JP5549792B1 - 弾性波装置 - Google Patents

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Abstract

優れた温度サイクル耐性を有する弾性波装置を提供する。
弾性波装置1は、第1の弾性波素子10と、第2の弾性波素子20と、第1の基板41とを備える。第1の弾性波素子10は、第1の圧電基板11を有する。第2の弾性波素子20は、第2の圧電基板21を有する。第2の圧電基板21は、第1の圧電基板11に積層されている。第2の圧電基板21の線膨張係数は、第1の圧電基板11の線膨張係数よりも大きい。第1の基板41は、第2の圧電基板21に接合されている。第1の基板41の線膨張係数は、第2の圧電基板21の線膨張係数よりも小さい。

Description

本発明は、弾性波装置に関する。
従来、例えば弾性表面波を利用した弾性波装置がフィルタ装置などに広く用いられている。例えば特許文献1には、複数の弾性波素子が接合されて一体化された弾性波装置が記載されている。
特表2011−506106号公報
複数の弾性波素子が接合されて一体化された弾性波装置は、温度サイクル耐性が低い場合があるという問題を有する。
本発明の主な目的は、優れた温度サイクル耐性を有する弾性波装置を提供することである。
本発明に係る弾性波装置は、第1の弾性波素子と、第2の弾性波素子と、第1の基板とを備える。第1の弾性波素子は、第1の圧電基板を有する。第2の弾性波素子は、第2の圧電基板を有する。第2の圧電基板は、第1の圧電基板に積層されている。第2の圧電基板の線膨張係数は、第1の圧電基板の線膨張係数よりも大きい。第1の基板は、第2の圧電基板に接合されている。第1の基板の線膨張係数は、第2の圧電基板の線膨張係数よりも小さい。
本発明に係る弾性波装置のある特定の局面では、第1の基板が第1の圧電基板と同じ組成を有する。
本発明に係る弾性波装置の別の特定の局面では、弾性波装置は、第2の基板をさらに備える。第2の基板は、第2の圧電基板に接合されている。第1及び第2の基板のそれぞれは、第1の圧電基板よりも小さな線膨張係数を有する。
本発明に係る弾性波装置の他の特定の局面では、第1の基板と第2の基板とが同じ組成を有する。
本発明に係る弾性波装置のさらに他の特定の局面では、第1及び第2の基板が、サファイア、シリコンまたはガラスからなる。
本発明に係る弾性波装置のさらに別の特定の局面では、第1の圧電基板と第2の圧電基板とでは、組成及びカット角の少なくとも一方が異なる。
本発明に係る弾性波装置のまた他の特定の局面では、第1の弾性波素子は、第1のIDT電極をさらに有する。第1のIDT電極は、第1の圧電基板の上に設けられている。第2の弾性波素子は、第2のIDT電極をさらに有する。第2のIDT電極は、第2の圧電基板の上に設けられている。
本発明によれば、優れた温度サイクル耐性を有する弾性波装置を提供することができる。
図1は、第1の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。 図2は、第2の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものである。図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。図1に示されるように、弾性波装置1は、第1の弾性波素子10と、第2の弾性波素子20とを備える。第1の弾性波素子10は、第1の圧電基板11と、第1の圧電基板11の一方主面11a上に配置された第1のIDT電極12とを有する。一方、第2の弾性波素子20は、第2の圧電基板21と、第2の圧電基板21の一方主面21a上に配置された第2のIDT電極22とを有する。第2の圧電基板21の主面21aは、第1の圧電基板11の主面11aと対向している。平面視したとき、第1及び第2の圧電基板11,21の主面11a,21aが重なるように、第1,第2の圧電基板11,21が接合されている。振動可能な空間を設けるために、第1及び第2の圧電基板11,21の主面11a,21a上に突部または溝部を設けてもよい。第1及び第2のIDT電極12,22は、例えば、Al,Pt,Au,Ag,Cu,Ni,Ti,Cr,Pdやそれらの金属の少なくとも一種を含む合金によりスパッタなどの公知な工法により構成することができる。第1及び第2の圧電基板11,21は、例えば、LiNbOやLiTaOの材料により構成することができる。本実施形態では、第1の圧電基板11と第2の圧電基板21とで組成及びカット角の少なくとも一方が異なる。第1の圧電基板11の線膨張係数よりも第2の圧電基板21の線膨張係数の方が大きい。
弾性波装置1は、第1及び第2の弾性波素子10,20のうちの一方が送信フィルタを構成しており、他方が受信フィルタを構成しているデュプレクサである。
なお、本発明においては、第1及び第2の弾性波素子10,20のいずれもが送信フィルタあるいは受信フィルタであってもよい。
第1の弾性波素子10は、第2の弾性波素子20主面上に積層されている。第2の圧電基板21は第1の圧電基板11と対向するように、第1の圧電基板11の主面上に配置されている。第1の圧電基板11と第2の圧電基板21とは、接合層30によって、相互に間隔をおいて接合されている。それによって、第1及び第2のIDT電極12,22が振動可能な空間が設けられている。接合層30は、例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、酢酸ビニール系樹脂、ポリイミド系樹脂などの樹脂により構成することができる。
上述のように、第1の圧電基板11の線膨張係数よりも第2の圧電基板21の線膨張係数の方が大きい。このため、第1の圧電基板11と第2の圧電基板21との線膨張係数の違いにより発生する応力により温度サイクル耐性が低くなるおそれがある。ここで、弾性波装置1では、第2の圧電基板21に、第2の圧電基板21よりも線膨張係数が小さな第1の基板41が接合されている。線膨張係数が小さな材料としては、Si、SiO(溶融石英)、Al、Si、またはAlNなどを用いることができる。このため、第1の弾性波素子10と第2の弾性波素子20との線膨張係数の差が小さくされている。よって、優れた温度サイクル耐性が実現されている。
さらに、弾性波装置1では、第1の基板41に加えて、第2の基板42が設けられている。第2の基板42は、第1の圧電基板11に接合されている。第1及び第2の基板41,42は、それぞれ、第1の圧電基板11よりも小さな線膨張係数を有する。このため、第1の弾性波素子10と第2の弾性波素子20との線膨張係数の差がより小さく、かつ、第1の弾性波素子10の線膨張係数と第2の弾性波素子20の線膨張係数とも小さくされている。よって、より優れた温度サイクル耐性が実現されている。また、温度サイクル耐性を高めるためには、第2の圧電基板と第1の基板との線膨張係数の差が、第1の圧電基板と第2の基板との線膨張係数の差と等しいことが好ましい。それによって、温度サイクルによる熱膨張の変化の差を小さくすることができる。
さらに優れた温度サイクル耐性を実現する観点からは、第1及び第2の基板41,42は、同じ組成を有することが好ましい。
第1及び第2の基板41,42は、線膨張係数が小さく、放熱性に優れた材料により構成されていることが好ましい。第1及び第2の基板41,42は、例えば、サファイア、シリコンまたはガラスにより構成することができる。
なお、第1の基板41と第2の圧電基板21との接合、第2の基板42と第1の圧電基板11との接合は、例えば、陽極接合、共晶接合、接着剤接合、フュージョン接合、熱圧着接合などにより行うことができる。
以下、本発明の好ましい実施形態の他の例について説明する。以下の説明において、上記第1の実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。
(第2の実施形態)
図2は、第2の実施形態に係る弾性波装置の略図的断面図である。
第1の実施形態に係る弾性波装置1では、第2の圧電基板21に第1の基板41を接合すると共に、第1の圧電基板11に第2の基板42を接合する例について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。
例えば、図2に示される弾性波装置2のように、第1の基板41を設け、第2の基板42を設けなくてもよい。この場合であっても同様に、線膨張係数の差を小さくできるため、優れた温度サイクル耐性を実現することができる。
なお、この場合は、第1の基板41は、サファイア、シリコンまたはガラスにより構成されていてもよいし、第1の圧電基板11と同じ組成を有していてもよい。
1,2…弾性波装置
10…第1の弾性波素子
11…第1の圧電基板
12…IDT電極
20…第2の弾性波素子
21…第2の圧電基板
22…第2のIDT電極
30…接合層
41…第1の基板
42…第2の基板

Claims (7)

  1. 第1の圧電基板を有する第1の弾性波素子と、
    前記第1の圧電基板に積層されており、前記第1の圧電基板よりも線膨張係数が大きな第2の圧電基板を有する第2の弾性波素子と、
    前記第2の圧電基板に接合されており、前記第2の圧電基板よりも線膨張係数が小さな第1の基板と、
    を備える、弾性波装置。
  2. 前記第1の基板が前記第1の圧電基板と同じ組成を有する、請求項1に記載の弾性波装置。
  3. 前記第2の圧電基板に接合された第2の基板をさらに備え、
    前記第1及び第2の基板のそれぞれは、前記第1の圧電基板よりも小さな線膨張係数を有する、請求項1に記載の弾性波装置。
  4. 前記第1の基板と前記第2の基板とが同じ組成を有する、請求項3に記載の弾性波装置。
  5. 前記第1及び第2の基板が、サファイア、シリコンまたはガラスからなる、請求項3または4に記載の弾性波装置。
  6. 前記第1の圧電基板と前記第2の圧電基板とでは、組成及びカット角の少なくとも一方が異なる、請求項1〜5のいずれか一項に記載の弾性波装置。
  7. 前記第1の弾性波素子は、前記第1の圧電基板の上に設けられた第1のIDT電極をさらに有し、
    前記第2の弾性波素子は、前記第2の圧電基板の上に設けられた第2のIDT電極をさらに有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の弾性波装置。
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