JP5483220B2 - カラーフィルタ形成基板とその作製方法、および表示装置 - Google Patents
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Description
一般に、液晶表示装置は、透明基板の一面に、遮光性の着色樹脂層からなるブラックマトリックス層と各色の着色樹脂層とを配設しているカラーフィルタ形成基板と、対向電極基板(TFT基板とも言う)とを所定の間隙をもたせて向かい合わせて配し、該隙部に液晶を封止した構造で、各色の着色樹脂層の画素の光透過率の制御を液晶の配向を電気的に制御することにより行いカラー画像を表示している。
このような液晶表示装置においては、カラーフィルタ形成基板の品質は、表示品位そのものを左右する。
例えば、タブレット型の多機能端末機器が、図7(a)に示すように、透明基板を基材111として、該基材111の一面側において、表示領域にカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層113を配し、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域として遮光性の着色樹脂層を額縁部112として設けた、表示装置用のカラーフィルタ形成基板110を用いている場合がある。
尚、図7(a)は、従来のカラーフィルタ形成基板の平面図で、図7(b)、図7(c)は、それぞれ、図7(a)のE1−E2、E3−E4において矢印の方向に見た図で、図7(d)は、図7(a)のE5部の拡大図で、図7(e)は図7(a)のE6部の拡大図である。
図8は、図7に示すカラーフィルタ形成基板110を用いたタブレット型の多機能端末120の平面図である。
そして、通常、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層、ブラックマトリクス用の着色樹脂層、額縁用の着色樹脂層の形成は、フォトリソ工程により形成されており、額縁部112とブラックマトリクス(図示していない)とは、同じフォトリソ工程にて一緒に形成されていた。
タブレット型の多機能端末機器120は、通常、図7に示すカラーフィルタ形成基板110を用い、透明基板からなる基材111側をフレーム121側として、額縁部112の領域の一部を非表示領域123としており、表示領域122と幅1mm程度の非表示領域123とが、フレーム121の内側の開口から、観察者側により見えるようになっている。
非表示領域123をこのように幅1mm程度としているのは、表示領域全体を確実に観察者から見えるようにして、且つ、カラーフィルタ形成基板110を用いた表示パネルとフレームとの位置精度に許容をもたせることが、主な理由である。
しかし、図7に示すタブレット型の多機能端末機器120においては、表示領域122の表示をオフにした際に、表示領域122の周辺の非表示領域123である額縁部の領域が表示領域122より明るくなって見え、表示領域122と非表示領域123との差異がはっきりして、見栄えが良くなく、これが問題となっていた。
しかし、表示装置用のカラーフィルタ形成基板においては、従来より、透明基板を基材として、該基材の一面側において、表示用領域に、遮光性の樹脂層からなる画素毎に区分する画素区分用遮光部(ブラックマトリクスとも言う)と、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを、配し、且つ、表示用領域の外側に非表示用領域として遮光性の額縁部を設けているが、更なる、高精細化が進む中、画素区分用遮光部を形成する遮光性の樹脂層の幅には、限界がある。
そのため、更に高精細化が進んだ場合、表示領域においては、画素区分用遮光部を形成する遮光性の樹脂層の占める面積割合が大きくなり、これに伴い、表示領域においては、画素区分用遮光部の外光の反射の影響が大きくなってくるという問題もある。
このような中、多機能端末機器において、図7(a)に示すように、透明基板を基材として、該基材の一面側において、表示領域にカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層を配し、該表示用領域の周辺全周に渡り非表示用領域として遮光性の着色樹脂層を額縁部として設けている、表示装置用のカラーフィルタ形成基板を用いている場合、表示領域の表示をオフにした際に、表示領域の周辺の非表示領域としての額縁部の領域が表示領域より明るくなって見え、表示領域と非表示領域との差異がはっきりして、見栄えが良くないという不具合がある。
また、表示装置用のカラーフィルタ形成基板においては、従来より、透明基板を基材として、該基材の一面側において、表示用領域に、遮光性の樹脂層からなる画素毎に区分する画素区分用遮光部(ブラックマトリクスとも言う)と、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを、配し、且つ、表示用領域の外側に非表示用領域として遮光性の額縁部を設けているが、更なる、高精細化が進む中、画素区分用遮光部を形成する遮光性の樹脂層の幅には、限界があり、更に高精細化が進んだ場合、表示領域においては、画素区分用遮光部を形成する遮光性の樹脂層の占める面積割合が大きくなり、これに伴い、表示領域においては、画素区分用遮光部の外光の反射の影響が大きくなってくるという問題もある。
本発明は、これらに対応するもので、透明基板を基材として、該基材の一面側において、表示用領域に、遮光性の樹脂層からなる画素毎に区分する画素区分用遮光部と、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを、積層して配し、且つ、表示用領域の外側に非表示用領域として遮光性の額縁部を設けているカラーフィルタ形成基板を表示装置に用いている場合において、表示オフ時に、表示領域と表示領域周辺の非表示領域からの、外光の反射光の明るさを小さくでき、見栄えが良い表示装置を提供しようとするものである。
同時にそのような、表示装置を作製することができるカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。
そして、上記のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光部の前記積層構造は、前記遮光性の着色層樹脂の線幅が、前記反射制御層の線幅よりも大きく、且つ、前記遮光性の着色樹脂層が、前記基材とで、前記反射制御層全体を覆っている部分を有することを特徴とするものである。
そして上記いずれかのカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光部は直交する2方向の線状の遮光部を有し、且つ、どちらか1方向の線状の遮光部は、前記積層構造を有することを特徴とするものである。
尚、ここでの「反射制御層」は、表示装置の基材面側(観察者側)に該反射制御層を設けて遮光性の着色樹脂層と積層する積層構造とした場合、従来のカラーフィルタ形成基板の額縁部や画素区分用遮光部に用いられる、反射制御層を備えた積層構造を持たない、単層の遮光性の着色樹脂層を基材側に配した場合よりも、表示装置に用いられた際、表示オフ時の拡散反射での外光の反射光の明るさ小さくできるものである。
また、「遮光性の着色樹脂層」とは、遮光できる光学濃度、好ましくは光学濃度4.0以上を得るための遮光性の着色樹脂層で、従来のカラーフィルタ形成基板の額縁部や画素区分用遮光部に用いられる、反射制御層を持たない、単層の遮光性の着色樹脂層と同様のもので、この遮光性の着色樹脂層を表示装置の基材面側(観察者側)に配して用いた場合には、表示オフ時、基材側に反射制御層を設けた場合に比べて、拡散反射での外光の反射光の明るさが大きくなる。
また、ここでは、表示装置に用いられた際に、表示領域となる領域を表示用領域とし、また、表示領域とはならない領域を非表示用領域としている。
尚、通常、透明樹脂層は、透過率90%以上である。
ここでの透過率とは、380nm〜780nmの平均透過率のことを言う。
本発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、透明基板を基材として、該基材の一面側において、表示用領域に、遮光性の樹脂層からなる画素毎に区分する画素区分用遮光部と、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを、配し、且つ、表示用領域の外側に非表示用領域として遮光性の額縁部を設けているカラーフィルタ形成基板で、且つ、表示装置に用いられた際に、表示オフ時に、表示領域と表示用領域周辺の非表示用領域からの外光の反射光を小さくできて、見栄えを良くできるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。
特に、多機能端末機器のように、高品質、意匠性が求められる表示部には有効としている。
本発明は、表示装置における表示オフ時の見栄えは、主に観察される外光の拡散反射光が関わっており、表示領域および表示用領域周辺の非表示用領域からの外光の拡散反射光の明るさを小さくすることにより、見栄えを良くできるという知見に基づき、表示オフ時の外光による見栄えに良くするために、画素区分用遮光部の一部ないし全部および額縁部は、基板側から順に、反射制御層、遮光性の着色樹脂層を積層した積層構造を有する構成としている。
即ち、画素区分用遮光部の一部ないし全部に、反射制御層と遮光性の着色樹脂層を積層した積層構造を有することにより、表示装置に用いられた場合において、表示オフ時に、画素区分用遮光部形成されている表示用領域からの外光の反射光の明るさ小さくできるものとし、且つ、額縁部を反射制御層と遮光性の着色樹脂層を積層した積層構造としていることにより、表示装置に用いられた場合において、表示オフ時に、非表示用領域からの外光の反射光の明るさを小さくできるものとしている。
尚、先にも述べたように、ここでの「反射制御層」は、表示装置の基材面側(観察者側)に該反射制御層を設けて遮光性の着色樹脂層と積層する積層構造とすることにより、従来のカラーフィルタ形成基板の額縁部や画素区分用遮光部に用いられる、反射制御層を備えた積層構造を持たない、単層の遮光性の着色樹脂層の場合よりも、表示オフ時の拡散反射での外光の反射光の明るさを小さくできるものである。
具体的な画素区分用遮光部の積層構造としては、遮光性の着色層樹脂の線幅が、反射制御層の線幅よりも大きく、且つ、前記遮光性の着色樹脂層が、基材とで、前記反射制御層全体を覆っている部分を有する請求項2の発明の形態が挙げられるが、この形態に限定はされない。
尚、請求項2の発明の画素区分用遮光部の積層構造の場合は、フォトリソ工程での画素区分用遮光部の形成を容易なものとしている。
また、画素区分用遮光部は直交する2方向の線状の遮光部を有し、且つ、どちらか1方向の線状の遮光部は、前記積層構造を有する請求項3の発明の形態も挙げられる。
色材として、青色色材、黒色色材のカーボンブラックのいずれかを含有する着色樹脂層から成る反射制御層としては、該反射制御層と積層される遮光性の着色樹脂層よりも拡散反射が少ないものが好ましく、好ましくは、厚さ1μmでの光学濃度が2.0以下であるものが挙げられる。
尚、反射制御層と積層される遮光性の着色樹脂層は、画素区分用着色樹脂層や額縁部の遮光性を確保できるように光学濃度、好ましくは光学濃度4.0以上であり、通常、厚さ1μmでの光学濃度は4.0以上である。
また、反射制御層と積層される遮光性の着色樹脂層としては、ここでは、主な色材として、黒色顔料が用いられ、通常は、カーボンブラックが用いられている。
尚、色材として青色色材、黒色色材のカーボンブラックのいずれかを含有する着色樹脂層から成る反射制御層の単位厚さ1μmでの光学濃度が、反射制御層と積層される遮光性の着色樹脂層の単位厚さ1μmでの光学濃度より、低いということは、反射制御層の樹脂に含有される色材の含有濃度が、遮光性の着色樹脂層の樹脂に含有される色材の含有濃度より低いと言うことで、以下に、図4を用いて簡単に説明するように、反射制御層を設けた積層構造の場合の反射制御層から外光の反射の方が、反射制御層を設けない遮光性の着色樹脂層単層の場合の該遮光性の着色樹脂層から外光の反射より、外光の反射光の明るさが小さいことを意味する。
ここで、拡散反射と色材である顔料の濃度、粒子径サイズとの関係について、図4に基づいて、簡単に説明しておく。
例えば、図4(c)に示すように大きな径の粒子12B3が界面11Sに接しており、図4(a)に示すように小さな径の粒子12B1が界面11Sに接している場合、図4(c)に示す界面における粒子12B3の拡散反射は、図4(a)に示す界面における粒子12B1の拡散反射よりも大きくなる。
また、図4(a)に示すように小さな径の粒子12B1が界面に接しており、図4(b)に示すように粒子12B2に樹脂被膜12Cを被覆した状態で界面に接している場合、図4(a)に示す界面における粒子12B1の拡散反射は、図4(b)に示す粒子12B2に樹脂被膜12Cを被覆した状態で界面に接している場合の拡散反射よりも大きくなる。
このように、透明基板からなる基材の一面に色材として顔料を分散させた樹脂層を形成した場合、顔料粒子の粒径(平均粒子径)が小さいほど、顔料粒子の濃度が小さいほど、透明基板の基材外側(観察者側)からみた額縁部からの拡散反射は小さくなり、また、顔料の粒子に樹脂被覆を施すことにより、拡散反射を小さくすることができる。
尚、透明基板がガラス基板の場合の屈折率は1.4程度で、カラーフィルタ用に用いられている樹脂の屈折率は、1.4〜1.5程度である。
また、黒色の顔料として通常用いられているカーボンブラックは複素屈折率の虚数項の値が大きいため、光は主に表面で反射される。
この形態の場合は、基材面と遮光性の着色樹脂層との間隔を透明樹脂層にて設けるもので、これにより、外光の遮光性の樹脂層からの反射を少なくできるものとしている。
通常の透明樹脂層については、透過率90%以上であり、外光の大部分が遮光性の樹脂層まで達することとなり、遮光性の着色樹脂層の色材である顔料と基材との距離を、透明樹脂層を設けない場合に比べて大きくすることができ、これにより、透明樹脂層を設けない場合に比べて外光の遮光性の樹脂層からの反射を少なくできるものとしている。
この測定方式の場合、同じ色でも、試料の表面状態によって測定値が異なり、目視評価の状況に近い測定結果を得ることができる。
また、分光測色計では正反射光と拡散反射光の合計を検出できる測定方式もあり、一般にはSCI方式(Specular Components Include方式の略)と呼ばれており、例えば、図5(b)においてトラップ64を設けない状態で測定する測定方法である。
SCI方式は物体色を測定する場合に広く用いられている。
図5(b)においては、太線実線矢印は、光源62からの入射光62Lを示し、点線矢印は各点からの光の向きを示し、細線実線矢印は、検出器63へ入射する検出光63Lを示している。
尚、通常、図5に示すように、測定用の着色樹脂層13Aを透明基板面側から分光測色計により拡散反射光を検出できる測定方式(SCE方式とも言う)で測定して得られた反射率の分光特性から求めたJIS Z8701のXYZ表色系における明るさYが、0.03以下である場合には、見た目で、額縁部の黒の締りが良く好ましい。
尚、ここでは、分光測色計としては、コニカミノルタ( 株) 製のCM−2500dを用いている。
そして、このようなカラーフィルタ形成基板を用いて、表示をオフにした際に、表示領域および表示領域周辺の非表示領域からの外光の反射光の明るさを小さくできて、見栄えが良い表示装置の提供を可能とした。
本例のカラーフィルタ形成基板10は、透明基板を基材11として、該基材11の一面側において、表示領域13Sにカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層(13R、13G、13B)と遮光性の画素区分用遮光部13Mを配し、且つ、該表示用領域13Sの外側に非表示用領域として遮光性の額縁部12を設けた、表示装置用のカラーフィルタ形成基板で、表示用領域13Sの着色層13と、額縁部12とを覆うように平坦状に保護層(オーバーコート層、あるいはOC層とも言う)14を配している。
そして、特に、図1(e)、図1(f)に示すように、画素区分用遮光部13M全体と額縁部12とは、基板11側から順に、反射制御層13Mb、遮光性の着色樹脂層13Mbを積層した積層構造を有している。
尚、ここでは、表示装置に用いられた際に、表示領域となる領域を表示用領域としており、図1(a)の額縁部12の内側の領域を意味する。
また、表示領域とはならない額縁部12の領域を非表示用領域としている。
また、着色樹脂層13は、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層13R、13G、13Bと、画素区分用遮光部13M形成用の着色樹脂層や額縁部形成用の着色樹脂層とを総称している。
また、表示用領域13Sには、図1(d)に示すように、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層13R、13G、13Bが、画素区分用遮光部(ブラックマトリクスとも言う)13Mにより、画素毎に分離されるように、所定の配列に形成されている。
画素区分用遮光部13Mに囲まれる画素部のパターン形状やカラーフィルタ用の各色の着色樹脂層の配列は、図1(d)に示す形態に限定はされない。
画素区分用遮光部13Mに囲まれる画素部のパターン形状がストライプ状の形状ものや、着色樹脂層の配列を変えたものも挙げられる。
本例のカラーフィルタ形成基板10は、画素区分用遮光部13M全体と額縁部12とが、基板11側から順に、反射制御層13Mb、遮光性の着色樹脂層13Mbを積層した積層構造としていることにより、表示装置に用いられた場合、表示オフ時に、表示領域および表示用領域周辺の非表示用領域からの、外光の反射光の明るさを小さくできて、これにより、見栄えを良くできる。
<基板11>
本例に用いられる透明基板からなる基材11としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。
無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明な透明基板が用いられている。
(遮光性の着色樹脂層13Ma)
遮光性の着色樹脂層13Maは、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12を遮光性とする光学濃度、このましくは光学濃度4.0以上を得るための層であり、通常、単位厚さ1μmでの光学濃度が4.0以上を得ることができるものが好ましい。
そのため、遮光性の着色樹脂層13Maとしては、例えば、色材として黒色色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものが挙げられるが、該色材の含有量は、単位厚さ1μmでの光学濃度が4.0以上を得ることができる含有量である。
黒色色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものは、膜厚を比較的厚くすることができる。
黒色色材としては、カーボンブラックが好ましく挙げられる。
遮光性の着色樹脂層13Maの膜厚としては、黒色色材であるカーボンブラックをバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである場合は0.5μm〜2μm程度で設定される。
遮光性の着色樹脂層13Maの形成方法としてフォトリソグラフィー法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、黒色色材および感光性樹脂を含有する形成用の感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、遮光性の着色樹脂層13Maの形成方法として印刷法やインクジェット法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
(反射制御層13Mb)
反射制御層13Mbは、色材として黒色色材や青色色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させたもの等が挙げられるが、表示装置に用いられた場合において、外光の反射光の明るさを、従来の単層の遮光性の樹脂着色層を用いた場合に比べて、小さくできることが必要で、通常は、単位厚さ1μm当たりの光学濃度が2.0以下を得ることができる含有量である。
黒色色材としては、カーボンブラックが好ましく挙げられる。
カラーフィルタ用の青色の着色樹脂層を配した青色画素部を有する場合には、反射制御層として、前記カラーフィルタ用の青色の着色樹脂層と同じ着色樹脂層を、反射制御層13Mbとしても良い。
また、別の形態としては、反射制御層13Mbを、透明樹脂層で形成しても良い。
通常、透明樹脂層は、透過率90%以上であり、外光の大部分が遮光性の樹脂層まで達することとなり、遮光性の着色樹脂層の色材である顔料と基材との距離を透明樹脂層により、透明樹脂層を設けない場合に比べて大きくすることができ、これにより、透明樹脂層を設けない場合に比べて、外光の遮光性の樹脂層からの反射を少なくできる。
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の着色樹脂層は、赤色の着色樹脂層13R、緑色の着色樹脂層13G、青色の着色樹脂層13Bの3色の着色樹脂層である。
各色の着色樹脂層は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものであり、フォトリソ法(フォトリソグラフィー法とも言う)により形成されるものである。
上記着色樹脂層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色剤および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色樹脂層の膜厚は、通常、1μm〜5μm程度で設定される。
着色樹脂層の色としては、赤色、緑色、青色の3色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の3色、または、赤色、緑色、青色、黄色の4色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの5色等とすることもできる。 尚、赤色(Rとも記載)の着色樹脂層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料、DPP系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
緑色(Gとも記載)の着色樹脂層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換亜鉛フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系色材、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
青色(Bとも記載)の着色樹脂層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料、トリアリールメタン系色材等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
保護層用の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物は、カラーフィルタ形成基板を面付けして作製後に、個片化する切断をするのに好ましい。
保護層用の光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、本例では、カラーフィルタ形成基板は、面付けして、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12、カラーフィルタ用の各着色層13R、13G、13Bを形成した後に、保護層14形成用の樹脂組成物をスピンコーテインング法により塗布するが、各カラーフィルタ形成基板間に保護層の切れ目を設けておき、該切れ目において分離して個片化するため、保護層用の樹脂組成物を光硬化性樹脂組成物として、塗布後、乾燥し、所定領域のみ選択的に光照射して、現像して形成しているが、保護層の形成方法はこれに限定はされない。
保護層用の熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊(昭和62年)等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル、1−[(1−シアノ−1−メチルエチル)アゾ]ホルムアミド、2,2’−アゾビス−[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、および2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ(4−メチルゼンゾイル)ペーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルエキサネート、1,1−ジ(t−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾネート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカルボネート、t−ブチル−4,4−ジ−(t−ブチルパーオキシ)ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。
図1に示す例では、全ての画素区分用遮光部13Mの断面形状を図1(e)(図2(a)と同じ断面形状)のようにしているが、これに限定されない。
画素区分用遮光部13M一部あるいは全部を、図2(b)のような積層構造、図2(c)のような積層構造としても良い。
あるいは、これらの断面形状を、1つのカラーフィルタ形成基板に、共に有するようにしても良い。
尚、画素区分用遮光部13Mの積層構造をもたない部分は、遮光性の着色樹脂層13Maだけで画素区分用遮光部13Mを構成する構造となり、この部分の断面形状は、図2(b1)のようになる。
画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mhと、画素の長手方向(縦方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mvとで分ける形態も挙げられる。
例えば、画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mhと、画素の長手方向(縦方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mvとで、表示領域13Sの画素区分用遮光部13Mの断面形状を異ならせる形態もある。
例えば、画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mhの断面を図2(a)のようにして、画素の長手方向(縦方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mvの断面を図2(a1)のようにする第1の形態や、画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mhの断面を図2(b)のようにして、画素の長手方向(縦方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mvの断面を図2(b1)のようにする第2の形態や、画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mhの断面を図2(c)のようにして、画素の長手方向(縦方向とも言う)の画素区分用遮光部3Mvの断面を図2(c1)のようにする第3の形態や、画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mhの断面を図2(d)のようにして、画素の長手方向(縦方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mvの断面を図2(d1)のようにする第4の形態が挙げられる。
また、額縁部12の表示用領域13S側端の断面の形態も、図3(a)〜図3(c)に示す各形態が挙げられ、適宜、選ぶことができる。
また、例えば、液晶表示装置に用いられる場合のカラーフィルタ形成基板としては、上記例において、保護層14上の表示用領域に更に所定高さのスペーサを複数配した形態のものも挙げられる。
尚、液晶表示装置は、透明基板の一面に、遮光性の着色層からなるブラックマトリックス層と各色の着色層とを配設しているカラーフィルタ形成基板と、対向電極基板(TFT基板とも言う)とを所定の間隙をもたせて向かい合わせて配し、該隙部に液晶を封止した構造で、各色の着色層の画素の光透過率の制御を液晶の配向を電気的に制御するが、カラーフィルタ形成基板と、対向電極基板(TFT基板とも言う)とを所定の間隙に制御するために、カラーフィルタ形成基板の保護層14上に所定高さのスペーサを複数配した形態としている。
実施例を挙げて、本発明を更に説明する。
(実施例1)
実施例1は、画素区分用遮光部13M及び額縁部12全面に反射制御層13Mbを設けた、図1に示す実施形態例のカラーフィルタ形成基板を作製したもので、以下のように、光硬化性の硬化性樹脂組成物Aを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Aを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、画素区分用遮光部形成用および額縁部形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらを用いて、各硬化性樹脂組成物毎にフォトリソ法を行い、カラーフィルタ用の各着色層、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12の反射制御層13Mb、遮光性の着色樹脂層13Maを、透明基板からなる基材11上に形成した。
尚、ここでは、基材11として、ガラス基板(旭硝子社製、AN材)を用いた。
ここでは、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12の反射制御層13Mb、遮光性の着色樹脂層13Maは、それぞれ、同じ1回のフォトリソ工程で形成した。
また、ここでのカラーフィルタ形成基板10は、画素区分用遮光部13Mにて分離される画素領域のサイズを微細化したものもので、表示用領域13Sにおける、画素区分用遮光部13Mの面積の占有率を40%、赤、緑、青の各色の着色樹脂層13R、13G、13Bの占有率を、各々、20%としている。
重合槽中にメタクリル酸メチル(MMA)を63重量部、アクリル酸(AA)を12重量部、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)を6重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)を88重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、2、2’ーアゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7重量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、更に100℃で1時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル(GMA)を7重量部、トリエチルアミンを0.4重量部、及びハイドロキノンを0.2重量部添加し、100℃で5時間攪拌し、共重合樹脂溶液(固形分50%)を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
・ 上記共重合樹脂溶液(固形分50%) :16重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399)
:24重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70) :4重量部
・ 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン :4重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :52重量部
(1)反射制御層13Mbの形成
まず、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
・ 黒色顔料 ( 三菱化学社製 #2600) :20重量部
・ 高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 111)
:16重量部
・ 溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) :64重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の着色層用組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液 :30重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :40重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :30重量部
着色層を形成した基板上に上記遮光性の着色層用組成物をスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、遮光性の着色層を形成した。
当該遮光性の着色層を、超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して反射制御層13Mbを画素区分用遮光部13M形成領域および額縁部12領域に形成した。
ここでは、透明基板からなる基材11の一面に、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12の反射制御層13Mbを、同じ1回のフォトリソ工程で形成した。
加熱処理後の形成膜厚は1.0μmとなった。
(2)遮光性の着色樹脂層13Maの形成
まず、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
・ 黒色顔料 ( 三菱化学社製 #2600) :20重量部
・ 高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 111)
:16重量部
・ 溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) :64重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の着色層用組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液 :50重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :20重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :30重量部
反射制御層13Mbを形成した側の基材11側上に上記遮光性の着色層用組成物をスピンコーターで塗布し、100℃で3分間乾燥させ、遮光性の着色層を形成した。
当該遮光性の着色層を、超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、0.05wt%水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を230℃の雰囲気下に30分間放置することにより加熱処理を施して遮光性の着色樹脂層13Maを、画素区分用遮光部13M形成領域および額縁部12領域に形成した。
ここでは、透明基板からなる基材11の一面に、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12の遮光性の着色樹脂層13Maを、同じ1回のフォトリソ工程で形成した。
加熱処理後の形成膜厚は1.2μmとなった。
尚、遮光性の着色樹脂層13Maの単位厚さ1μmでの光学濃度は3.6であった。
これにより、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12が形成された。
次いで、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12が形成された側の基材11上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、70℃のオーブン中で3分間乾燥した。
次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kwの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を230℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素を表示用領域13Sと非表示用領域となる額縁部形成領域全体に赤色の着色樹脂層13からなるパターン(以下、レリーフパターンとも言う)を形成した。
形成膜厚は2.0μmとなった。
<赤色硬化性樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントレッド177 :3重量部
・ C.I.ピグメントレッド254 :4重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :23重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
次に、赤色のレリーフパターンが形成された側上に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が2.0μmとなるようにして、緑色画素を表示領域に緑色の着色樹脂層からなるパターン(レリーフパターンとも言う)を形成した。
<緑色硬化性樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントグリーン58 :7重量部
・ C.I.ピグメントイエロー138 :1重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :22重量部
・ 酢酸ー3−メトキシブチル :67重量部
更に、緑色のレリーフパターンが形成された側上に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が2.0μmとなるようにして、表示領域に青色のパターン(レリーフパターンとも言う)を形成した。
<青色硬化性樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントブルー15:6 :5重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3 重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :25重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
上記のようにして、カラーフィルタ用の各色の着色層13を形成した基板上に、前述の硬化性樹脂組成物Aをスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜2μmの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Aの塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いて保護層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を230℃の雰囲気中に15分間放置することにより加熱処理を施して保護層を形成した。
このようにして、図1に示すカラーフィルタ形成基板10を作製した。
( スペーサの形成)
上記のようにして着色層及び保護層を形成したカラーフィルタ形成基板10の保護層14上に、硬化性樹脂組成物Aをスピンコーティング法により塗布、乾燥し塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Aの塗布膜から100μmの距離にフォトマスクを配置して、プロキシミティアライナにより2.0kWの超高圧水銀ランプを用いてスペーサの形成領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、0.05wt%水酸化カリウム水溶液(液温23℃)中に1分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物Aの塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を230℃の雰囲気中30分間放置することにより加熱処理を施して所定の個数密度となるように形成した。
(液晶表示装置の作成)
上記のようにして得られたカラーフィルタ形成基板の着色層形成側の表面に、配向膜(日産化学社製、SE−6210)を形成した。
次いでTFTを形成したガラス基板(TFT基板)上にIPS液晶を必要量滴下し、上記カラーフィルタを重ね合わせ、UV硬化性樹脂( スリーボンド社製、Three Bond 3025)をシール材として用い、常温で0.3kgf/cm2 の圧力をかけながら400mJ/cm2 の照射量で露光することにより接合してセル組みし、偏光板、バックライトユニット、カバーを設置し、液晶表示装置を得た。
実施例1において、実施例1の反射制御層13Mb形成用の硬化型の感光性樹脂に代えて、実施例1の青色の着色樹脂層13Bの形成用に用いた色材を用いて下記組成にしたものを反射制御層13Mb形成用の硬化型の感光性樹脂とした。
それ以外は、実施例1と同様にした。
(反射制御層13Mbの形成)
更に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が1.0μmとなるようにして、表示領域に青色のレリーフパターンなる反射制御層13Mbを形成した。
<青色硬化性樹脂組成物の組成>
・ C.I.ピグメントブルー15:6 :5重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 :3 重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :25重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :67重量部
実施例1において、実施例1の反射制御層13Mb形成用の硬化型の感光性樹脂層に代えて、下記組成の透明な硬化型の感光性樹脂を用いた。
それ以外は、実施例1と同様にした。
<透明な硬化型の感光性樹脂の組成>
・ 硬化性樹脂組成物A :30重量部
・ 酢酸−3−メトキシブチル :70重量部
実施例2おいて、実施例2の表示用領域13Sの画素区分用遮光部13Mの全体を反射制御層13Mbを設けた積層構造に代え、画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部13Mhのみ全体を反射制御層13Mbを設けた積層構造にしたもので、それ以外は、実施例2と同様である。
画素区分用遮光部13Mhの、画素区分用遮光部13Mに占める面積は、占有率70%であった。
実施例1において、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12全体を、遮光性の着色樹脂層13Ma1層としたもので、遮光性の着色樹脂層13Ma1層形成用の下記の硬化型樹脂組成物を用いてパターン形成した。
それ以外は、実施例1と同じである。
ここでは、同じ1回のフォトリソ工程で、透明基板からなる基材11の一面に、画素区分用遮光部13Mおよび額縁部12を、遮光性の着色樹脂層13Maにて形成した。
加熱処理後の形成膜厚は1.0μmとなった。
<遮光性の着色樹脂層13Maの形成>
まず、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調整した。
・ 黒色顔料 ( 三菱化学社製 #2600) :20重量部
・ 高分子分散材(ビックケミー・ジャパン株式会社 Disperbyk 111)
:16重量部
・ 溶剤(ジエチレングリコールジメチルエーテル) :64重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の着色層用組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液 :50重量部
・ 硬化性樹脂組成物A :20重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル :30重量部
ここでの目視評価における観察角度は、図6に示すように、基材の一面に直行する光源の入射方向と、正反射方向を含む平面内において、基材面に60度入射した場合の正反射を0°として、0°の方向からの入射側への角度を意味しているが、観察角度が10°、90°、135°のいずれにおいても、各実施例のカラーフィルタ形成基板を用いた場合の方が、従来例である比較例1のカラーフィルタ形成基板を用いた場合以上の良い見栄えであった。
<測定条件:分光測色計>
測定器 : コニカミノルタ( 株) 製、分光測色計「CM−2500d」
照明の受光条件 : d/8°( JIS Z8722条件c)
第1の照射領域 : 測定径=直径11mmの円形
第2の照射領域 : 第1の照射領域と同じ測定径=直径11mmの円形
測定領域 : 照射領域中の8mmの円形(重心位置は照射領域、直径11mmの円形と同じ)
表1に示すように、反射防止膜13Mbを備えた積層構造を有する各実施例の額縁部、表示用領域における、SCE方式測定から得られたデータから求めたJIS Z8701のXYZ表色系における、額物部での明るさ、表示用領域での明るさは、いずれも、比較例1(従来例)の、額物部での明るさ、表示用領域での明るさよりも、Yの値は小さくなり、また、各実施例の額縁部での明るさと表示用領域での明るさの差は、比較例1(従来例)の、額縁部での明るさと表示用領域での明るさの差よりも小さくなった。
表1からは、各実施例のように、画素区分用遮光部、額縁部を、反射制御層を有する積層構造とすることにより、比較例1(従来例)の積層構造をもたない場合に比べて、カラーフィルタ形成基板の表示用領域、額縁部で、SCE方式測定での明るさYを小さくすることができ、更に、SCE方式測定での表示用領域の明るさと額縁部の明るさの差を小さくでき、これにより、各実施例のカラーフィルタ形成基板を用いて表示装置とした場合、従来の比較例1のカラーフィルタ形成基板を用いて表示装置とした場合に比べて、表示オフ時に、表示用領域、額縁部の見栄えを良くできるものとしている。
ここでは明記していないが、反射制御層13Mbを赤色や緑色の着色樹脂層で形成した場合は、青色の着色樹脂層や透明樹脂層で形成した場合に比べて見栄えはよくない。
11 基材(透明基板)
12 額縁部
13 着色樹脂層
13R 赤色の着色樹脂層
13G 緑色の着色樹脂層
13B 青色の着色樹脂層
13M 画素区分用遮光部
13Ma 遮光性の着色樹脂層
13Mb 反射制御層
13Mh 画素の短め方向(横方向とも言う)の画素区分用遮光部
13Mv 画素の長手方向(縦方向とも言う)の画素区分用遮光部
13S 表示用領域
13A (測定用の)着色層
14 保護層(オーバーコート層、あるいはOC層とも言う)
20 屈折率調整用オイル
30 黒色の板
40 検出器
45 検査光
110 カラーフィルタ形成基板
111 基材(透明基板)
112 額縁部
113 着色樹脂層
113R 赤色の着色樹脂層
113G 緑色の着色樹脂層
113B 青色の着色樹脂層
113M 画素区分用遮光部
113S 表示用領域
114 保護層(オーバーコート層、あるいはOC層とも言う)
120 表示装置(タブレット型の表示装置とも言う)
121 フレーム
122 表示用領域(カラーフィルタ用の着色層形成領域とも言う)
123 非表示用領域(額縁領域とも言う)
Claims (11)
- 透明基板を基材として、該基材の一面側において、表示用領域に、画素毎に区分する画素区分用遮光部と、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを、配し、且つ、前記表示用領域の外側に非表示用領域として遮光性の額縁部を設けた、表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、
前記画素区分用遮光部の一部ないし全部および前記額縁部は、前記基材側から順に、反射制御層、遮光性の着色樹脂層を積層した積層構造を有し、
前記画素区分用遮光部によって区分される画素は、短辺と長辺とを有した長方形形状であり、
前記画素区分用遮光部は、前記画素の前記短辺に沿って延びる方向と前記画素の前記長辺に沿って延びる方向との二方向に延びており、且つ、前記画素区分用遮光部のうちの前記短辺に沿って延びる部分のみが前記積層構造を有することを特徴とするカラーフィルタ形成基板。 - 請求項1に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光部の前記積層構造は、前記遮光性の着色樹脂層の線幅が、前記反射制御層の線幅よりも大きく、且つ、前記遮光性の着色樹脂層が、前記基材とで、前記反射制御層全体を覆っている部分を有することを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1または2に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記反射制御層が、色材として、青色色材、黒色色材のカーボンブラックのいずれかを含有する着色樹脂層からなることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項3に記載のカラーフィルタ形成基板であって、カラーフィルタ用の青色の着色樹脂層を配した青色画素部を有し、前記反射制御層が、前記青色の着色樹脂層と同じ着色樹脂層から成ることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項4に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記青色画素部と前記反射制御層は、同一工程で形成されていることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1ないし3のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記反射制御層が、透明樹脂層からなることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記反射率制御層は、前記遮光性の着色樹脂層よりも低い含有濃度で色材を含んだ層であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1ないし7のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記反射率制御層は、厚さ1μmでの光学濃度が2.0以下となる層であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1ないし8のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記反射率制御層は、厚さ1μmでの光学濃度が前記遮光性の着色樹脂層よりも低くなる層であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
- 請求項1ないし9のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板を作製するための、カラーフィルタ形成基板の製造方法であって、
前記基材の一面上に、順に、前記反射制御層、前記遮光性の着色樹脂層、前記カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層を、それぞれ、フォトリソ工程により形成するものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板の作製方法。 - 透明基板を基材として、該基材の一面側において、表示用領域に、画素毎に区分する画素区分用遮光部と、カラーフィルタ用の各色の着色樹脂層とを、配し、前記表示用領域の外側に非表示用領域として遮光性の額縁部を設けた、表示装置用のカラーフィルタ形成基板で、且つ、前記画素区分用遮光部の一部および前記額縁部は、前記基材側から順に、反射制御層、遮光性の着色樹脂層を積層した積層構造を有するカラーフィルタ形成基板を用いた、表示装置であって、
請求項1ないし9のいずれか1項に記載のカラーフィルタ形成基板を用いたことを特徴とする表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012163882A JP5483220B2 (ja) | 2012-07-24 | 2012-07-24 | カラーフィルタ形成基板とその作製方法、および表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012163882A JP5483220B2 (ja) | 2012-07-24 | 2012-07-24 | カラーフィルタ形成基板とその作製方法、および表示装置 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014029619A Division JP5983656B2 (ja) | 2014-02-19 | 2014-02-19 | カラーフィルタ形成基板とその作製方法、および表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014025986A JP2014025986A (ja) | 2014-02-06 |
JP5483220B2 true JP5483220B2 (ja) | 2014-05-07 |
Family
ID=50199704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012163882A Expired - Fee Related JP5483220B2 (ja) | 2012-07-24 | 2012-07-24 | カラーフィルタ形成基板とその作製方法、および表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5483220B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6361260B2 (ja) * | 2014-04-18 | 2018-07-25 | 大日本印刷株式会社 | 積層体の製造方法、カラーフィルタの製造方法、積層体およびカラーフィルタ |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08146410A (ja) * | 1994-11-17 | 1996-06-07 | Dainippon Printing Co Ltd | ブラックマトリックス基板およびこれを用いたカラーフィルタ |
JPH1010516A (ja) * | 1996-06-20 | 1998-01-16 | Nec Corp | カラー液晶表示装置 |
JP2007171502A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Fujifilm Corp | ブラックマトリクス付フィルタ及び液晶表示装置 |
JP2010175599A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタおよびこれを備えた液晶表示装置 |
-
2012
- 2012-07-24 JP JP2012163882A patent/JP5483220B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014025986A (ja) | 2014-02-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140124 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |