WO2012133586A1

WO2012133586A1 - 低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜、プラスチック基材、及び表示装置

Info

Publication number: WO2012133586A1
Application number: PCT/JP2012/058245
Authority: WO
Inventors: 有紀釘本; 鈴木　一也; 善智井上; 康仁藤田
Original assignee: 住友大阪セメント株式会社
Priority date: 2011-03-30
Filing date: 2012-03-28
Publication date: 2012-10-04

Abstract

　モノマー中に１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物、パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物、及び屈折率が１．１７以上かつ１．４０以下の無機粒子を含有してなることを特徴とする、低屈折膜形成用組成物。

Description

低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜、プラスチック基材、及び表示装置

　本発明は、低屈折率膜形成用組成物、低屈折膜及びその膜を備えたプラスチック基材並びに表示装置に関する。
　本願は、２０１１年３月３０日に、日本に出願された特願２０１１－０７６０６７号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　携帯端末、デジタルカメラ、及びパーソナルコンピュータ等の表示装置の前面に、薄いガラス製やプラスチック製の透明な画面保護板が使用されることは一般的である。プラスチック製の画面保護板はガラス製の画面保護板と比較して軽量で安価な上、取扱も容易な為、最も使用頻度の高い材質の一つである。一方でプラスチックはガラスに比べて傷つき易い。この為、比較的硬度の高いアクリルシート等の硬いプラスチック基材上に、傷つき防止用のハードコートを形成した画面保護板が使用されることが多い。

　しかし、近年の携帯端末等の表示装置は、タッチパネル方式等の、人が表示装置の画面に直接指で頻繁に触れる方式であるため、その画面に指紋等の汚れが付着する事が多い。通常のハードコートを備えた画面保護板では、指紋等の汚れが保護板に付着するとこれらの汚れを簡単な方法では除去しきれず、残った指紋等の汚れが目立ってしまうという問題があった。また、屋外で使用することも多いこれらの表示装置は、太陽の強い光の下で使用者が画面を見る機会が多い。そのため太陽光の反射により周囲や自分の顔等が画面保護板に映り込んでしまい、表示画面の視認性が低下するという問題があった。

　表示装置における表示画面の汚れや視認性の低下は、近年の表示デバイス高精細化のための技術向上を無にしかねない深刻な問題である。そのため、防指紋性を有し、反射防止性能を有するほど低屈折率であり、かつ耐擦傷性等の膜強度に優れた、透明なプラスチック製の画面保護板が強く求められている。

　そこで、上記問題点を解決するために、パーフルオロ基含有（メタ）アクリル酸エステル樹脂と、特定のシランカップリング剤で処理された中空シリカ系微粒子とからなる、低屈折率膜形成用組成物が提案されている（特許文献１参照）。

特開２００６－２９１０７７号公報

　しかしながら、上述した従来の低屈折膜形成用組成物では、パーフルオロ基の効果により防指紋性は得られるものの、耐擦傷性等の膜強度が弱いという問題があった。

　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、防指紋性を有し、使用に問題のない反射防止性を有し、かつ膜強度に優れた、低屈折率膜を形成することができる組成物を提供することを目的の一つとする。

　本発明の低屈折率膜形成用組成物は、モノマー中に１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物、パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物、及び屈折率が１．１７以上かつ１．４０以下の低屈折率無機粒子を含有することを特徴とする。
　本発明の低屈折率膜形成用組成物では、含まれる前記無機粒子の粒子表面が、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基の少なくとも一方を含む、有機基で修飾されていることが好ましい。

　本発明の低屈折率膜形成用組成物によれば、モノマー中に一個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物を有するので、硬化させた際に得られる膜の機械的強度を高め、膜に傷が付くのを防止することができる。また、パーフルオロ基を有する化合物を有するので、指紋等の汚れをはじいて付着量を減らし、さらに付着した指紋等の汚れの拭き取り性を向上させることができる。そしてこの化合物は光反応性官能基を有さないので、上記架橋性化合物の重合を阻害せず、膜強度を低下させない。また、屈折率が１．１７以上かつ１．４０以下の無機粒子を有するので、塗膜の屈折率を低くすることができる。すなわち、防指紋性を有し、低屈折率で耐擦傷性等の膜強度にも優れた膜を形成することができる。

本発明の一実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材の一例を示す断面図である。本発明の一実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材の他の一例を示す断面図である。本発明の一実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材のさらに他の一例を示す断面図である。本発明の一実施形態の表示装置の一種のスマートフォンの一例を示す斜視図である。

　本発明は低屈折率膜形成用組成物、低屈折率膜、及びプラスチック基材に関するものであり、特に詳しくは、携帯端末、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ等に用いて好適な防指紋性を有する反射防止膜及びその膜を備えたプラスチック基材並びに表示装置に関するものである。
　本発明の低屈折率膜形成用組成物、前記組成物から得られる低屈折率膜、及びその膜を備えたプラスチック基材、並びに前記低屈折率膜又は前記プラスチック基材を有する表示装置を実施するための形態について以下に説明する。
　なお、この形態は発明の趣旨をより良く理解させるために本発明の例を具体的に説明するものであり、特に指定のない限り本発明を限定するものではない。本発明は趣旨を逸脱しない範囲において、付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。

　［低屈折率膜形成用組成物］
　本実施形態の低屈折率膜形成用組成物（以下、単に「組成物」と省略する場合もある）は、（ａ）モノマー中に１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物、（ｂ）パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物、及び（ｃ）低屈折率無機粒子（無機粒子）を含有している。

　「架橋性化合物」
　本実施形態の架橋性化合物は、モノマー中に１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物であれば特に限定されない。１個又は２個有していても良いが、３個以上かつ１５個以下のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有していることが好ましい。より好ましくは４個以上かつ１０個以下の、さらに好ましくは５個以上かつ８個以下の、メタクリロイル基又はアクリロイル基を有していることが好ましい。
モノマー中におけるこれらの官能基数が多くなると、反応性が高く架橋密度が上がり、膜強度や耐候性が向上するため好ましい。
　架橋性化合物の量は任意で選択できるが、上記組成物中に０．１質量％以上かつ５５質量％以下含有させるのが好ましく、０．５質量％以上かつ１０質量％以下含有させることがより好ましく、０．８質量％以上かつ２質量％以下含有させることがさらに好ましい。

　架橋性化合物は任意で選択できるが、その具体例としては、（メタ）トリメチロールプロパントリアクリレート、（メタ）ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、（メタ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（メタ）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、（メタ）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリシロキサンアクリレート等が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を混在させて用いてもよい。また、これらのオリゴマーやポリマーを本発明の架橋性化合物として適宜用いてもよい。すなわち本発明の架橋性化合物とは、１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有するモノマー、及び、これらモノマーから得られる、１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有するオリゴマー又はポリマーである。

　光重合開始剤を使用しても良い。使用する場合、その種類や量は使用する架橋性化合物に応じて適宜選択すればよい。例えば、ベンゾフェノン系、ジケトン系、アセトフェノン系、ベンゾイン系、チオキサントン系、キノン系、ベンジルジメチルケタール系、アルキルフェノン系、アシルフォスフィンオキサイド系、フェニルフォスフィンオキサイド系等の公知の光重合開始剤を用いることができる。

　「パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物」
　パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物は、その化合物中に１個以上のパーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有していなければ特に限定されない。例えば、パーフルオロ基と親水基を側鎖に持つフッ素化アルキルエステル、及び、パーフルオロ基と親油基とを側鎖に持つフッ素化脂肪族高分子エステルなどが挙げられる。

　パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物は、上記組成物中に０．１質量％以上かつ５．０質量％以下含有させるのが好ましい。０．１質量％以上かつ２質量％以下含有させるのがより好ましく、０．１質量％以上かつ１質量％以下含有させるのがさらに好ましい。０．１質量％未満の場合は十分な防指紋特性が得られない場合があり、５．０質量％を超えると十分な膜強度が得られないため好ましくない。

　パーフルオロ基は一般的にパーフルオロ基として知られているものが本願でも使用できる。例えばパーフルオロアルキル基、パーフルオロアルキレン基、パーフルオロアルキリデン基等が挙げられる。パーフルオロアルキル基等に含まれる炭素原子の数は任意で選択できるが、例えば炭素数１個～２０個が挙げられる。

　光反応性官能基は、紫外線等の光エネルギーの照射によって反応が進行する官能基が挙げられる。このような反応としては例えば、エチレン性不飽和結合を有する官能基による光ラジカル重合反応等が挙げられる。光反応性官能基の具体例を挙げれば、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。

　本実施形態の組成物により形成される膜の上に更に別の層や膜を設ける場合（例えば文字や画像を印刷する場合）には、本発明の膜を形成したときのヘキサデカンに対する接触角が４０°以下、好ましくは３５°以下の親油性になるように、パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物の量を適宜調整するとよい。

　「無機粒子」
　本実施形態に使用される無機粒子、すなわち低屈折率を有する無機粒子は、屈折率が１．１７以上かつ１．４０以下の無機粒子であれば特に限定されない。このような無機粒子の例としてはシリカが挙げられ、より低い屈折率が得られる点で、多くの空隙を有するメソポーラスシリカが好ましい。メソポーラスシリカの種類は任意で選択できるが、例えば直径が２～１０ｎｍ程度の均一で規則的な細孔を有するシリカ等が挙げられる。
　メソポーラスシリカの製造方法は、例えば特開２００１－２３３６１１号公報や特開２００２－７９６１６号公報に記載されている。

　低屈折率無機粒子の屈折率は１．１７以上かつ１．４０以下であり、好ましくは１．１７以上かつ１．３５以下であり、より好ましくは１．１７以上かつ１．３０以下である。屈折率が１．１７未満の無機粒子は製造が困難であり、例えば空隙率を非常に高めることで製造できたとしても粒子自体の強度が弱くなり、形成した低屈折率膜の耐擦傷性等が弱くなる可能性があるため好ましくない。一方、屈折率が１．４０を超えると、膜を形成したときの膜の屈折率が高すぎる可能性があり、反射防止性能が悪くなるため好ましくない。

　なお、本明細書中における無機粒子の屈折率とは、粒子全体としての屈折率を意味する。例えばメソポーラスシリカのように粒子に空隙を有する粒子の場合は、メソポーラスシリカを形成している部分のシリカのみの屈折率ではなく、メソポーラスシリカの空隙部分も一体とした屈折率を意味する。

　低屈折率無機粒子としてメソポーラスシリカを用いる場合には、粒子全体の体積に対する粒子の空隙が占める体積で表される空隙率が、１０％以上かつ６０％以下が好ましく、２０％以上かつ６０％以下がより好ましく、３０％以上かつ６０％以下がさらに好ましい。空隙率を上記範囲にすることで、粒子の強度を確保しつつ屈折率を低くすることができる。メソポーラスシリカをより低屈折率にするために、空隙率をより大きくしようとすると、粒子形状が疎になり粒子の強度が弱くなるため、耐擦傷性の観点より１．１７未満の低屈折率の粒子を用いるのは好ましくない。

　本実施形態に用いる低屈折率を有する無機粒子の平均一次粒子径は、３ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることが好ましい。すなわち、平均一次粒子径が３ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下の無機微粒子を用いることが好ましい。３ｎｍ未満の粒子は製造が困難な場合があり、取り扱いも容易でない可能性があるため好ましくない。一方で１００ｎｍを超える粒子は、膜にした時に、レイリ―散乱による透過光の損失が大きくなり、膜の透明性を低下させる可能性があるため好ましくない。

　低屈折率を有する無機粒子は、上記組成物中に１０質量％以上かつ９０質量％以下、好ましくは２０質量％以上かつ８０質量％以下、より好ましくは４０質量％以上かつ６０質量％以下含有させるのが好ましい。１０質量％未満の場合は屈折率が十分に低くならないおそれがあるため好ましくない。一方で９０質量％を超えると組成物全体における架橋性化合物比が少なくなるために十分な膜強度が得られにくくなる可能性があるため好ましくない。

　上記低屈折を有する無機粒子は、架橋性化合物との親和性を向上させるために、粒子の表面が有機基を有する表面処理剤で修飾されていてもよい。このような表面処理剤としては有機ケイ素化合物を用いることができ、例えば、シリコン系カップリング剤、及びシリコーンオイル等が挙げられる。

　シリコン系カップリング剤としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルメトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、ｎ－ブチルトリエトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のシランカップリング剤、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニルシランカップリング剤、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２（アミノエチル）３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン等のアミノシランカップリング剤、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロイルオキシシランカップリング剤、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタクリロイルオキシシランカップリング剤、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン等のメルカプトシランカップリング剤等が挙げられる。

　シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイルが挙げられる。
　これらのシリコン系カップリング剤やシリコーンオイルは、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。

　これらの中でも、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアクリロイルオキシシランカップリング剤、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のメタクリロイルオキシシランカップリング剤、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプトシランカップリング剤の群から選択される１種または２種以上を、低屈折率を有する無機粒子の表面処理剤として用いることにより、樹脂との親和性が著しく向上し、粒子と樹脂との密着性が向上することで高い膜強度を得ることができる。より好ましくは、アクリロイルオキシシランカップリング剤及びメタクリロイルオキシシランカップリング剤の少なくとも１種を用いることが好ましい。

　上記組成物の粘度は、０．２ｍＰａ・ｓ以上かつ５００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、０．５ｍＰａ・ｓ以上かつ２００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。組成物の粘度が０．２ｍＰａ・ｓ未満の場合は、膜にした時の膜厚が薄くなりすぎて膜厚の制御が困難であるため好ましくない。一方で、粘度が５００ｍＰａ・ｓを超えると、粘度が高すぎて塗工時における組成物の取扱いが難しくなるため好ましくない。

　上記の粘度範囲に調整するために、希釈剤として有機溶媒を用いても良い。溶媒としては組成物の成分との相溶性がよいものであれば特に限定されない。例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒、セロソルブ系溶媒、エーテルエステル系溶媒、及びアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、２種以上を用いてもよい。これらの中でも、アルコール類は、プラスチック基材の表面を溶かしてその表面を侵食することはないため、プラスチック基材の透明性を低下させることがないため好ましい。有機溶媒の量は任意に選択されるが、例えば、上記組成物中に１０質量％以上かつ９９質量％以下が好ましく、５０質量％以上かつ９９質量％以下がより好ましい。

　本実施形態の組成物には、消泡剤、レベリング剤、撥水剤、撥油剤、親油剤、滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤等の一般的に用いられる添加剤を適宜添加しても良い。

　「低屈折率膜形成用組成物の製造方法」
　本実施形態の低屈折率膜形成用組成物の製造方法は、上記の架橋性化合物、パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物、低屈折率無機粒子等を均一に混合させることができれば特に限定されず、公知の撹拌方法を用いることができる。
　なお、低屈折率無機粒子の表面に、上記表面修飾剤を修飾させる場合には、あらかじめ表面修飾をしてから、その表面修飾された無機粒子を組成物に混合すればよい。

　「低屈折率膜」
　本実施形態の低屈折率膜は、本実施形態の低屈折率膜形成用組成物により形成されることを特徴とする。
　本実施形態において膜の屈折率が低いとは、屈折率が１．４９以下であることを意味する。本実施形態において、低屈折率膜の屈折率は１．２６以上かつ１．４９以下が好ましく、１．２８以上かつ１．４７以下がより好ましい。膜の屈折率を上記範囲にすることにより、低屈折率膜が反射防止膜としての機能を有し、表示画面の視認性を良好なものとすることができる。
　なお、反射防止膜としての機能を有するとは、可視光反射率（膜の１０°正反射率を分光光度計で測定した測定値に比視感度値を乗じた値）が３．０以下であることを意味する。可視光反射率は２．２以下が好ましく、１．５以下がより好ましい。可視光反射率の下限値は０であるが、０．０５以上であることが好ましい。

　また、本実施形態の低屈折率膜は、水に対する接触角が８５°～１００°の撥水膜である。撥水性であるために、指紋等の汚れの付着を防ぐことができる。
　また、本実施形態の低屈折率膜の上に別の層や膜を積層させる場合には、さらにヘキサデカンに対する接触角が４０°より小さい撥水かつ親油性の膜であるのが好ましい。親油性であるために、本実施形態の低屈折率膜の上にスクリーン印刷等により、別の層や膜を積層させることができる。

　本実施形態の低屈折率膜の膜厚は任意で選択できるが、一般的には１０ｎｍ以上かつ１ｍｍ以下であり、５０ｎｍ以上かつ２００ｎｍ以下であることが好ましい。膜厚を上記範囲とすることにより、可視光波長域の反射光を低減させることができ、例えば表示装置に用いた場合には、表示画面の視認性を向上させることができるため好ましい。

　低屈折率膜の表面抵抗は任意で選択できるが、１×１０^８Ω／□以上かつ１×１０^１３Ω／□以下を例の一つとしてあげることができ、１×１０^９Ω／□以上かつ１×１０^１２Ω／□以下を好ましい例の一つとしてあげることができる。

　本実施形態の低屈折率膜の製造方法は、上記低屈折率膜形成用組成物を任意で選択される基材などに塗工することで塗膜を形成する工程と、上記塗膜を硬化させる工程とを含む。
　塗膜を形成する工程における塗工方法としては例えば、スピンコート法、ディップコート法、グラビアコート法、スプレー法、ローラー法、はけ塗り法等が挙げられる。

　塗膜を硬化させる工程における硬化方法は任意で選択できるが、塗膜にエネルギー線を照射して光硬化させる方法が好ましい。光硬化に用いるエネルギー線は塗膜が硬化すれば特に限定されず、例えば、紫外線、遠赤外線、近紫外線、赤外線、Ｘ線、γ線、電子線、プロトン線、中性子線等のエネルギー線を用いることができる。これらのエネルギー線の中でも、硬化速度が速く、装置の入手が容易である紫外線照射による硬化が好ましい。
　塗膜を光硬化させることで、架橋性化合物が重合して、耐擦傷性等の強度に優れた膜を得ることができる。

　紫外線硬化させる場合の例には、２００ｎｍ～５００ｎｍ波長帯域の光を発する高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等を用いて、１００～３，０００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーにて照射する方法等が挙げられる。

　以上、詳細に説明したように、本実施形態の低屈折膜形成用組成物によれば、モノマー中に一個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物と、かかる架橋性化合物とは別の成分としてのパーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物と、を有する構成としたことで、膜を形成する過程でパーフルオロ基によって架橋性化合物の重合反応が阻害されるのを抑制することができる。これにより、架橋性化合物の重合度を高め、当該組成物を用いて形成した膜の機械的強度を高めることができ、傷が付きにくい膜を形成することができる。

　また、パーフルオロ基を有する化合物を含んでいることにより、形成した膜の表面において指紋等の汚れをはじいて付着量を減らすことができ、しかも付着した指紋等の汚れの拭き取り性を向上させることができる。
　また、屈折率が１．１７以上かつ１．４０以下の無機粒子を含むことにより、屈折率の低い膜を形成することができる。

　以上から、本実施形態の組成物によれば、防指紋性を有し、低屈折率のため反射防止性に優れ、耐擦傷性等の膜強度にも優れた膜を形成することができる。
　なお本実施形態において防指紋性を有するかどうかは一般的な意味で判断してもよいが、例えば、次の方法により評価することができる。すなわち、膜上にトリオレイン酸を１滴滴下し、トリオレイン酸の滴下前及びクリーンワイパーによる１０往復回数拭き取り後のそれぞれにおける膜のヘイズを測定し、ヘイズ値の差が１．０未満のものを防指紋性を有すると判断する事ができる。

　本実施形態における効果について述べると、低屈折無機粒子を、アクリロイルオキシシランカップリング剤、メタクリロイルオキシシランカップリング剤、及びメルカプトシランカップリング剤の中から選ばれる少なくとも１種により表面修飾した場合には、架橋性化合物と表面修飾剤が結合することにより、膜強度が高い膜を得ることができる。

　低屈折率無機粒子の平均一次粒子径が３ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下の微粒子を用いた場合には、透明性に優れた低屈折率膜を得ることができる。
　また、低屈折率無機微粒子としてメソポーラスシリカを用いた場合には、粒子が空隙を有するため粒子の屈折率が低くなるため、より屈折率の低い膜を得ることができる。

　本実施形態の低屈折率膜によれば、本実施形態の低屈折率膜形成用組成物により形成された膜であるので、防指紋性を有し低屈折率のため反射防止性能に優れ、膜強度に優れた膜を得ることができる。

　［低屈折率膜を備えたプラスチック基材］
　本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材は、プラスチック基材の少なくとも一方の面上に、本実施形態の低屈折率膜を有することを特徴とする。

　本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材について、図１～３を参照しつつ説明する。図１は、本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材の一例を示す断面図である。この低屈折率膜を備えたプラスチック基材１０は、プラスチック基材１１の少なくとも一方の面上に、低屈折率膜１２を有する。

　図２は、本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材の他の一例を示す断面図であり、この低屈折率膜を備えたプラスチック基材２０は、プラスチック基材１１の一方の面上にハードコート膜１３を有し、さらにこのハードコート膜１３の面上に低屈折率膜１２を有している。

　図３は、本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材のさらに他の一例を示す断面図であり、この低屈折率膜を備えたプラスチック基材３０は、プラスチック基材１１の一方の面上にハードコート膜１３を有し、さらにこのハードコート膜１３の面上に高屈折率膜１４を有し、さらにこの高屈折率膜１４の面上に低屈折率膜１２を有している。

　「プラスチック基材」
　本実施形態に使用されるプラスチック基材１１は、プラスチック製の基材であれば特に限定されない。表示画面の保護に使用されている保護板としては、例えば、アクリルシート、高弾性のアクリルゴムを含有したアクリルシート、アクリル－スチレン共重合シート、ポリスチレンシート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ＰＥＴフィルム、及びＴＡＣフィルム等を挙げることができる。またプラスチック基材としては、上記の基材のうちの１種又は２種以上を積層したものを用いてもよい。

　「低屈折率膜」
　低屈折率膜１２は、上記「低屈折率膜」の項目で述べたものと全く同様のものを用いることができるので、説明を省略する。

　「ハードコート膜」
　ハードコート膜１３の構成は、プラスチック基材を傷等から保護できる程度のハードコート性を有すれば、特に限定されない。すなわち、ハードコート膜上でスチールウール（＃００００）を２５０ｇ／ｃｍ^２の荷重下にて、１０往復（１往復：２００ｍｍ）させた場合に、目視で傷が０本以上１０本以下であるハードコート膜であればよい。反応性、透明性、耐候性、及び硬度の観点から、モノマー中に１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物を用いて形成したものが好ましい。さらに架橋性化合物が３個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有していることが好ましい。モノマー中におけるこれらの官能基数が多くなると、反応性が高く架橋密度が上がり、膜強度や耐候性が向上するため好ましい。
　架橋性化合物の具体例としては、（メタ）トリメチロールプロパントリアクリレート、（メタ）ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、（メタ）ペンタエリスリトールトリアクリレート、（メタ）ペンタエリスリトールテトラアクリレート、（メタ）ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールポリアクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリシロキサンアクリレート等を１種又は２種以上用いることができる。また、これらのオリゴマーやポリマーを適宜用いてもよい。

　また、ハードコート膜１３は、帯電防止性能を付与するために、導電性微粒子を有していてもよい。導電性微粒子は、膜に導電性を付与することができる微粒子であれば特に限定されず、例えば、金、白金、ルテニウム、鉄等の金属微粒子、スズ，アンチモン，インジウム、亜鉛、ガリウム，及びアルミニウムの群から選択される１種または２種以上の元素を含む金属酸化物微粒子が挙げられる。
　これらの金属酸化物微粒子の中でも、バンドギャップが３．０ｅＶ以上の半導体の性質を備えた金属酸化物微粒子は、可視光線を透過する性質と電気導電性を併せ持つので好ましい。

　このような半導体の性質を備えた金属酸化物微粒子としては、スズ、アンチモン、インジウム、及び亜鉛の群から選択される１種または２種以上の元素を含む金属酸化物微粒子が挙げられる。この金属酸化物微粒子としては、例えば、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ：Antimony Tin Oxide）微粒子、酸化スズ（ＳｎＯ_２）微粒子、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）微粒子等を用いることができる。
　また、これらの金属酸化物微粒子が含有されたハードコート膜１３は、これらの金属酸化物粒子の屈折率が高いため、ハードコート膜１３の屈折率が大きくなる。そのため、このハードコート膜１３の面上に低屈折率膜１２が形成されることにより、反射防止性能をより向上させることもできる。

　導電性微粒子の平均一次粒子径は、３ｎｍ以上かつ５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３ｎｍ以上かつ２０ｎｍ以下である。この導電性微粒子の平均一次粒子径を上記範囲とすることにより、良好な透明性及び導電性が得られる。

　ハードコート膜１３の膜厚は０．１μｍ以上かつ２０μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上かつ１０μｍ以下がより好ましい。ハードコート膜１３の膜厚を上記範囲とすることで、膜強度が強く、透明性が良好な膜が得られる。

　ハードコート膜１３は、上記架橋性化合物、光重合開始剤、導電性微粒子、及び溶剤を適宜混合させることで得た組成物を、低屈折率膜１２同様、ディップコート法等の公知の方法で塗工し、その後に光硬化させることにより得られる。

　「高屈折率膜」
　高屈折率膜１４は、低屈折率膜１２よりも屈折率が高い膜であり、ハードコート膜１３と低屈折率膜１２の間に設けることで、より反射防止機能をあげることができる。このような高屈折率膜１４としては、平均一次粒子径が３ｎｍ以上かつ５０ｎｍ以下の酸化チタンや酸化ジルコニウム等を含有する膜により得られる。本実施形態において高屈折率を有する膜とは、例えば１．５以上の屈折率を有する膜であることを意味する。高屈折率膜１４の屈折率は、好ましくは１．５５以上、より好ましくは１．６５以上である。屈折率の上限値は２．２以下であり、好ましくは１．７以下である。

　さらに、高屈折率膜１４と低屈折率膜１２の間に、高屈折率膜１４よりも屈折率が低く、低屈折率膜１２よりも屈折率が高い中屈折率膜を設けてもよい。
　また、ハードコート膜１３と低屈折率膜１２の間に導電性を有する膜を設けてもよい。

　高屈折率膜１４や導電膜等は、それらの性能を有する無機微粒子を、上記架橋性化合物、光重合開始剤、溶剤等と適宜混合した組成物を、低屈折率膜１２同様、ディップコート法等の公知の方法で塗工し、光硬化させることにより得られる。

　本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材によれば、本実施形態の低屈折率膜を備えているので、防指紋性、反射防止性、膜強度に優れる。さらにハードコート膜を有する場合は、より膜強度に優れたプラスチック基材が得られる。

　「表示装置」
　本実施形態の表示装置は、本実施形態の低屈折率膜又は本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材を備えた表示装置である。
　表示装置としては、特に限定されず、例えば、タッチパネルディスプレイ、液晶表示ディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、エレクトロルミネセンスディスプレイ、蛍光ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル等を実装した表示装置が挙げられる。このような表示装置としては例えば、携帯端末、スマートフォン、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、金融機関等のＡＴＭ、自動券売機、自動販売機、カーナビゲーション機器、携帯ゲーム機、コピー機等が挙げられる。

　ここで、表示装置としてスマートフォンを例にとり、本実施形態の表示装置について説明する。図４は、本実施形態の表示装置の一種のスマートフォンの一例を示す斜視図である。このスマートフォン１００は、筐体１０１の前面に、本実施形態の低屈折率膜が表示面となるように備えられたタッチパネルディスプレイからなる表示部１０２が配設されている。

　本実施形態の低屈折膜を表示装置の表示面に形成する方法は、先に記載した低屈折率膜の形成方法と同様であり、各ディスプレイ（表示面）に対して適宜塗工すればよい。また、必要に応じて、低屈折率膜とディスプレイの間に、上記で説明したハードコート膜、高屈折率膜等を有するように塗工してもよい。すなわち、ディスプレイを上記プラスチック基材の替わりに用いればよい。
　また本実施形態の低屈折率膜を備えたプラスチック基材を、表示装置の表示面に設ける方法としては、特に限定されず、公知の方法で表示装置に実装させればよい。

　本実施形態の表示装置によれば、本実施形態の低屈折率膜及び反射防止膜の少なくとも一方を備えたプラスチック基材を設けてなるので、防指紋性を有し、視認性（反射防止性）、膜強度に優れた表示装置を得ることができる。

　以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、後段の説明における記号は下記内容を示すものである。

なお、上記表中の「セイカビーム」、「ディフェンサ」、「ＫＡＹＡＲＡＤ」及び「メガファック」はそれぞれ登録商標である。

　［屈折率］
　得られた組成物の屈折率は、組成物を硬化物にしてプリズムカプラ（Metricon社製）を用いて測定した。
　組成物を硬化物にする方法は、まず得られた組成物をＰＥＴフィルムに乾燥膜厚が１μｍになるようにワイヤーバーで塗工した。次いで、６０℃で５分間乾燥し、高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）で紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーとなるように露光して、硬化物を得た。

　「低屈折率無機微粒子の分散液」
　［製造例１］
　メソポーラスシリカ微粒子（住友大阪セメント株式会社製　SI-01　一次粒子径５～１５ｎｍ、微粒子の屈折率１．２６）２０ｇ、イソプロパノール８０ｇを混合した。次いで、この混合液及びガラスビーズ（φ＝０．１ｍｍ）１５０ｇをビーズミルに投入し、３０００回転で５時間分散処理を行った。次いで、ガラスビーズをフィルタ処理により分離し、メソポーラスシリカ微粒子分散液を得た。

　「溶媒」
　［製造例２］
　メタノールと１－ブタノールとブチルセロソルブを１：１：１の質量比で混合した溶媒を得た。

　［製造例３］
　１-ブタノールとブチルセロソルブとプロピレングリコールモノメチルエーテルを１：１：１の質量比で混合した溶媒を得た。

　「ハードコート膜形成用組成物」
　［製造例４］
　ＤＰＨＡが３０質量％になるように製造例２の溶媒に加え、イルガキュア１８４をＤＰＨＡの質量に対して３質量％添加して混合し、ハードコート膜形成用組成物を得た。このハードコート膜形成用組成物の硬化物の屈折率を、プリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．５０であった。

　「導電性ハードコート膜形成用組成物」
　［製造例５］
　ＤＰＨＡを２８．５質量％、ＡＴＯ分散液をＡＴＯ（屈折率２．０）換算で１．５質量％になるように製造例２の溶媒に加え、イルガキュア１８４をＤＰＨＡとＡＴＯの合計質量に対して３質量％添加して混合し、ハードコート膜形成用組成物を得た。このハードコート膜形成用組成物の硬化物の屈折率を、プリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．５３であった。

　「高屈折率膜形成用組成物」
　［製造例６］
　ＤＰＨＡを１．５質量％と、ジルコニア分散液（住友大阪セメント株式会社製　MZ-230X、ジルコニア屈折率２．２）をジルコニア換算で３．５質量％になるように製造例２の溶媒に加え、イルガキュア１２７をＤＰＨＡとジルコニアの合計質量に対して３質量％添加して混合し、高屈折率膜形成用組成物を得た。この高屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率を、プリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．６５であった。

　［実施例１］
　「低屈折率無機微粒子の表面修飾」
　製造例１のメソポーラスシリカ分散液１００g、表面処理剤としてアクリロイルオキシ基を有するＫＢＭ－５１０３を３ｇ、加水分解反応のために純水２g、反応触媒として１Ｎ硝酸０．１ｇを混合した後、６０℃に加温して３時間攪拌し、表面修飾メソポーラスシリカ分散液を得た。

　「低屈折率膜形成用組成物」
　得られた表面修飾メソポーラスシリカ分散液をＳｉＯ_２量換算で０．８質量％に、ＥＸＰ－０７を１．２質量％になるように製造例３の溶媒に加え、更にイルガキュア１２７を、ＳｉＯ_２とＥＸＰ－０７の合計質量に対して３質量％添加して混合し、低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率を、プリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．４１であった。なおＥＸＰ－０７は、１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物を含む。

　「膜形成」
　得られた低屈折率膜形成用組成物を、デラグラスＡ（アクリルシート）に、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるようにディップコートで両面塗工し、６０℃で５分間加熱して乾燥した。次いで高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）で紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーとなるようにデラグラスＡの両側から露光して硬化させて膜を形成させることで、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたアクリルシート（プラスチック基材）を得た。

　［実施例２］
　実施例１におけるデラグラスＡの片面を、マスキングフィルムにてマスキングした以外は実施例１と同様にして、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたアクリルシートを作製した。次いで、マスキングしたフィルムを除去し、片側のアクリルシート面にのみ膜を残すことで、片面のみ防指紋性を有する低屈折率膜を備えたアクリルシートを得た。

　［実施例３］
　製造例４のハードコート膜形成用組成物を、デラグラスＡに、乾燥膜厚が３μｍとなるようにディップコートで両面塗工し、６０℃で５分間加熱して乾燥した。次いで高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）で紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーとなるようにデラグラスＡの両側から露光して塗膜を硬化させることで、ハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　次いで、得られたハードコート膜付きアクリルシートに、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物を、実施例１と同様の方法で塗工して硬化させることで、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［実施例４］
　「低屈折率膜形成用組成物」
　実施例１の作製手順において、ＥＸＰ－０７の代わりにＦＨ－７００を１．２質量％添加した以外は同様にして、低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率をプリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．４１であった。ＦＨ－７００は、１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物を含む。

　「膜の形成」
　実施例３の形成手順において、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物の代わりに、実施例４で得られた低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は同様にして、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［実施例５］
　「低屈折率膜形成用組成物の作製」
　実施例１の作製手順において、ＥＸＰ－０７の代わりに、ＤＰＨＡを１．１質量％、Ｆ－４４４を０．１質量％用いた以外は同様にして、低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率をプリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．４１であった。ＤＰＨＡは、１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物を含む。

　「膜の形成」
　実施例３の形成手順において、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物の代わりに、実施例５で得られた低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は同様にして、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［実施例６］
　「低屈折率無機微粒子の表面修飾」
　実施例１の作製手順において、ＫＢＭ－５１０３の代わりに、表面処理剤としてメタクリロイルオキシ基を有するＫＢＭ－５０３を用いた以外は同様にして、表面修飾メソポーラスシリカ分散液を得た。

　「低屈折率膜形成用組成物の作製」
　実施例１の作製手順において、実施例１の表面修飾メソポーラスシリカ分散液の代わりに、実施例６で得られた上記表面修飾メソポーラスシリカ分散液を用いた以外は同様にして、低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率を、プリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．４１であった。

　「膜の形成」
　実施例３の形成手順において、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物の代わりに、実施例６で得られた低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は同様にして、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［実施例７］
　実施例３の作製手順において、製造例４のハードコート膜形成用組成物の代わりに、製造例５で得られた導電性ハードコート膜形成用組成物を用いた以外は同様にして、防指紋性を有する低屈折率膜を備えた導電性ハードコート膜付きアクリルシートを得た。すなわち製造例５の導電性ハードコート膜形成用組成物を使用した導電性ハードコート膜付きアクリルシートを使用した以外は、実施例１と同様の方法で防指紋性を有する低屈折率膜を備えた導電性ハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［実施例８］
　製造例４のハードコート膜形成用組成物を、デラグラスＡに、乾燥膜厚が３μｍとなるようにディップコートで両面塗工し、６０℃で５分間加熱して乾燥した。次いで高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）で紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギーとなるようにデラグラスＡの両側から露光して塗膜を硬化させることで、ハードコート膜付きアクリルシートを得た。次いで得られたハードコート膜付きアクリルシートに、製造例６で得られた高屈折率塗料を、乾燥膜厚が１００ｎｍとなるようにディップコートで両面塗工し、６０℃で５分間加熱して乾燥した。次いで、実施例１の低屈折率膜形成用組成物を、実施例１と同様の方法で塗工して硬化させることで、防指紋性を有する低屈折率膜と高屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［実施例９］
　「低屈折率膜形成用組成物」
　実施例１の作製手順において、実施例１で得られた表面修飾メソポーラスシリカ分散液の代わりに、製造例１で得られたメソポーラスシリカ分散液を用いた以外は同様にして、低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率を、プリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．４１であった。

　「膜の形成」
　実施例３の形成手順において、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物の代わりに、実施例９で得られた低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は同様にして、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［実施例１０］
　「低屈折率膜形成用組成物」
　実施例１の作製手順において、実施例１で得られた表面修飾メソポーラスシリカ分散液の代わりに、コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製　IPA-st）を用いた以外は同様にして、低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率を、プリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．４６であった。

　「膜の形成」
　実施例３の形成手順において、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物の代わりに、実施例１０で得られた低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は同様にして、防指紋性を有する低屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［比較例１］
　「低屈折率膜形成用組成物」
　実施例１の作製手順において、ＥＸＰ－０７の代わりにＤＰＨＡを用いた以外は同様にして、低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率をプリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．４１であった。この組成物は、パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物を含まない。

　「膜の形成」
　実施例３の形成手順において、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物の代わりに、比較例１で得られた低屈折率膜形成用組成物を用いた以外は同様にして、低屈折率膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　［比較例２］
　「低屈折率膜形成用組成物」
　実施例１の作製手順において、表面修飾メソポーラスシリカ分散液をＳｉＯ_２量換算で０．８質量％使用する、及び、ＥＸＰ－０７を１．２質量％使用する代わりに、ＥＸＰ－０７を２．０質量％用いた以外は同様にして、無機微粒子を含まない低屈折率膜形成用組成物を得た。この低屈折率膜形成用組成物の硬化物の屈折率をプリズムカプラ（Metricon社製）で測定したところ、１．５０であった。

　「膜の形成」
　実施例３の形成手順において、実施例１で作製した低屈折率膜形成用組成物の代わりに、比較例２で得られた組成物を用いた以外は同様にして、防指紋性を有する膜を備えたハードコート膜付きアクリルシートを得た。

　実施例１～１０及び比較例１、２各々で得られたアクリルシートの防指紋性、透明性、可視光反射率、導電性、及び耐スチールウール性の各特性について、下記の方法により評価した。評価結果を表２に示す。

　（１）耐指紋性の評価（トリオレイン酸拭き取り評価）
　膜上にトリオレイン酸を１滴滴下し、クリーンワイパーを用いて１０往復回数拭き取った。トリオレイン酸の滴下前及び１０往復回数拭き取り後それぞれにおける膜のヘイズ（％）を、ヘイズメーターＴＣ－１８００ＭＫ／ＩＩ（日本電色社製）を用いて測定し、トリオレイン酸の滴下前のヘイズと１０往復回数拭き取り後のヘイズとの差（Δヘイズ値）を求めた。なおトリオレイン酸は、指紋の主成分の皮脂の一つであり、付着性が少ないほど耐指紋性が良い。

　得られたΔヘイズ値に従って、下記基準に基づき防指紋性の評価を行った。なおヘイズ（％）は、いずれも、膜の形成に基材として用いられた厚さ１ｍｍのアクリルシートであるデラグラスＡを介在して測定された値である。Δヘイズ値は小さいほど好ましい。
　Ａ：Δヘイズ値が０．５未満
　Ｂ：Δヘイズ値が０．５以上かつ１．０未満
　Ｃ：Δヘイズ値が１．０以上かつ３．０未満
　Ｄ：Δヘイズ値が３．０以上かつ５．０未満
　Ｅ：Δヘイズ値が５．０以上

　（２）透明性の評価
　膜の全光線透過率（Ｔ(％)）を、ヘイズメーターＴＣ－１８００ＭＫ／ＩＩ（日本電色社製）を用いて測定した。その際、膜を施さない未処理のデラグラスＡと、各膜に基材として用いられたデラグラスＡを介在させて測定した全光線透過率の差ΔＴ値（膜＋基材の全光線透過率－基材の全光線透過率）を計算した。得られたΔＴ値の値に従って、下記基準により透明性の評価を行った。ΔＴ値は大きい値ほど好ましい。
　Ａ：ΔＴ値が＋３．０以上
　Ｂ：ΔＴ値が０．０以上かつ＋３．０未満
　Ｃ：ΔＴ値が－０．６以上かつ０．０未満
　Ｄ：ΔＴ値が－０．６未満

　（３）可視光反射率の評価
　膜の１０°正反射率を、分光光度計Ｕ－４１００（株式会社日立製作所製）を用いて測定した。得られた測定値に比視感度値を乗じて膜の可視光反射率を算出した。可視光反射率は小さいほど好ましい。

　（４）導電性の評価
　膜の表面抵抗を、抵抗率計ロレスタＡＰ（三菱化学株式会社製）を用いて測定した。得られた表面抵抗の値に従って、下記基準により導電性の評価を行った。
　Ａ：１×１０^９Ω／□未満
　Ｂ：１×１０^９Ω／□以上かつ１×１０^１１Ω／□未満
　Ｃ：１×１０^１１Ω／□以上かつ１×１０^１３Ω／□未満
　Ｄ：１×１０^１３Ω／□以上

　（５）耐スチールウール性の評価
　膜上にて、スチールウール（＃００００）を２５０ｇ／ｃｍ^２の荷重下にて、１０往復させた（１往復：２００ｍｍ）。その後、膜の表面を目視にて評価を行った。ここでは、下記基準により耐スチールウール性の評価を行った。キズは少ないほど良い。
　Ａ：キズほぼなし（５ｍｍ以下のキズが１本以下）
　Ｂ：キズ２本以下
　Ｃ：キズ３本以上、１０本以下
　Ｄ：キズ１１本以上

　（６）撥水性の評価
　接触角計ＣＡ－Ｘ（協和界面化学株式会社製）を用いて水の接触角を測定し、以下の基準にて評価した。水の接触角は大きいほど撥水性が高く汚れの付着を防ぐことができる。
　○：９０度以上
　△：８５度以上９０度未満
　×：８５度未満

　（７）親油性の評価
　接触角計ＣＡ－Ｘ（協和界面化学株式会社製）を用いてヘキサデカンの接触角を測定し、以下の基準にて評価した。４０°未満であると撥水かつ親油性の膜として好ましく使用できる。
　○：３０度未満
　△：３０度以上４０度未満
　×：４０度以上

　本発明によれば、防指紋性を有し、反射防止性に優れ、かつ耐擦傷性等の膜強度に優れる低屈折率膜形成用組成物を提供できる。

　１０　　　低屈折率膜を備えたプラスチック基材
　１１　　　プラスチック基材
　１２　　　低屈折率膜
　１３　　　ハードコート膜
　１４　　　高屈折率膜
　１００　　表示装置
　１０１　　筐体
　１０２　　表示部

Claims

　モノマー中に１個以上のメタクリロイル基又はアクリロイル基を有する架橋性化合物、
　パーフルオロ基を有しかつ光反応性官能基を有さない化合物、及び
　屈折率が１．１７以上かつ１．４０以下の無機粒子、
を含有することを特徴とする、低屈折膜形成用組成物。
　前記無機粒子は、その粒子表面をアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基のうち少なくとも一方を含む有機基で修飾されていることを特徴とする、請求項１記載の低屈折膜形成用組成物。
　前記無機粒子の平均一次粒子径は、３ｎｍ以上かつ１００ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１記載の低屈折膜形成用組成物。
　前記無機粒子は、メソポーラスシリカ微粒子であることを特徴とする、請求項１記載の低屈折膜形成用組成物。
　請求項１記載の低屈折膜形成用組成物により形成されることを特徴とする、低屈折率膜。
　請求項５記載の低屈折率膜をプラスチック基材上に備えたことを特徴とするプラスチック基材。
　表示面に、請求項５記載の低屈折率膜を備えたことを特徴とする表示装置。
　低屈折率膜がプラスチック基材上に備えられている、請求項７記載の表示装置。
　請求項１記載の低屈折膜形成用組成物の、低屈折膜の形成への使用。