JP5413176B2

JP5413176B2 - 電磁波反射部材の製造方法、および電磁波反射部材の反射率回復方法

Info

Publication number: JP5413176B2
Application number: JP2009287592A
Authority: JP
Inventors: 彰詞竹重; 聡浜田; 啓二鹿島; 剛志黒田
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2009-12-18
Filing date: 2009-12-18
Publication date: 2014-02-12
Anticipated expiration: 2029-12-18
Also published as: JP2011128417A

Description

本発明は、製造工程中に生じる反射率の低下を回復することができる電磁波反射部材の製造方法に関する。

可視光線ないし赤外線の波長域において、所望の波長を選択的に反射できる部材として、コレステリック液晶を用いた選択反射部材が知られている。これら選択反射部材は、所望の光（電磁波）のみを選択的に反射することができるため、例えば可視光線は透過させて熱線のみを反射する熱線反射膜や透過性断熱膜としての利用が期待されている。

コレステリック液晶を用いて電磁波を反射する電磁波反射部材については、例えば以下の文献に記載されている。特許文献１には、広帯域で近赤外線を反射する薄膜コーティングを施した透明基板と、近赤外線部に鋭い波長選択反射性を有するコレステリック液晶製のフィルタとからなる積層体が開示されている。この技術は、可視光の透過率を低下させることなく、近赤外線を高効率で反射させることを目的としている。また、特許文献２には、赤外線波長範囲内において、入射する放射の少なくとも４０％を反射する１種またはそれ以上のコレステリック層を含む断熱コーティングが開示されている。この技術は、コレステリック層を用いることで、所望の断熱効果を得ることを目的としている。

さらに、特許文献３には、特定の方法により光反射率が向上された高分子液晶層と、この高分子液晶層を支持する支持体とを備える高分子液晶層構造体であって、特定波長の光に対して反射率が３５％以上である高分子液晶層構造体が開示されている。この技術は、主に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）に用いられるものであり、フッ素系非イオン性界面活性剤を用いることで、高分子液晶層の反射率を向上させることが記載されている。また、特許文献４には、可視光を透過させ、かつ特定波長域の近赤外線を選択的に反射させる、コレステリック液晶構造を有する高分子固化体層からなる選択反射層Ａを有する近赤外線遮蔽層を備えた近赤外線遮蔽用の両面粘着フィルムが開示されている。この技術は、主にプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に用いられるものであり、近赤外線遮蔽用の両面粘着フィルムにより、ＰＤＰが周囲に与える電磁波の影響を抑制することが記載されている。

また、特許文献５には、基材上に少なくとも重合性液晶材料を含む液晶層形成用組成物を積層し、所定の液晶規則性を有する液晶層を形成する工程と、上記液晶層に活性放射線を照射して、光学機能層とする光学機能層形成工程と、上記光学機能層に対して液晶層を重合（架橋）させる前の等方層以上の温度で熱処理を行う熱処理工程とを含む光学素子の製造方法が記載されている。この技術は、光学機能層に熱処理を行うことで、基材との密着性を向上させることを目的としている。

特開平４−２８１４０３号公報特表２００１−５１９３１７号公報特許第３４１９５６８号特開２００８−２０９５７４号公報特開２００３−２０７６４４号公報

右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を、透明外装基板と積層する場合、通常は、まず、選択反射層と透明外装基板との間に粘着剤層を配置した積層部材を作製し、次に、その積層部材に対して加熱および加圧を行い、積層部材を一体化させる。しかしながら、その積層部材を一体化させる工程で、選択反射層の反射率の低下が生じるという問題がある。このような問題に対して、例えば、選択反射層の厚さを大きくすることで反射率の低下を抑制することも可能であるが、選択反射層の厚さを大きくすると、コスト面での負荷が増大するという問題がある。さらに、選択反射層の厚さを大きくすると、選択反射層の乾燥プロセスでの負荷が増大するという問題もある。

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、製造工程中に生じる反射率の低下を回復することができる電磁波反射部材の製造方法を提供することを主目的とする。

上記課題を解決するために、本発明においては、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を含有する選択反射層含有部材と、上記選択反射層の表面上に形成された第一粘着剤層と、上記第一粘着剤層の表面上に形成された第一透明外装基板とが、加熱および加圧により一体化された中間部材を作製する中間部材作製工程と、上記中間部材を、上記選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱する修正加熱工程と、を有することを特徴とする電磁波反射部材の製造方法を提供する。

本発明によれば、修正加熱工程を行うことにより、中間部材作製工程で低下した選択反射層の反射率が回復し、反射率が良好な電磁波反射部材を得ることができる。また、選択反射層の厚さを必要以上に大きくする必要がないため、コスト面およびプロセス面での負荷を低減させることができる。

上記発明においては、上記中間部材作製工程が、上記選択反射層含有部材を準備する選択反射層含有部材準備工程と、上記選択反射層含有部材の上記選択反射層の表面上に、上記第一粘着剤層および上記第一透明外装基板をこの順に配置し、処理部材を形成する処理部材形成工程と、上記処理部材を、上記第一粘着剤層が粘着性を発揮する温度以上の温度で加熱し、かつ、上記選択反射層および上記第一透明外装基板が粘着する圧力以上の圧力で加圧することで一体化し、上記中間部材を形成する一体化工程と、を有することが好ましい。

上記発明においては、上記修正加熱工程における加熱温度が、６０℃〜２７０℃の範囲内であることが好ましい。加熱温度が低すぎると、選択反射層の配向乱れが修正されない可能性があり、加熱温度が高すぎると、反射率の回復という観点からは問題ないものの、選択反射層と第一透明外装基板との間に気泡が生じ、光透過性が低下する可能性があるからである。

上記発明において、上記中間部材は、上記第一粘着剤層が形成されていない側の上記選択反射層含有部材の表面上に形成された第二粘着剤層と、上記第二粘着剤層の表面上に形成された第二透明外装基板とがさらに一体化されてなるものであることが好ましい。

上記発明においては、上記第一粘着剤層および上記第二粘着剤層の少なくとも一方に用いられる粘着剤が、ポリビニルブチラールであることが好ましい。透明性や粘着性に優れているからである。ポリビニルブチラールを用いた場合は、例えば、合わせガラスとして有用な電磁波反射部材を得ることができる。

上記発明においては、上記第一透明外装基板および上記第二透明外装基板の少なくとも一方が、ガラス板であることが好ましい。透明性や耐候性に優れているからである。

上記発明においては、上記選択反射層が、コレステリック構造を形成した棒状化合物を含有することが好ましい。所望の選択反射性を得ることができるからである。

上記発明においては、上記選択反射層が、上記棒状化合物がネマチック液晶性を有し、上記選択反射層が、カイラルネマチック液晶を固定化したものを含有することが好ましい。所望の選択反射性を得ることができるからである。

また、本発明においては、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を含有する選択反射層含有部材と、上記選択反射層の表面上に形成された第一粘着剤層と、上記第一粘着剤層の表面上に形成された第一透明外装基板とが、加熱および加圧により一体化された電磁波反射部材を、上記選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱することを特徴とする電磁波反射部材の反射率回復方法を提供する。

本発明によれば、反射率が低下した従来の電磁波反射部材に対して、所定の加熱処理を行うことにより、選択反射層の反射率を回復させることができる。

本発明においては、選択反射層の厚さを必要以上に大きくすることなく、反射率が良好な選択反射層を有する電磁波反射部材を得ることができるという効果を奏する。

本発明の電磁波反射部材の製造方法の一例を示す概略断面図である。本発明における処理部材を例示する概略断面図である。

以下、本発明の電磁波反射部材の製造方法、および電磁波反射部材の反射率回復方法について詳細に説明する。

Ａ．電磁波反射部材の製造方法
まず、本発明の電磁波反射部材の製造方法について説明する。本発明の電磁波反射部材の製造方法は、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を含有する選択反射層含有部材と、上記選択反射層の表面上に形成された第一粘着剤層と、上記第一粘着剤層の表面上に形成された第一透明外装基板とが、加熱および加圧により一体化された中間部材を作製する中間部材作製工程と、上記中間部材を、上記選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱する修正加熱工程と、を有することを特徴とするものである。

このような本発明の電磁波反射部材の製造方法について図を参照しながら説明する。図１は、本発明の電磁波反射部材の製造方法の一例を示す概略断面図である。図１においては、まず透明基板１を準備する（図１（ａ））。次に、透明基板１の表面上に、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層２を形成し、選択反射層含有部材１１を得る（図１（ｂ））。次に、選択反射層２の一方の表面上に第一粘着剤層３ａを配置し、その第一粘着剤層３ａの表面上に第一透明外装基板４ａを配置し、第一粘着剤層３ａが形成されていない側の選択反射層含有部材１１の表面上に第二粘着剤層３ｂを配置し、その第二粘着剤層３ｂの表面上に第二透明外装基板４ｂを配置することで、処理部材１２を得る（図１（ｃ））。次に、処理部材１２に対して、加熱２１および加圧２２を行い、処理部材１２を一体化する（図１（ｄ））。これにより、電磁波反射部材の中間部材１３が得られる（図１（ｅ））。最後に、中間部材１３に対して、選択反射層２の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱２３を行う（図１（ｆ））。これにより、選択反射層２の反射率が回復した電磁波反射部材１４を得ることができる（図１（ｇ））。

なお、本発明における「選択反射層の反射率の回復」とは、中間部材作製工程で低下した選択反射層の反射率が、選択反射層含有部材（中間部材を形成する前の部材）の選択反射層の反射率に近づくことをいう。

本発明によれば、修正加熱工程を行うことにより、中間部材作製工程で低下した選択反射層の反射率が回復し、反射率が良好な電磁波反射部材を得ることができる。また、選択反射層の厚さを必要以上に大きくする必要がないため、コスト面およびプロセス面での負荷を低減させることができる。また、従来、上記中間部材が電磁波反射部材の完成品として使用されてきた。本発明においては、このような中間部材に対して、さらに加熱処理を行うことで、容易に選択反射層の反射率を回復させることができる。

次に、中間部材作製工程において、選択反射層の反射率が低下する理由について説明する。中間部材作製工程では、選択反射層、第一粘着剤層および第一透明外装基板が積層された部材（例えば、上記の処理部材）を一体化するために、加熱および加圧を行う。この際、第一粘着剤層が選択反射層に物理的または化学的な負荷を与え、選択反射層の配向を乱していることが考えられる。第一粘着剤層が選択反射層に与える負荷としては、第一粘着剤層に含まれる添加剤等の低分子成分が、加熱および加圧により選択反射層に移動し、選択反射層の配向を乱していることが考えられる。また、第一粘着剤層に含まれる粘着剤自身が、選択反射層との界面で選択反射層の配向を乱していることも考えられる。このように、第一粘着剤層が選択反射層に物理的または化学的な負荷を与えることにより、選択反射層の配向が乱れ、選択反射層の反射率が低下しているものと推察される。これに対して、本発明においては、反射率が低下した選択反射層に対して、熱を加えることにより、負荷を受けていた選択反射層を本来の配向に戻し、選択反射層の配向乱れを修正することで、反射率が回復する。
以下、本発明の電磁波反射部材の製造方法について、工程ごとに説明する。

１．中間部材作製工程
本発明における中間部材作製工程は、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を含有する選択反射層含有部材と、上記選択反射層の表面上に形成された第一粘着剤層と、上記第一粘着剤層の表面上に形成された第一透明外装基板とが、加熱および加圧により一体化された中間部材を作製する工程である。従来、この中間部材が、電磁波反射部材の完成品として使用されてきた。本発明においては、このような中間部材に対して、さらに加熱処理を行うことで、容易に選択反射層の反射率を回復させることができる。また、本発明における中間部材は、選択反射層含有部材、第一粘着剤層および第一透明外装基板を少なくとも有するものであるが、さらに、後述する第二粘着剤層および第二透明外装基板を有するものであっても良い。

本発明における中間部材作製工程は、所望の中間部材を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。中間部材作製工程の一例としては、後述する、選択反射層含有部材準備工程、処理部材形成工程および一体化工程を有するものを挙げることができる。

（１）選択反射層含有部材準備工程
本発明における選択反射層含有部材準備工程は、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を有する選択反射層含有部材を準備する工程である。本工程により得られる選択反射層含有部材は、選択反射層の他に、通常、選択反射層を支持する透明基板をさらに有する。なお、選択反射層が、その構成要素として後述するλ／２板を有し、そのλ／２板が選択反射層を支持可能であれば、選択反射層含有部材は透明基板を有していなくても良い。

（ｉ）選択反射層の構成
選択反射層は、層の一方の面から入射する光（電磁波）のうち右円偏光成分または左円偏光成分を選択反射し、残りの成分を透過する機能を有する。このように特定の円偏光成分のみを反射できる材料として、コレステリック液晶材料が知られている。コレステリック液晶材料は、液晶のプレーナー配列のヘリカル軸に沿って入射した光（電磁波）の右旋および左旋の２つの円偏光のうち一方の偏光を選択的に反射する性質を有する。この性質は、円偏光二色性として知られ、コレステリック液晶分子の螺旋構造における旋回方向を適宜選択すると、その旋回方向と同一の旋光方向を有する円偏光が選択的に反射される。

この場合の最大旋光偏光光散乱は、下記式（１）：
λ＝ｎ_ａｖ・ｐ（１）
において選択波長λで生じる。なお、式（１）中、ｎ_ａｖはヘリカル軸に直交する平面内の平均屈折率であり、ｐは液晶分子の螺旋構造におけるヘリカルピッチである。

また、反射波長のバンド幅Δλは、下記式（２）：
Δλ＝Δｎ・ｐ（２）
で表される。なお、式（２）中、Δｎは、コレステリック液晶材料の複屈折率である。すなわち、コレステリック液晶材料からなる選択反射層は、選択波長λを中心とした波長バンド幅Δλの範囲の光（電磁波）の右旋または左旋の円偏光成分の一方を反射し、他方の円偏光成分と他の波長領域の無偏光の光（電磁波）とを透過させる。

従って、コレステリック液晶材料のｎ_ａｖおよびｐを適宜選択することにより、所望の電磁波を反射させることができる。

また、本発明における選択反射層は、通常、右円偏光成分の電磁波を反射する右円偏光選択反射層、または左円偏光成分の電磁波を反射する右円偏光選択反射層である。中でも、本発明における選択反射層は、右円偏光選択反射層であることが好ましい。右円偏光選択反射層に使用できる材料の種類は、左円偏光選択反射層に使用できる材料の種類よりも多いからである。一方、左円偏光選択反射層は、右円偏光選択反射層と、λ／２板とから構成されているものであっても良い。右円偏光選択反射層およびλ／２板を組み合わせることで、左円偏光選択反射層と同様の反射特性を発揮できるからである。上記λ／２板としては、位相差πが生じるものであれば特に限定されるものではなく、一般的なλ／２板を用いることができる。

選択反射層の厚さは、特に限定されるものではないが、０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、０．５μｍ〜２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１μｍ〜１０μｍの範囲内であることがさらに好ましい。また、複数の選択反射層の間に、粘着剤層が形成されていても良い。粘着剤層に用いられる材料としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の親水性粘着剤、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤等を好適に使用することができる。さらに、選択反射層含有部材は、二以上の選択反射層を有していても良い。

（ii）選択反射層の材料
次に、選択反射層の材料について説明する。選択反射層は、円偏光二色性を発揮する層であれば特に限定されるものではない。このような選択反射層としては、例えば、コレステリック構造を形成した棒状化合物を含有するものを挙げることができる。

上記棒状化合物としては、通常、屈折率異方性を有するものであり、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、さらに３次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、経時変化が生じにくいものとすることができるからである。また、上記重合性官能基を有する棒状化合物と、上記重合性官能基を有さない棒状化合物とを混合して用いても良い。なお、上記「３次元架橋」とは、棒状化合物を互いに３次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることを意味する。

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。

また、棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は屈折率異方性が大きいからである。棒状化合物の具体例としては、下記化学式（１）〜（６）で表される化合物を例示することができる。

ここで、化学式（１）、（２）、（５）および（６）で示される液晶性材料は、Ｄ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．１９０,３２０１−３２１５（１９８９）、またはＤ.Ｊ.Ｂｒｏｅｒら、Ｍａｋｒｏｍｏｌ.Ｃｈｅｍ.１９０,２２５５−２２６８（１９８９）に開示された方法に従い、あるいはそれに類似して調製することができる。また、化学式（３）および（４）で示される液晶性材料の調製は、ＤＥ１９５,０４,２２４に開示されている。

また、末端にアクリレート基を有するネマチック液晶性材料の具体例としては、下記化
学式（７）〜（１７）に示すものも挙げられる。

さらに、棒状化合物として、ＳＩＤ０６ＤＩＧＥＳＴ１６７３−１６７６）に開示された下記化学式（１８）に表わされる化合物を例示することができる。

なお、上記棒状化合物は、１種類のみを用いてもよく、または、２種以上を混合して用いてもよい。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を１つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度（架橋密度）及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。

本発明においては、上記のいずれの棒状化合物も好適に用いることができるが、なかでもネマチック液晶性を示す棒状化合物を用い、その棒状化合物とカイラル剤とを併用した材料が用いられることが好ましい。このような材料では、カイラルネマチック液晶を固定化されることが可能になるからである。

上記カイラル剤としては、上記棒状化合物を所定のコレステリック配列させることができるものであれば特に限定されるものではない。カイラル剤としては、例えば、下記の一般式（１９）、（２０）又は（２１）で表されるような、分子内に軸不斉を有する低分子化合物を用いることが好ましい。

上記一般式（１９）又は（２０）において、Ｒ^１は水素又はメチル基を示す。Ｙは上記に示す式（ｉ）〜（ｘｘｉｖ）の任意の一つであるが、中でも、式（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｖ）及び（ｖｉｉ）のいずれか一つであることが好ましい。また、アルキレン基の鎖長を示すｃ及びｄは、それぞれ個別に２〜１２の範囲で任意の整数をとり得るが、４〜１０の範囲であることが好ましく、６〜９の範囲であることがさらに好ましい。

また、カイラル剤として、以下のような化学式で表わされるものも用いることができる。

（iii）λ／２板
本発明においては、上述したように、左円偏光選択反射層が、右円偏光選択反射層と、λ／２板とから構成されていることが好ましい。右円偏光選択反射層およびλ／２板を組み合わせることで、左円偏光選択反射層と同様の反射特性を発揮できるからである。さらに、右円偏光選択反射層に使用できる材料の種類は、左円偏光選択反射層に使用できる材料の種類よりも多いという利点がある。

上記λ／２板としては、位相差πが生じるものであれば特に限定されるものではなく、一般的なλ／２板を用いることができる。中でも、本発明においては、λ／２板が、下記式（３）：
Ｒｅ＝｛（２ｎ＋１）／２±０．２｝・λ （３）
（式中、Ｒｅはリタデーションを表し、λは波長を表し、ｎは１以上の整数を表す）
を満足する平均リタデーションを有することが好ましい。λ／２板としてポリエチレンテレフタレートフィルム等の汎用延伸フィルムを用いた場合であっても、λ／２板が特定の条件を満たすことにより、大面積でも斑無く均一に所望の波長のみを効率的に反射し、かつ非常に安価な電磁波反射部材を得ることができるからである。

一般に、λ／２板として使用されている位相差フィルムは、セルロース誘導体、シクロオレフィン系樹脂等からなる高分子フィルムであり工業的にも広く普及している。これらの位相差フィルムは、フィルムのリタデーション面内分布が非常に小さく、フィルム全面において均一なリタデーションを有する。例えば、光学素子用の位相差フィルムとして普及しているＴＡＣフィルムは、リタデーションの面内分布が概ね１．５ｎｍ程度である。これに対して、汎用樹脂を溶融押出加工した高分子延伸フィルムは、厚みおよび複屈折率がフィルム全面において均一なものとすることが困難なため、これらの高分子延伸フィルムのリタデーション面内分布は、数十ｎｍ程度である。位相差フィルムとして、リタデーションＲｅが上記式（３）の関係を満足する３λ／２ｎｍ以上のもの、例えば、反射波長λが１２００ｎｍとした場合にＲｅ＝１８００ｎｍの位相差フィルムを用いることによって、リタデーションの面内分布が例えば５０ｎｍ程度の高分子延伸フィルムであったとしても、最大反射波長に及ぼす反射率の影響（ｓｉｎ^２（π・Ｒｅ／λ））は、７％程度と低くなり、面内で均一かつ高効率な反射特性を実現できる。

なお、本明細書中、λ／２板のリタデーションとは、λ／２板中で最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎ_ｘ）と遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎ_ｙ）とλ／２板の厚み（ｄ）とにより、下記式（４）：
Ｒｅ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ（４）
によって定義されるものであり、平均リタデーションとは、λ／２板の任意の２００ｍｍ幅の間について、均等間隔（１０ｍｍ）で２０点のリタデーションを測定し、それら各値を平均したものと定義する。なお、リタデーションは、例えば王子計測機器製のＫＯＢＲＡ−ＷＸ１００／ＩＲ等により測定（測定角０°）することができる。

本発明においては、λ／２板の平均リタデーションは、少なくとも所望の選択反射波長λの１．３〜１．７倍程度となる。例えば、選択反射層により反射される波長λを１２００ｎｍとした場合は、上記式（３）により、少なくとも、平均リタデーションが１５６０ｎｍ〜２０４０ｎｍの範囲内にある位相差フィルムとする。このような平均リタデーションを有する位相差フィルムを用いることにより、位相差フィルムのリタデーションの面内分布が数十ｎｍであっても、電磁波反射部材としては全体で均一でかつ高効率な反射特性を実現できる。すなわち、本発明においては、リタデーション面内分布の大きく、かつ平均リタデーション値が大きい、位相差フィルムとしては従来用いられていなかった汎用高分子延伸フィルムを、上記式（３）を満足するようにλ／２板として電磁波反射部材に適用することができる。なお、本明細書中、リタデーションの面内分布とは、フィルムの任意の２００ｍｍ幅の間について、均等間隔（１０ｍｍ）で２０点のリタデーションを測定し、その最大値と最小値との差を面内分布と定義する。リタデーションは、例えば王子計測機器製のＫＯＢＲＡ−ＷＸ１００／ＩＲにより測定（測定角０°）することができる。

上記のように、リタデーション面内分布が数十ｎｍ程度である高分子延伸フィルムをλ／２板として用いた場合であっても、電磁波反射部材としては全体で均一でかつ高効率な反射特性を実現できる理由を、例示を挙げて以下説明する。リタデーション面内分布が１．５ｎｍ程度であるＴＡＣフィルムに対して、市販のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略すこともある）二軸延伸フィルムは、リタデーション面内分布が±数十ｎｍ程度であることが知られている。例えば、厚み１８８μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルム（ルミラー（登録商標）Ｕ３５、東レ株式会社製）のＴＤ方向のリタデーション面内分布は、±８０ｎｍ程度であり、ＭＤ方向のリタデーション面内分布は、−６０ｎｍ〜＋８０ｎｍ程度である。このような面内分布を有する高分子延伸フィルムをλ／２板として使用すると、例えば反射波長λが可視光域（５５０ｎｍ）とした場合に、最大反射波長に及ぼす影響は、８０ｎｍ／５５０ｎｍ×１００＝１４．５％となり、フィルムを透過した光の偏光状態が、完全な右円偏光ではなく、ずれた右円偏光成分が含まれることとなり、その結果、反射されるべき光Ｉ_Ｒが減少し、反射効率が低減する。これに対し、たとえリタデーション面内分布が上記のように±８０ｎｍ程度であったとしても、用いる選択波長が１２００ｎｍであった場合には、８０ｎｍ／１２００ｎｍ×１００＝６．６％となり、右円偏光選択反射層で反射する光量が増大する。そのため、高効率でかつ均一な反射特性を有する反射部材を実現できる。

λ／２板のリタデーション面内分布は、±２５ｎｍ以上であることが好ましく、より好ましくは±５０ｎｍ以上である。但し、リタデーション面内分布は、λ／２板の面全体の平均リタデーションの±１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下である。なお、本明細書中、平均リタデーションとは、フィルムの任意の２００ｍｍ幅の間について、均等間隔（１０ｍｍ）で２０点のリタデーションを測定し、それら各値を平均したものと定義する。

上記のような高分子延伸フィルムとしては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート等のポリ（メタ）アクリレート樹脂、ポリスチレンやスチレンと他のモノマーとを共重合させたスチレン共重合体等のポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ナイロン６、ナイロン６，６等のポリアミド系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂等の汎用樹脂からなる延伸フィルムが挙げられるが、これらの中でも、入手のし易さ、製造コスト、平均リタデーションの大きさの観点から、ポリエステル系樹脂からなる延伸フィルムが好適に使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルムの平均リタデーションは、フィルム厚さが２００μｍ程度では概ね５０００ｎｍであり、厚さ１２０μｍ程度では、３０００ｎｍである。

（iv）透明基板
次に、本発明における透明基板について説明する。本発明における選択反射層含有部材は、通常、上記選択反射層を支持する透明基板をさらに有する。なお、選択反射層が、その構成要素として上述したλ／２板を有し、そのλ／２板が選択反射層を支持可能であれば、選択反射層含有部材は透明基板を有していなくても良い。

上記透明基板としては、上記選択反射層を支持できるものであれば特に限定されるものではない。中でも透明基板は、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳＫ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

透明基板は、所望の透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、可撓性のないリジッド材でも用いることもできる。透明基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、（メタ）アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができる。なかでもポリエチレンテレフタレートからなる透明基板が用いられることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。また、本発明においては、透明基板として、後述するガラス板を用いても良い。なお、透明基板の厚みについては、電磁波反射部材の用途および透明基板を構成する材料等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではない。

（ｖ）選択反射層含有部材の形成方法
本発明における選択反射層含有部材の製造方法は、上述した選択反射層含有部材を得ることができる方法であれば特に限定されるものではない。選択反射層含有部材の製造方法の一例としては、棒状化合物およびカイラル剤を含有する選択反射層形成用塗工液を透明基板上に塗布し、必要に応じて紫外線照射等の硬化処理を施す方法を挙げることができる。また、選択反射層が複層構造を有する場合は、複数の選択反射層形成用塗工液を順次塗布すれば良い。さらに、必要に応じて、複数の選択反射層の間に上述した粘着剤層を形成しても良い。

（２）処理部材形成工程
次に、本発明における処理部材形成工程について説明する。本発明における処理部材形成工程は、上記選択反射層含有部材の上記選択反射層の表面上に、上記第一粘着剤層および上記第一透明外装基板をこの順に配置し、処理部材を形成する工程である。なお、処理部材は、各構成部材を一体化する前の部材である。また、本発明における処理部材の形成方法は、所望の処理部材を形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、各構成部材を所定の順番で配置すれば良い。

処理部材形成工程により、例えば図２（ａ）に示すように、透明基板１および選択反射層２を有する選択反射層含有部材１１と、選択反射層２に形成された第一粘着剤層３ａと、第一透明外装基板４ａとを有する処理部材１２を得ることができる。なお、透明基板１は、上述したようにガラス板であっても良い。

さらに、本工程においては、上記第一粘着剤層が配置されていない側の上記選択反射層含有部材の表面上に、第二粘着剤層および第二透明外装基板をこの順に配置し、処理部材を形成しても良い。この場合は、例えば図２（ｂ）に示すように、第二透明外装基板４ｂ、第二粘着剤層３ｂ、選択反射層含有部材１１、第一粘着剤層３ａおよび第一透明外装基板４ａがこの順に配置された処理部材１２が得られる。

また、上述したように、選択反射層含有部材は、λ／２板が選択反射層を支持可能であれば、透明基板を有しなくても良い。この場合、例えば図２（ｃ）に示すように、選択反射層含有部材１１が、右円偏光選択反射層２ａおよびλ／２板５から構成されている左円偏光選択反射層２ｂと、右円偏光選択反射層２ａとを有するものであっても良い。

（ｉ）粘着剤層
本発明における粘着剤層（第一粘着剤層および第二粘着剤層）は、所望の粘着性を有するものであれば特に限定されるものではない。第一粘着剤層および第二粘着剤層は、互いに同じ材料であっても良く、異なる材料であっても良い。また、本発明においては、粘着剤からなる粘着剤層形成用膜を選択反射層含有部材の表面上に配置しても良く、粘着剤を含む粘着剤層形成用組成物を選択反射層含有部材の表面上に塗布し、乾燥することで、粘着剤層を形成しても良い。

粘着剤層の材料としては、特に限定されるものではないが、例えば可塑化ポリビニルアセタールを挙げることができる。また、可塑化ポリビニルアセタールは、ポリビニルアセタールに可塑剤を添加することで得ることができる。上記ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールをアセタール化することにより得られるものであり、なかでも、ポリビニルアルコールをブチラール化することにより得られるポリビニルブチラール（ＰＶＢ）が好ましい。透明性や粘着性に優れているからである。また、ポリビニルブチラールを用いた場合は、例えば、合わせガラスとして有用な電磁波反射部材を得ることができる。

ポリビニルアルコールをアセタール化して、ポリビニルアセタールを得る方法としては、例えば、ポリビニルアルコールを温水に溶解し、得られた水溶液を所定の温度、例えば、０〜９５℃に保持しておいて、所定の酸触媒およびアルデヒドを加え、攪拌しながらアセタール化反応を完結させ、その後、中和、水洗及び乾燥を行ってポリビニルアセタールの粉末を得る方法等を挙げることができる。

上記ポリビニルアルコールとしては、平均重合度５００〜５０００のものが好ましく、平均重合度１０００〜２５００のものがより好ましい。また、上記ポリビニルアセタールは、ビニルアセタール成分とビニルアルコール成分とビニルアセテート成分とから構成されている。これらの各成分量は、例えば、ＪＩＳＫ６７２８「ポリビニルブチラール試験方法」や赤外吸収スペクトル（ＩＲ）に基づいて測定することができる。上記ポリビニルアセタール中におけるビニルアセテート成分は、３０モル％以下に設定するのが好ましく、そのためには、ポリビニルアルコールとして鹸化度７０モル％以上のものが好適に用いられる。なお、ポリビニルアルコールの平均重合度および鹸化度は、例えば、ＪＩＳＫ６７２６「ポリビニルアルコール試験方法」に基づいて測定することができる。また、ポリビニルアセタールの平均アセタール化度は、特に限定されるものではないが、例えば６６モル％〜７２モル％の範囲内であることが好ましい。

一方、上記可塑剤としては、所望の可塑性を付与できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、トリエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエート、オリゴエチレングリコールジ−２−エチルヘキサノエートおよびテトラエチレングリコールジ−ｎ−ヘプタノエートからなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。また、ポリビニルアセタールに対する上記可塑剤の配合量は、特に限定されるものではないが、ポリビニルアセタール１００重量部に対し、３０〜５０重量部が好ましい。

また、本発明における粘着剤層は、さらに、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、界面活性剤、着色剤等の添加剤が添加されていても良い。上記紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系のもの等が挙げられる。上記光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系のもの等が挙げられる。上記酸化防止剤としては、例えばフェノール系のもの等が挙げられる。

上記粘着剤層形成用膜の形成方法としては、例えば、上記ポリビニルアセタールに、上記可塑剤を添加し、さらに必要に応じて各種添加剤を添加し、その混合物を均一に混練することで、粘着剤層形成用組成物を調製し、その後、押し出し法、カレンダー法、プレス法、キャスティング法、インフレーション法等により粘着剤層形成用組成物をシート状に製膜する方法等を挙げることができる。また、粘着剤層の膜厚としては、特に限定されるものではないが、例えば０．３ｍｍ〜１．６ｍｍの範囲内、中でも０．３〜０．８ｍｍの範囲内であることが好ましい。

（ii）透明外装基板
本発明における透明外装基板（第一透明外装基板および第二透明外装基板）は、所望の透明性を有するものであれば特に限定されるものではない。第一透明外装基板および第二透明外装基板は、互いに同じ材料であっても良く、異なる材料であっても良い。中でも透明基板は、通常、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基板の透過率は、ＪＩＳＫ７３６１−１（プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

透明外装基板は、所望の透明性を具備するものであれば、可撓性を有するフレキシブル材でも、可撓性のないリジッド材でも用いることもできる。中でも、透明外装基板は、ガラス板であることが好ましい。透明性や耐候性に優れているからである。また、第一透明外装基板および第二透明外装基板にガラス板を用いることにより、合わせガラス（電磁波反射部材）を得ることができる。

上記ガラス板としては、特に限定されるものではないが、例えば、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、網入り板ガラス、線入り板ガラス、熱線吸収板ガラス、着色された板ガラス等の無機透明ガラス板；ポリカーボネート板、ポリメチルメタクリレート板等の有機透明ガラス板等が挙げられる。上記ガラス板の厚さは、用途によって適宜選択されればよく、特に限定されるものではない。また、無機透明ガラス板および有機透明ガラス板は単独で用いられても良く、２種以上が併用されても良い。また、無機透明ガラス板と有機透明ガラス板とが積層されたものであっても良い。

（３）一体化工程
次に、本発明における一体化工程について説明する。本発明における一体化工程は、上記処理部材を、上記第一粘着剤層が粘着性を発揮する温度以上の温度で加熱し、かつ、上記選択反射層および上記第一透明外装基板が粘着する圧力以上の圧力で加圧することで一体化し、上記中間部材を形成する工程である。

上記「加圧」とは、処理部材を加圧状態にすることをいう。そのため、上記「加圧」には、処理部材に能動的に圧力を加えて加圧状態にする場合、および減圧雰囲気の中で、処理部材に受動的に圧力を加えて加圧状態にする場合の両方を意味する。減圧雰囲気では、選択反射層含有部材と透明外装基板との間に存在する空気が脱気され、処理部材は受動的に圧力を受けることになる。また、処理部材を減圧雰囲気におくことは、気泡の発生を抑制する観点から特に有用である。

第一粘着剤層が粘着性を発揮する温度は、用いられる粘着剤層の種類によって異なるものである。上記加熱温度は、例えば６０℃〜３００℃の範囲内、中でも７０℃〜２００℃の範囲内であることが好ましい。処理部材を加熱する加熱方法としては、例えば、オーブンを用いる方法、ホットプレートを用いる方法等を挙げることができる。なお、処理部材が、第一粘着剤層に加えて第二粘着剤層を有する場合には、第一粘着剤層および第二粘着剤層の両方が粘着性を発揮する温度以上の温度で加熱を行うことが好ましい。

また、選択反射層および第一透明外装基板が粘着する圧力は、用いられる粘着剤層の種類、および加熱された粘着剤層の状態によって異なるものである。減圧雰囲気の中で、処理部材に受動的に圧力を加えて加圧状態にする場合、系内の絶対圧力は、より低いことが好ましい。具体的には、４００ｍｍＨｇ以下であり、３００ｍｍＨｇ以下であることが好ましく、２００ｍｍＨｇ以下であることがより好ましい。減圧雰囲気は、例えば、真空ポンプを用いることにより形成することができる。一方、処理部材に能動的に圧力を加えて加圧状態にする場合、その圧力は、例えば５０００Ｎ／ｍ^２〜２００００００００Ｎ／ｍ^２の範囲内、中でも６６０００Ｎ／ｍ^２〜１５２００００Ｎ／ｍ^２の範囲内であることが好ましい。また、処理部材に能動的に圧力を加える方法としては、例えば、平板プレス法、ロールプレス法等を挙げることができる。なお、処理部材が、第一透明外装基板に加えて第二透明外装基板を有する場合には、第一透明外装基板および第二透明外装基板の両方が粘着する圧力以上の圧力で加圧することが好ましい。

本発明においては、上述した加熱および加圧を同時に行っても良い。加熱および加圧を同時に行う方法としては、例えば、ホットプレス法、オートクレーブを用いる方法等を挙げることができる。また、中間部材を形成するための加熱および加圧は、複数回に分けても良い。例えば、処理部材をゴムバックに入れ、減圧吸引しながら比較的低温で加熱することで、予備的な一体化を行い、その後、得られた部材をオートクレーブで高温高圧状態にすることで、完全な一体化を行っても良い。

２．修正加熱工程
本発明における修正加熱工程は、上記中間部材を、上記選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱する工程である。選択反射層の配向乱れを修正する温度は、通常、第一粘着剤層によって負荷を受けていた選択反射層が本来の配向に戻るために必要な温度である。上記加熱温度は、例えば６０℃以上であることが好ましく、７０℃以上であることがより好ましく、８０℃以上であることがさらに好ましい。加熱温度が低すぎると、選択反射層の配向乱れが修正されない可能性があるからである。一方、上記加熱温度は、例えば２７０℃以下であることが好ましく、２５０℃以下であることがより好ましく、２３０℃以下であることがさらに好ましい。加熱温度が高すぎると、反射率の回復という観点からは問題ないものの、粘着剤層の流動化などで選択反射層と第一透明外装基板との間に気泡が生じ、光透過性が低下する可能性があるからである。また、加熱温度が高すぎると、構成部材の劣化が生じる可能性もある。

本発明においては、中間部材作製工程で中間部材を得た後に、連続的に修正加熱工程を行っても良く、中間部材作製工程で得られた中間部材が室温に戻った後に、修正加熱工程を行っても良い。また、修正加熱工程により、電磁波反射部材の選択反射層の反射率は回復する。電磁波反射部材における選択反射層の反射率は、選択反射層含有部材における反射率に対して、８５％以上回復することが好ましく、９０％以上回復することがより好ましく、９５％以上回復することがさらに好ましく、９９％以上回復することが特に好ましい。

３．電磁波反射部材
本発明により得られる電磁波反射部材は、特定波長の光（電磁波）を反射する機能を有する。そのため、その電磁波反射部材は、上記機能を有する任意の用途に用いることができる。中でも、本発明により得られる電磁波反射部材は、特定波長の赤外線（熱線）を効率良く反射できる赤外線反射部材であることが好ましい。可視光線を透過しつつ、赤外線のみを効果的に反射することができるからである。赤外線反射部材の用途としては、具体的には、車両用の遮熱ガラスおよび断熱ガラス、建築用の遮熱ガラスおよび断熱ガラス、ならびに、農業用の遮熱フィルムおよび断熱フィルム等を挙げることができる。

Ｂ．電磁波反射部材の反射率回復方法
次に、本発明の電磁波反射部材の反射率回復方法について説明する。本発明の電磁波反射部材の反射率回復方法は、右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を含有する選択反射層含有部材と、上記選択反射層の表面上に形成された第一粘着剤層と、上記第一粘着剤層の表面上に形成された第一透明外装基板とが一体化された電磁波反射部材を、上記選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱することを特徴とするものである。

本発明において、選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱する前の電磁波反射部材は、上述した「中間部材」に該当するものである。中間部材の形成方法、電磁波反射部材への加熱、およびその他の事項については、上記「Ａ．電磁波反射部材の製造方法」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。

［実施例１−１］
（選択反射層含有部材の作製）
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルム（ルミラー（登録商標）Ｕ３５、厚さ１２５μｍ、東レ社製）を準備した。次に、両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、液晶性モノマー分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ１０５７（ＢＡＳＦ社製））９６．８重量部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））３．２重量部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量％の光重合開始剤（アデカ社製Ｎ−１９１９）を添加した（固形分４０重量％）。

次に、上記二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液を塗布した。次いで、１００℃で２分間保持し、上記シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させた。そして、上記塗膜に紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー密度で照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレート及びカイラル剤分子のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、選択反射層を形成し、選択反射層含有部材を得た。このとき、選択反射層の膜厚は６μｍであった。また、得られた選択反射層含有部材を分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１００ＰＣ、以下同じ）で測定したところ、反射のピーク波長は１０３０ｎｍで、反射率は４４．０％であった。

（中間部材の作製）
次に、厚さ２ｍｍのソーダライム板ガラス（１０ｃｍ×１０ｃｍ）を準備し、その上にポリビニルブチラールシート（ＰＶＢシート、市販の合わせガラス用中間膜、厚さ０．７６ｍｍ）を積層した。さらにその上に、上記の選択反射層含有部材、上記ＰＶＢシートおよび上記ソーダライム板ガラスをこの順に積層し、処理部材を得た。次に、処理部材を、崩れないように注意しながら真空オーブンへ入れ、室温で絶対圧力１１０ｍｍＨｇになるまで減圧した。その状態で約１０分保持した後、約２０分かけて９０℃まで温度を上昇させた。その後、９０℃で１０分保持し、さらに約３０分かけて１５０℃まで温度を上昇させ、１５０℃で４０分保持した。次に、常圧に戻した後、室温まで冷却した。これにより、透明な合わせガラス（中間部材）を得た。得られた中間部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は３５．９％であった。

（電磁波反射部材の作製）
次に、得られた中間部材を８０℃のオーブンで２時間加熱し、室温まで冷却することで、電磁波反射部材を得た。得られた電磁波反射部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は４１．５％であった。

［実施例１−２］
中間部材を８０℃のオーブンで２時間加熱する代わりに、中間部材を１００℃のオーブンで２時間加熱したこと以外は、実施例１−１と同様にして電磁波反射部材を得た。得られた電磁波反射部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は４３．７％であった。

［実施例１−３］
中間部材を８０℃のオーブンで２時間加熱する代わりに、中間部材を２００℃のオーブンで２時間加熱したこと以外は、実施例１−１と同様にして電磁波反射部材を得た。得られた電磁波反射部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は４３．５％であった。

［実施例１−４］
中間部材を８０℃のオーブンで２時間加熱する代わりに、中間部材を２５０℃のオーブンで１時間加熱したこと以外は、実施例１−１と同様にして電磁波反射部材を得た。得られた電磁波反射部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は４３．７％であった。

［実施例１−５］
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルム（Ａ４１００、厚さ１００μｍ、東洋紡績社製）を用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして電磁波反射部材を得た。得られた電磁波反射部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は４３．７％であった。

［比較例１］
中間部材を８０℃のオーブンで２時間加熱する代わりに、中間部材を５０℃のオーブンで２時間加熱したこと以外は、実施例１−１と同様にして電磁波反射部材を得た。得られた電磁波反射部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は３５．９％であった。

［実施例２］
（選択反射層含有部材の作製）
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルム（ルミラー（登録商標）Ｕ３５、厚さ１２５μｍ、東レ社製）を準備した。次に、両末端に重合可能なアクリレートを有するとともに中央部のメソゲンと上記アクリレートとの間にスペーサを有する、下記構造式（Ａ）の液晶性モノマー分子９７．３重量部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））２．7重量部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量%の光重合開始剤（アデカ社製Ｎ−１９１９）を添加した（固形分４０重量％）。

ここで、上記構造式（Ａ）で表される液晶性モノマー分子は、例えば特表２００１−５２１５３８に記載された方法により合成することができる。

次に、上記二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、上記シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させた。そして、上記塗膜に紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー密度で照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレート及びカイラル剤分子のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、選択反射層を形成し、選択反射層含有部材を得た。このとき、選択反射層の膜厚は６μｍであった。また、得られた選択反射層含有部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は１０３６ｎｍで、反射率は４５．８％であった。

（電磁波反射部材の作製）
次に、得られた選択反射層含有部材を用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして、中間部材を得た。得られた中間部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９７９ｎｍで、反射率は３６．６％であった。次に、得られた中間部材を用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして、電磁波反射部材を得た。得られた選択反射層含有部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９８０ｎｍで、反射率は４２．６％であった。

［実施例３］
（選択反射層含有部材の作製）
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートからなる二軸延伸フィルム（ルミラー（登録商標）Ｕ３５、厚さ１２５μｍ、東レ社製）を準備した。次に、重合可能なアクリレートを有する液晶性モノマー分子（アデカ社製ＰＬＣ７７００）６８．１重量部と、配向補助剤（アデカ社製ＰＬＣ８１００）２９．２重量部と、両側の末端に重合可能なアクリレートを有するカイラル剤分子（Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ（登録商標）ＬＣ７５６（ＢＡＳＦ社製））２．7重量部とを溶解させたシクロヘキサノン溶液を準備した。なお、上記シクロヘキサノン溶液には、上記液晶性モノマー分子に対して５．０重量%の光重合開始剤（アデカ社製Ｎ−１９１９）を添加した（固形分４０重量％）。

次に、上記二軸延伸フィルムに、配向膜を介さずにバーコーターにて、上記のシクロヘキサノン溶液を塗布した。次いで、１２０℃で２分間保持し、上記シクロヘキサノン溶液中のシクロヘキサノンを蒸発させて、液晶性モノマー分子を配向させた。そして、上記塗膜に紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー密度で照射し、塗膜中の光重合開始剤から発生するラジカルによって配向した液晶性モノマー分子のアクリレート及びカイラル剤分子のアクリレートを３次元架橋してポリマー化し、フィルム上にコレステリック構造を固定化することにより、選択反射層を形成し、選択反射層含有部材を得た。このとき、選択反射層の膜厚は７μｍであった。また、得られた選択反射層含有部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は１１０２ｎｍで、反射率は４８．３％であった。

（電磁波反射部材の作製）
次に、得られた選択反射層含有部材を用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして、中間部材を得た。得られた中間部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４９ｎｍで、反射率は３６．６％であった。次に、得られた中間部材を用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして、電磁波反射部材を得た。得られた選択反射層含有部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は９４５ｎｍで、反射率は４４．０％であった。

［評価］
上述した反射率の結果を表１に示す。

表１に示されるように、実施例１−１では、中間部材の作製時に生じた選択反射層の配向乱れが修正され、選択反射層の反射率が回復することが確認された。また、実施例１−２、１−３では、選択反射層の反射率がさらに回復することが確認された。また、実施例１−４では、選択反射層の反射率が回復することが確認されたものの、合わせガラスの内部に気泡が発生していた。これは、２５０℃での加熱により、ＰＶＢが融点を超えて融解し、ガラスの端部から空気等のガスが侵入したためであると考えられる。しかしながら、ガラスの端部を塞ぐ等して、適宜ガスの侵入を防止できれば、選択反射層の反射率を回復させるという観点からは全く問題はない。また、実施例１−５では、実施例１−１〜１−４と、透明基板の材料を変更したが、その影響は見られなかった。一方、比較例１では、加熱温度が低すぎて、選択反射層の配向乱れが修正されず、選択反射層の反射率は回復しなかった。また、実施例２、３は、実施例１−１〜１−４とは異なる材料を用いた場合であるが、このような場合であっても、所定の温度で加熱することにより、選択反射層の反射率が回復することが確認された。

［比較例２］
実施例１−１で作製した選択反射層含有部材を、１００℃のオーブンで２時間加熱した。加熱後の電磁波反射部材を分光光度計で測定したところ、反射のピーク波長は１０３０ｎｍで、反射率は４４．０％であり、加熱前と同じであった。この結果から、選択反射層の反射率の低下は、選択反射層の表面上に粘着剤層が形成されている系に特有の現象であることが確認された。

１…透明基板、２…選択反射層、２ａ…右円偏光選択反射層、２ｂ…左円偏光選択反射層、３ａ…第一粘着剤層、３ｂ…第二粘着剤層、４ａ…第一透明外装基板、４ｂ…第二透明外装基板、５…λ／２板、１１…選択反射層含有部材、１２…処理部材、１３…中間部材、１４…電磁波反射部材、２１、２３…加熱、２２…加圧

Claims

右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を含有する選択反射層含有部材と、前記選択反射層の表面上に、前記選択反射層と直に接触するように形成された第一粘着剤層と、前記第一粘着剤層の表面上に形成された第一透明外装基板とが、加熱および加圧により一体化された中間部材を作製する中間部材作製工程と、
前記中間部材を、前記選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱する修正加熱工程と、
を有することを特徴とする電磁波反射部材の製造方法。
前記中間部材作製工程が、
前記選択反射層含有部材を準備する選択反射層含有部材準備工程と、
前記選択反射層含有部材の前記選択反射層の表面上に、前記第一粘着剤層および前記第一透明外装基板をこの順に配置し、処理部材を形成する処理部材形成工程と、
前記処理部材を、前記第一粘着剤層が粘着性を発揮する温度以上の温度で加熱し、かつ、前記選択反射層および前記第一透明外装基板が粘着する圧力以上の圧力で加圧することで一体化し、前記中間部材を形成する一体化工程と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の電磁波反射部材の製造方法。
前記修正加熱工程における加熱温度が、６０℃〜２７０℃の範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電磁波反射部材の製造方法。
前記中間部材は、前記第一粘着剤層が形成されていない側の前記選択反射層含有部材の表面上に形成された第二粘着剤層と、前記第二粘着剤層の表面上に形成された第二透明外装基板とがさらに一体化されてなるものであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載の電磁波反射部材の製造方法。
前記第一粘着剤層および前記第二粘着剤層の少なくとも一方に用いられる粘着剤が、ポリビニルブチラールであることを特徴とする請求項４に記載の電磁波反射部材の製造方法。
前記第一透明外装基板および前記第二透明外装基板の少なくとも一方が、ガラス板であることを特徴とする請求項４または請求項５に記載の電磁波反射部材の製造方法。
前記選択反射層が、コレステリック構造を形成した棒状化合物を含有することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載の電磁波反射部材の製造方法。
前記棒状化合物がネマチック液晶性を有し、
前記選択反射層が、カイラルネマチック液晶を固定化したものを含有することを特徴とする請求項７に記載の電磁波反射部材の製造方法。
右円偏光成分または左円偏光成分の電磁波を反射する選択反射層を含有する選択反射層含有部材と、前記選択反射層の表面上に、前記選択反射層と直に接触するように形成された第一粘着剤層と、前記第一粘着剤層の表面上に形成された第一透明外装基板とが、加熱および加圧により一体化された電磁波反射部材を、前記選択反射層の配向乱れを修正する温度以上の温度で加熱することを特徴とする電磁波反射部材の反射率回復方法。