JP5526666B2 - サファイア単結晶の製造装置 - Google Patents

サファイア単結晶の製造装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5526666B2
JP5526666B2 JP2009206949A JP2009206949A JP5526666B2 JP 5526666 B2 JP5526666 B2 JP 5526666B2 JP 2009206949 A JP2009206949 A JP 2009206949A JP 2009206949 A JP2009206949 A JP 2009206949A JP 5526666 B2 JP5526666 B2 JP 5526666B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cylindrical
single crystal
sapphire single
heat insulating
radial direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009206949A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011057482A (ja
Inventor
圭吾 干川
千宏 宮川
太一 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FUJIKOSHI MACHINE INDUSTRY CO.,LTD.
Shinshu University NUC
Original Assignee
FUJIKOSHI MACHINE INDUSTRY CO.,LTD.
Shinshu University NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FUJIKOSHI MACHINE INDUSTRY CO.,LTD., Shinshu University NUC filed Critical FUJIKOSHI MACHINE INDUSTRY CO.,LTD.
Priority to JP2009206949A priority Critical patent/JP5526666B2/ja
Priority to TW099127380A priority patent/TWI531690B/zh
Priority to RU2010136201/05A priority patent/RU2543882C2/ru
Priority to US12/873,617 priority patent/US20110056430A1/en
Priority to CN201010277859.9A priority patent/CN102011173B/zh
Priority to KR1020100087436A priority patent/KR101810682B1/ko
Publication of JP2011057482A publication Critical patent/JP2011057482A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5526666B2 publication Critical patent/JP5526666B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/20Aluminium oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B11/00Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
    • C30B11/003Heating or cooling of the melt or the crystallised material
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T117/00Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
    • Y10T117/10Apparatus
    • Y10T117/1024Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
    • Y10T117/1032Seed pulling
    • Y10T117/1068Seed pulling including heating or cooling details [e.g., shield configuration]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

本発明は、サファイア単結晶の製造装置に関し、さらに詳細には、一方向凝固法によるサファイア単結晶の製造装置に関する。
サファイアは種々の用途に用いられているが、中でもLED製造用のサファイア基板としての用途が重要になってきている。すなわち、サファイア基板上にバッファー層および窒化ガリウム系被膜をエピタキシャルさせることにより、LED発光基板を得ることが主流となってきている。
そのため、サファイアを効率よく安定的に生産できるサファイア単結晶製造装置が求められている。
LED製造用のサファイア基板は、ほとんどがc面方位(0001)の基板である。従来、工業的に採用されているサファイア単結晶の製造方法は、縁端限定成長(EFG)法、カイロポーラス(KP)法、チョクラルスキー(CZ)法等があるが、直径3インチ以上の結晶を得ようとすると種々の結晶欠陥が発生するため、a軸方位成長の単結晶を生産して代替している。a軸成長サファイア結晶からc軸サファイア結晶ブールを加工するためには、結晶を横方向から刳り抜く必要があり、加工が容易でないことに加え、利用できない部分が多く、収率が悪いという課題がある。
酸化物単結晶の製造方法には、いわゆる垂直ブリッジマン法(垂直温度勾配凝固法)も知られている。この垂直ブリッジマン法の場合、生成した単結晶を容易に取り出せるように、薄肉のルツボを用いている。サファイアのような高融点融液からの単結晶を得るためには、薄肉であって且つ高温下で強度的、化学的に耐えられるルツボが必要となり、当該ルツボに関する従来技術が開示されている(特許文献1参照)。
一方、垂直ブリッジマン法による単結晶製造装置に関して、ルツボが配設される結晶育成炉内に、カーボンフェルトを用いた断熱材を設ける従来技術が開示されている(特許文献2参照)。
特開2007−119297号公報 特開平7−277869号公報
特に、垂直ブリッジマン法による単結晶製造装置によって、結晶欠陥の無いサファイア単結晶を得るためには、結晶の育成炉内の温度分布(温度勾配を含む)に可能な限り変化が生じないようにすることが必要となる。すなわち、当該温度分布は断熱部材の形状精度、配置精度によっても大きく影響を受けるものであり、それらの精度が低い程、温度勾配を含む温度分布が変化して、結晶育成の再現性が悪くなる。
ところで、従来から断熱部材の材料として用いられているセラミック(Al)、ジルコニア(ZrO)は、急熱・急冷下によるヒートショックにより割れが生じる課題があり、また、高温下で徐々に分解して、酸素を発生し、カーボン材料が昇華する課題もあり、サファイア単結晶の製造装置の断熱部材の材料としては不向きであった。
その一方で、特許文献2に開示されたカーボンフェルトは軟らかい材料であって、高温下で割れが生じる課題の解決を図り得る反面、耐荷重が低く、荷重をかけると徐々に変形し、大型化しづらいといった課題が生じ得る。また、上記の通り、育成炉内の温度分布が変化することにより結晶育成の再現性が悪くなることを防ぐ観点からも、変形を防止し且つ配置精度を高めることが課題となる。
本発明は、上記事情に鑑みてなされ、育成炉内の温度分布の形成に影響を与える断熱部材の形状精度と配置精度の確保を容易にするサファイア単結晶の製造装置を提供することを目的とする。
一実施形態として、以下に開示するような解決手段により、前記課題を解決する。
開示のサファイア単結晶の製造装置は、ルツボ内に種子結晶および原料を収納し、育成炉内の筒状ヒーター内に該ルツボを配置して筒状ヒーターにより加熱して原料および種子結晶の一部を融解して結晶化させるサファイア単結晶の製造装置において、前記筒状ヒーターを取り囲むように前記育成炉内に断熱部材が配設されてホットゾーンが形成され、前記断熱部材は、上下方向に積層された複数の筒状部材と、該複数の筒状部材の全部もしくは一部の重量を鉛直方向に支える骨組部材とを備え、且つ、該複数の筒状部材を積層する際の径方向の位置決めを行う位置決め手段を有し、前記複数の筒状部材は、カーボンフェルトを成形した部材より成ることを要件とする。
開示のサファイア単結晶の製造装置によれば、育成炉内の温度分布の形成に影響を与える断熱部材の形状精度と配置精度の確保を容易にすることが可能となる。
本発明の実施形態に係るサファイア単結晶の製造装置の例を示す正面断面図(概略図)である。 図1のサファイア単結晶の製造装置の断熱部材(大径の筒状部材)の例を示す概略図である。 図1のサファイア単結晶の製造装置の断熱部材(小径の筒状部材)の例を示す概略図である。 図1のサファイア単結晶の製造装置の骨組部材(リング部)の例を示す概略図である。 図1のサファイア単結晶の製造装置の骨組部材(円筒部)の例を示す概略図である。 図1のサファイア単結晶の製造装置の断熱部材の例を示す正面断面図(概略図)である。 図1のサファイア単結晶の製造装置によるサファイアの結晶化工程およびアニール工程を示す説明図である。
以下本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
図1にサファイア単結晶の製造装置1の正面断面図(概略図)を示す。本実施形態に係るサファイア単結晶の製造装置1は、公知の垂直ブリッジマン法によってサファイア単結晶を製造する育成炉10を備える。その構造を簡単に説明すると、育成炉10は、冷却水が流通される筒状のジャケット12およびベース13によって密閉された空間内に、上下に長い筒状ヒーターが1個ないし複数個配設されて構成される。本実施の形態では1個の円筒ヒーター14を用いている。なお、育成炉10の寸法は、製造する単結晶の大きさによって当然異なるが、一例として、直径0.5[m]、高さ1[m]程度である。
円筒ヒーター14は、本実施の形態ではカーボンヒーターで形成され、制御部(図示せず)を通じて通電制御され、温度調節がなされるようになっている。一例として構成材料の物性値を表1に示す。
円筒ヒーター14の周りには断熱部材16が配置され、断熱部材16によって囲まれてホットゾーン18が形成されている。なお、断熱部材16の詳細については後述する。
円筒ヒーター14への通電量を制御することによって、ホットゾーン18内の上下方向に温度勾配を作ることができる。
Figure 0005526666
図中の符号20はルツボであり、底部にルツボ軸22の先端が連結され、ルツボ軸22の上下動に伴って円筒ヒーター14内で上下動可能になっている。またルツボ20は、ルツボ軸22が軸線周りに回転することによって回転する。
ルツボ軸22は図示しないがボールネジにより上下動され、これによりルツボ20は、上昇速度、下降速度を精密に制御されて上下動可能となっている。
育成炉10内には、図示しないが開口部が2箇所設けられており、不活性ガス、好適にはアルゴンガスが給排され、結晶育成時には、育成炉10内は不活性ガスで満たされる。なお、図示しないが、育成炉10内には、炉内の温度を複数個所で計測する温度計が配設されている。
上記ルツボ20として、ルツボ20の線膨張係数と製造されるサファイア単結晶の成長軸に垂直な方向の線膨張係数との相違に起因する相互応力を、ルツボ20およびサファイア単結晶に全く発生させない、もしくはサファイア単結晶に相互応力による結晶欠陥を発生させずルツボに相互応力による変形を起こさせないような線膨張係数を持つ材料からなるルツボ20を用いると好適である。
あるいはルツボ20として、サファイア融点と常温との2点間における平均線膨張係数が、製造されるサファイア単結晶の成長軸に垂直な方向のサファイア融点と常温との2点間における平均線膨張係数よりも小さい材料からなるルツボ20を用いると好適である。
あるいはまた、ルツボ20として、サファイアの融点(2050[℃])から常温までの間において、平均線膨張係数が、製造されるサファイア単結晶の成長軸に垂直な方向のサファイアの平均線膨張係数よりも常に小さい材料からなるルツボ20を用いると好適である。
上記のような各ルツボ材料として、タングステン、タングステン−モリブデン合金、モリブデンが挙げられる。
特にタングステンは各温度において、線膨張係数がサファイアよりも小さく、したがって、これらの材料からなるルツボを用いることによって、後述するように結晶化過程、アニール処理過程、冷却過程において、収縮率がサファイアよりも小さく、ルツボ20の内壁面とサファイア単結晶の外壁面とが非接触の状態となって、サファイアに応力が加わらず、サファイアのクラック発生を防止できる。
ここで、本実施形態に特徴的な断熱部材16について説明する。
断熱部材16は、少なくとも円筒ヒーター14の径方向の外周を取り囲む位置において筒状形状を有し、且つ、育成炉10内に発生させる所望の温度勾配(図7(E)参照)に対応させて、温度の高い育成炉10内の上部において下部よりも径方向に厚く、温度の低い育成炉10内の下部において上部よりも径方向に薄い形状を有する(図1参照)。
本実施形態においては、図2に示す大径の筒状部材16aと図3に示す小径の筒状部材16bとの両方を径方向に重ね合わせて配設することにより径方向に厚い部分が形成され、いずれか一方(本実施形態においては、大径の筒状部材16a)を単独で配設することにより径方向に薄い部分が形成される(図1参照)。なお、一例として、筒状部材16a、16bは、カーボンフェルトを成形した部材より成り、その物性値を表1に示す。
また、最上部の筒状部材16a、16bの上に円板状部材すなわち円板状(もしくは円柱状)の断熱部材16cが配設される。本実施形態においては、最上部のリング部17aの上に載置しているが、最上部の筒状部材16a、16bの上に直接載置する構造も考えられる。なお、断熱部材16cは複数の円板状部材を積層して形成してもよい。
さらに、底部にも断熱部材16dが配設される。一例として、断熱部材16dは、円板状(もしくは円柱状)であって、ルツボ軸22用貫通孔等を有する。
なお、一例として、筒状部材16a、16b、断熱部材16c、16dは、同一材料(カーボンフェルト)を用いて形成されている。カーボンフェルトの使用が可能となることによって、従来から断熱部材の材料として用いられているセラミック、ジルコニアを使用した場合に高温下で割れが生じるという課題を解決することが可能となる。
以上のように、円筒ヒーター14の周りには断熱部材16が配置され、当該断熱部材16によって囲まれてホットゾーン18が形成される。
上記の構成によれば、ルツボ20内に種子結晶24および原料26を収納し、育成炉10内の円筒ヒーター14内にルツボ20を配置して円筒ヒーター14により加熱して原料26および種子結晶24の一部を融解すると共に、円筒ヒーター14に上が高く下が低い温度勾配を形成することによって融液を順次結晶化させる一方向凝固法によるサファイア単結晶の製造装置1において、結晶育成に最適な所望の温度勾配(図7(E)参照)を育成炉10内に生じさせることが可能となる。加えて、育成炉10内の上下方向において断熱部材16(筒状部材16a、16b)の径方向厚さを適宜設定することで、温度勾配の制御を容易に行うことが可能となる。
ここで、育成炉10が小型の場合等であれば、上記の断熱部材16を一体もしくは二、三分割程度で形成することも不可能ではない。しかし、育成炉10が大型化する程、断熱部材16も大型化せざるを得ないため、断熱部材16を一体で形成することが困難になり、仮に一体形成できても取り扱いが不便となる。さらに、断熱部材16が重くなることにより、設置時、使用時においてその自重によって特に断熱部材16最下部の変形が生じ得る。当該変形は育成炉10内の温度分布(温度勾配を含む)に変化を生じさせて、育成される単結晶に結晶欠陥を生じ得る。
そこで、本実施形態の断熱部材16においては、上下方向に積層された複数の筒状部材16a、16bによって、円筒ヒーター14を取り囲む筒状形状を形成している(図1参照)。さらに、複数の筒状部材16a、16bの全部もしくは一部の重量を鉛直方向に支える(鉛直方向の位置決め作用もなす)と共に当該複数の筒状部材16a、16bの径方向の位置決めを行う骨組部材17を設けている。
より具体的には、図1に示すように、骨組部材17は、筒状部材16a、16b(本実施形態においては、最上部は断熱部材16cとなる)が載置されるリング部17a(図4参照)と、該筒状部材16a、16b(最上部は断熱部材16c)が載置された状態のリング部17aの重量を鉛直方向に支える円筒部17b(図5参照)とを備えて構成される。この骨組部材17(本実施形態においては、リング部17a)は、支柱15によって、育成炉10(本実施形態においては、ベース13)に固定される。一例として、リング部17aおよび円筒部17bは、カーボン材料を成形加工した部材より成り、その物性値を表1に示す。一方、支柱15は、石英を用いて形成される。
なお、図4に示すリング部17aは、一例であって、配設位置に応じて内外径、溝形状等が適当に設定される。
さらに、本実施形態では、筒状部材16a、16bおよび断熱部材16cの下面にリング部17aが隙間無く嵌合可能な溝部(筒状部材16aにおける溝部16ag、筒状部材16aにおける溝部16bg、断熱部材16cにおける溝部16cg)をそれぞれ設けている(筒状部材16aの正面断面図(概略図)である図6(A)、筒状部材16bの正面断面図(概略図)である図6(B)、断熱部材16cの正面断面図(概略図)である図6(C)をそれぞれ参照)。
これによって、当該溝部16ag、16bg、16cgに、対応するリング部17aが嵌合することにより、筒状部材16a、16bおよび断熱部材16cがそれぞれ正確に径方向に位置決めされる効果が生じる。
あるいは、溝部16ag、16bg、16cgを設けると共に、もしくは溝部16ag、16bg、16cg設けることに代えて、円筒部17bの外径と大径の筒状部材16aの内径を一致させ、且つ、円筒部17bの内径と小径の筒状部材16bの外径を一致させることによっても、筒状部材16a、16bを正確に径方向に位置決めすることが可能となる。
以上のように、骨組部材17を備えて、断熱部材16を複数の構成部材(16a、16b、16c、16d)によって形成する構造が実現され、断熱部材16の大型化・重量化に伴う前述の課題の解決が可能となる。
さらに、筒状部材16a、16bはカーボンフェルトからなるため、上下方向に積層された複数の筒状部材16a、16bが変形したり、配置位置にズレが生じたりする恐れがある。特にサファイア単結晶の育成に関しては、育成炉10内の温度勾配の制御が非常に重要であり、当該筒状部材16a、16bの変形あるいは配置位置のズレが僅かに生じるだけで、育成炉10内の温度勾配を含む温度分布が変化して結晶育成の再現性が悪くなり、育成される単結晶に結晶欠陥が生じ得る。
しかし、上記の構成によれば、骨組部材17によって、鉛直方向に作用する重量(積層された断熱部材16の重量)を支えることが可能となるため、断熱部材16(16a、16b、16c、16d)に変形が生じることを防止できる。
さらに、骨組部材17によって、特に筒状部材16a、16bの径方向の位置決めを正確に行うことが可能となり、配置位置のズレが生じることを防止できる。
それらの結果、育成炉10内の温度勾配を含む温度分布に変化が生じることを防止できるため、育成される単結晶に結晶欠陥が生じることを防止でき、高品質の単結晶製造が可能となる。
なお、例えば育成炉10が小型である場合等において、骨組部材17を用いずに、上下方向に積層された筒状部材16a、16bおよび断熱部材16cの径方向の位置決めを行う方法として、前記溝部16ag、16bg、16cgに対応して嵌合可能な突起部(図示せず)を筒状部材16a、16bの上面に設ける構成も考えられる。
続いて図7(A)〜図7(F)により、結晶化工程およびアニール工程を説明する。
ルツボ20内にはサファイアの種子結晶24と原料26が入れられる(図7(A))。
育成炉10の円筒ヒーター14で囲まれたホットゾーンは、サファイアの融点を跨いで、上部側が融点の温度以上、下部側が融点の温度以下の温度となるように温度制御されている(図7(F))。
サファイアの種子結晶24と原料26が入れられたルツボ20は、ホットゾーンを下部から上部側へと上昇させられ、原料26が融解し、種子結晶24の上部が融解した段階で上昇を停止され(図7(B))、次いでゆっくりと所要の下降速度で下降される(図7(C))。これにより種子結晶24の結晶面に沿って融液が徐々に結晶、析出する(図7(C)、(D))。
種子結晶24はc面が水平になるようにルツボ20中に配置され、融液はこのc面に沿って、すなわちc軸方向に成長する。
ルツボ20に前述の材料、特にタングステンを用いることによって、結晶化工程、および後述するアニール工程、および冷却工程において、ルツボ20の内壁面とサファイア単結晶の外壁面とが非接触の状態となる効果が得られる。これにより、サファイアに外部応力が加わらず、サファイアにクラックが発生するのを防止できる。また、結晶を取り出す際にも結晶とルツボ20内壁面との間に応力が加わってないため、結晶を取り出すことも支障なく行えると共に、ルツボ20も変形することなく繰り返し使用することができる。
本実施の形態では、結晶化後、同じ育成炉10内で、円筒ヒーター14への出力を低下させて円筒ヒーター14内を所要温度(例えば1800[℃])にまで低下させると共に、ルツボ20を円筒ヒーター14中間部の他の部位よりも温度勾配の少ない均熱ゾーン28(図7(F))にまで上昇させて(図7(E))、この均熱ゾーン28に所要時間(例えば1時間)にわたって位置させて、そのままルツボ20内でサファイア単結晶のアニール処理を行う工程としている。
上記のように、結晶化後、同じ育成炉10内においてそのままルツボ20内でアニール処理を行うことによって、アニール処理を手早く効率よく行うことができ、結晶内部の熱応力を除去して結晶欠陥の少ない高品質なサファイア単結晶を得ることができる。また、結晶化とアニール処理とを同じ育成炉10内においてルツボ20内で連続的に行うので、所望の結晶の生産効率がよく、エネルギーの無駄を省くことができる。なお、上記アニール処理は、成長結晶の残留応力を除去する有効な手段であるが、残留応力が少ない成長結晶の場合は必ずしも必要ではない。
なお、上記では垂直ブリッジマン法で説明したが、垂直温度勾配凝固法(VGF法)の、垂直ブリッジマン法と同じ一方向凝固法によって結晶化、アニール処理を行ってサファイア結晶を得るようにすることもできる。この垂直温度勾配凝固法の場合にあっても、アニール処理の際は、ルツボを円筒ヒーター内で上昇させて、円筒ヒーターの均熱ゾーン内に位置させてアニール処理を行うのである。
また、結晶の成長軸は、上記実施の形態ではc軸としたが、a軸を成長軸としてもよく、またr面に垂直な方向を成長軸としてもよい。
以上、説明した通り、開示のサファイア単結晶の製造装置によれば、従来のセラミック、ジルコニアに代えて、カーボンフェルトを用いた断熱部材による育成炉内の断熱構造を実現している。
また、複数の構成部材の積層構造等によって、断熱部材の大型化・重量化の課題解決を図りつつ、上下方向における断熱部材の径方向厚さを変化させて、結晶育成に最適な温度勾配を生じさせ、さらに、変形防止・ズレ防止を図ることによって、育成炉内の温度分布の形成に影響を与える断熱部材の形状精度と配置精度を確保している。
それらの結果、結晶欠陥が生じることを防止して高品質のサファイア単結晶を製造することを可能としている。
なお、本発明は、以上説明した実施例に限定されることなく、本発明を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。特に、本製造装置は、サファイア単結晶の製造に好適であるが、他の単結晶の製造にも適用できることはもちろんである。
1 サファイア単結晶の製造装置
10 育成炉
12 ジャケット
13 ベース
14 円筒ヒーター
16 断熱部材
17 骨組部材
18 ホットゾーン
20 ルツボ
22 ルツボ軸
24 種子結晶
26 原料
28 均熱ゾーン

Claims (5)

  1. ルツボ内に種子結晶および原料を収納し、育成炉内の筒状ヒーター内に該ルツボを配置して筒状ヒーターにより加熱して原料および種子結晶の一部を融解して結晶化させるサファイア単結晶の製造装置において、
    前記筒状ヒーターを取り囲むように前記育成炉内に断熱部材が配設されてホットゾーンが形成され、
    前記断熱部材は、上下方向に積層された複数の筒状部材と、該複数の筒状部材の全部もしくは一部の重量を鉛直方向に支える骨組部材とを備え、且つ、該複数の筒状部材を積層する際の径方向の位置決めを行う位置決め手段を有し、
    前記複数の筒状部材は、カーボンフェルトを成形した部材より成ること
    を特徴とするサファイア単結晶の製造装置。
  2. 前記製造装置は、筒状ヒーターに上が高く下が低い温度勾配を形成することによって融液を順次結晶化させる一方向凝固法によるサファイア単結晶の製造装置であって、
    前記断熱部材は、少なくとも前記筒状ヒーターの径方向の外周を取り囲む位置において筒状形状を有し、且つ、前記温度勾配に対応させて、温度の高い前記育成炉内の上部において下部よりも径方向に厚く、温度の低い下部において上部よりも径方向に薄い形状を有すること
    を特徴とする請求項1記載のサファイア単結晶の製造装置。
  3. 前記育成炉内の上部において径方向に厚く、下部において径方向に薄い形状を有する前記断熱部材は、
    大径の前記筒状部材と小径の前記筒状部材との両方を径方向に重ね合わせて配設することにより径方向に厚い形状が形成され、いずれか一方を単独で配設することにより径方向に薄い形状が形成されること
    を特徴とする請求項2記載のサファイア単結晶の製造装置。
  4. 前記骨組部材は、前記筒状部材が載置されるリング部と、該筒状部材が載置された該リング部の重量を鉛直方向に支える円筒部とを備え、
    前記リング部および前記円筒部は、カーボン材料を成形加工した部材より成ること
    を特徴とする請求項1〜3のいずれか一項記載のサファイア単結晶の製造装置。
  5. 前記断熱部材は、最上部の前記筒状部材の上に直接もしくは前記骨組部材を介して配設される円板状部材を備え、
    前記円板状部材は、カーボンフェルトを用いて形成されていること
    を特徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載のサファイア単結晶の製造装置。
JP2009206949A 2009-09-08 2009-09-08 サファイア単結晶の製造装置 Active JP5526666B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009206949A JP5526666B2 (ja) 2009-09-08 2009-09-08 サファイア単結晶の製造装置
TW099127380A TWI531690B (zh) 2009-09-08 2010-08-17 藍寶石單結晶之製造裝置
RU2010136201/05A RU2543882C2 (ru) 2009-09-08 2010-08-27 Устройство для выращивания монокристалла сапфира
US12/873,617 US20110056430A1 (en) 2009-09-08 2010-09-01 Equipment for growing sapphire single crystal
CN201010277859.9A CN102011173B (zh) 2009-09-08 2010-09-07 蓝宝石单晶生长设备
KR1020100087436A KR101810682B1 (ko) 2009-09-08 2010-09-07 사파이어 단결정의 성장 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009206949A JP5526666B2 (ja) 2009-09-08 2009-09-08 サファイア単結晶の製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011057482A JP2011057482A (ja) 2011-03-24
JP5526666B2 true JP5526666B2 (ja) 2014-06-18

Family

ID=43646681

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009206949A Active JP5526666B2 (ja) 2009-09-08 2009-09-08 サファイア単結晶の製造装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20110056430A1 (ja)
JP (1) JP5526666B2 (ja)
KR (1) KR101810682B1 (ja)
CN (1) CN102011173B (ja)
RU (1) RU2543882C2 (ja)
TW (1) TWI531690B (ja)

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102212871A (zh) * 2011-05-23 2011-10-12 无锡斯达新能源科技有限公司 蓝宝石晶体的生长方法及蓝宝石晶体生长用的长晶炉结构
CN102268731A (zh) * 2011-07-12 2011-12-07 协鑫光电科技(张家港)有限公司 用于晶体生长的温场***
JP2013018678A (ja) * 2011-07-12 2013-01-31 Shinshu Univ 結晶育成用るつぼ及び結晶の育成方法
KR101382968B1 (ko) * 2012-05-08 2014-04-09 에이트 세라믹스 주식회사 사파이어 잉곳 제조기 및 그 제조 방법
CN102912430B (zh) * 2012-11-15 2015-04-08 江苏中电振华晶体技术有限公司 一种蓝宝石晶体生长设备及生长方法
KR101467688B1 (ko) * 2013-07-08 2014-12-01 주식회사 엘지실트론 단결정 잉곳 제조장치
CN103352247B (zh) * 2013-07-17 2016-06-29 江苏国晶光电科技有限公司 一种应用于泡生法蓝宝石单晶生长的轴向温度梯度可调的保温结构
CN103741211B (zh) * 2013-12-19 2016-08-31 镇江环太硅科技有限公司 长晶炉及长晶炉均匀散热的控制方法
CN103710752A (zh) * 2014-01-07 2014-04-09 镇江和和蓝晶科技有限公司 用于导模法生长大直径管状蓝宝石的模具
CN103710753A (zh) * 2014-01-07 2014-04-09 镇江和和蓝晶科技有限公司 用于导模法同时生长多根粗棒状蓝宝石的模具
CN104613760A (zh) * 2014-12-30 2015-05-13 朱兴发 电磁感应矿渣熔炉用大直径圆环叠装式高纯石墨坩埚
CN105088332A (zh) * 2015-09-02 2015-11-25 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 生长大尺寸蓝宝石的单晶炉改进结构
JP5961824B1 (ja) * 2015-09-14 2016-08-02 並木精密宝石株式会社 Efg法用育成炉の断熱構造
JP2018048043A (ja) * 2016-09-21 2018-03-29 国立大学法人信州大学 タンタル酸リチウム結晶の製造装置およびタンタル酸リチウム結晶の製造方法
KR101768205B1 (ko) * 2016-10-05 2017-08-16 송철현 사파이어 성장 장치용 외곽 단열재 구조
KR101886187B1 (ko) 2017-02-27 2018-08-07 주식회사 사파이어테크놀로지 사파이어 단결정 성장용 도가니 및 이를 구비한 성장장치
KR101886188B1 (ko) 2017-02-27 2018-08-07 주식회사 사파이어테크놀로지 사파이어 단결정 성장장치
CN108018603B (zh) * 2017-11-30 2020-07-24 南京晶升能源设备有限公司 一种蓝宝石长晶炉的发热体及长晶炉
KR20190074640A (ko) 2017-12-20 2019-06-28 주식회사 에스티씨 사파이어 단결정 성장장치
KR20200046468A (ko) 2018-10-24 2020-05-07 주식회사 에스티씨 사파이어 단결정 성장장치용 도가니
KR20200046467A (ko) 2018-10-24 2020-05-07 주식회사 에스티씨 사파이어 단결정 성장장치 및 성장방법

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3608050A (en) * 1969-09-12 1971-09-21 Union Carbide Corp Production of single crystal sapphire by carefully controlled cooling from a melt of alumina
CA1160545A (en) * 1980-01-30 1984-01-17 Constantine Vishnevsky Method of casting single crystal metal article
JPS5954688A (ja) * 1982-09-17 1984-03-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd 単結晶の育成方法
US4904336A (en) * 1987-04-28 1990-02-27 The Furukawa Electric Co., Ltd. Method of manufacturing a single crystal of compound semiconductor and apparatus for the same
JP2985040B2 (ja) * 1994-04-15 1999-11-29 昭和電工株式会社 単結晶製造装置及び製造方法
US5698029A (en) * 1995-06-06 1997-12-16 Kabushiki Kaisha Kobe Sekio Sho Vertical furnace for the growth of single crystals
JP3531333B2 (ja) * 1996-02-14 2004-05-31 信越半導体株式会社 チョクラルスキー法による結晶製造装置、結晶製造方法、およびこの方法から製造される結晶
DK0867412T3 (da) * 1997-03-27 2001-06-18 Cit Alcatel Termisk isolation til en ovn til trækning af optiske fibre
DE19912484A1 (de) * 1999-03-19 2000-09-28 Freiberger Compound Mat Gmbh Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen
JP2005001934A (ja) * 2003-06-11 2005-01-06 Daiichi Kiden:Kk サファイア単結晶引上成長装置
DE102004058547B4 (de) * 2004-12-03 2007-10-25 Schott Ag Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung von Einkristallen mit großem Durchmesser
RU2344205C2 (ru) * 2005-07-21 2009-01-20 Институт кристаллографии им. А.В. Шубникова Российской академии наук Установка для выращивания монокристаллов тугоплавких оксидов
US7381266B1 (en) * 2006-12-27 2008-06-03 Yu-Feng Chang Sapphire crystal growth method
JP2008266078A (ja) * 2007-04-23 2008-11-06 Shin Etsu Chem Co Ltd サファイア単結晶の製造方法
CN101323978B (zh) * 2008-07-29 2011-03-23 成都东骏激光股份有限公司 大尺寸蓝宝石晶体制备工艺及其生长装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011057482A (ja) 2011-03-24
TW201109482A (en) 2011-03-16
CN102011173A (zh) 2011-04-13
TWI531690B (zh) 2016-05-01
RU2543882C2 (ru) 2015-03-10
US20110056430A1 (en) 2011-03-10
RU2010136201A (ru) 2012-03-10
CN102011173B (zh) 2015-07-08
KR20110027593A (ko) 2011-03-16
KR101810682B1 (ko) 2017-12-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5526666B2 (ja) サファイア単結晶の製造装置
JP5633732B2 (ja) サファイア単結晶の製造方法およびサファイア単結晶の製造装置
JP5564995B2 (ja) サファイア単結晶の製造装置
JP5434801B2 (ja) SiC単結晶の製造方法
JP4830312B2 (ja) 化合物半導体単結晶とその製造方法
JP2008031019A (ja) サファイア単結晶の製造方法
US20150093231A1 (en) Advanced crucible support and thermal distribution management
CN102212871A (zh) 蓝宝石晶体的生长方法及蓝宝石晶体生长用的长晶炉结构
JP4899608B2 (ja) 半導体単結晶の製造装置及び製造方法
JP7155968B2 (ja) 単結晶育成用ルツボ及び単結晶製造方法
JP2010248003A (ja) SiC単結晶の製造方法
JP2016222471A (ja) 単結晶の製造方法
JP2013256424A (ja) サファイア単結晶育成装置
JP2014156373A (ja) サファイア単結晶の製造装置
KR102443802B1 (ko) 반도체 링 제조장치 및 그를 이용한 반도체 링 제조방법
KR20190075411A (ko) 리니지 결함을 제거할 수 있는 도가니부재, 이를 이용한 고품질 사파이어 단결정 성장장치 및 그 방법
JP4549111B2 (ja) GaAs多結晶の製造炉
JP2016132599A (ja) サファイア単結晶製造装置、及びサファイア単結晶の製造方法
JP2017193469A (ja) アフターヒータ及びサファイア単結晶製造装置
JP2008260663A (ja) 酸化物単結晶の育成方法
JP6457549B2 (ja) 材料結晶化のためのハイブリッドるつぼ
JP2016169112A (ja) サファイア単結晶の製造方法
JP2005213113A (ja) 酸化物単結晶の育成装置
KR20120052435A (ko) 단결정 성장장치

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120831

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20120831

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130620

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130702

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130828

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140304

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140331

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5526666

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250