JP5529069B2 - 電子ビーム露光装置及び露光マスク - Google Patents
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Description
図11(a)〜(c)は、第1の実施形態に係る露光マスク110での電子ビームEBの照射位置の変化量(ジャンプベクトル)の一例を示す図であり、図12は同じく電子ビーム露光装置1の各コラムセル11の動作状態の一例を示す図である。
図14は、第2の実施形態の変形例に係る露光マスク110のCPパターン163の配置を示す図である。
Claims (5)
- 試料の上方に配置され、電子ビームを照射して並列して前記試料の露光を行う複数のコラムセルと、
前記各コラムセルに対応する部分に設けられ、それぞれが相似形状で線幅が異なる複数のパターンが線幅順に並べて配置されたパターン群を有する露光マスクと、
前記各コラムセルに設けられ、前記パターンの線幅の設計値と予め測定して求めた前記パターンの仕上がり寸法とのずれ量に基づいて、露光に用いるパターンを指定されたパターンから前記ずれ量だけ線幅が異なったパターンに変更するパターンデータ処理部と、
前記パターンデータ処理部で選択された前記露光マスク上のパターンに前記電子ビームを偏向するマスク偏向部と、を備え、
前記露光マスクの各パターンは、列方向に長さΔdずつ線幅が増加するとともに、行方向に長さΔd×n(ただし、nは2以上の自然数)ずつ線幅が増加するように並べて配置されていることを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 前記露光マスクの各パターンは、列方向又は行方向に所定の長さずつ線幅が増加することを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記パターンデータ処理部は、前記露光マスクの連続したn行分の領域に含まれるパターンから露光に使用するパターンを選択するとともに、前記パターンの線幅の設計値と予め測定して求めた前記パターンの仕上がり線幅とのずれ量に応じて、前記露光マスクの連続したn行分の領域を前記列方向に移動させることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
- 複数のコラムセルから電子ビームを照射して並列して露光を行う電子ビーム露光装置に使用する露光マスクであって、
薄板状のウェハと、
前記ウェハ上の前記各コラムセルに対応する部分にそれぞれ設けられ、それぞれが相似形状で線幅が異なる複数のパターンが線幅順に並べて配置されたパターン群と、を備え、
前記各パターンは、列方向に長さΔdずつ線幅が増加するとともに、行方向に長さΔd×n(ただし、nは2以上の自然数)ずつ線幅が増加するように並べて配置されていることを特徴とする露光マスク。 - 前記各パターンは、列方向又は行方向に所定の長さずつ線幅が増加することを特徴とすることを特徴とする請求項4に記載の露光マスク。
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