JP5381167B2 - 反射型フォトマスク用ブランク及び反射型フォトマスク - Google Patents
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Description
基板と、
前記基板に積層された多層反射膜と、
前記多層反射膜に積層されたキャッピング膜と、
前記キャッピング膜に積層された吸収膜と、を有する構造体と、
前記構造体の周囲全面に被覆された保護膜と、を備え、
前記保護膜は、吸収膜よりもアウトガス成分が付着しにくい材料よりなり、かつ、
(1)キャッピング膜で被覆した多層反射膜面のEUV光反射率(Rm)と、保護膜を形成した吸収膜上の反射率(Ra)との光学濃度(−log(Ra/Rm))が2.1を超える。
(2)欠陥検査波長光に対するキャッピング膜面と保護膜面とのコントラスト((Rm−Ra)/(Ra+Rm)×100%)が47%以上。
上記(1)(2)の条件を共に満たすことを特徴とする反射型フォトマスク用ブランクである。
条件1:キャッピング膜で被覆した多層反射膜面のEUV光反射率(Rm)と、保護膜を形成した上層吸収膜上の反射率(Ra)との光学濃度(=−log(Ra/Rm))が2.1を超える保護膜の膜厚が存在すること。
条件2:欠陥検査波長光(波長257nm)に対する反射部(キャッピング膜面)と吸収部(保護膜面)とのコントラスト(=(Rm−Ra)/(Ra+Rm)×100%)が47%以上となる保護膜の膜厚が存在すること。
例としてはルテニウム、クロム、白金などが挙げられる。
まず、下地とする基板1として6インチ角の低熱膨張ガラスを用意し、その上にモリブデン2.8nmとシリコン4.2nmとを40周期で積層させた膜厚280nmの多層反射膜2を形成した。
保護膜6を構造体7の周囲全面に被膜せずに反射型フォトマスク用ブランク10を得た。反射型フォトマスク20を形成する方法は実施例1と同様である。
アクリル系樹脂製マスクケースに20時間保管し、表面に付着するアウトガス成分量を「TD−GC/MS」を用いて実施例1と実施例2との評価を行った。
2……多層反射膜
3……キャッピング膜
4……下層吸収膜
5……上層吸収膜
6……保護膜
7……構造体
8……反射部
9……吸収部
10……反射型フォトマスク用ブランク
20……反射型フォトマスク
Claims (4)
- 基板と、
前記基板に積層された多層反射膜と、
前記多層反射膜に積層されたキャッピング膜と、
前記キャッピング膜に積層された吸収膜と、を有する構造体と、
前記構造体の周囲全面に被覆された保護膜と、を備え、
前記保護膜は、吸収膜よりもアウトガス成分が付着しにくい材料よりなり、かつ、
(1)キャッピング膜で被覆した多層反射膜面のEUV光反射率(Rm)と、保護膜を形成した吸収膜上の反射率(Ra)との光学濃度(−log(Ra/Rm))が2.1を超える。
(2)欠陥検査波長光に対するキャッピング膜面と保護膜面とのコントラスト((Rm−Ra)/(Ra+Rm)×100%)が47%以上。
上記(1)(2)の条件を共に満たすことを特徴とする反射型フォトマスク用ブランク。 - 請求項1に記載の反射型フォトマスク用ブランクであって、
吸収膜は、上層吸収膜と下層吸収膜よりなる多層膜であること
を特徴とする反射型フォトマスク用ブランク。 - 請求項1または2のいずれかに記載の反射型フォトマスク用ブランクであって、
多層反射膜は、モリブデンとシリコンとが複数回積層された多層反射膜であり、
キャッピング膜は、ルテニウムを含む材料よりなり、
吸収膜は、タンタルを含む材料よりなり、
保護膜は、ルテニウムを含み、
前記保護膜の膜厚は1.5nm〜2.5nmの範囲内にあること
を特徴とする反射型フォトマスク用ブランク。 - 請求項1から3のいずれかに記載の反射型フォトマスク用ブランクを用いて作製された反射型フォトマスク。
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JP2009050423A JP5381167B2 (ja) | 2009-03-04 | 2009-03-04 | 反射型フォトマスク用ブランク及び反射型フォトマスク |
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