周面に雄ネジ部が設けられたカーボン製略円筒体を複数準備した。また、反応容器の天蓋部を構成する上端側略円筒体、並びに反応容器の底板部を構成する下端側略円筒体についても同様に、連結側の端部外周面に雄ネジ部を設けた。
反応炉を連続的に2000時間運転した後、反応容器を解体してカーボン製略円筒体を観察した。本実施例のカーボン製略円筒体は割れやひび割れは観察されなかった。また、カーボン製略円筒体表面に顕著な腐食は観察されなかった。
反応容器内に、表面に炭化ケイ素被膜を施したカーボン製充填部材を配設したこと以外は、上記実施例1と同様に反応炉を整えた。
本実施例で使用したカーボン製充填部材は、等方性黒鉛からなり、直径8.8cm、厚さ0.5cmの円盤状であって、中心から4.4cmの位置に当該円盤を支持棒に固定するための固定孔を有し、この円盤の任意の位置に径が0.2cmの通気孔を複数有し、さらに全表面に200μmの厚みの炭化ケイ素被膜を有する。
この反応炉を、実施例1と同様に運転した後、反応容器を解体してカーボン製略円筒体を観察したところ、本実施例においても、カーボン製略円筒体に割れやひび割れは観察されなかった。また、カーボン製略円筒体表面並びにカーボン製充填部材表面に顕著な腐食は観察されなかった。
外径15cm、高さ10cm、厚さ3cmの等方性黒鉛からなる直円筒状のカーボン製略円筒体であって、上端に深さが3.8cmの肩部、下端に長さが3.8cmの突出部を有するカーボン製略円筒体を複数準備した。肩部の内周面にはネジ溝を形成し、突出部の外周面には前記ネジ溝に対応するネジ山を形成した。さらに、カーボン製略円筒体の内周面および外周面に、上記実施例1と同様に、200μmの厚みの炭化ケイ素被膜を形成した。
以上の比較実験から明らかなように、肩部や突出部を有しないカーボン製略円筒体の連結部をその外周側からカーボン製リングを用いて締結することにより、高温環境下で使用することによって連結部に生じ得る割れやひび割れの発生を防止することが可能である。
Claims (9)
- クロロシランと水素とを高温下で気相反応させるためのカーボン製反応容器であって、複数のカーボン製略円筒体が、端部同士を突き合わせて略同軸に配され、突き合わせ端部が外周からカーボン製リングで締結されてなることを特徴とするカーボン製反応容器。
- 前記カーボン製略円筒体の突き合わせ端部の外周面に雄ネジ部が形成され、前記カーボン製リングの内周面に、前記雄ネジ部に対応する雌ネジ部が形成され、前記カーボン製リングが前記カーボン製略円筒体に螺合締結されていることを特徴とする請求項1記載のカーボン製反応容器。
- 前記カーボン製略円筒体の内周面および/または外周面が炭化ケイ素被膜処理されていることを特徴とする、請求項1記載のカーボン製反応容器。
- 前記カーボン製略円筒体の炭化ケイ素被膜がCVD法により10〜500μmの厚みで形成されていることを特徴とする、請求項3記載のカーボン製反応容器。
- 前記カーボン製略円筒体が黒鉛製であることを特徴とする、請求項1記載のカーボン製反応容器。
- 前記カーボン製リングの表面が炭化ケイ素被膜処理されていることを特徴とする、請求項1記載のカーボン製反応容器。
- 前記カーボン製リングの炭化ケイ素被膜がCVD法により10〜500μmの厚みで形成されていることを特徴とする、請求項6記載のカーボン製反応容器。
- 前記カーボン製リングが黒鉛製であることを特徴とする、請求項1記載のカーボン製反応容器。
- 請求項1記載のカーボン製反応容器を用いることを特徴とする、クロロシランと水素とを反応させる方法。
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JPS62138919A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-22 | Hitachi Ltd | タブレツト入力装置用入力ペン |
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JP2005500438A (ja) * | 2001-08-28 | 2005-01-06 | オルピデゥール エス ピー エー | 管状電気透析と電着塗装膜電気(electrode)デバイス |
JP2006193384A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-07-27 | Denso Corp | 炭化珪素単結晶の製造方法 |
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JPS62138919A (ja) * | 1985-12-13 | 1987-06-22 | Hitachi Ltd | タブレツト入力装置用入力ペン |
JPS62138919U (ja) * | 1986-02-26 | 1987-09-02 | ||
JPS6415223A (en) * | 1987-07-08 | 1989-01-19 | Nisshin Steel Co Ltd | Slip type winding and unwinding sleeve for multistripe metallic band and its using method |
JPH09157073A (ja) * | 1995-12-01 | 1997-06-17 | Denki Kagaku Kogyo Kk | カーボン製反応容器 |
JPH09249494A (ja) * | 1996-01-12 | 1997-09-22 | Sumitomo Sitix Corp | シリコン溶融用坩堝 |
JP2005500438A (ja) * | 2001-08-28 | 2005-01-06 | オルピデゥール エス ピー エー | 管状電気透析と電着塗装膜電気(electrode)デバイス |
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