JP5476043B2 - フッ素化合物を含有する排ガスの処理方法及び装置 - Google Patents

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Description

本発明は、PFCを含む排ガスの処理に関し、特に、半導体や液晶、太陽電池製造装置の内面等をドライクリーニングする工程や、酸化膜等の各種成膜をエッチングする工程から排出されるPFC、特にパーフルオロ化合物(PFC)を含む排ガスの処理方法と装置に関する。
半導体や液晶製造工程中に多種類の有害ガスが使用されており、環境中への排気による環境汚染が懸念される。特に、半導体工業における半導体製造装置内面のクリーニング工程や、エッチング工程或いはCVD工程などにおいては、CHF3などのフッ化炭化水素や、CF、C、C、C、C、C、SF、NFなどのパーフルオロ化合物(PFC)などのフッ素含有化合物が用いられており、これらのプロセスからの排ガス中に含まれるフッ素含有化合物は、地球温暖化ガスとしてその除去システムの確立が急務とされている。
フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法としては、例えば、酸化アルミニウム及びアルカリ土類金属の酸化物を含む処理剤を用いて排ガス中のフルオロカーボンを分解処理する方法(特許文献1);酸化アルミニウム及びアルカリ土類金属の酸化物を含む処理剤を用いて排ガス中のフッ化硫黄を分解処理する方法(特許文献2);アルミナ及びアルカリ土類金属化合物、及び場合によっては銅、錫、バナジウム等の金属の酸化物を含む処理剤を用いて排ガス中のフッ素化合物を分解処理する方法(特許文献3);水酸化アルミニウムと水酸化カルシウムとを含む処理剤を用いて排ガス中のPFCを分解処理する方法(特許文献4);などが提案されている。
しかしながら、上記のような従来の処理方法は、特にCFなどの難分解性ガスを処理する場合、処理温度が800〜1000℃と高いため、処理装置の熱による劣化が速く、装置のエネルギー消費量も大きいという問題があった。また、従来の処理剤は、使用寿命が短くて交換頻度が高いという問題を包含していた。例えば、特許文献1〜3に開示されている方法では、PFCを酸化アルミニウム(アルミナ)と反応させてフッ化アルミニウムを生成させることによってPFCガスを分解している。しかしながら、酸化アルミニウムの反応活性が低いので、この反応を効率よく進行させるためには、高温の反応条件が必要である。更に、生成したフッ化アルミニウムが酸化アルミニウムの表面に層を形成し、これによって酸化アルミニウムが被毒されて短時間で触媒活性を失うおそれがあり、その様な場合は、処理剤の交換頻度が高くなってしまうという問題がある。
PFCガスを水酸化アルミニウムと反応させて、水酸化アルミニウムの水酸基の水素によってフッ素をフッ化水素とし、次に生成したフッ化水素を水酸化カルシウムと反応させてフッ化カルシウムを生成させることによって、PFCガスなどのPFCを従来法よりも低い温度で効率よく分解処理することができる方法が提案されている(特許文献4)。しかし、かかる方法は、小型の装置では効果があるものの、実機規模にスケールアップすると、アルミニウムの活性が阻害され、十分な除去効果を示さない場合があることが確認された。
また、PFCガスを1000℃以上の高温で加熱分解するヒータ式除害方法が知られているが、該方法は、大流量処理に対応可能であり、易分解性PFCガス(CHF、NF)は高効率に除去できるが、難分解性PFCガス(CF4,SF、C)の除去率が低く、また、流出ガスの処理に給排水ラインが必要っであった。
本発明者らは、先に特願2008−71336に示した処理剤を開発したが、これらの最適処理温度は、650〜750℃であり、反応槽内の全ての部分を650〜750℃に均一に加温できることが望ましいが、ヒーターの取付位置や、排ガスの比熱等の影響により、現実には、反応槽内の処理剤を全て650〜750℃の適温に保つのは難しく、行おうとすると装置構造が複雑になりコストもかかる。
特開2002−224565号公報 特開2002−370013号公報 特開2001−190959号公報 特開2005−262128号公報
そこで、本発明は、かかる従来技術の課題を解決し、ヒータ式除害方法とPFC処理剤を用いる方法を組合せて、スケールアップした実機でも失活せずにPFCガスを効率よく分解することができ、耐久性に優れた排ガスの処理方法と装置を提供することを課題とする。
前記課題を解決するために、本発明では、難分解性のパーフルオロ化合物(PFC)を含む排ガスの処理方法において、該排ガスを、酸素の存在下に700℃以上の温度で加熱分解し、該分解ガスをAl(OH)とCa(OH)の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるPFC処理剤(パーフルオロ化合物処理剤)を充填した反応槽に通すことを特徴とする排ガス処理方法としたものである。
前記排ガスの処理方法において、PFC処理剤は、平均粒子径(メディアン径)55μm以上160μm以下のAl(OH)と、Ca(OH)とのモル比が3:7〜5:5である混合物を成形して乾燥し、430℃よりも高く890℃以下の温度範囲で、窒素流又は空気流中で焼成して得ることができ、また、反応槽は、500℃以上に加熱されるのがよい。
また、本発明では、難分解性のPFCを含む排ガスの処理装置において、前記排ガスと酸素含有ガスとを通す700℃以上の温度に加熱された加熱分解槽と、該分解したガスを通すAl(OH)とCa(OH)の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるPFC処理剤を充填した反応槽とを有することを特徴とする排ガス処理装置としたものである。
前記排ガスの処理装置において、加熱分解槽と反応槽とをガスの流れに沿って一体に構成するのがよい。
本発明によれば、PFC処理剤を充填した反応槽の上流に、加熱分解槽を設け、排ガスを単に700℃以上に加熱して、まず、難分解性のCやCをCFまで分解し、残留するCFは、PFC処理剤を充填した反応槽でも比較的低温の650℃程度で分解することができるので、全反応槽の温度を700℃以上にした場合に比べて省エネルギー化が図れ、PFC処理剤への負荷が減り、結果として反応槽全体の処理剤の寿命が延びると共に、反応槽内全体を厳密に均一温度に制御しなくてもよくなり、装置構造が簡略化できる。
以下に、本発明を詳細に説明する。
本発明では、CやC等の難分解性のPFCを含む排ガスを、酸素含有ガスと共に、単にヒーター等で700℃以上、好ましくは800℃以上に加熱する加熱分解槽を通し、難分解性のCやC等を分解して、残留するCFを比較的低温(650℃以下)で処理できるPFC処理剤を充填した反応槽に通して処理することができる。
本発明で使用する加熱分解槽は、PFCを含む排ガスを酸素含有ガスと共に、700℃以上、好ましくは800℃以上に加熱できるものであれば、どのような加熱槽でも使用でき、通常はヒーターを備えた加熱槽が用いられ、処理ガスの温度が、800℃以上に達すると、排ガス中のCやCは分解される。また、加熱分解槽からの高温の分解ガスは、次のPFC処理剤を充填した反応槽の加熱に使用でき、加熱分解槽と反応槽とを一体に形成すれば、そのまま、高温の分解ガスが反応槽の加熱に使用でき熱の有効利用となる。
次に、本発明で使用するPFC処理剤について説明する。
PFC処理剤は、Al(OH)とCa(OH)の混合物を焼成して得られた複合酸化物である。
該処理剤の原材料であるAl(OH)は、その平均粒子径が55μm以上、好ましくは、60μm以上160μm以下、より好ましくは90μm以上120μm以下である。ここで、平均粒子径とは、メディアン径を意味し、粒子径ごとに頻度(含有量)を積算し、含有量の累積が最小粒子径からはじめて50%になる点での粒子径である。
該処理剤のもう一つの原材料であるCa(OH)の平均粒子径はA1(OH)の平均粒径によって変動するが、A1(OH)よりもCa(OH)の平均粒子径(メディアン径)は小さい方が好ましい。Ca(OH)の平均粒子径(メディアン径)としては、好ましくは1μm以上10μm以下、より好ましくは3μm以上8μm以下、最も好ましくは4μm以上6μm以下である。
A1(OH)とCa(OH)とは、平均粒子径の大きいA1(OH)を核にして、その表層にCa(OH)が効率よく配置されることで活性が維持されると考えられる。よって、Ca(OH)の粒径がA1(OH)の平均粒径に比べて小さすぎるとA1(OH)の表面全体を隙間なく覆い、フッ素含有化合物との接触を阻止して結果的にフッ素含有化合物の分解を阻害し、逆にCa(OH)の粒径がA1(OH)の平均粒径に比べて大きすぎるとフッ素含有化合物分解時のFとの接触効率が低下し結果的に分解が不充分となり、何れの場合もフッ素含有化合物の分解効率を下げると考えられる。
上記混合物におけるA1(OH)とCa(OH)とのモル比は、3:7〜5:5、好ましくは3:7〜4:6である。A1(OH)とCa(OH)とのモル比が上記範囲外であると、PFC処理剤としての所望の処理性能が得られず、短時間でCF除去率が95%以下に劣化してしまい、実用に耐えない。
本発明で使用するPFC処理剤は、上記混合物を押出し成形して得た成形物を乾燥し、430℃よりも高く890℃以下の温度範囲、好ましくは580℃〜850℃、より好ましくは650℃〜780℃の温度範囲で、窒素流又は空気流中で焼成することにより得られる非晶質の酸化アルミニウムと、酸化カルシウムからなる複合酸化物と考えられる。
A1(OH)とCa(OH)とを混合した成形物の焼成温度は、脱水可能な温度であって且つ失活しない温度範囲であることが必要になる。A1(OH)の脱水温度は約270℃であり、Ca(OH)の脱水温度は約430℃であるから、少なくとも430℃を超えることが好ましい。温度範囲が890℃を超えると、CF除去率が低下する。
このことから、高熱焼成処理により酸化アルミニウムが結晶化してしまい、活性が劣化することによると考えられる。
A1(OH)とCa(OH)との成形物は、窒素流又は空気流中で焼成する。成形物を一定位置で焼成する場合、窒素流又は空気流は一定時間で流入方向を逆転させることが好ましい。焼成により進行する脱水反応の結果、発生する水分を混合物周囲に滞留させず、速やかに蒸発・除去させるためである。高熱高湿雰囲気でA1(OH)とCa(OH)との成形物を焼成し続けると、水分の存在により酸化アルミニウムが結晶化(活性点における微細構造レベルでの結晶化を意味する)してしまい、活性が劣化すると考えられる。よって、A1(OH)や焼成により得られる酸化アルミニウムなどの周囲に不活性ガスを流すことによって、発生する水分を速やかに除去することが必要である。窒素流又は空気流の向流気流は、例えば、A1(OH)とCa(OH)との成形物をカラムに充填して、カラムの上下から交互に窒素流又は空気流を送るなどして与えることができる。
焼成時間は特に限定されず、使用するA1(OH)とCa(OH)との量によっても変動するが、一般的に6〜12時間とするのが脱水効果やエネルギー消費効率の点で好ましく、8〜10時間とするのがさらに好ましい。技術的にはCa(OH)が脱水する温度(約430℃)まで昇温した後、さらに1〜2時間焼成することで充分であると考えられる。焼成温度に達するまでの昇温速度が速すぎると脱水が不充分な場合が生じ、遅すぎると経済的理由(エネルギーや時間を消費する)から好ましくない。通常は、100℃/hrの昇温速度が最適である。また、焼成時間が長すぎると、処理剤が焼成中に燃料から発生するCOを過吸着してしまい、フッ素吸着性能が低下するので好ましくない。
本PFC処理剤は、 AlとCaOとの複合酸化物であり、以下のように酸素を介して緩やかに結合していると考えられる。
本PFC処理剤をフッ素化合物と接触させると、(Al_O)部分の触媒作用により
CF→C+4F
の分解反応が進み、(O_Ca)部分からの酸素(O)とカルシウム(Ca)とにより
C+2O→CO
4F+2Ca→2CaF
の酸化還元反応が進むと考えられる。
このように、本PFC処理剤を用いてフッ素含有化合物を含む排ガスを処理すると、PFCが分解して、フッ化カルシウム(CaF)が生成する。フッ化カルシウムは、フッ素製造の原料として知られる蛍石の主成分であり、酸で処理することによってフッ素ガスを発生させることができる。したがって、本発明のPFC処理剤は、極めて効率的にフッ素含有化合物を含むガスからフッ素を再利用可能な形態で回収することができる。
なお、本PFC処理剤には、酸化力向上助剤として、Pd、Pt、Rh、Ru等、耐熱向上剤としてZrO、La等、その他の物質を含んでもよい。
本PFC処理剤により処理することのできるフッ素含有化合物としては、CHF等のフッ化炭化水素、CF、C、C、SF、NFなどのパーフルオロ化合物(PFC)等を挙げることができる。このようなフッ素含有化合物を含むガスとしては、半導体工業で半導体製造装置の内面等をドライクリーニングする工程や、各種成膜をエッチングする工程で排出される排ガスなどを挙げることができる。
また、本PFC処理剤は、PFCなどに加えて、酸化性ガス、酸性ガスなども分解処理することができる。半導体等の製造工程から排出される排ガス中には、PFCばかりでなく、他にF、Cl、Br等の酸化性ガス、HF、SiF、COF、HCl、HBr、SiCl、SiBr等の酸性ガスなどが含まれる場合がある。本PFC処理剤によれば、これらの酸化性ガスや酸性ガスも、PFC等のフッ素含有化合物と共に分解処理することができる。
次に、本発明の排ガス処理方法に用いる装置について説明する。
図1は、本発明で用いる装置の一例を示すフロー構成図である。
図1において、1は加熱分解槽、2はヒーター、3は被処理ガス、4は分解ガス、5は反応槽、6はヒーター、7はPFC処理剤、8は処理ガスであり、CやCを含む排ガスに、酸素源としての空気を加えた被処理ガス3は、800℃以上に設定されているヒーター2により加熱されている加熱分解槽1に導入されて、排ガス中のCが95%以上分解される。次で、排ガス中のCが分解され、分解されずに残ったCFを含む排ガスが、PFC処理剤7が充填されている反応槽5に導入されて、700℃に設定されているヒーター6により加熱されて、分解ガス4中に含まれるCFが99%以上分解されて、排ガス中のCとCFが除去された処理ガス8が排出される。
図2は、本発明で用いる装置の他の例を示すフロー構成図であり、加熱分解槽1と反応槽5とを一体に構成した装置であり、こうすることによって、加熱分解槽1で加熱された加熱ガスが、そのまま反応槽5の加熱に利用でき、省エネルギー化が図れる。
図3は、処理装置を2槽直列に接続した本発明の別の例を示すフロー構成図である。図3では、加熱分解槽1と反応槽5とを一体に構成した左右2つの装置を直列に接続しており、被処理ガス3は、まず、左の装置の下部に導入されて2重管9の外側を通り熱交換されて温度が上昇されて加熱分解槽1から反応槽5を通り、次いで右の装置の下部に導入され、2重管で熱交換されて、同様に加熱分解槽1から反応槽5を通り、処理ガス8として排出される。10は熱交換器、11は吸引ファンである。
以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明する。
(1) PFCガスの加熱分解による処理
表1に、CとCFを含む排ガスを加熱分解した処理条件と結果を示す。
(2) PFC処理剤の調製
均一に加熱できるように外部ヒーターを全周に具備する小型カラム(寸法:径150mm×高さ850mm)に、A1(OH)とCa(OH)との混合物〔A1(OH)の平均粒子径90μm、Ca(OH)の平均粒子径5μm、A1(OH)とCa(OH)との配合割合3:7〕を押出し成形して得た造粒品14Lを充填して、カラム内部に多量の水蒸気が滞留しないようにN流量:50L/minを上向流と下向流とで与えた。反応槽の温度を600℃に調整して、最初にN上向流を5〜6時間流してA1(OH)とCa(OH)との充填物層のうち上層の半分を420℃以上で焼成し、次にN下向流を2〜3時間流してA1(OH)とCa(OH)との充填物層のうち下層の半分を420℃以上で焼成した。
(3) 本発明の処理装置を用いる処理
処理装置は、図1に示す装置を用い、被処理ガスとしては、難分解性PFCsガス(C、C)と易分解性PFCsガス(CF、CHF、CH等)及びCOが同時に製造装置より排出され、処理装置に流入してくるものであり、装置入口での総流量(希釈Nを含む)は、22L/minであった。
まず、加熱分解槽で700〜800℃に加熱し、C、CをCF、その他の易分解性PFCsガスに分解する。
次に、反応槽で前記(2)で調整したPFC処理剤を使用し、約650℃程度でCF、その他の易分解性成分を分解し、CaFとCOに分解する。CaFは混合体に固定され、COは排出される。
COは、反応槽で、処理装置に供給している空気と反応させ、COとして排出される。
結果を表2に示す。

以上のように、本発明によれば、難分解性PFCsガス分解のために必要な700〜800℃加熱領域の容積を少なくしたことにより、ヒータ電力の削減、筐体排気温度の低下による筐体排気量の削減が図られ、省エネルギー化ができた。
また650℃程度で運転させるF固定部反応槽の容器材料の延命かにもつながる。
本発明で用いる装置の一例を示すフロー構成図。 本発明で用いる装置の他の例を示すフロー構成図。 本発明で用いる装置の他の例を示すフロー構成図。
1:加熱分解槽、2:ヒーター、3:被処理ガス、4:分解ガス、5:反応槽、6:ヒーター、7:PFC処理剤、8:処理ガス、9:2重管(熱交換用)、10:熱交換器、11:吸引ファン

Claims (5)

  1. 難分解性のパーフルオロ化合物(PFC)を含む排ガスの処理方法において、該排ガスを、酸素の存在下に700℃以上の温度で加熱分解し、該分解ガスをAl(OH)とCa(OH)の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるPFC処理剤(パーフルオロ化合物処理剤)を充填した反応槽に通すことを特徴とする排ガス処理方法。
  2. 前記PFC処理剤は、平均粒子径(メディアン径)55μm以上160μm以下のAl(OH)と、Ca(OH)とのモル比が3:7〜5:5である混合物を成形して乾燥し、430℃よりも高く890℃以下の温度範囲で、窒素流又は空気流中で焼成して得ることを特徴とする請求項1記載の排ガス処理方法。
  3. 前記反応槽は、500℃以上に加熱されることを特徴とする請求項1又は2記載の排ガス処理方法。
  4. 難分解性のPFCを含む排ガスの処理装置において、前記排ガスと酸素含有ガスとを通す700℃以上の温度に加熱された加熱分解槽と、該分解したガスを通すAl(OH)とCa(OH)の混合物を焼成して得られた複合酸化物からなるPFC処理剤を充填した反応槽とを有することを特徴とする排ガス処理装置。
  5. 前記加熱分解槽と反応槽とが、ガスの流れに沿って一体に構成されていることを特徴とする請求項4記載の排ガス処理装置。
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