JP5405861B2 - 透明導電膜及びその製造方法 - Google Patents
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Description
ガラス基板にシランカップリング剤を塗布する方法は制限されるものではないが、ディップ法や、スピン、ダイ、グラビア、マイクログラビアによるコート法や、スクリーン印刷やインクジェット、スプレー塗布等の塗布方法が挙げられる。また、シランカップリング剤溶液で塗布した後、乾燥によって溶剤を除去したり、加熱によってシランカップリグ剤の反応を進めてガラス基板に強固に固定させることが好ましい。
先ず、以下のようにしてITO分散体組成物を調製した。
100mlのプラスチック製ビンに、下記の成分を計り取り、ペイントシェーカー(東洋精機社製)で20分間分散した後、ジルコニアビーズを取り除いて、ITO分散体組成物を得た。
(1)スズ含有インジウム酸化物(ITO)粒子 12.0g
(2)分散剤“BYK163”(ビックケミー社製) 0.60g
(3)メチルエチルケトン(和光純薬社製) 13.7g
(4)トルエン(和光純薬社製) 13.7g
(5)ジルコニアビーズ(液の攪拌分散用、直径0.3mm) 60.0g
紫外線を遮蔽したプラスチック製ビンに、ITO分散体組成物を下記の成分を計り取り・攪拌して、30gのコーティング組成物1を調製した。
(1)ITO分散体組成物 20.25g
(2)ライトアクリレート1,6−HX(共栄社化学製) 1.02g
(3)イルガキュア907 0.10g
(チバスペシャルティケミカルズ社製)
(4)メチルエチルケトン(和光純薬社製) 1.50g
(5)トルエン(和光純薬社製) 1.50g
(6)シクロヘキサノン(和光純薬社製) 5.63g
300ccのビーカーに、下記の成分を計り取り、攪拌し、0.5wt%のシランカップリグ剤溶液を調整した。
(1)KBM−503(信越化学社製) 1.0g
(2)エタノール(和光純薬社製) 200g
(透明性)
A:光透過率95%以上かつヘイズ1.5%未満
B:光透過率90%以上95%未満かつヘイズ3.0%未満
C:ヘイズ3.0%以上
(導電性)
A:表面抵抗が1.0×105Ω/スクエア未満
B:表面抵抗が1.0×108Ω/スクエア以下
C:表面抵抗が1.0×108Ω/スクエアを超える
(耐溶剤性)
A:溶剤浸漬試験で膜剥がれがなく、かつ試験前後の抵抗変化が50%未満
B:溶剤浸漬試験で膜剥がれはないが、浸漬前後の抵抗変化が50%以上である
C:溶剤浸漬試験で膜剥がれがある
(耐洗浄性)
A:超音波洗浄試験で30分の洗浄でも膜剥がれが生じない
B:超音波洗浄試験で10分で膜剥がれがなく、30分で膜に一部剥がれが生じる
C:超音波洗浄試験で10分間の洗浄で膜剥がれが生じる
表3
12 透明導電膜
Claims (6)
- 透明基材の上に、
導電性無機粒子と樹脂成分と含むコーティング組成物を塗布した透明導電膜であって、
前記透明基材は、該基材表面をシランカップリング剤で処理したガラス基板であり、
前記導電性無機粒子の前記組成物における体積含率が、25%以上55%以下であり、
前記樹脂成分は光硬化モノマーと開始剤とを含んだ前記組成物を塗布した膜を
乾燥後、UV光や電子線を照射して前記光硬化モノマーを硬化させて形成することを特徴とする透明導電膜。 - 前記樹脂成分が、3官能以上の(メタ)アクリルモノマーを50以上90wt%以下含有する請求項1に記載の透明導電膜。
- 前記導電性無機粒子が、酸化スズ粒子、アンチモン含有酸化スズ粒子、スズ含有酸化インジウム粒子のうち、
少なくとも一つを主成分として含有する請求項1に記載の透明導電膜。 - 前記透明導電膜の乾燥膜厚が0.5μm以上2.0μm未満である請求項1又は2記載の透明導電膜。
- 前記シランカップリング剤が、(メタ)アクリロイル基を含む請求項1乃至請求項3に記載の透明導電膜。
- 透明導電膜の製造方法であって、
ガラス基板表面をシランカップリング剤で処理する工程と、
前記ガラス基板の上にコーティング組成物を塗布して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を乾燥して、塗膜をUV光や電子線を照射して硬化することで透明導電膜を形成する工程とを含み、
導電性無機粒子の前記組成物における体積含率が、25以上55%以下であり、
樹脂成分は光硬化モノマーと開始剤とを含んだ前記組成物を塗布した膜を乾燥後、前記光硬化モノマーを硬化させて形成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
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