JP5475152B2 - 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 - Google Patents
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Description
本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する液処理装置であって、
前記被処理体の前記本体部を支持する支持部と、
前記支持部によって支持された前記被処理体に、疎水化液を供給する疎水化液供給機構と、
前記疎水化液供給機構によって疎水化液が供給された後の前記被処理体に、リンス液を供給するリンス液供給部と、を備え、
前記疎水化液供給機構が、前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給する第一疎水化液供給部と、前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給する第二疎水化液供給部とを有している。
本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する液処理方法であって、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えている。
液処理装置に液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記液処理方法が、本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と当該無機膜と性質の異なる異質膜とが積層された被処理体を処理する方法であって、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記異質膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を有する方法からなっている。
以下、本発明に係る液処理装置および液処理方法の実施の形態について、図面を参照して説明する。ここで、図1乃至図8は本発明の実施の形態を示す図である。
このとき、液供給アーム5は、支持プレート51の上方から外れた位置に位置づけられている。
ここで、被検査体Tとしては、金属膜として用いられうるTiN(チタンナイトライド)およびW(タングステン)と、無機膜として用いられうるSiO2を用いている。
しかしながら、上述のようにエッチング液で処理することによって外面(レジスト膜Woの側面)に位置する有機分子が途中で切断されることとなる。このため、当該有機分子は、周縁に位置する−OH(水酸基)などと反応して結合し、親水性を示すこととなる。従って、エッチング液で処理した後のレジスト膜Woをリンス液で洗浄する場合にはレジスト膜Woを含む凸形状部Wm,Woが倒壊する可能性があるが、本実施の形態のように、第一疎水化液供給工程95と第二疎水化液供給工程97を施すことによって、このようなレジスト膜Woの倒壊を防止することができる。
Claims (10)
- 本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と金属膜とが積層された被処理体を処理する液処理装置において、
前記被処理体の前記本体部を支持する支持部と、
前記支持部によって支持された前記被処理体に、疎水化液を供給する疎水化液供給機構と、
前記疎水化液供給機構によって疎水化液が供給された後の前記被処理体に、リンス液を供給するリンス液供給部と、を備え、
前記疎水化液供給機構は、前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給する第一疎水化液供給部と、前記金属膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給する第二疎水化液供給部とを有する液処理装置。 - 少なくとも前記疎水化液供給機構を制御する制御部、をさらに備え、
前記制御部は、前記第一疎水化液供給部から第一疎水化液を前記被処理体に供給させた後で、前記第二疎水化液供給部から第二疎水化液を前記被処理体に供給させることを特徴とする請求項1に記載の液処理装置。 - 前記第二疎水化液供給部から供給される第二疎水化液は界面活性剤を含むことを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記第一疎水化液供給部から供給される第一疎水化液は、シリル化剤またはフッ素ポリマー薬液を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の液処理装置。
- 少なくとも前記疎水化液供給機構を制御する制御部、をさらに備え、
前記制御部は、前記第二疎水化液供給部から第二疎水化液を前記被処理体に供給させる前または供給させた後に、前記リンス液供給部からリンス液を前記被処理体に供給させることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の液処理装置。 - 少なくとも前記疎水化液供給機構を制御する制御部と、
置換液を供給する置換液供給部と、をさらに備え、
前記制御部は、前記第一疎水化液供給部から第一疎水化液を前記被処理体に供給させる前または供給させた後に、前記置換液供給部から置換液を前記被処理体に供給させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の液処理装置。 - 本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と金属膜とが積層された被処理体を処理する液処理方法において、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記金属膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を備えたことを特徴とする液処理方法。 - 前記被処理体に第一疎水化液を供給した後で、該被処理体に第二疎水化液を供給することを特徴とする請求項7に記載の液処理方法。
- 液処理装置に液処理方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記液処理方法は、本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有し、無機膜と金属膜とが積層された被処理体を処理する方法であって、
支持部によって、前記被処理体の前記本体部を支持することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記無機膜を疎水化するための第一疎水化液を前記被処理体に供給することと、
前記支持部によって支持された前記被処理体に前記金属膜を疎水化するための第二疎水化液を前記被処理体に供給することと、
第一疎水化液と第二疎水化液が供給された後の前記被処理体にリンス液を供給することと、
を有する方法からなっていることを特徴とする記憶媒体。 - 前記液処理方法は、前記被処理体に第一疎水化液を供給した後で、該被処理体に第二疎水化液を供給する方法からなっていることを特徴とする請求項9に記載の記憶媒体。
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