JP5532190B1 - セルロースエステル樹脂用改質剤、セルロースエステル光学フィルムおよび偏光板用保護フィルム - Google Patents

セルロースエステル樹脂用改質剤、セルロースエステル光学フィルムおよび偏光板用保護フィルム Download PDF

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Abstract

本発明はフィルムの厚み方向のレターデーション値(Rth)を低下でき、耐透湿性を付与可能で、湿度変化に対するRth値の変化が少ないフィルムが得られるセルロースエステル樹脂用改質剤、それを用いたセルロースエステル光学フィルム及び偏光板用保護フィルムを提供することを目的とし、下記一般式(1)または一般式(2)
Figure 0005532190
(式中Rはそれぞれ、水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。nは1〜10の整数であり、mは1〜8の整数である。)
で表される構造を有するポリエステル樹脂(A)を含有することを特徴とするセルロースエステル樹脂用改質剤、該改質剤とセルロースエステル樹脂とを含有するセルロースエステル光学フィルム、該改質剤とセルロースエステル樹脂とを有機溶剤に溶解して得られる樹脂溶液を、金属支持体上に流延させ、次いで前記有機溶剤を留去し乾燥させて得られる偏光板用保護フィルムを提供とする。

Description

本発明は、偏光板用保護フィルム等の光学フィルムをはじめ様々な用途に使用することが可能なセルロースエステル樹脂用改質剤、該改質剤を含有するセルロースエステル光学フィルム、及び偏光板用保護フィルムに関する。
近年、映像や文字を鮮明に表示できる液晶表示装置を備えたノートパソコンやテレビ、携帯電話等の情報機器が、次々と市場に供給されている。これら情報機器に対する消費者の要望としては、先進的な高機能の付与等が挙げられるが、とりわけ、前記液晶表示装置の視認性向上(広視野角化)は、商品価値を左右するうえで重要であり、消費者からも強く要望されている。
前記液晶表示装置は、概略として、2枚のガラス基板の間に電極からなる層と液晶物質からなる層(液晶層)とを有する積層構造体である。前記ガラス基板のうち、液晶層とは反対側の面には、偏光板が貼付されている。該偏光板としては、通常、ポリビニルアルコール(PVA)からなる偏光子の両面に保護フィルムを貼付したものが使用されている。前記保護フィルムとしては、一般的に透明度や光学等方性が高く、適度な強度を有し、且つPVAとの接着性に優れたセルロースエステルフィルムが使用されている。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、フィルム面内では光学等方性に優れるものの、厚み方向では光学異方性を有している。そのため、セルロースエステルフィルムを用いた液晶画面を斜め方向から見た場合に、表示される映像の色が本来の色とは異なって見える場合があった。したがって、前記液晶表示装置の斜め方向からの視認性を最適化するには、前記フィルムの厚み方向における光学異方性の程度を把握し、それを考慮して表示装置の光学設計を行う必要があった。
なお、光学フィルムの光学異方性の程度は、一般にレターデーション値により把握することが可能である。光学フィルムのレターデーション値のうち、フィルムの厚み方向のレターデーション値(以下「Rth」ともいう。)は、下記式(1)で定義される。
Rth=〔(nx+ny)/2−nz〕×d (1)
〔式中、nxはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、nyはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、nzはフィルムの厚み方向の屈折率であり、dはフィルムの厚さ(nm)である。〕
前記セルロースエステルフィルムは、偏光子の保護フィルムとしての役割も担う。しかしながら、通常のフィルムでは、外部から偏光子へ湿気(水)の浸入を十分に防止することができず、その結果、偏光子の劣化や、偏光子と前記フィルムとの剥離を引き起こす場合があった。そのため、これまでは前記セルロースエステル樹脂にトリフェニルホスフェート(TPP)等の可塑剤を添加して得られたフィルムを例えば「偏光板用保護フィルム」等として使用することで、耐透湿性の改善を図っていた。
しかしながら、セルロースエステルフィルムに汎用されるTPP等の従来の可塑剤では、十分な耐透湿性を有し、且つ、実用上十分なレベルまで低いRth、理想的には、Rthがゼロに近いセルロースエステルフィルムを得ることはできなかった。
セルロースエステルフィルムの厚み方向のレターデーション値(Rth)を実用上十分なレベルにまで低下させることができ、且つ優れた耐透湿性をフィルムに付与可能なセルロースエステル樹脂用改質剤として、例えば、炭素数2〜4のグリコール(a)、炭素数2〜6の脂肪族ジカルボン酸(b)、炭素数4〜9のモノアルコール及び/又はモノカルボン酸(c)とを反応させて得られる、数平均分子量が1000〜3000の脂肪族ポリエステル(A)からなることを特徴とするセルロースエステル樹脂用改質剤が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。該特許文献1には、具体的にはプロピレングリコールとコハク酸と1−ブタノールと反応させて得られる数平均分子量1500の脂肪族ポリエステル樹脂が開示されている。しかしながら、特許文献1に開示された改質剤を用いたセルロースエステルフィルムは、環境の湿度が変化するに伴いRth値も変化しやすい。そのため、このようなフィルムを用いた液晶表示装置は、高湿度環境において画質低下という問題を引き起こす。
特開2009−046531号公報
本発明が解決しようとする課題は、セルロースエステルフィルムの厚み方向のレターデーション値(Rth)を実用上十分なレベル、理想的には、ゼロに近い数値になるまで低下させることができ、しかも、セルロースエステル樹脂を含有するフィルムに耐透湿性を付与可能で、しかも、湿度変化に対するRth値の変化が少ないフィルムを得ることが出来るセルロースエステル樹脂用改質剤、それを用いたセルロースエステルフィルム、及び偏光板用保護フィルムを提供することにある。
本発明者らは鋭意検討を行った結果、主鎖骨格中にシクロヘキサン環またはシクロヘキセン環を有し、これらの環の1位及び2位の位置でエステル結合によりポリマー化しているポリエステル樹脂系の改質剤が、上記課題を解決することができること等を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記一般式(1)または一般式(2)
Figure 0005532190
(式中Rはそれぞれ、水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。nは1〜10の整数であり、mは1〜8の整数である。)
で表される構造を有するポリエステル樹脂(A)を含有するセルロースエステル樹脂用改質剤であり、前記ポリエステル樹脂(A)が、1,2−ジカルボキシシクロヘキサンまたは1,2−ジカルボキシ−4−シクロヘキセンを含む二塩基酸と炭素原子数が2〜4の脂肪族の二価のアルコールとを反応させて得られ、酸価が3以下で、水酸基価が200以下で、数平均分子量が500〜3,000であることを特徴とするセルロースエステル樹脂用改質剤を提供するものである。
また、本発明は、前記セルロースエステル樹脂と前記請求項1から5のいずれか1項記載のセルロースエステル樹脂用改質剤とを有機溶剤中に溶解させ、得られた樹脂溶液を金属支持体上に流延させる第1工程と、
流延させた前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤を留去し乾燥させてフィルムを形成する第2工程と
金属支持体上に形成されたフィルムを金属支持体から剥離し加熱乾燥させる第3工程からなる溶液流延法により得られる光学フィルムであり、
セルロースエステル樹脂100質量部に対して、前記セルロースエステル樹脂用改質剤を5〜15質量部用い、
第2工程が、30〜50℃の温度範囲で行われるものであり、第3工程が100〜160℃で行われるものであることを特徴とするセルロースエステル光学フィルムを提供するものである。



更に、本発明は、前記セルロースエステル樹脂用改質剤とセルロースエステル樹脂とを有機溶剤に溶解して得られる樹脂溶液を、金属支持体上に流延させ、次いで前記有機溶剤を留去し乾燥させて得ることを特徴とする偏光板用保護フィルムを提供するものである。
本発明によれば、セルロースエステルフィルムの厚み方向のレターデーション値(Rth)を実用上十分なレベルにまで低下させることができるセルロースエステル樹脂用改質剤を提供することができる。また、この改質剤を用いる事により耐透湿性に優れるセルロースエステルフィルムを提供する事ができる。そして、このフィルムは、湿度変化に対するRth値の変化が少ないという効果も奏する。このような優れた特性を有するフィルムは、偏光板用保護フィルム、光学補償フィルム、位相差フィルムなどに好ましく用いることができる。
本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤は主鎖骨格中に下記一般式(1)または一般式(2)で表される構造を有するポリエステル樹脂(A)を含有することを特徴とする。
Figure 0005532190
(式中Rはそれぞれ、水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。nは1〜10の整数であり、mは1〜8の整数である。)
前記ポリエステル樹脂(A)は、例えば、脂肪族二塩基酸として、シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸や、シクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸を含む二塩基酸と二価のアルコールとを反応させることにより得ることができる。
前記シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸としては、例えば、1,2−ジカルボキシシクロヘキサン、1,2−ジカルボキシ−3−メチル−シクロヘキサン、1,2−ジカルボキシ−4−メチル−シクロヘキサン等が挙げられる。これらは単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。また、これらの酸無水物を使用しても良い。
前記シクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸としては、例えば、1,2−ジカルボキシシクロヘキセン、1,2−ジカルボキシ−3−メチル−シクロヘキセン、1,2−ジカルボキシ−4−メチル−シクロヘキセン等が挙げられる。これらは単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。また、これらの酸無水物を使用しても良い。
上記二塩基酸の中でも、耐透湿性に優れるセルロースエステルフィルムが得られることから1,2−ジカルボキシシクロヘキサン、1,2−ジカルボキシシクロヘキセンが好ましい。従って、本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤の中でも、二塩基酸と二価のアルコールとを反応させて得られ、該二塩基酸が1,2−ジカルボキシシクロヘキサンまたは1,2−ジカルボキシシクロヘキセンを含む二塩基酸であるセルロースエステル樹脂用改質剤が好ましい。
本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤の中でも、前記シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸やシクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸と共にセルロースエステル樹脂との相溶性を制御する目的で他の二塩基酸を併用しても良い。他の二塩基酸としては、例えば、脂肪族二塩基酸や芳香族二塩基酸等が挙げられる。
前記脂肪族二塩基酸としては、例えば、炭素原子数2〜6の脂肪族二塩基酸が挙げられ、具体的には、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。これらは単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。
前記芳香族二塩基酸としては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5ナフタレンジカルボン酸、1,4ナフタレンジカルボン酸等が挙げられる。これらは単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。
併用する二塩基酸のなかでもセルロースエステル樹脂を含有するフィルムの厚み方向のレタデーション値(Rth)より低下させるセルロースエステル樹脂用改質剤が得られることから脂肪族二塩基酸が好ましく、中でもコハク酸が好ましい。
前記シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸やシクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸の使用量としては、二塩基酸の合計100質量部に対して5〜100質量部が、湿度変化に対するRth値変動をより抑制できるセルロースエステル樹脂用改質剤が得られることから好ましく、15〜100質量部がより好ましい。
前記二価のアルコールとしては、例えば、炭素原子数が2〜4の脂肪族のアルコールを好ましく上げることができる。このようなアルコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、2−メチルプロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール等が挙げられる。これらの中でもエチレングリコール、1,2−プロピレングリコールが、セルロースエステルフィルムに十分な耐透湿性を付与できるセルロースエステル樹脂用改質剤が得られることから好ましい。また、これらは単独で使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。
前記ポリエステル樹脂(A)の中でも、前記二塩基酸と二価のアルコールとを反応させて得られるポリエステル樹脂は、その末端に水酸基またはカルボキシル基を有する。これらの水酸基、カルボキシル基は、これらと反応する反応性基を有する化合物と反応させても良い。このような反応により末端を封止することにより更に耐透湿性をセルロースエステルフィルムに付与できるという効果を奏する。
前記ポリエステル樹脂(A)の中でも末端を封止した改質剤を得るには、例えば、以下の方法により好ましく得ることができる。
方法1:シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸やシクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸を含む二塩基酸と二価のアルコールおよびモノカルボン酸を反応系に一括で仕込み、反応させる方法。
方法2:シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸やシクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸を含む二塩基酸と二価のアルコールとを反応させて樹脂の末端に水酸基を含むポリエステル樹脂を得たのち、該ポリエステル樹脂とモノカルボン酸無水物とを反応させる方法。
方法3:シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸やシクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸を含む二塩基酸と二価のアルコールおよびモノアルコールを反応系に一括で仕込み、反応させる方法。
方法4:シクロヘキサン環を有し、且つ該シクロヘキサン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸やシクロヘキセン環を有し、且つ該シクロヘキセン環の1位と2位の位置にカルボキシル基を有する二塩基酸を含む二塩基酸と二価のアルコールとを反応させて樹脂の末端にカルボキシル基を含むポリエステル樹脂を得たのち、該ポリエステル樹脂とモノアルコールとを反応させる方法。
前記モノカルボン酸としては、例えば、酢酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、2−エチルヘキシル酸、ノナン酸等の炭素原子数2〜9のモノカルボン酸またはモノカルボン酸無水物を好ましい化合物として例示することができる。これらは単独でも使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。
前記モノアルコールとしては、例えば、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノール、1−ペンタノール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチルアルコール、シクロペンタノール、1−ヘキサノール、シクロヘキサノール、1−ヘプタノール、1−オクタノール、2−エチル−1−ヘキサノール、イソノニルアルコール、1−ノニルアルコール等の炭素数4〜9のモノアルコールを好ましく例示することができる。これらは単独でも使用しても良いし、2種以上を併用しても良い。
前記末端を封止する際は、末端の全てのカルボキシル基や水酸基を封止する必要はなく、一部のカルボキシル基や一部の水酸基が末端に残存していても良い。
前記ポリエステル樹脂(A)の酸価としては、フィルムに優れた耐透湿性を付与し、且つセルロースエステル樹脂用改質剤自体の安定性を維持できることからから3以下が好ましく、1以下がより好ましい。また、水酸基価は200以下が好ましく、150以下がより好ましい。
前記ポリエステル樹脂(A)は、例えば、前記の原料を、必要に応じてエステル化触媒の存在下で、例えば、180〜250℃の温度範囲内で10〜25時間、エステル化反応させることにより製造することができる。尚、エステル化反応の温度、時間などの条件は特に限定せず、適宜設定してよい。
前記エステル化触媒としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタン系触媒;ジブチル錫オキサイド等のスズ系触媒;p−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸系触媒などが挙げられる。
前記エステル化触媒の使用量は、適宜設定すればよいが、通常、原料の全量100質量部に対して、0.001〜0.1質量部の範囲で使用することが好ましい。
前記ポリエステル樹脂(A)の数平均分子量(Mn)は、セルロースエステル樹脂への相溶性が良好となることから500〜3,000の範囲が好ましく、500〜1,500の範囲がより好ましい。
ここで、数平均分子量(Mn)はゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定に基づきポリスチレン換算した値である。なお、GPCの測定条件は以下の通りである。
[GPC測定条件]
測定装置:東ソー株式会社製「HLC−8220 GPC」
カラム:東ソー株式会社製ガードカラム「HHR−H」(6.0mmI.D.×4cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)+東ソー株式会社製「TSK−GEL GMHHR−N」(7.8mmI.D.×30cm)
検出器:ELSD(オルテック製「ELSD2000」)
データ処理:東ソー株式会社製「GPC−8020モデルIIデータ解析バージョン4.30」
測定条件:カラム温度 40℃
展開溶媒 テトラヒドロフラン(THF)
流速 1.0ml/分
試料:樹脂固形分換算で1.0質量%のテトラヒドロフラン溶液をマイクロフィルターでろ過したもの(5μl)。
標準試料:前記「GPC−8020モデルIIデータ解析バージョン4.30」の測定マニュアルに準拠して、分子量が既知の下記の単分散ポリスチレンを用いた。
(単分散ポリスチレン)
東ソー株式会社製「A−500」
東ソー株式会社製「A−1000」
東ソー株式会社製「A−2500」
東ソー株式会社製「A−5000」
東ソー株式会社製「F−1」
東ソー株式会社製「F−2」
東ソー株式会社製「F−4」
東ソー株式会社製「F−10」
東ソー株式会社製「F−20」
東ソー株式会社製「F−40」
東ソー株式会社製「F−80」
東ソー株式会社製「F−128」
東ソー株式会社製「F−288」
東ソー株式会社製「F−550」
前記ポリエステル樹脂(A)の性状は、前記数平均分子量(Mn)や組成などにより異なるが、通常、常温にて液体、固体、ペースト状などである。
本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤は、前記ポリエステル樹脂(A)を含有することを特徴とする。本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤はポリエステル樹脂(A)のみからなる改質剤であっても良いし、ポリエステル樹脂(A)以外のポリエステルを含んでいても良い。また、ポリエステル以外の改質剤を含んでいても良いし、ポリエステル樹脂(A)の製造に用いた原料の未反応物を含んでいても良い
本発明の改質剤は、セルロースエステル樹脂と混合する事によりセルロースエステル樹脂組成物とすることができる。この組成物を用いる事により、厚み方向のレターデーション値(Rth)が実用上十分なレベルにまで低下し、耐透湿性に優れ湿度変化に対するRth値の変化も少ない光学フィルムが得られる。
前記セルロースエステル樹脂としては、例えば、綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等から得られるセルロースの有する水酸基の一部又は全部がエステル化されたものなどが例示でき、それらの中でも、綿花リンターから得られるセルロースをエステル化して得られるセルロースエステル樹脂を使用して得られるフィルムは、フィルムの製造装置を構成する金属支持体から剥離しやすく、フィルムの生産効率をより向上できるため、好ましい。
前記セルロースエステル樹脂としては、例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、硝酸セルロース等が挙げられ、前記セルロースエステル光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして使用する場合には、セルロースアセテートを用いることが、機械的物性及び透明性に優れたフィルムを得ることができるので、好ましい。これらセルロースエステル樹脂は、単独でも2種以上を併用してもよい。
前記セルロースアセテートとしては、重合度が250〜400が好ましく、且つ、酢化度が54.0〜62.5質量%が好ましく、58.0〜62.5質量%がより好ましい。前記セルロースアセテートの重合度と酢化度がかかる範囲であれば、優れた機械的物性を有するフィルムを得ることができる。本発明では、所謂セルローストリアセテートを使用することがより好ましい。尚、本発明でいう酢化度とは、セルロースアセテートの全量に対する、該セルロースアセテートをケン化することによって生成する酢酸の質量割合である。
前記セルロースアセテートの具体的な例示としては、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等が挙げられ、中でもセルローストリアセテートが好ましい。
前記セルロースアセテートの数平均分子量(Mn)は、70,000〜300,000の範囲が好ましく、80,000〜200,000の範囲がより好ましい。前記セルロースアセテートの(Mn)がかかる範囲であるならば、優れた機械的物性を有するフィルムを得ることができる。
前記セルロースエステル樹脂組成物中の本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤は、前記セルロースエステル樹脂100質量部に対して、5〜30質量部の範囲が好ましく、5〜15質量部の範囲がより好ましい。前記セルロースエステル樹脂用改質剤をかかる範囲で用いるならば、耐透湿性、低Rthであるセルロースエステル光学フィルムが得られる組成物となる。
次に、セルロースエステル樹脂と、本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤とを含有してなるセルロースエステルフィルムについて説明する。
本発明のセルロースエステルフィルムは、前記セルロースエステル樹脂、前記セルロースエステル樹脂用改質剤、及び必要に応じてその他の各種添加剤等を含有してなるフィルムであり、特に光学用途のセルロースエステル光学フィルムとして好ましく用いることができる。本発明のセルロースエステルフィルムの膜厚は使用される用途により異なるが、一般に10〜200μmの範囲が好ましい。
ここで、本発明のセルロースエステルフィルムは前記セルロースエステル樹脂及び前記セルロースエステル樹脂用改質剤を含むセルロースエステル樹脂組成物を用いても得ることができる。
前記セルロースエステル光学フィルムは、光学異方性あるいは光学等方性等の特性を有していてもよいが、前記光学フィルムを偏光板用保護フィルムに使用する場合には、光の透過を阻害しない光学等方性のフィルムを使用することが好ましい。
前記セルロースエステル光学フィルムは、種々の用途で用いることができる。最も有効な用途としては、例えば、液晶表示装置の光学等方性を必要とする偏光板用保護フィルムがあるが、光学補償機能を必要とする偏光板用保護フィルムの支持体にも使用することができる。
前記セルロースエステル光学フィルムは、種々の表示モードの液晶セルに用いることができ、例えばIPS(イン−プラン スイッチング:In−Plane Switching)、TN(ツイスティッド ネマチック:Twisted Nematic)、VA(バーティカリー アラインド:Vertically Aligned)、OCB(オプティカリー コンペンセートリー ベンド:Optically Compensatory Bend)等が例示でき、特にIPSモードに使用することが好ましい。
また、本発明のセルロースエステル光学フィルムに含有される本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤は、前記セルロースエステル樹脂100質量部に対して、5〜30質量部の範囲が好ましく、5〜15質量部の範囲がより好ましい。前記セルロースエステル樹脂用改質剤をかかる範囲で用いるならば、耐透湿性、低Rthであるセルロースエステル光学フィルムを得ることができる。
前記セルロースエステル光学フィルムは、前記セルロースエステル樹脂、セルロースエステル樹脂用改質剤、及び必要に応じてその他の各種添加剤等を含有してなるセルロースエステル樹脂組成物を、例えば、押出機等で溶融混練し、Tダイ等を用いてフィルム状に成形することにより得ることができる。また、前記セルロースエステル樹脂、セルロースエステル樹脂用改質剤のかわりに、前記セルロースエステル樹脂組成物を用いることもできる。
また、前記セルロースエステル光学フィルムは、前記成形方法の他に、例えば、前記セルロースエステル樹脂と前記セルロースエステル樹脂用改質剤とを有機溶剤中溶解して得られた樹脂溶液を、金属支持体上に流延させ、次いで、前記有機溶剤を留去し乾燥させる、いわゆる溶液流延法(ソルベントキャスト法)で成形することによって得ることができる。
前記溶液流延法によれば、成形途中でのフィルム中における前記セルロースエステル樹脂の配向を抑制することができるため、得られるフィルムは実質的に光学等方性を示す。前記光学等方性を示すフィルムは、例えば液晶ディスプレイなどの光学材料に使用することができ、中でも偏光板用保護フィルムに有用である。また、前記方法によって得られたフィルムは、その表面に凹凸が形成されにくく、表面平滑性に優れる。
前記溶液流延法は、一般に、前記セルロースエステル樹脂と前記セルロースエステル樹脂用改質剤とを有機溶剤中に溶解させ、得られた樹脂溶液を金属支持体上に流延させる第1工程と、流延させた前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤を留去し乾燥させてフィルムを形成する第2工程、それに続く、金属支持体上に形成されたフィルムを金属支持体から剥離し加熱乾燥させる第3工程からなる。
前記第1工程で使用する金属支持体としては、無端ベルト状又はドラム状の金属製のものなどを例示でき、例えば、ステンレス製でその表面が鏡面仕上げの施されたものを使用することができる。
前記金属支持体上に樹脂溶液を流延させる際には、得られるフィルムに異物が混入することを防止するために、フィルターで濾過した樹脂溶液を使用することが好ましい。
前記第2工程の乾燥方法としては、特に限定しないが、例えば30〜50℃の温度範囲の風を前記金属支持体の上面及び/又は下面に当てることで、流延した前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤の50〜80質量%を蒸発させ、前記金属支持体上にフィルムを形成させる方法が挙げられる。
次いで、前記第3工程は、前記第2工程で形成されたフィルムを金属支持体上から剥離し、前記第2工程よりも高い温度条件下で加熱乾燥させる工程である。前記加熱乾燥方法としては、例えば100〜160℃の温度条件にて段階的に温度を上昇させる方法が、良好な寸法安定性を得ることができるため、好ましい。前記温度条件にて加熱乾燥することにより、前記第2工程後のフィルム中に残存する有機溶剤をほぼ完全に除去することができる。
尚、前記第1工程〜第3工程で、有機溶媒は回収し再使用することも可能である。
前記セルロースエステル樹脂と前記セルロースエステル樹脂用改質剤を有機溶剤に混合させ溶解する際に使用できる有機溶剤としては、それらを溶解可能なものであれば特に限定しないが、例えばセルロースエステルとしてセルロースアセテートを使用する場合は、良溶媒として、例えばメチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類を使用することが好ましい。
また、前記良溶媒と共に、例えばメタノール、エタノール、2−プロパノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等の貧溶媒を併用することが、フィルムの生産効率を向上させるうえで好ましい。
前記良溶媒と貧溶媒との混合割合は、質量比で良溶媒/貧溶媒=75/25〜95/5の範囲が好ましい。
前記樹脂溶液中のセルロースエステル樹脂の濃度は、10〜50質量%が好ましく、15〜35質量%がより好ましい。
前記セルロースエステル光学フィルムには、本発明の目的を損なわない範囲内で、各種添加剤を使用することができる。
前記添加剤としては、例えば、本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤以外のその他の改質剤、熱可塑性樹脂、紫外線吸収剤、マット剤、劣化防止剤(例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤等)、染料などが挙げられる。これら添加剤は、前記有機溶剤中に前記セルロースエステル樹脂及び前記セルロースエステル樹脂用改質剤を溶解させ混合する際に併せて使用することができ、また、別個に添加し用いてもよく、特に限定しない。
前記セルロースエステル樹脂用改質剤以外のその他の改質剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート(TPP)、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート等のリン酸エステル、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート等のフタル酸エステル、エチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリメチロールプロパントリベンゾエート、ペンタエリスリトールテトラアセテート、アセチルクエン酸トリブチル等が挙げられる。
前記熱可塑性樹脂としては、特に限定しないが、例えば、本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤以外のポリエステル樹脂、ポリエステルエーテル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等が挙げられる。
前記紫外線吸収剤としては、特に限定しないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられる。前記紫外線吸収剤は、前記セルロースエステル樹脂100質量部に対して、0.01〜2質量部の範囲が好ましい。
前記マット剤としては、例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、リン酸カルシウム、カオリン、タルク等が挙げられる。前記マット剤は、前記セルロースエステル樹脂100質量部に対して、0.1〜0.3質量部の範囲が好ましい。
前記染料としては、本発明の目的を阻害しない範囲であれば、種類や配合量など特に限定しない。
本発明のセルロースエステル光学フィルムは、耐透湿性、透明性に優れ、且つ厚み方向の光学異方性が充分に小さいことから、例えば、液晶表示装置の光学フィルムに使用できる。前記液晶表示装置の光学フィルムとしては、例えば、偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、反射フィルム、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルム、カラーフィルター等が挙げられ、それらの中でも、偏光板用保護フィルムとして好ましく使用する事ができる。
前記セルロースエステル光学フィルムの膜厚は、20〜120μmの範囲が好ましく、25〜100μmの範囲がより好ましく、25〜80μmの範囲が特に好ましい。前記光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いる場合には、膜厚が25〜80μmの範囲であれば、液晶表示装置の薄型化を図る際に好適であり、且つ充分なフィルム強度、Rth安定性、耐透湿性などの優れた性能を維持することができる。
特に、本発明のセルロースエステル光学フィルムは、5〜−15nmという非常に小さいレベルのレターデーション値(Rth)を有する。具体的には、本発明のセルロースエステル光学フィルムを25℃で相対湿度が20%の環境下に12時間静置し、その後、波長590nmにおけるRth値を測定した時に、Rth値が5〜−15nmである光学フィルムとなる。ここで、Rth値の測定には王子計測器(株)製の複屈折測定装置「KOBRA−WR」を使用する事ができる。その為、光学等方性に優れる材料として極めて有用である。
ここで、本発明のセルロースエステル光学フィルムの特徴の一つとして、前記の通り、湿度変化に対するRth値(ΔRth値)の変化が少ないという効果も奏する。具体的には、本発明のセルロースエステル光学フィルムは、25℃で相対湿度が35%の環境下に12時間静置し、波長590nmにおけるRth値を測定後、該光学フィルムを25℃で相対湿度が85%の環境下に12時間静置し、波長590nmにおけるRth値を測定した時に、Rthの差の絶対値(ΔRth値)が4〜10となるフィルムである。
よって、本発明のセルロースエステル光学フィルムの好ましい一形態は、25℃で相対湿度が20%の環境下に12時間静置し、その後、波長590nmにおけるRth値を測定した時に、Rth値が5〜−15nmであり、且つ、25℃で相対湿度が35%の環境下に12時間静置し、波長590nmにおけるRth値を測定後、該光学フィルムを25℃で相対湿度が85%の環境下に12時間静置し、波長590nmにおけるRth値を測定した時に、Rthの差の絶対値(ΔRth値)が4〜10となるセルロースエステル光学フィルムである。
また、前記偏光板用保護フィルムは、高温多湿下でのブリードを生ずることなく、所望のRthに調整することが可能であることから、用途に応じて様々な液晶表示方式に広範囲に使用することができる。
前記セルロースエステル光学フィルム及び前記偏光板用保護フィルムは、耐透湿性に優れ、且つ非常に小さいレベルのRthを有し光学異方性が小さいことから、例えば、液晶表示装置の光学フィルムやハロゲン化銀写真感光材料の支持体等に使用できる。前記光学フィルムとは、特に限定しないが、例えば、偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、反射板、視野角向上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルム、帯電防止フィルム、カラーフィルター等が挙げられる。前記セルロースエステル光学フィルムのうち、前記したような優れた特性に加えて、低Rthを有するフィルムは、光学等方性が必要とされる偏光板用保護フィルム及び視野角補償機能を有する偏光板用保護フィルムの支持体として使用できる。
以下、本発明を実施例に基づき更に具体的に説明する。例中の部及び%は断りがない限り質量基準である。
実施例1(本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてエチレングリコール(以下「EG」と略す。)179g、1,2−プロピレングリコール(以下「PG」と略す)219g、ジカルボン酸成分として1,2−ジカルボキシシクロヘキサン(以下「HHPA」と略す。)700g、及び触媒であるテトライソプロピルチタネート(以下「TIPT」と略す。)0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させ、一般式(1)で表される構造を有するポリエステル樹脂〔本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤(1)〕を得た。得られた改質剤(1)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.57、水酸基価112.2であり、数平均分子量は980であった。
実施例2(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 173g、PG 213g、ジカルボン酸成分としてHHPA 348g、コハク酸(以下「SA」略す。)267g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させ、一般式(1)で表される構造を有するポリエステル樹脂〔本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤(2)〕を得た。得られた改質剤(2)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.40、水酸基価112.6であり、数平均分子量は1210であった。
実施例3(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 134g、PG 166g、1価アルコール成分としてn−ブタノール207g、ジカルボン酸成分としてHHPA 403g、SA 309g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で30時間反応させ、一般式(1)で表される構造を有するポリエステル樹脂〔本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤(3)〕を得た。得られた改質剤(3)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.40、水酸基価2.6であり、数平均分子量は980であった。
実施例4(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 173g、PG 213g、ジカルボン酸成分としてHHPA 348g、SA 267g及び触媒としてTIPT0.03部を仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させた。反応後、得られたポリエステルポリオールに無水酢酸195gを仕込み、130℃で2時間反応させた。反応後、酢酸および過剰の無水酢酸を減圧によって留去し、一般式(1)で表される構造を有するポリエステル樹脂〔本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤(4)〕を得た。得られた改質剤(4)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.40、水酸基価0.5であり、数平均分子量は1200であった。
実施例5(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 202g、PG 247g、ジカルボン酸成分として1,2−ジカルボキシ−4−シクロヘキセン(以下「THPA」と略す。)399g、SA 310g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させ、一般式(2)で表される構造を有するポリエステル樹脂〔本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤(5)〕を得た。得られた改質剤(5)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.58、水酸基価118.0であり、数平均分子量は1140であった。
実施例6(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 217g、1価アルコール成分としてn−ブタノール163g、ジカルボン酸成分としてHHPA 208g、SA 372g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で30時間反応させ、一般式(1)で表される構造を有するポリエステル樹脂〔本発明のセルロースエステル樹脂用改質剤(6)〕を得た。得られた改質剤(6)は、常温でペースト状であり、酸価が0.43、水酸基価5.4であり、数平均分子量は810であった。
実施例7(本発明のセルロースエステルフィルム)
トリアセチルセルロース樹脂(株式会社ダイセル製「LT−35」)100部、セルロースエステル樹脂用改質剤(1)10部を、メチレンクロライド810部及びメタノール90部からなる混合溶剤に加えて溶解し、ドープ液を調製した。このドープ液をガラス板上に厚さ0.8mmとなるように流延し、室温で16時間乾燥させた後、50℃で30分、さらに120℃で30分乾燥させることで、本発明のセルロースエステルフィルム(1)を得た。得られたフィルム(1)の膜厚は60μmであった。
得られたセルロースエステルフィルム(1)のRth、湿度変化によるRthの変化量(ΔRth)及び透湿度を下記方法に従って測定した。測定結果を第1表に示す。
<Rthの測定方法>
セルロースエステルフィルム(1)を25℃で相対湿度が20%の環境下に12時間静置した。その後、複屈折測定装置(KOBRA−WR,王子計測器(株)製)を用いて波長590nmにおけるRth値を測定した。
<湿度変化によるRthの変化量(ΔRth)の測定方法>
まず、セルロースエステルフィルム(1)を25℃で相対湿度が35%の環境下に12時間静置し、その後、複屈折測定装置(KOBRA−WR,王子計測器(株)製)を用いて波長590nmにおけるRth値を測定した。測定後、25℃で相対湿度が85%の環境下に12時間静置し、上記装置を用いてRth値を測定した。測定して得られたRthの差の絶対値を求め、これをΔRthとした。
<透湿度の測定方法>
JIS Z 0208に準じて、セルロースエステルフィルム(1)の透湿度を測定し、60μmの厚さに換算した。なお、測定条件は、温度40℃、相対湿度90%とした。
実施例8〜17(同上)
第1表に示す配合割合以外は実施例7と同様にしてセルロースエステルフィルム(2)〜セルロースエステルフィルム(11)を得た。実施例7と同様にして得られたセルロースエステルフィルム(2)〜(11)のRth、湿度変化によるRthの変化量(ΔRth)及び透湿度を測定した。測定結果を第1表に示す。
比較例1(比較対照用セルロースエステル樹脂用改質剤)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 341g、ジカルボン酸成分としてアジピン酸(以下「AA」と略す。)659g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させ、比較対照用のセルロースエステル樹脂用改質剤(1´)を得た。得られた改質剤(1´)は、常温で白色ワックス状固体であり、酸価が0.19、水酸基価112.2であり、数平均分子量は1410であった。
比較例2(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 186g、PG 222g、ジカルボン酸成分としてSA 592g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させ、比較対照用のセルロースエステル樹脂用改質剤(2´)を得た。得られた改質剤(2´)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.20、水酸基価113.0であり、数平均分子量は1120であった。
比較例3(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 119g、PG 146g、1価アルコール成分としてn−ブタノール182g、ジカルボン酸成分としてSA 545g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で30時間反応させ、比較対照用のセルロースエステル樹脂用改質剤(3´)を得た。得られた改質剤(3´)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.28、水酸基価2.6であり、数平均分子量は980であった。
比較例4(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 150g、PG 183g、ジカルボン酸成分として1,4−シクロヘキサンジカルボン酸667g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させ比較対照用のセルロースエステル樹脂用改質剤(4´)を得た。得られた改質剤(4´)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.32、水酸基価99.7であり、数平均分子量は1490であった。
比較例5(同上)
1リットル3つ口フラスコに、グリコール成分としてEG 204g、PG 250g、ジカルボン酸成分としてSA 314g、無水フタル酸393g及び触媒としてTIPT 0.03gを仕込み、窒素導入管より窒素気流下、220℃で24時間反応させ比較対照用のセルロースエステル樹脂用改質剤(5´)を得た。得られた改質剤(5´)は、常温で淡黄色液体であり、酸価が0.29、水酸基価103.8であり、数平均分子量は1190であった。
比較例6〜13(比較対照用セルロースエステルフィルム)
第1表に示す配合割合以外は実施例7と同様にして比較対照用セルロースエステルフィルム(1´)〜比較対照用セルロースエステルフィルム(8´)を得た。実施例6と同様にして得られたセルロースエステルフィルム(1´)〜(8´)のRth、湿度変化によるRthの変化量(ΔRth)及び透湿度を測定した。測定結果を第1表に示す。
Figure 0005532190
第1表の脚注
HHPA:1,2−ジカルボキシシクロヘキサン
SA:コハク酸
THPA:1,2−ジカルボキシシクロヘキセン
AA:アジピン酸
CHDA:1,4−シクロヘキサンジカルボン酸
PA:無水フタル酸
実施例で得られたセルロースエステルフィルムは透湿度が低く,かつ,湿度変化に対するレタデーション変化(ΔRth)が小さい安定な光学フィルムである。一方、比較例によると、耐透湿性と低Rth及びΔRthを全て満足できていない。
試験例1〜5及び比較試験例1〜3
実施例及び比較例で得られたセルロースエステルフィルム(1)、(3)、(6)、(8)、(10)及び比較対照用セルロースエステルフィルム(1´)、(4´)を用いて、下記方法に従って吸湿におけるフィルムの寸法安定性を評価した。評価結果を第2表に示す。
<寸法安定性の評価方法>
湿度に対する寸法安定性の評価は、相対湿度を40%RHから80%%RHに変化させることで発生する膨張率にて評価した。膨張率は、高温高湿度対応湿度制御ユニットを取り付けたTMA−SS6100(セイコーインスツルメンツ社製)を用い、膜厚60μm、幅3mmの試料を引張モードにて荷重50mN、チャック間距離20mmの条件で固定、炉内の試料温度を40℃一定に保ちながら、湿度0%RHの乾燥窒素で40分間乾燥した後、40%RHで40分間加湿、さらに80%RHで40分間加湿し、40%RHから80%RH間の加湿によるチャック間距離の伸びから膨張率を求めた。
Figure 0005532190
実施例で得られたセルロースエステルフィルムは湿度変化に対する膨張率が小さく、寸法が安定な光学フィルムである。

Claims (8)

  1. 下記一般式(1)または一般式(2)
    Figure 0005532190
    (式中Rはそれぞれ、水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。nは1〜10の整数であり、mは1〜8の整数である。)
    で表される構造を有するポリエステル樹脂(A)を含有するセルロースエステル樹脂用改質剤であり、前記ポリエステル樹脂(A)が、1,2−ジカルボキシシクロヘキサンまたは1,2−ジカルボキシ−4−シクロヘキセンを含む二塩基酸と炭素原子数が2〜4の脂肪族の二価のアルコールとを反応させて得られ、酸価が3以下で、水酸基価が200以下で、数平均分子量が500〜3,000であることを特徴とするセルロースエステル樹脂用改質剤。
  2. 前記炭素原子数が2〜4のアルコールがエチレングリコールまたは1,2−プロピレングリコールで、酸価が1以下で、水酸基価が150以下で、数平均分子量が500〜1,500である請求項1記載のセルロースエステル樹脂用改質剤。
  3. 前記二塩基酸が1,2−ジカルボキシシクロヘキサン、1,2−ジカルボキシ−4−シクロヘキセン以外の脂肪族二塩基酸を含む二塩基酸である請求項記載のセルロースエステル樹脂用改質剤。
  4. 前記1,2−ジカルボキシシクロヘキサンまたは1,2−ジカルボキシ−4−シクロヘキセンの含有量が、二塩基酸の合計100質量部に対して5〜100質量部である請求項記載のセルロースエステル樹脂用改質剤。
  5. 前記ポリエステル樹脂(A)が1,2−ジカルボキシシクロヘキサンまたは1,2−ジカルボキシ−4−シクロヘキセンを含む二塩基酸と炭素原子数が2〜4の二価のアルコールとを反応させて樹脂の末端にカルボキシル基を含むポリエステル樹脂を得たのち、該ポリエステル樹脂とモノアルコールとを反応させて得られるものである請求項記載のセルロースエステル樹脂用改質剤。
  6. 前記セルロースエステル樹脂と前記請求項1から5のいずれか1項記載のセルロースエステル樹脂用改質剤とを有機溶剤中に溶解させ、得られた樹脂溶液を金属支持体上に流延させる第1工程と、
    流延させた前記樹脂溶液中に含まれる有機溶剤を留去し乾燥させてフィルムを形成する第2工程と
    金属支持体上に形成されたフィルムを金属支持体から剥離し加熱乾燥させる第3工程からなる溶液流延法により得られる光学フィルムであり、
    セルロースエステル樹脂100質量部に対して、前記セルロースエステル樹脂用改質剤を5〜15質量部用い、
    第2工程が、30〜50℃の温度範囲で行われるものであり、第3工程が100〜160℃で行われるものであることを特徴とするセルロースエステル光学フィルム。
  7. 前記セルロースエステル樹脂がトリアセチルセルロースである請求項6記載のセルロースエステル光学フィルム。
  8. 偏光板用保護フィルム用途である請求項6または7記載の光学フィルム。
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