JP5503589B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 112
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 72
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 36
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 34
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 24
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 21
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 19
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- -1 BaLiF 3 Substances 0.000 description 1
- 208000025174 PANDAS Diseases 0.000 description 1
- 208000021155 Paediatric autoimmune neuropsychiatric disorders associated with streptococcal infection Diseases 0.000 description 1
- 240000000220 Panda oleosa Species 0.000 description 1
- 235000016496 Panda oleosa Nutrition 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004855 decalinyl group Chemical group C1(CCCC2CCCCC12)* 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N trans-decalin Chemical class C1CCC[C@@H]2CCCC[C@H]21 NNBZCPXTIHJBJL-MGCOHNPYSA-N 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/42—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera for automatic sequential copying of the same original
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/52—Details
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70325—Resolution enhancement techniques not otherwise provided for, e.g. darkfield imaging, interfering beams, spatial frequency multiplication, nearfield lenses or solid immersion lenses
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Description
−放射ビームB(例えば紫外線またはDUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持するように構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されたサポート構造(例えば、サポート構造)MTと、
−基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PLと、を備える。
1.ステップモードにおいては、サポート構造MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光時に結像されるターゲット部分Cのサイズが限定される。
2.スキャンモードにおいては、サポート構造MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光時のターゲット部分の幅(非スキャン方向)が限定される一方、スキャン動作の長さによって、ターゲット部分の高さ(スキャン方向)が決まる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
1.パターニングデバイスから基板上へパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置であって、
使用中、約100nm未満の距離だけ前記基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである最終要素を有する投影システムと、
前記最終要素の前記内側部分の位置および/または向きを制御するように構成されたアクチュエータシステムと、
を備える、装置。
2.前記外側部分に対向する前記内側部分の表面および前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は、共に、実質的に球面状であり、かつ共通の中心を有し、前記アクチュエータシステムは、前記最終要素の前記内側部分を前記共通の中心の周りを回転させるように構成される、1項に記載の装置。
3.前記外側部分に対向する前記内側部分の表面は第1の曲率半径を有し、前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は第2の曲率半径を有し、前記第1の曲率半径は前記第2の曲率半径よりも大きい、1項に記載の装置。
4.前記第1の曲率半径は、実質的に無限である、3項に記載の装置。
5.前記最終要素の前記内側部分と前記外側部分との間にギャップが画定され、前記ギャップに流体を供給するように構成された流体供給システムをさらに備える、先行する項のいずれかに記載の装置。
6.前記流体供給システムは、液体を前記ギャップに供給するように構成される、5項に記載の装置。
7.前記液体は、約1.4より大きい、約1.45より大きい、約1.5より大きい、約1.55より大きい、約1.68より大きい、または、約2.0より大きい、屈折率を有する、6項に記載の装置。
8.前記内側部分は第1屈折率n1を有し、前記液体は第2屈折率n2を有し、その他の部分は第3屈折率n3を有し、ここで、n2>n1およびn2>n3である、6または7項に記載の装置。
9.前記最終要素と前記基板との間の距離を検出するように構成されたセンサシステムをさらに備える、先行する項のいずれかに記載の装置。
10.前記センサシステムは、基準に対する前記基板上の複数の点の位置を測定するように構成された複数の光センサを備える、9項に記載の装置。
11.前記光センサは、前記投影システムの投影フィールドの外側にある、前記基板の複数の点のそれぞれの位置を測定するように構成される、10項に記載の装置。
12.前記光センサは、前記投影システムの投影フィールド内にある、前記基板上の複数の場所のそれぞれの位置を測定するように構成される、10または11項に記載の装置。
13.前記光センサは、前記最終要素の前記内側および前記外側部分を介して前記基板上に放射ビームを誘導するように構成される、12項に記載の装置。
14.放射ビームを前記最終要素の前記内側部分の側面内へと誘導し、前記基板に対向する前記最終要素の前記内側部分の表面上で前記放射ビームを内部反射させるように構成される、9〜12項のいずれかに記載の装置。
15.前記基板に対向する前記最終要素の前記内側部分の表面は、コーティングを有し、前記コーティングは負の屈折率を有する材料で形成される、14項に記載の装置。
16.前記基板に対向する前記最終要素の前記内側部分の表面は、当該表面上に形成された回折格子を有する、14または15項に記載の装置。
17.前記アクチュエータシステムは、前記投影システムの光軸に沿った位置および前記光軸に垂直な軸周りの回転から成る群から選択される少なくとも1つの自由度で、前記最終要素の前記内側部分を制御するように構成される、先行する項のいずれかに記載の装置。
18.前記アクチュエータシステムは、前記投影システムの光軸に沿った前記最終要素の前記内側部分の前記位置および前記光軸に垂直な2つの直交軸周りの前記最終要素の前記内側部分の回転を制御するように構成される、先行する項のいずれかに記載の装置。
19.前記最終要素の出射面から前記投影システム内へと後方反射した放射を検出するように構成される後方散乱検出システムをさらに備える、先行する項のいずれかに記載の装置。
20.前記後方散乱検出システムは、前記最終要素の前記出射面上の3つの離れた位置から反射された放射のそれぞれの強度を検出するように構成される、19項に記載の装置。
21.前記基板をクリーニングするように構成されたクリーニングデバイスをさらに備える、先行する項のいずれかに記載の装置。
22.前記基板上に像を投影している間に前記投影システムに対して前記基板を走査するように構成された位置決めデバイスをさらに備え、前記クリーニングデバイスは、前記基板の領域を、前記領域が投影システムの下で走査される前にクリーニングするように構成される、21項に記載の装置。
23.前記クリーニングデバイスは、前記基板を水で洗浄するように構成される、21または22項に記載の装置。
24.前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出するように構成された粒子ディテクタをさらに備える、先行する項のいずれかに記載の装置。
25.前記粒子ディテクタは、前記基板をクリーニングするように構成されたクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされ、かつ、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされた前記基板および前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出するように構成される、24項に記載の装置。
26.前記アクチュエータシステムは、前記粒子検出器に応答し、粒子が検出された場合には、前記最終要素を前記基板から離れるように移動するように構成される、24または25項に記載の装置
27.前記距離は、前記基板上に前記パターンを投影する投影ビームの波長未満である、先行する項のいずれかに記載の装置。
28.前記波長は約193nmである、27項に記載の装置。
29.放射のパターン付きビームを、前記パターン付きビーム投影する最終要素を有する投影システムを使って基板上に投影することであって、前記最終要素は約100nm未満の距離だけ前記基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである、投影することと、
前記投影中、アクチュエータシステムを使って前記最終要素の前記内側部分の位置および/または向きを制御することと、
を含む、デバイス製造方法。
Claims (14)
- パターニングデバイスから基板上へパターンを投影するリソグラフィ投影装置であって、
使用中、約100nm未満の距離だけ前記基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである最終要素を有する投影システムと、
前記最終要素の前記内側部分の位置および/または向きを制御するアクチュエータシステムと、
前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する粒子ディテクタと、
を備え、
前記外側部分に対向する前記内側部分の表面および前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は、共に、実質的に球面状であり、かつ共通の中心を有し、
前記アクチュエータシステムは、前記最終要素の前記内側部分を前記共通の中心の周りを回転させるものであり、
前記粒子ディテクタは、前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされ、かつ、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出する、
装置。 - 前記粒子ディテクタで粒子が検出された場合に前記最終要素を前記基板から離すように移動させる作動システムをさらに備える、
請求項1に記載の装置。 - 前記最終要素の前記内側部分と前記外側部分との間にギャップが画定され、前記ギャップに流体を供給する流体供給システムをさらに備える、
請求項1又は2に記載の装置。 - 前記流体供給システムは、液体を前記ギャップに供給する、
請求項3に記載の装置。 - 前記液体は、約1.4より大きい屈折率を有する、
請求項4に記載の装置。 - 前記最終要素と前記基板との間の距離を検出するセンサシステムをさらに備える、
請求項1から5のいずれか一項に記載の装置。 - 放射ビームを前記最終要素の前記内側部分の側面内へと誘導し、前記基板に対向する前記最終要素の前記内側部分の表面上で前記放射ビームを内部反射させる、
請求項6に記載の装置。 - 前記アクチュエータシステムは、前記投影システムの光軸に沿った位置および前記光軸に垂直な軸周りの回転から成る群から選択される少なくとも1つの自由度で、前記最終要素の前記内側部分を制御する、
請求項1から7のいずれか一項に記載の装置。 - 前記アクチュエータシステムは、前記投影システムの光軸に沿った前記最終要素の前記内側部分の前記位置および前記光軸に垂直な2つの直交軸周りの前記最終要素の前記内側部分の回転を制御する、
請求項1から8のいずれか一項に記載の装置。 - 前記最終要素の出射面から前記投影システム内へ後方反射した放射を検出する後方散乱検出システムをさらに備える、
請求項1から9のいずれか一項に記載の装置。 - 前記後方散乱検出システムは、前記最終要素の前記出射面上の3つの離れた位置から反射された放射のそれぞれの強度を検出する、
請求項10に記載の装置。 - 前記距離は、前記基板上に前記パターンを投影する投影ビームの波長未満である、
請求項1から11のいずれか一項に記載の装置。 - 放射のパターン付きビームを、前記パターン付きビーム投影する最終要素を有する投影システムを使って基板上に投影することであって、前記最終要素は約100nm未満の距離だけ前記基板から間隔を置いて配置され、かつ内側部分および外側部分に分割される屈折型光エレメントである、投影することと、
前記投影中、アクチュエータシステムを使って前記最終要素の前記内側部分の位置および/または向きを制御することと、
前記基板をクリーニングするクリーニングデバイスと前記投影システムとの間に位置決めされた粒子ディテクタで、前記クリーニングデバイスによりクリーニングされかつ前記投影システムの下で走査されようとしている前記基板の一部分上の粒子を検出することと、
を含み、
前記外側部分に対向する前記内側部分の表面および前記内側部分に対向する前記外側部分の表面は、共に、実質的に球面状であり、かつ共通の中心を有し、
前記アクチュエータシステムは、前記最終要素の前記内側部分を前記共通の中心の周りを回転させる、
デバイス製造方法。 - 前記粒子ディテクタで粒子が検出された場合に、作動システムで前記最終要素を前記基板から離すように移動させることをさらに含む、
請求項13に記載のデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US33173410P | 2010-05-05 | 2010-05-05 | |
US61/331,734 | 2010-05-05 | ||
US38099610P | 2010-09-08 | 2010-09-08 | |
US61/380,996 | 2010-09-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011238920A JP2011238920A (ja) | 2011-11-24 |
JP5503589B2 true JP5503589B2 (ja) | 2014-05-28 |
Family
ID=44901734
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011099045A Active JP5503589B2 (ja) | 2010-05-05 | 2011-04-27 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8902403B2 (ja) |
JP (1) | JP5503589B2 (ja) |
NL (1) | NL2006458A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6461904B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2019-01-30 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 表面増強電場を用いた欠陥検出 |
JP6333039B2 (ja) | 2013-05-16 | 2018-05-30 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、デバイス製造方法およびインプリント方法 |
JP6315904B2 (ja) * | 2013-06-28 | 2018-04-25 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置及びデバイスの製造方法 |
US10133051B2 (en) * | 2014-03-11 | 2018-11-20 | Fei Efa, Inc. | Self correcting floating SIL tip |
US9927722B2 (en) | 2015-02-25 | 2018-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for inspection and metrology |
NL2017505A (en) * | 2015-10-09 | 2017-04-11 | Asml Netherlands Bv | Method and apparatus for inspection and metrology |
JP6805277B2 (ja) * | 2019-01-16 | 2020-12-23 | オリンパス株式会社 | 光レセプタクル |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5121256A (en) | 1991-03-14 | 1992-06-09 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Lithography system employing a solid immersion lens |
JP4314684B2 (ja) | 1999-08-18 | 2009-08-19 | ソニー株式会社 | ディスク原盤評価装置 |
US7187503B2 (en) * | 1999-12-29 | 2007-03-06 | Carl Zeiss Smt Ag | Refractive projection objective for immersion lithography |
US6995930B2 (en) * | 1999-12-29 | 2006-02-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Catadioptric projection objective with geometric beam splitting |
JP3919149B2 (ja) | 2000-03-24 | 2007-05-23 | パイオニア株式会社 | 光ヘッド装置 |
JP4016179B2 (ja) | 2002-02-28 | 2007-12-05 | ソニー株式会社 | 露光装置及び収束レンズの制御方法 |
DE10332112A1 (de) | 2003-07-09 | 2005-01-27 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem |
US7092069B2 (en) | 2002-03-08 | 2006-08-15 | Carl Zeiss Smt Ag | Projection exposure method and projection exposure system |
JP4626121B2 (ja) | 2002-07-17 | 2011-02-02 | ソニー株式会社 | ギャップ検出方法、ギャップ制御方法、及び装置 |
JP4305043B2 (ja) | 2003-05-12 | 2009-07-29 | ソニー株式会社 | 情報記録装置及び情報再生装置 |
JP2004348927A (ja) | 2003-05-26 | 2004-12-09 | Sony Corp | 光記録装置、光再生装置、光記録方法および光再生方法 |
ATE489724T1 (de) * | 2003-07-09 | 2010-12-15 | Nikon Corp | Belichtungsvorrichtung und verfahren zur bauelementherstellung |
JP2006004596A (ja) * | 2004-05-18 | 2006-01-05 | Sony Corp | 光学ピックアップ装置、光記録再生装置及びギャップ検出方法 |
JP2006134382A (ja) | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Sony Corp | 光ディスク装置 |
WO2006053751A2 (de) * | 2004-11-18 | 2006-05-26 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage |
JP2006344351A (ja) | 2005-05-13 | 2006-12-21 | Sony Corp | 光記録再生装置、光学ヘッド、光記録再生方法及びスキュー検出方法 |
WO2006133800A1 (en) * | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Carl Zeiss Smt Ag | Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same |
EP1905020B1 (en) | 2005-07-04 | 2009-04-29 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical pick-up and/or recording device |
US20070195307A1 (en) * | 2005-12-27 | 2007-08-23 | Carl Zeiss Smt Ag. | Projection lens and method for performing microlithography |
JP2008243282A (ja) | 2007-03-27 | 2008-10-09 | Canon Inc | 光情報記録再生装置 |
FR2927708A1 (fr) * | 2008-02-19 | 2009-08-21 | Commissariat Energie Atomique | Procede de photolithographie ultraviolette a immersion |
JP2010097970A (ja) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Canon Inc | 露光装置 |
DE102009033823A1 (de) | 2008-10-15 | 2010-04-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Immersionslithographie und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
-
2011
- 2011-03-23 NL NL2006458A patent/NL2006458A/en not_active Application Discontinuation
- 2011-04-27 JP JP2011099045A patent/JP5503589B2/ja active Active
- 2011-05-03 US US13/100,075 patent/US8902403B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8902403B2 (en) | 2014-12-02 |
US20110273687A1 (en) | 2011-11-10 |
JP2011238920A (ja) | 2011-11-24 |
NL2006458A (en) | 2011-11-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
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A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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