JP2011090097A - 近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】近接スキャン露光方法は、3つのギャップセンサ87a,87b,87cによってマスクMと基板Wとの間の各ギャップgをマスク毎に測定する工程と、測定された各ギャップgに基づいて、各ギャップgの差分が許容範囲内となるようにマスクMの平坦度を調整する工程と、マスクMの平坦度を調整後に、3つのギャップセンサ87a,87b,87cによってマスクMと基板Wとの間の各ギャップgをマスク毎に再測定する工程と、再測定された各ギャップgからマスクMの中心位置でのギャップを計算する工程と、計算された各マスクMの中心位置での各ギャップが同じ値となるようにマスク駆動部12を駆動してマスクMの高さを調整する工程と、を備える。
【選択図】図3
Description
(1) 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光装置であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスク毎に測定された前記マスクと前記基板との間の各ギャップに基づいて、前記各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整すると共に、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの中心位置での前記ギャップを計算し、前記計算された各マスクの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する、制御部を有することを特徴とする近接スキャン露光装置。
(2) 前記制御部は、前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整することを特徴とする(1)に記載の近接スキャン露光装置。
(3) 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光方法であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスクと前記基板との間の各ギャップを前記マスク毎に測定する工程と、
前記測定された各ギャップに基づいて、前記各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整する工程と、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの中心位置での前記ギャップを計算する工程と、
前記計算された各マスクの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する工程と、
を有することを特徴とする近接スキャン露光方法。
(4) 前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整する工程、をさらに備えることを特徴とする(3)に記載の近接スキャン露光方法。
(5) 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光装置であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスク毎に測定された前記マスクと前記基板との間の各ギャップに基づいて算出された、前記マスクの有効露光エリア内の4隅の各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整すると共に、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの有効露光エリアの中心位置での前記ギャップを計算し、前記計算された各マスクの有効露光エリアの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する、制御部を有することを特徴とする近接スキャン露光装置。
(6) 前記制御部は、前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整することを特徴とする(5)に記載の近接スキャン露光装置。
(7) 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光方法であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスクと前記基板との間の各ギャップを前記マスク毎に測定する工程と、
前記測定された各ギャップに基づいて算出された、前記マスクの有効露光エリア内の4隅の各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整する工程と、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの有効露光エリアの中心位置での前記ギャップを計算する工程と、
前記計算された各マスクの有効露光エリアの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する工程と、
を有することを特徴とする近接スキャン露光方法。
(8) 前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整する工程、をさらに備えることを特徴とする(7)に記載の近接スキャン露光方法。
なお、有効露光エリアMaの4隅における仮想ギャップを計算するのは、ギャップセンサの配置場所がマスクに対して左右対称に配置できない場合があり、また、マスクの有効露光エリアの繋ぎ部に配置できることは少なく、中心寄りに配置されたギャップセンサの値は、繋ぎ部の値と大きく異なる場合があるためである。
次に、本発明の第2実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法について、図12を参照して説明する。なお、本実施形態では、マスク駆動部12がマスク保持部11の傾き状態を制御するチルト駆動部36をさらに備え、第1実施形態のステップS105におけるマスクMの平坦度調整をチルト駆動部36によって行っている。
本実施形態では、実際にマスクMの平坦度を調整した後に3つのギャップセンサ87a,87b,87cによって各ギャップを再測定し、3つの仮想点A,B,Cのギャップ或いは、平面方程式を用いて4隅のギャップを求めてからマスクMの平坦度調整後のマスクMの中心位置でのギャップを算出し、その後、マスクMの高さを調整している。しかしながら、本発明は、マスクMの平坦度調整と高さ調整とを同時に制御するようにしてもよい。その場合には、メカ的、或いはチルト駆動部36によって平坦度調整した後のギャップセンサ87a,87b,87cの位置でのギャップを演算によって取得し、マスクMの中心位置でのギャップを算出するようにしてもよい。
2 マスクチェンジャ
10 基板搬送機構
11 マスク保持部
12 マスク駆動部
14 照射部
15 制御部
41 超高圧水銀ランプ
44 シャッター
EL 露光用光
M マスク
W カラーフィルタ基板(基板)
Claims (8)
- 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光装置であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスク毎に測定された前記マスクと前記基板との間の各ギャップに基づいて、前記各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整すると共に、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの中心位置での前記ギャップを計算し、前記計算された各マスクの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する、制御部を有することを特徴とする近接スキャン露光装置。 - 前記制御部は、前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整することを特徴とする請求項1に記載の近接スキャン露光装置。
- 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光方法であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスクと前記基板との間の各ギャップを前記マスク毎に測定する工程と、
前記測定された各ギャップに基づいて、前記各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整する工程と、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの中心位置での前記ギャップを計算する工程と、
前記計算された各マスクの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する工程と、
を有することを特徴とする近接スキャン露光方法。 - 前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整する工程、をさらに備えることを特徴とする請求項3に記載の近接スキャン露光方法。
- 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、
前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光装置であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスク毎に測定された前記マスクと前記基板との間の各ギャップに基づいて算出された、前記マスクの有効露光エリア内の4隅の各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整すると共に、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの有効露光エリアの中心位置での前記ギャップを計算し、前記計算された各マスクの有効露光エリアの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する、制御部を有することを特徴とする近接スキャン露光装置。 - 前記制御部は、前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整することを特徴とする請求項5に記載の近接スキャン露光装置。
- 基板を所定の方向に沿って搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクを前記搬送される基板から離れた状態でそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部をそれぞれ駆動する複数のマスク駆動部と、前記マスク毎に、全てが直線状に並ばないように有効露光エリアに配置され、前記マスクと前記基板との間のギャップをそれぞれ測定する少なくとも3つのギャップセンサと、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、を備え、前記搬送される基板に対して前記複数のマスクを介して前記露光用光を照射して、前記基板に前記各マスクのパターンを露光し、前記所定の方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する近接スキャン露光方法であって、
前記3つのギャップセンサによって前記マスクと前記基板との間の各ギャップを前記マスク毎に測定する工程と、
前記測定された各ギャップに基づいて算出された、前記マスクの有効露光エリア内の4隅の各ギャップの差分が許容範囲内となるように前記マスクの平坦度を調整する工程と、
前記マスクの平坦度調整後の前記マスクの有効露光エリアの中心位置での前記ギャップを計算する工程と、
前記計算された各マスクの有効露光エリアの中心位置での各ギャップが同じ値となるように前記マスク駆動部を駆動して前記マスクの高さを調整する工程と、
を有することを特徴とする近接スキャン露光方法。 - 前記直交方向で隣り合う前記被露光領域を露光する前記各マスク間の繋ぎ部におけるギャップの差分が許容幅以上であるとき、該許容幅以下となるように、前記マスクの傾きを調整する工程、をさらに備えることを特徴とする請求項7に記載の近接スキャン露光方法。
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