JP4910820B2 - 極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及びリソグラフィ方法 - Google Patents
極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及びリソグラフィ方法 Download PDFInfo
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Description
立方晶系TaN:15.842g/cm3
立方晶系TaN1.13:16.256g/cm3
六方晶系TaN:14.306g/cm3
六方晶系Ta2N:15.824g/cm3
である。なお、単体金属であるTaの密度は16.7g/cm3である。
2・・・・多層膜
3・・・・キャッピング膜
4・・・・緩衝膜
5・・・・吸収膜(立方晶系の窒化タンタルを含む吸収膜)
5a・・・吸収膜(アモルファス窒化タンタルからなる吸収膜)
6・・・・AR膜
7・・・・入射EUV光
8・・・・反射EUV光(反射率Rm)
9・・・・反射EUV光(反射率Ra)
Claims (7)
- 極端紫外線を反射する多層膜と、
前記多層膜の上にパターン状に形成された立方晶系の結晶構造からなる窒化タンタル膜からなり極端紫外線を吸収する吸収膜と
を有することを特徴とする極端紫外線露光用マスク。 - 請求項1記載の極端紫外線露光用マスクにおいて、さらに、
前記多層膜上に形成された前記多層膜を保護するキャッピング膜と、
前記キャッピング膜と前記吸収膜との間に形成された緩衝膜と
を有することを特徴とする極端紫外線露光用マスク。 - 極端紫外線を反射する多層膜と、
前記多層膜の上に形成された立方晶系の結晶構造からなる窒化タンタル膜からなり極端紫外線を吸収する吸収膜と
を有することを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。 - 請求項3記載の極端紫外線露光用マスクブランクにおいて、さらに、
前記多層膜上に形成された前記多層膜を保護するキャッピング膜と、
前記キャッピング膜と前記吸収膜との間に形成された緩衝膜と
を有することを特徴とする極端紫外線露光用マスクブランク。 - 基板上に極端紫外線を反射する多層膜を形成し、
前記多層膜の上に極端紫外線を吸収する吸収膜として、立方晶系の結晶構造からなる窒化タンタル膜を形成し、
前記吸収膜上にレジストパターンを形成し、
前記レジストパターンをマスクとして前記吸収膜をエッチングすることによりマスクパターンを形成すること
を特徴とする極端紫外線露光用マスクの製造方法。 - 請求項5記載の極端紫外線露光用マスクの製造方法において、
前記多層膜上に前記多層膜を保護するキャッピング膜を形成し、
前記キャッピング膜上に、前記吸収膜を形成する前に緩衝膜を形成する
ことを特徴とする極端紫外線露光用マスクの製造方法。 - 極端紫外線を反射する多層膜と、前記多層膜の上にパターン状に形成された立方晶系の結晶構造からなる窒化タンタル膜からなり極端紫外線を吸収する吸収膜とを有する露光用マスクに極端紫外線を斜めに照射し、前記露光用マスクからの反射光をレジストの形成された露光対象基板上に照射することを特徴とするリソグラフィ方法。
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