JP5418962B2 - 位置合わせ装置、位置合わせ方法、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。
図1は、本実施形態の露光装置100の断面構成図である。露光装置100は露光に必要な光学系10と、第1露光ステージ20と、基板を移送するローラRと、焦点位置検出部30とから構成されている。
焦点位置検出部30はシート基板FBの露光面の高さ位置(Z軸方向)を検出することができる。例えば、焦点位置検出部30は投光系36及び受光系37で構成されている。本実施形態の焦点位置検出部30は、斜入射方式の焦点位置検出部30であり、投光系36及び受光系37を移送方向(X軸方向)と平行に配置してある。投光系36が測定点Pから見て、X軸方向の斜め左上方向に設置され、同様に、受光系37は測定点Pから見て、X軸方向の斜め右上方向に設置されている。
図1で示されるように第1露光ステージ20はシート基板FBの移送方向の第2ローラR2と第3ローラR3との間に配置される。移送方向において第1露光ステージ20の両端部はテーパ部21が形成されている。また第2ローラR2と第3ローラR3とのシート基板FBの通過点は第1露光ステージ20のシート基板FBの通過点より下部に形成されており、これによってシート状基板FBにかかる張力は、シート状基板FBを第1露光ステージ20に押し付ける力として働く。なお、第2ローラR2と第3ローラR3とは、テーパ部21のテーパ角度αの延長方向に配置するのが好ましい。シート基板FBが通過する第1露光ステージ20の一方のテーパ部21と他方のテーパ部21との間は平坦に形成されている。
図3は、シート基板FBに投影されるパターン領域PAと焦点位置検出部30の測定点Pの位置を示した図である。シート基板FBのパターン領域PAは台形形状である。露光装置100はシート基板FB上の1つのパターン領域PAに焦点位置検出部30の測定点P(P1〜P10)を複数設置する。焦点位置検出部30はパターン領域PAにおけるシート基板FBの高さ方向(Z軸方向)の位置ずれを計測することができる。
図4は1つのパターン領域PA付近における第1露光ステージ20の吐出孔42及び吸引孔47と測定点Pとの位置関係を示した上面図である。なお、シート基板FBは理解し易いように図示していない。
第1露光ステージ20を傾斜または上下させるため、本実施形態では第1露光ステージ20の下に6自由度テーブル50が設置されている。例えば、6自由度テーブル50は図1で示された第1露光ステージ20の下部に設置されている。
6本のアクチュエータ53〜58の上端には、図示せぬ球面軸受を介して、点線で示されている三角テーブル59が固定されている。三角テーブル59には第1露光ステージ20が取り付けられている。6本のアクチュエータ53〜58を伸縮させることにより、三角テーブル59を6自由度で(X、Y、Z、θX、θY、θZ)駆動することができる。したがって第1露光ステージ20は傾斜または上下動することができる。なお、図示はしないが三角テーブル59付近には、複数の静電容量式の位置センサが配置されており、三角テーブル59の位置が測定される。
図9は本実施形態の露光装置100においての制御部90によるシート基板FBの高さ位置の調整の制御図を示した図である。制御部90は、演算部91と記憶部93とテーブル制御部94とで構成されている。
図10は本実施形態の露光装置100におけるシート基板FBの高さ位置の調整を示したフローチャートである。なお、シート基板FBは既に露光装置100にセットされた状態である。
第1実施形態では第1露光ステージ20がシート基板FBの下面側に配置されていたが、本実施形態の露光装置200はシート基板FBの表面側に第2露光ステージ120が配置されている。なお、本実施形態で用いる同様な構成については、第1実施形態と同じ符号を用い説明を省くものとする。
図13は1つのパターン領域PA付近における第2露光ステージ120の吐出孔42及び吸引孔47と測定点Pとの位置関係を示した下面図である。なお、シート基板FBは理解し易いように図示していない。
第1実施形態の露光装置100は第1露光ステージ20がシート基板FBの下面側に配置され、第2実施形態の露光装置200はシート基板FBの表面側に第2露光ステージ120が配置されていた。第3実施形態の露光装置300はシート基板FBの表面側に第2露光ステージ120が配置され、第3露光ステージ130がシート基板FBの下面側に配置されている。なお、本実施形態で用いる同様な構成については、第1実施形態及び第2実施形態と同じ符号を用い説明を省くものとする。
11 … 光源
12 … オプティカルインテグレータ、13 … 開口絞り
14 … コンデンサーレンズ、15 … ダイクロイックミラー
16 … レチクル
19 … 投影光学系
20 … 第1露光ステージ
21 … テーパ部
30 … 焦点位置検出部(36 … 投光系、37 … 受光系)
32 … 距離センサ
40 … 流量調整部
41 … 吐出管、46 … 吸引管
42 … 吐出孔、47 … 吸引孔
48 … 第1バルブ制御部、49 … 第2バルブ制御部
50 … 自由度テーブル
51 … 第1固定プレート
52 … 第2固定プレート
53、54、55、56,57,58 … アクチュエータ
59 … 三角テーブル
61 … 第1バルブ、62 … 第2バルブ
90 … 制御部(91 … 演算部、93 … 記憶部、94 … テーブル制御部)
100、200、300 … 露光装置
120 … 第2露光ステージ
130 … 第3露光ステージ
AR … 領域
AX … 光軸
FB … シート基板(FBs … 表面)
FL … 焦点基準線
FP … 像面
IL … 露光光
P … 測定点
PA … パターン領域
R … ローラ
ST … 投光スリット
α … テーパ角度
Claims (25)
- シート状の基板を該基板の表面と交差する交差方向に位置合わせする位置合わせ装置において、
前記基板に対して流体を吐出する複数の吐出孔及び該流体を吸引する複数の吸引孔を有し、前記吐出孔から吐出させた前記流体を介して前記基板を支持する支持部と、
少なくとも1つの前記吐出孔及び前記吸引孔に対応して設けられた計測点における前記基板の前記交差方向の位置を計測する計測部と、
前記計測部の計測結果に基づいて、前記計測点に対応付けられた前記吐出孔及び前記吸引孔に流通させる前記流体の流量を調整する調整部と、
を備えることを特徴とする位置合わせ装置。 - 前記支持部は、前記基板に対する支持面に沿った方向に間隔を隔てた第1支持領域及び第2支持領域が設けられ、該第1及び第2支持領域ごとに複数の前記吐出孔及び前記吸引孔を有していることを特徴とする請求項1に記載の位置合わせ装置。
- 前記支持部は、前記基板に対する支持面に沿った方向に間隔を隔てて配置される第1支持部及び第2支持部を含み、
前記計測点は、前記第1支持部が有する前記吐出孔及び前記吸引孔と、前記第2支持部が有する前記吐出孔及び前記吸引孔とに対応付けられ、前記支持面に沿った方向に関して前記第1支持部と前記第2支持部との間の領域に設けられることを特徴とする請求項1に記載の位置合わせ装置。 - 前記計測点は、前記基板に対する前記支持部の支持面に沿った方向に関して、当該計測点に対応付けられた前記吐出孔及び前記吸引孔の少なくとも1つと重なる位置に設けられることを特徴とする請求項1又は2に記載の位置合わせ装置。
- 前記計測点は、前記基板に対する前記支持部の支持面に沿った方向に関して、当該計測点に対応付けられた前記吐出孔と前記吸引孔との間の領域に設けられることを特徴とする請求項1又は2に記載の位置合わせ装置。
- 前記計測点は、前記基板に対する前記支持部の支持面に沿った方向に関して、当該計測点に対応付けられた複数の前記吐出孔の間の領域又は該複数の吐出孔に囲われた領域に設けられることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の位置合わせ装置。
- 前記計測部は、前記基板に対して斜め方向から前記計測点に光を投射する投射系と、該計測点における前記基板で反射した前記光を検出し、該光の検出結果に基づいて前記基板の前記交差方向の位置を計測する検出系と、を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の位置合わせ装置。
- 前記計測部は、前記支持面に沿って前記第1及び第2支持部が間隔を隔てた方向と交差する方向であって且つ前記基板に対して傾斜した方向から前記計測点に光を投射する投射系と、該計測点における前記基板で反射した前記光を検出し、該光の検出結果に基づいて前記基板の前記交差方向の位置を計測する検出系と、を有することを特徴とする請求項3に記載の位置合わせ装置。
- 前記支持部の少なくとも一部は、前記投射系が投射する前記光が透過可能な透過部材によって形成され、
前記検出部は、前記支持部の前記透過部材を介した前記光を検出することを特徴とする請求項7又は8に記載の位置合わせ装置。 - 前記計測部の計測結果に基づいて、前記支持部の少なくとも一部の前記交差方向の位置を変化させる調整部を備えることを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の位置合わせ装置。
- 帯状に形成された前記基板の長手方向に該基板を移送する移送部を備えることを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載の位置合わせ装置。
- 露光光によってパターン像を形成し、該パターン像を基板に転写する露光装置であって、
前記パターン像の像面に対して前記基板を位置合せする請求項1から11のいずれか一項に記載の位置合わせ装置を備えることを特徴とする露光装置。 - シート状の基板を該基板の表面と交差する交差方向に位置合わせする位置合わせ方法において、
前記基板に対して流体を吐出する複数の吐出孔及び該流体を吸引する複数の吸引孔を有する支持部で、前記吐出孔から吐出させた前記流体を介して前記基板を支持する工程と、
少なくとも1つの前記吐出孔及び前記吸引孔に対応して設けられた計測点における前記基板の前記交差方向の位置を計測する計測工程と、
前記計測工程の計測結果に基づいて、前記計測点に対応付けられた前記吐出孔及び前記吸引孔に流通させる前記流体の流量を調整する工程と、
を備えることを特徴とする位置合わせ方法。 - 前記支持部は、前記基板に対する支持面に沿った方向に間隔を隔てた第1支持領域及び第2支持領域が設けられ、該第1及び第2支持領域ごとに複数の前記吐出孔及び前記吸引孔を有していることを特徴とする請求項13に記載の位置合わせ方法。
- 前記支持部は、前記基板に対する支持面に沿った方向に間隔を隔てて配置される第1支持部及び第2支持部を含み、
前記計測点は、前記第1支持部が有する前記吐出孔及び前記吸引孔と、前記第2支持部が有する前記吐出孔及び前記吸引孔とに対応付けられ、前記支持面に沿った方向に関して前記第1支持部と前記第2支持部との間の領域に設けられることを特徴とする請求項14に記載の位置合わせ方法。 - 前記計測点は、前記基板に対する前記支持部の支持面に沿った方向に関して、当該計測点に対応付けられた前記吐出孔及び前記吸引孔の少なくとも1つと重なる位置に設けられることを特徴とする請求項13又は14に記載の位置合わせ方法。
- 前記計測点は、前記基板に対する前記支持部の支持面に沿った方向に関して、当該計測点に対応付けられた前記吐出孔と前記吸引孔との間の領域に設けられることを特徴とする請求項13又は14に記載の位置合わせ方法。
- 前記計測点は、前記基板に対する前記支持部の支持面に沿った方向に関して、当該計測点に対応付けられた複数の前記吐出孔の間の領域又は該複数の吐出孔に囲われた領域に設けられることを特徴とする請求項13から15のいずれか一項に記載の位置合わせ方法。
- 前記計測工程は、前記基板に対して斜め方向から前記計測点に光を投射し、該計測点における前記基板で反射した前記光を検出し、該光の検出結果に基づいて前記基板の前記交差方向の位置を計測することを特徴とする請求項13から18のいずれか一項に記載の位置合わせ方法。
- 前記計測工程は、前記支持面に沿って前記第1及び第2支持部が間隔を隔てた方向と交差する方向であって且つ前記基板に対して傾斜した方向から前記計測点に光を投射し、該計測点における前記基板で反射した前記光を検出し、該光の検出結果に基づいて前記基板の前記交差方向の位置を計測することを特徴とする請求項19に記載の位置合わせ方法。
- 前記支持部の少なくとも一部は、前記投射される前記光が透過可能な透過部材によって形成され、
前記支持部の前記透過部材を介した前記光が検出されることを特徴とする請求項19又は20に記載の位置合わせ方法。 - 前記計測工程の計測結果に基づいて、前記支持部の少なくとも一部の前記交差方向の位置を変化させることを特徴とする請求項13から21のいずれか一項に記載の位置合わせ方法。
- 帯状に形成された前記基板の長手方向に該基板を移送することを特徴とする請求項13から22のいずれか一項に記載の位置合わせ方法。
- 露光光によってパターン像を形成し、該パターン像を基板に転写する露光方法であって、
前記パターン像の像面に対して前記基板を位置合せする請求項13から23のいずれか一項に記載の位置合わせ方法を備えることを特徴とする露光方法。 - 露光工程を含む電子デバイスの製造方法であって、
前記露光工程において、請求項24に記載の露光方法を用いる電子デバイス製造方法。
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