JP5481106B2 - ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル - Google Patents
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Description
本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置又は液晶表示板を製造する際のリソグラフィ用マスクのゴミよけとして使用される、リソグラフィ用ペリクル及びペリクルフレームに関する。
ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体製造又は液晶表示板などの製造においては、半導体ウエハ又は液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、この場合に用いる露光原版にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりして、寸法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。なお、本発明において、「露光原版」とは、リソグラフィ用マスク（単に「マスク」ともいう。）及びレチクルの総称である。以下、マスクを例にして説明する。
これらの作業は通常クリーンルームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表面にゴミよけのための露光用の光をよく通過させるペリクルを貼り付ける方法が採られている。
ペリクルの基本的な構成は、ペリクルフレーム及びこれに張設したペリクル膜からなる。ペリクル膜は、露光に用いる光（ｇ線、ｉ線、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ等）を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロース、フッ素系ポリマーなどからなる。ペリクルフレームの上辺部にペリクル膜の良溶媒を塗布し、ペリクル膜を風乾して接着するか、アクリル樹脂、エポキシ樹脂やフッ素樹脂などの接着剤で接着する。さらに、ペリクルフレームの下辺部には露光原版を装着するために、ポリブテン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びシリコーン樹脂等からなる粘着層、及び粘着層の保護を目的としたレチクル粘着剤保護用ライナーを設ける。
ペリクルは、露光原版の表面に形成されたパターン領域を囲むように設置される。ペリクルは、露光原版上にゴミが付着することを防止するために設けられるものであるから、このパターン領域とペリクル外部とはペリクル外部の塵埃がパターン面に付着しないように隔離されている。
ペリクルは、露光原版の表面に形成されたパターン領域を囲むように設置される。ペリクルは、露光原版上にゴミが付着することを防止するために設けられるものであるから、このパターン領域とペリクル外部とはペリクル外部の塵埃がパターン面に付着しないように隔離されている。
近年、ＬＳＩのデザインルールはサブクオーターミクロンへと微細化が進んでおり、それに伴い、露光光源の短波長化が進んでいる、すなわち、これまで主流であった、水銀ランプによるｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）から、ＫｒＦエキシマレーザー（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（１９３ｎｍ）などに移行しつつある。微細化が進むとマスク及びシリコンウエハに要求される平坦性もますます厳しくなってきている。
ペリクルは、マスクが完成した後でパターンのゴミよけのためにマスクに貼り付けられる。ペリクルをマスクに貼り付けるとマスクの平坦度が変化することがある。マスクの平坦度が悪くなると、上記で述べたように、焦点ズレ等の問題が発生する可能性がある。また、平坦度が変化すると、マスク上に描かれたパターンの形状が変化し、マスクの重ね合わせ精度に問題がでるという支障もきたす。
ペリクル貼り付けによるマスク平坦度の変化の要因は、幾つかあるが、一番大きな要因は、ペリクルフレームの平坦度であることが分かってきた。
ペリクル貼り付けによるマスク平坦度の変化の要因は、幾つかあるが、一番大きな要因は、ペリクルフレームの平坦度であることが分かってきた。
このペリクルフレームの変形に起因するマスクの変形を防止するために、特許文献１は、ペリクルフレームの断面積を６ｍｍ2以下にする、又は、ペリクルフレームにヤング率が５０ＧＰａ以下である材料を用いることを開示している。
ペリクルフレームとしては、その断面形状が長方形のものが多いが、特許文献２には、ペリクルフレームの断面が、内周面の上端側が下端側より内方に突出している形状を有するペリクルフレームが開示されている。
近年、マスクに要求される平坦性も、パターン面で平坦度２μｍの要求から徐々に厳しくなっており、６５ｎｍノード以降では０．５μｍ以下、好ましくは０．２５μｍという要求が出てきている。
一般に、ペリクルフレームの平坦度は２０〜８０μｍ程度であるが、このように平坦度が劣るフレームを用いたペリクルをマスクに貼り付けると、フレームの形状がマスクに転写されマスクの変形を生じてしまう。ペリクルは、貼り付けの時、約２００〜４００Ｎ（２０〜４０ｋｇ重）の大きな力でマスクに押し付けられる。マスク表面の平坦度は、ペリクルフレームの平坦度より良いから、ペリクルのマスクへの押し付けが終わると、ペリクルフレームは元の形状に戻ろうとするために、ペリクルフレームがマスクを変形させてしまう。
マスクが変形した場合、マスクの平坦度が悪くなる場合があり、その場合露光装置内でデフォーカスの問題が発生する。一方でマスクが変形し平坦度が良くなる場合もあるが、この場合でもマスク表面に形成されたパターンが歪み、その結果露光したときにウエハに転写されたパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。このパターンの歪みは平坦度が悪くなる場合も発生するので、結局ペリクルを貼り付けることによりマスクが変形する場合は、必ずパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。
一般に、ペリクルフレームの平坦度は２０〜８０μｍ程度であるが、このように平坦度が劣るフレームを用いたペリクルをマスクに貼り付けると、フレームの形状がマスクに転写されマスクの変形を生じてしまう。ペリクルは、貼り付けの時、約２００〜４００Ｎ（２０〜４０ｋｇ重）の大きな力でマスクに押し付けられる。マスク表面の平坦度は、ペリクルフレームの平坦度より良いから、ペリクルのマスクへの押し付けが終わると、ペリクルフレームは元の形状に戻ろうとするために、ペリクルフレームがマスクを変形させてしまう。
マスクが変形した場合、マスクの平坦度が悪くなる場合があり、その場合露光装置内でデフォーカスの問題が発生する。一方でマスクが変形し平坦度が良くなる場合もあるが、この場合でもマスク表面に形成されたパターンが歪み、その結果露光したときにウエハに転写されたパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。このパターンの歪みは平坦度が悪くなる場合も発生するので、結局ペリクルを貼り付けることによりマスクが変形する場合は、必ずパターン像が歪んでしまうという問題が発生する。
本発明が解決しようとする課題は、第１に、ペリクルを露光原版に貼り付けても、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレームを提供することである。本発明が解決しようとする課題は、第２に、このようなペリクルフレームを有するリソグラフィ用ペリクルを提供することである。
本発明の上記課題は、以下の手段（１）及び（１１）により達成された。好ましい実施態様である（２）〜（１０）と共に列記する。
（１）ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行な基本四辺形の両側辺に、四辺形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム、
（２）前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な辺を有した長方形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（３）前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（４）前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と垂直な上辺を有した台形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（５）前記基本四辺形が台形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（６）前記基本四辺形の面積が２０ｍｍ2以下である、（１）〜（５）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（７）前記ペリクルフレームバーの断面積が６ｍｍ2以下である、（１）〜（６）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（８）ヤング率が１〜８０ＧＰａである材料で構成された、（１）〜（７）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（９）アルミニウム合金で構成された、（１）〜（８）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（１０）ペリクルフレームの平坦度が２０μｍ以下である、（１）〜（９）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（１１）（１）〜（１０）いずれか１つに記載のペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。
（１）ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺が平行な基本四辺形の両側辺に、四辺形状の窪みを有した形状であることを特徴とするペリクルフレーム、
（２）前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な辺を有した長方形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（３）前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（４）前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と垂直な上辺を有した台形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（５）前記基本四辺形が台形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形である、（１）に記載のペリクルフレーム、
（６）前記基本四辺形の面積が２０ｍｍ2以下である、（１）〜（５）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（７）前記ペリクルフレームバーの断面積が６ｍｍ2以下である、（１）〜（６）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（８）ヤング率が１〜８０ＧＰａである材料で構成された、（１）〜（７）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（９）アルミニウム合金で構成された、（１）〜（８）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（１０）ペリクルフレームの平坦度が２０μｍ以下である、（１）〜（９）いずれか１つに記載のペリクルフレーム、
（１１）（１）〜（１０）いずれか１つに記載のペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。
本発明によれば、ペリクルフレームの変形に起因する露光原版の変形を極力低減することができるようなペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクルを提供することができた。
図１に示したように、本発明のリソグラフィ用のペリクル１０は、ペリクルフレーム３の上端面にペリクル膜貼り付け用接着層２を介してペリクル膜１を張設したもので、この場合、リソグラフィ用のペリクル１０を露光原版（マスク又はレチクル）５に粘着させるための接着用粘着層４が通常ペリクルフレーム３の下端面に形成され、該接着用粘着層４の下端面にライナー（不図示）を剥離可能に貼着してなるものである。また、ペリクルフレーム３には不図示の気圧調整用穴（通気口）が設置されていて、さらにパーティクル除去の目的でこの通気口に除塵用フィルター（不図示）が設けられていてもよい。
ペリクルフレームには、ジグ穴を設けてもよい。ジグ穴の深さ方向の形状は、特定されず、貫通さえしなければ、円柱の先にテーパーを有する凹みであってもよい。
前記気圧調整用穴を設ける箇所の断面形状は、気圧調整用フィルターを貼り付ける外側面が平面であることが好ましく、内側のみは窪みを有していてもよい。また、ジグ穴を設ける箇所の断面形状は、窪みを有しない基本四辺形のままであることが好ましく、矩形であることが好ましい。
前記気圧調整用穴を設ける箇所の断面形状は、気圧調整用フィルターを貼り付ける外側面が平面であることが好ましく、内側のみは窪みを有していてもよい。また、ジグ穴を設ける箇所の断面形状は、窪みを有しない基本四辺形のままであることが好ましく、矩形であることが好ましい。
図２に示したように、本発明のペリクルフレーム３は、ペリクルフレームバーの断面が、上辺１２及び下辺１４が平行な、基本となる四辺形（「基本四辺形」ともいう。四辺１２、１７、１４、１９により構成される。）の対向する両側辺１７、１９に、四辺形状の窪み１８を有した形状であることを特徴とする。言い換えると、中間部１６により上辺１２を含む上辺部１３及び下辺１４を含む下辺部１５が接続された形状を有する。
上述したように、ペリクルをマスクに貼り付けることによるマスクの歪みは、ペリクルのペリクルフレームの歪みに起因することが大きいと考えられる。貼付時にペリクルフレームが変形し、それが元に戻ろうとする変形応力がマスクを変形させている。この変形応力は、ペリクルフレームを構成する材料のヤング率及びその変形量に依存する。本発明によれば、ペリクルフレームの断面積を基本四辺形よりも縮小することにより変形応力の小さいペリクルフレームにすることが可能となった。すなわち、ペリクルフレームの上辺は、ペリクル膜を張設するため、また下辺は粘着剤を設けてマスクに接着することから、上辺部も下辺部もある程度の幅が必要である。しかしながら、上辺と下辺を接続する中央部は両側面に窪みを設けて上下両辺よりも狭い幅とすることが可能である。
このようなペリクルフレームバーは、断面が基本四辺形の両側辺に四辺形状の窪みを設けることにより製造できる。なお、前述したように、前記気圧調整用穴を設ける箇所の外側面、及びジグ穴を設ける箇所の両側面は窪みをなくして、所定の貫通する孔又は非貫通のジグ穴を設けることが好ましい。
このようなペリクルフレームバーは、断面が基本四辺形の両側辺に四辺形状の窪みを設けることにより製造できる。なお、前述したように、前記気圧調整用穴を設ける箇所の外側面、及びジグ穴を設ける箇所の両側面は窪みをなくして、所定の貫通する孔又は非貫通のジグ穴を設けることが好ましい。
特許文献１（特開２００９−２５５６２号公報）に開示されているように、断面積を６ｍｍ2以下に小さくすることにより、材質を変更しなくてもペリクルフレームはより変形しやすくなる。ペリクルフレームバーの断面積を、基本四辺形の形状を保ったまま小さくするには、上下両辺を狭くするか、高さを低くする必要がある。しかし、上述したような理由で上辺も下辺もある程度の幅が必要である。一方で高さを低くし過ぎると、ペリクル膜とマスクのパターン面の距離が小さくなり、ペリクルのデフォーカス性能が劣化し、ペリクル膜上に付着する異物が転写パターンに移りこむ危険性が増す。またペリクルフレームの高さが低くなるとペリクルフレームのハンドリングが困難になるという問題も顕著化する。このように基本四辺形の形状を保ったまま断面積を小さくするのは色々と困難が伴う。
しかしながら、本発明によれば断面が基本四辺形の形状を有するペリクルフレームバーから両側辺に四辺形状の窪みを設けることにより、上下両辺の幅を確保し、かつ、ペリクルフレームの高さを確保しながら、ペリクルフレームの断面積を基本四辺形よりも縮小することが可能になった。
しかしながら、本発明によれば断面が基本四辺形の形状を有するペリクルフレームバーから両側辺に四辺形状の窪みを設けることにより、上下両辺の幅を確保し、かつ、ペリクルフレームの高さを確保しながら、ペリクルフレームの断面積を基本四辺形よりも縮小することが可能になった。
基本四辺形は、上辺及び下辺が平行である。この基本四辺形としては、正方形を含む矩形、台形、平行四辺形が含まれ、矩形が好ましい。台形としては上辺が下辺よりも短くても長くてもよい。
本発明のペリクルフレームは、上辺部及び下辺部がそれらの全幅にわたり一定の厚さを有することが好ましい。
また、本発明のペリクルフレームの断面は、基本四辺形の対向する両側辺に、四辺形状の窪みを有し、基本四辺形の片方の側辺にのみ四辺形状の窪みを有する、コの字状の形状は含まない。
本発明のペリクルフレームは、上辺部及び下辺部がそれらの全幅にわたり一定の厚さを有することが好ましい。
また、本発明のペリクルフレームの断面は、基本四辺形の対向する両側辺に、四辺形状の窪みを有し、基本四辺形の片方の側辺にのみ四辺形状の窪みを有する、コの字状の形状は含まない。
本発明においてペリクルフレームバーは、その断面形状が、縦長の長方形の対向する両側辺に、矩形状の窪みを有することが好ましい。言い換えると、断面形状が、上辺及び下辺より幅の狭い中間部により上辺部及び下辺部が垂直に接続されたＩ字形状であることが好ましい。
図３を参照して以下本発明を説明する。
（ａ）の形状は、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な辺を有した長方形であるペリクルフレームの一例である。前記窪みの両方が長方形であることが好ましい。この場合、上述のＩ字形状の一例として、全幅にわたり一定の厚さを有する上辺部１３及び下辺部１５を、それらの略中央において、一定幅を有する中間部１６が接続する形状となる。
（ｂ）の形状は、（ａ）の形状とは、中間部１６が上辺及び下辺の中央から端方向にずれた形状である点で異なっている。
（ｃ）の形状は、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形である一例である。前記窪みの両方が台形であることが好ましい。この場合、中間部が、上辺部及び下辺部と垂直ではなくて傾斜を有している点で（ａ）及び（ｂ）と異なっている。
（ｄ）の形状は、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と垂直な上辺を有した台形である一例である。前記窪みの両方が、前記上辺と垂直な上辺を有した台形であることが好ましい。この場合には、（ｄ）に示すように、中間部により上辺部及び下辺部が接続された形状であり、上辺部と下辺部はその中央寄りに厚くなっている。
（ｅ）の形状は、前記基本四辺形が台形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形の一例である。前記窪みの両方が前記上辺と平行な上辺を有した台形であることが好ましい。この場合、中間部により上辺部及び下辺部が接続された形状となる。
同様にして、ペリクルフレームバーの断面を、基本四辺形を平行四辺形として、その両側辺に四辺形状の窪みを有する形状とすることも可能である。
中間部は、その幅が一定であることが好ましいが、上辺部又は下辺部寄りに幅広であってもよい。
図３を参照して以下本発明を説明する。
（ａ）の形状は、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な辺を有した長方形であるペリクルフレームの一例である。前記窪みの両方が長方形であることが好ましい。この場合、上述のＩ字形状の一例として、全幅にわたり一定の厚さを有する上辺部１３及び下辺部１５を、それらの略中央において、一定幅を有する中間部１６が接続する形状となる。
（ｂ）の形状は、（ａ）の形状とは、中間部１６が上辺及び下辺の中央から端方向にずれた形状である点で異なっている。
（ｃ）の形状は、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形である一例である。前記窪みの両方が台形であることが好ましい。この場合、中間部が、上辺部及び下辺部と垂直ではなくて傾斜を有している点で（ａ）及び（ｂ）と異なっている。
（ｄ）の形状は、前記基本四辺形が長方形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と垂直な上辺を有した台形である一例である。前記窪みの両方が、前記上辺と垂直な上辺を有した台形であることが好ましい。この場合には、（ｄ）に示すように、中間部により上辺部及び下辺部が接続された形状であり、上辺部と下辺部はその中央寄りに厚くなっている。
（ｅ）の形状は、前記基本四辺形が台形であり、前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形の一例である。前記窪みの両方が前記上辺と平行な上辺を有した台形であることが好ましい。この場合、中間部により上辺部及び下辺部が接続された形状となる。
同様にして、ペリクルフレームバーの断面を、基本四辺形を平行四辺形として、その両側辺に四辺形状の窪みを有する形状とすることも可能である。
中間部は、その幅が一定であることが好ましいが、上辺部又は下辺部寄りに幅広であってもよい。
本発明のペリクルフレームは、マスクの形状に応じて適宜設計されるものであるが、通常ペリクル枠の平面形状はリング状あるいは矩形状、正方形状であり、マスクに設けられた回路パターン部を覆う大きさと形状とを備えている。矩形状（正方形状を含む。）のペリクル枠の角は丸みがついていても構わない。ペリクル枠の高さは、好ましくは約１〜１０ｍｍであり、より好ましくは約２〜７ｍｍであり、特に好ましくは約３〜６ｍｍである。ペリクルフレームの上辺及び下辺は、幅が約２ｍｍであることが好ましい。
また、上辺部及び下辺部は共に０．１ｍｍ以上の厚さを有することが好ましく、０．３〜０．８ｍｍの厚さを有することがより好ましい。
本発明のペリクルフレームは、基本四辺形の面積が２０ｍｍ2以下であることが好ましく、４〜２０ｍｍ2であることがより好ましい。
本発明のペリクルフレームの断面積は６ｍｍ2以下であることが好ましく、１〜６ｍｍ2であることがより好ましい。本発明のようにペリクルフレームの中央部を幅狭くすることにより、この小さな断面積が達成しやすくなる。このように断面積を小さくすると、変形応力を小さくして、その結果、マスクの変形も小さくすることができる。
また、上辺部及び下辺部は共に０．１ｍｍ以上の厚さを有することが好ましく、０．３〜０．８ｍｍの厚さを有することがより好ましい。
本発明のペリクルフレームは、基本四辺形の面積が２０ｍｍ2以下であることが好ましく、４〜２０ｍｍ2であることがより好ましい。
本発明のペリクルフレームの断面積は６ｍｍ2以下であることが好ましく、１〜６ｍｍ2であることがより好ましい。本発明のようにペリクルフレームの中央部を幅狭くすることにより、この小さな断面積が達成しやすくなる。このように断面積を小さくすると、変形応力を小さくして、その結果、マスクの変形も小さくすることができる。
ペリクルフレームを構成する材質としては、ヤング率が１〜８０ＧＰａである材料が好ましく、アルミニウム、マグネシウム合金、合成樹脂等を好ましく例示することができ、アルミニウムがより好ましく用いられる。
アルミニウムとしては、従来使用されているアルミニウム合金材が使用でき、好ましくは、ＪＩＳ Ａ７０７５、ＪＩＳ Ａ６０６１、ＪＩＳ Ａ５０５２材等が用いられるが、上述した断面形状を有し、ペリクルフレームとしての強度が確保される限り特に制限はない。ペリクルフレーム表面は、ポリマー被膜を設ける前に、サンドブラストや化学研磨によって粗化することが好ましい。本発明において、このフレーム表面の粗化の方法については、従来公知の方法を採用できる。アルミニウム合金材に対して、ステンレス、カーボランダム、ガラスビーズ等によって表面をブラスト処理し、さらにＮａＯＨ等によって化学研磨を行い、表面を粗化する方法が好ましい。
アルミニウムとしては、従来使用されているアルミニウム合金材が使用でき、好ましくは、ＪＩＳ Ａ７０７５、ＪＩＳ Ａ６０６１、ＪＩＳ Ａ５０５２材等が用いられるが、上述した断面形状を有し、ペリクルフレームとしての強度が確保される限り特に制限はない。ペリクルフレーム表面は、ポリマー被膜を設ける前に、サンドブラストや化学研磨によって粗化することが好ましい。本発明において、このフレーム表面の粗化の方法については、従来公知の方法を採用できる。アルミニウム合金材に対して、ステンレス、カーボランダム、ガラスビーズ等によって表面をブラスト処理し、さらにＮａＯＨ等によって化学研磨を行い、表面を粗化する方法が好ましい。
本発明のペリクルフレームは、従来からの慣用されているアルミニウム合金材などヤング率が６９ＧＰａの材料を使用する代わりに、ヤング率が１以上５０ＧＰａ以下である材料で構成することも好ましい。ヤング率が上記の範囲内である材料としては、マグネシウム合金の４４ＧＰａ、アクリル樹脂の３ＧＰａ、ポリカーボネート樹脂の２．５ＧＰａが例示できる。
このような低いヤング率の材料を使用すると、断面積が６ｍｍ2を超え１２ｍｍ2のＩ字形状でも、変形応力を小さくして、マスクの変形も小さくすることができる。
ペリクルフレームの断面形状をＩ字形状にし、その断面積を３〜６ｍｍ2にした場合、低いヤング率の材料を使用する程、相乗効果によりマスクの変形も小さくすることができる。
このような低いヤング率の材料を使用すると、断面積が６ｍｍ2を超え１２ｍｍ2のＩ字形状でも、変形応力を小さくして、マスクの変形も小さくすることができる。
ペリクルフレームの断面形状をＩ字形状にし、その断面積を３〜６ｍｍ2にした場合、低いヤング率の材料を使用する程、相乗効果によりマスクの変形も小さくすることができる。
本発明において、ペリクルフレームの露光原版接着面及び／又はペリクル膜接着面において、露光原版接着面及び／又はペリクル膜接着面とペリクルフレーム内外側面とのなす角部にＣ面取りをすることが好ましい。
平均的なペリクルフレームの平坦度は、約２０〜８０μｍ程度である。本発明において、ペリクルフレームの平坦度を２０μｍ以下にすることが好ましく、１０μｍ以下にすることがより好ましい。
ペリクルフレームの平坦度が良いと、ペリクルをマスクに貼り付けた場合に、ペリクルフレームの変形量を小さくすることができ、その結果ペリクルフレームの変形応力を小さくして、マスクの変形を小さく抑えることができる。
なお、上記のペリクルフレームの「平坦度」とは、ペリクルフレームの各コーナー４点と４辺の中央４点の計８点において高さを測定し、仮想平面を算出して、その仮想平面からの各点の距離のうち最高点から最低点を差引いた差により算出した値である。
ペリクルフレームの平坦度は、「ＸＹ軸プログラムステージを有するレーザー変位計」により測定することができ、本発明においては、自製の変位計を使用した。
ペリクルフレームの平坦度が良いと、ペリクルをマスクに貼り付けた場合に、ペリクルフレームの変形量を小さくすることができ、その結果ペリクルフレームの変形応力を小さくして、マスクの変形を小さく抑えることができる。
なお、上記のペリクルフレームの「平坦度」とは、ペリクルフレームの各コーナー４点と４辺の中央４点の計８点において高さを測定し、仮想平面を算出して、その仮想平面からの各点の距離のうち最高点から最低点を差引いた差により算出した値である。
ペリクルフレームの平坦度は、「ＸＹ軸プログラムステージを有するレーザー変位計」により測定することができ、本発明においては、自製の変位計を使用した。
なお、マスクの平坦度を、Ｔｒｏｐｅｌ社のＵｌｔｒａＦｌａｔを使用して測定した。
また、マスクへのペリクル貼り付けによるマスクの最大変形レンジを、マスクの変形／歪みの指標として使用した。マスクの平坦度及び最大変形レンジの定義と測定方法は実施例に記載した。
また、マスクへのペリクル貼り付けによるマスクの最大変形レンジを、マスクの変形／歪みの指標として使用した。マスクの平坦度及び最大変形レンジの定義と測定方法は実施例に記載した。
本発明において、ペリクルフレームは、迷光を吸収するために、黒色酸化被膜及び／又は黒色ポリマー被膜を有することが好ましい。また、ペリクルフレームがアルミニウム合金製である場合には、黒色アルマイト被膜及び／又はポリマーの電着塗装膜を有するアルミニウム合金製ペリクルフレームであることが特に好ましい。
ペリクルフレーム表面の黒色アルマイト被膜の形成方法としては、一般的にＮａＯＨなどのアルカリ処理浴で数十秒処理した後、希硫酸水溶液中で陽極酸化を行い、次いで黒色染色、封孔処理することで、表面に黒色の酸化被膜を設けることができる。
ペリクルフレーム表面の黒色アルマイト被膜の形成方法としては、一般的にＮａＯＨなどのアルカリ処理浴で数十秒処理した後、希硫酸水溶液中で陽極酸化を行い、次いで黒色染色、封孔処理することで、表面に黒色の酸化被膜を設けることができる。
また、ポリマー被膜（ポリマーコーティング）は様々な方法によって設けることができるが、一般にスプレー塗装、静電塗装、電着塗装などが挙げられる。本発明では電着塗装によってポリマー被膜を設けることが好ましい。
電着塗装については、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂のいずれも使用できる。また、それぞれに対してアニオン電着塗装、カチオン電着塗装のいずれをも使用することができる。本発明では耐紫外線性能も求められるため、熱硬化型樹脂のアニオン電着塗装が、コーティングの安定性、外観、強度の点から好ましい。
電着塗装については、熱硬化型樹脂や紫外線硬化型樹脂のいずれも使用できる。また、それぞれに対してアニオン電着塗装、カチオン電着塗装のいずれをも使用することができる。本発明では耐紫外線性能も求められるため、熱硬化型樹脂のアニオン電着塗装が、コーティングの安定性、外観、強度の点から好ましい。
本発明のリソグラフィ用ペリクルは、上記のペリクルフレームのいずれかに、上辺である一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、下辺である他端面に露光原版接着剤を設けることにより製造することができる。
ペリクル膜の種類については特に制限はなく、例えば従来エキシマレーザー用に使用されている、非晶質フッ素ポリマー等が用いられる。非晶質フッ素ポリマーの例としては、サイトップ（旭硝子（株）製商品名）、テフロン（登録商標）ＡＦ（デュポン社製商品名）等が挙げられる。これらのポリマーは、そのペリクル膜作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使用してもよく、例えばフッ素系溶媒などで適宜溶解し得る。
以下に実施例により具体的に本発明を例示して説明する。なお、実施例及び比較例における「マスク」は「露光原版」の例として記載したものであり、レチクルに対しても同様に適用できることはいうまでもない。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例のみに限定されるものではない。
（実施例１）
サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた５％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８３０ｒｐｍでウエハを回転させ、ウエハ上に広げた。その後、室温で３０分間乾燥後、さらに１８０℃で乾燥し、均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミニウム枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。上記のサイトップＣＴＸ−Ｓ膜を必要枚数作製して、実施例１〜１０及び比較例で使用した。
（実施例１）
サイトップＣＴＸ−Ｓ（旭硝子（株）製商品名）をパーフルオロトリブチルアミンに溶解させた５％溶液をシリコンウエハ上に滴下し、スピンコート法により８３０ｒｐｍでウエハを回転させ、ウエハ上に広げた。その後、室温で３０分間乾燥後、さらに１８０℃で乾燥し、均一な膜とした。これに接着剤を塗布したアルミニウム枠を貼り付け、膜だけを剥離しペリクル膜とした。上記のサイトップＣＴＸ−Ｓ膜を必要枚数作製して、実施例１〜１０及び比較例で使用した。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状は図３（ａ）に示し、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。なお、断面形状は、高さ３．５ｍｍ、幅２．０ｍｍの矩形の両側面から、高さ２．５ｍｍ、幅０．７５ｍｍの矩形をその中央部で取り除いた形状を有するＩ字状とした。上辺部及び下辺部の厚さは、０．５ｍｍであり、中央帯部の幅も０．５ｍｍであった。なお、ペリクルフレームの４つの角にＣ面取りを施した。
このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、０．２６μｍとなった。また、マスクの最大変形レンジは４０ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度および最大変形レンジの測定結果を表１にまとめた。
なお、マスクの平坦度は、Ｔｒｏｐｅｌ社のＵｌｔｒａＦｌａｔを使用して測定した。またフレームの平坦度はＸＹ軸プログラムステージを有するレーザー変位計で測定した。
また、「マスクの最大変形レンジ」とは、マスクの形状を２回測定し、マスク各点の高さの差のうち、＋／−側それぞれの最大変化量の絶対値の和と定義される。なおペリクル貼り付けによりマスクが変形した場合には、平坦度が変化していない場合でも最大変形レンジは大きな値となることがあるので、マスクの変形／歪みの指標として最大変形レンジは平坦度よりも有効である。
なお、マスクの平坦度は、Ｔｒｏｐｅｌ社のＵｌｔｒａＦｌａｔを使用して測定した。またフレームの平坦度はＸＹ軸プログラムステージを有するレーザー変位計で測定した。
また、「マスクの最大変形レンジ」とは、マスクの形状を２回測定し、マスク各点の高さの差のうち、＋／−側それぞれの最大変化量の絶対値の和と定義される。なおペリクル貼り付けによりマスクが変形した場合には、平坦度が変化していない場合でも最大変形レンジは大きな値となることがあるので、マスクの変形／歪みの指標として最大変形レンジは平坦度よりも有効である。
（実施例２）
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１１５ｍｍ×３．０ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状は図３（ａ）に示し、断面積３．００ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、１０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１１５ｍｍ×３．０ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状は図３（ａ）に示し、断面積３．００ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、１０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、０．２４μｍとなった。また最大変形レンジは３０ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（実施例３）
マグネシウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ａ）であり、断面積が３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をマグネシウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
マグネシウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ａ）であり、断面積が３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をマグネシウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに、荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２４μｍとなった。また最大変形レンジは２８ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（実施例４）
ポリカーボネート樹脂製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ａ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をポリカーボネート樹脂製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
ポリカーボネート樹脂製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ａ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をポリカーボネート樹脂製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２５μｍと変化しなかった。また最大変形レンジは２０ｎｍ変化したものの、比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度の測定結果を表１にまとめた。
（実施例５）
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１１５ｍｍ×４．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ａ）であり、断面積３．７５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１１５ｍｍ×４．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ａ）であり、断面積３．７５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２７μｍとなった。また最大変形レンジは５０ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（実施例６）
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｂ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの外側面側を１ｍｍの深さで、また内側面側を０．５ｍｍの深さで削った。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｂ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの外側面側を１ｍｍの深さで、また内側面側を０．５ｍｍの深さで削った。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２４μｍとなった。また最大変形レンジは４０ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（実施例７）
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｃ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの外側面から上辺が１ｍｍ、下辺が０．５ｍｍ、高さが２．５ｍｍの台形形状を削り、内側からは上辺が０．５ｍｍ、下辺が１．０ｍｍ、高さが２．５ｍｍの台形形状を削った。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｃ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの外側面から上辺が１ｍｍ、下辺が０．５ｍｍ、高さが２．５ｍｍの台形形状を削り、内側からは上辺が０．５ｍｍ、下辺が１．０ｍｍ、高さが２．５ｍｍの台形形状を削った。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２５μｍと変化しなかった。また最大変形レンジは３５ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（実施例８）
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｄ）であり、断面積４．００ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。両内外側面から加工を行い、上辺と下辺を結ぶ中央部は幅が０．５ｍｍで高さが１．５ｍｍであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｄ）であり、断面積４．００ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。両内外側面から加工を行い、上辺と下辺を結ぶ中央部は幅が０．５ｍｍで高さが１．５ｍｍであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２７μｍとなった。また最大変形レンジは４５ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（実施例９）
ポリカーボネート樹脂製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｄ）であり、断面積４．００ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をポリカーボネート樹脂製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
ポリカーボネート樹脂製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、上辺及び下辺の幅が２ｍｍ（断面形状が図３（ｄ）であり、断面積４．００ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をポリカーボネート樹脂製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２５μｍと変化しなかった。また最大変形レンジは２５ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ非常に低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（実施例１０）
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、幅が上辺が１．５ｍｍ、下辺が２．５ｍｍ（断面形状が図３（ｅ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。上辺は１．５ｍｍで下辺は２．５ｍｍ、上辺と下辺を結ぶ中央部は０．５ｍｍ幅で高さは２．５ｍｍであった。また上辺、下辺の厚みは０．５ｍｍであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、幅が上辺が１．５ｍｍ、下辺が２．５ｍｍ（断面形状が図３（ｅ）であり、断面積３．２５ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。上辺は１．５ｍｍで下辺は２．５ｍｍ、上辺と下辺を結ぶ中央部は０．５ｍｍ幅で高さは２．５ｍｍであった。また上辺、下辺の厚みは０．５ｍｍであった。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断しペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度マスクの平坦度を測定したところ、０．２６μｍとなった。また最大変形レンジは４０ｎｍ変化したものの、後述の比較例に比べ低い値に抑えることができた。なお、平坦度等の測定結果を表１にまとめた。
（比較例）
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、幅が２ｍｍ（断面形状は長方形であり、断面積７．０ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
アルミニウム合金製で、外寸が１４９ｍｍ×１２２ｍｍ×３．５ｍｍ、幅が２ｍｍ（断面形状は長方形であり、断面積７．０ｍｍ2）のペリクルフレームを製作した。このフレームの平坦度をマスク粘着剤を塗布する側から測定したところ、２０μｍであった。このフレームの片端面にマスク粘着剤を塗布し、もう一方の片端面に膜接着剤を塗布した。その後、先に剥離したペリクル膜をアルミニウム合金製フレームの膜接着剤側に貼り付け、フレームの外周の膜を切断し、ペリクルを完成させた。
完成したペリクルを、１４２ｍｍ角で平坦度が０．２５μｍであるマスクに、荷重２０ｋｇで貼り付けた。その後、再度ペリクル付きマスクの平坦度を測定したところ、０．２９μｍと変化してしまった。また最大変形レンジは１００ｎｍと大きく変化した。
以上の結果をまとめると、以下の表１に示すようになった。
１：ペリクル膜
２：接着層
３：ペリクルフレーム
４：接着用粘着層
５：露光原版
１０：ペリクル
１２：上辺
１３：上辺部
１４：下辺
１５：下辺部
１６：中間部
１７：側辺
１８：四辺形状の窪み
１９：側辺
２：接着層
３：ペリクルフレーム
４：接着用粘着層
５：露光原版
１０：ペリクル
１２：上辺
１３：上辺部
１４：下辺
１５：下辺部
１６：中間部
１７：側辺
１８：四辺形状の窪み
１９：側辺
Claims (9)
- ペリクルフレームバーの断面が、上辺及び下辺を含む縦長の長方形の両側辺の各々に台形状の一つの窪みを有した形状を有し、
前記台形が、前記長方形の上辺と平行な上辺を有した台形であるか、又は、前記長方形の上辺と垂直な上辺を有した台形である、ことを特徴とする
ペリクルフレーム。 - 前記窪みの少なくとも一方が前記上辺と平行な上辺を有した台形である、請求項１記載のペリクルフレーム。
- 前記窪み少なくとも一方が前記上辺と垂直な上辺を有した台形である、請求項１記載のペリクルフレーム。
- 前記長方形の面積が２０ｍｍ2以下である、請求項１〜３いずれか１つに記載のペリクルフレーム。
- 前記ペリクルフレームバーの断面積が６ｍｍ2以下である、請求項１〜４いずれか１つに記載のペリクルフレーム。
- ヤング率が１〜８０ＧＰａである材料で構成された、請求項１〜５いずれか１つに記載のペリクルフレーム。
- アルミニウム合金で構成された、請求項１〜６いずれか１つに記載のペリクルフレーム。
- ペリクルフレームの平坦度が２０μｍ以下である、請求項１〜７いずれか１つに記載のペリクルフレーム。
- 請求項１〜８いずれか１つに記載のペリクルフレームの一端面にペリクル膜接着剤を介してペリクル膜が張設され、他端面に露光原版接着剤を設けたリソグラフィ用ペリクル。
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Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61121109A (ja) * | 1984-11-19 | 1986-06-09 | Canon Inc | 微動テ−ブル装置 |
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| JPS62251570A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-02 | Hitachi Ltd | 多重ベロ−ズ及びその製造方法 |
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| JPH09311436A (ja) * | 1996-05-22 | 1997-12-02 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | マスク保護部材 |
| JPH1048813A (ja) * | 1996-08-07 | 1998-02-20 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | マスク保護装置 |
| JP3347038B2 (ja) * | 1997-12-01 | 2002-11-20 | 株式会社東芝 | ペリクル及びペリクル付露光用マスク |
| JP4101206B2 (ja) * | 2003-05-23 | 2008-06-18 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 大型ペリクルの支持装置および装着方法 |
| JP4345882B2 (ja) * | 2003-06-04 | 2009-10-14 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 大型ペリクル |
| JP2005157223A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-16 | Seiko Epson Corp | レチクルおよび半導体装置の製造方法 |
| JP2005308901A (ja) * | 2004-04-19 | 2005-11-04 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクルフレーム及びそれを用いたフォトリソグラフィー用ペリクル |
| KR101164460B1 (ko) * | 2006-04-07 | 2012-07-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 리소그래피용 펠리클 |
| JP2008083166A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-04-10 | Toppan Printing Co Ltd | ペリクルフレーム |
| US8323855B2 (en) * | 2007-03-01 | 2012-12-04 | Nikon Corporation | Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method |
| JP2008256925A (ja) * | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
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