JP5379963B2 - 拭き取り用洗浄剤組成物および洗浄方法 - Google Patents
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Description
本発明は、拭き取り用洗浄剤組成物、および当該拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容して用いた洗浄方法に関する。
過酸化水素および界面活性剤を含有する洗浄剤組成物（液体漂白剤組成物、液体洗浄剤組成物など）は、従来、衣料用又は硬表面用を中心に多く開発されている。
たとえば、トリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法に好適な洗浄剤組成物が開発されている。
その一例としては、過酸化水素と、陰イオン界面活性剤（直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩など）、アルカノールアマイド、アミンオキサイド、およびベタインから選ばれる１種以上の界面活性剤と、酢酸、乳酸、グリコール酸、およびそれらの塩からなる群から選ばれる１種以上と、水とを含有し、泡状に吐出させることにより被洗物への塗布性が改善された、泡形成機構を有するトリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる漂白剤組成物が提案されている（特許文献１参照）。
たとえば、トリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法に好適な洗浄剤組成物が開発されている。
その一例としては、過酸化水素と、陰イオン界面活性剤（直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩など）、アルカノールアマイド、アミンオキサイド、およびベタインから選ばれる１種以上の界面活性剤と、酢酸、乳酸、グリコール酸、およびそれらの塩からなる群から選ばれる１種以上と、水とを含有し、泡状に吐出させることにより被洗物への塗布性が改善された、泡形成機構を有するトリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる漂白剤組成物が提案されている（特許文献１参照）。
また、過酸化水素と、抗菌精油と、アルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（ＡＳ）などの界面活性剤とを含有し、スプレーディスペンサーに詰められた消毒組成物が提案されている（特許文献２参照）。
また、過酸化水素と、高分子化合物とを含有する過酸化物漂白剤含有組成物、およびこれをスプレー状に噴霧して用いるカーペットのクリーニング方法が提案されている（特許文献３参照）。
特開２００６−２５７３４８号公報
特表２００２−５０５６５８号公報
特表２００２−５２８２７２号公報
また、過酸化水素と、高分子化合物とを含有する過酸化物漂白剤含有組成物、およびこれをスプレー状に噴霧して用いるカーペットのクリーニング方法が提案されている（特許文献３参照）。
洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法によれば、たとえば水で洗い流すことができる場所（浴室、トイレ等）だけでなく、水で洗い流すことが困難な場所（リビングの床、壁、家具、カーテン、ソファー、カーペット等）であっても、簡便に洗浄することができる。
水で洗い流すことができる場所においては、汚れ部位を中心に洗浄剤組成物を塗布し、汚れ度合に応じて洗浄剤組成物を多目に使用し、必要であれば擦り洗い等を行った後、水で洗い流すことができる。また、洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーから霧状に噴出することに限らず、特許文献１に記載の方法又はスクイズ容器などを用いる方法によって泡状に噴出して汚れ部位に塗布することもできる。
これに対して、水で洗い流すことが困難な場所においては、洗浄剤組成物を、被洗物に対して薄く（少量で）広範囲に塗布でき、容易に拭き取ることができる、ことが必要である。かかる場合、洗浄剤組成物は、良好な洗浄力を有することに加えて、トリガー式スプレーヤーから均一でかつ細かい液滴径の粒子として噴霧されることが重要である。
しかしながら、たとえば特許文献２に記載される組成物などの従来の洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーに収容し、該トリガー式スプレーヤーから噴霧した場合、均一でかつ細かい液滴径の洗浄剤組成物粒子が噴霧されるものの、該洗浄剤組成物粒子が鼻・口腔内に吸引されて違和感を覚えたり、あるいは、ムセて咳き込んだりするおそれがある。
また、たとえば特許文献３に記載の組成物を用いた場合、該組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧して汚れ部位を拭き取った後、拭き取られた部位に、該組成物又は汚れ等の拭き残り（曇り）が生じやすい問題がある。この拭き残りは、特にガラス面において目立つため、洗浄剤組成物においては、拭き残りが抑制されることも重要な特性である。
しかしながら、たとえば特許文献２に記載される組成物などの従来の洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーに収容し、該トリガー式スプレーヤーから噴霧した場合、均一でかつ細かい液滴径の洗浄剤組成物粒子が噴霧されるものの、該洗浄剤組成物粒子が鼻・口腔内に吸引されて違和感を覚えたり、あるいは、ムセて咳き込んだりするおそれがある。
また、たとえば特許文献３に記載の組成物を用いた場合、該組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧して汚れ部位を拭き取った後、拭き取られた部位に、該組成物又は汚れ等の拭き残り（曇り）が生じやすい問題がある。この拭き残りは、特にガラス面において目立つため、洗浄剤組成物においては、拭き残りが抑制されることも重要な特性である。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、良好な洗浄力を有し、トリガー式スプレーヤーから噴霧された際にムセにくく、かつ、拭き残りが抑制された拭き取り用洗浄剤組成物、および当該拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、前記課題を解決するために以下の手段を提案する。
すなわち、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる拭き取り用洗浄剤組成物において、過酸化水素（Ａ）０．１〜５質量％と、下記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩（Ｂ）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、下記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）の含有割合が０．５質量％以下であり、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする。
すなわち、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる拭き取り用洗浄剤組成物において、過酸化水素（Ａ）０．１〜５質量％と、下記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩（Ｂ）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、下記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）の含有割合が０．５質量％以下であり、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、金属封鎖剤（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
また、本発明の洗浄方法は、前記本発明の拭き取り用洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーに収容し、前記トリガー式スプレーヤーから噴霧して被洗物に塗布し、該塗布部を拭き取る洗浄方法であって、前記トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における前記拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布が１０〜３００μｍの範囲内であることを特徴とする。
本発明により、良好な洗浄力を有し、トリガー式スプレーヤーから噴霧された際にムセにくく、かつ、拭き残りが抑制された拭き取り用洗浄剤組成物、および当該拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法が提供できる。
≪拭き取り用洗浄剤組成物≫
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられるものであって、過酸化水素（Ａ）（以下、（Ａ）成分という。）０．１〜５質量％と、下記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩、および下記一般式（２）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）（以下、（Ｂ）成分という。）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、下記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）（以下、（Ｃ）成分という。）の含有割合が０．５質量％以下である。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられるものであって、過酸化水素（Ａ）（以下、（Ａ）成分という。）０．１〜５質量％と、下記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩、および下記一般式（２）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）（以下、（Ｂ）成分という。）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、下記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）（以下、（Ｃ）成分という。）の含有割合が０．５質量％以下である。
＜（Ａ）成分＞
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、（Ａ）成分は過酸化水素であって、拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ａ）成分の含有割合は０．１〜５質量％であり、０．５〜２質量％であることが好ましい。
（Ａ）成分の含有割合が０．１質量％以上であると、良好な洗浄力が得られる。一方、５質量％以下であると、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際にムセにくくなる効果が得られ、２質量％以下であると、ムセにくくなる効果がより向上する。
（Ａ）成分の含有割合が５質量％を超えると、ムセるようになったり、鼻又はのどに違和感を覚えたりするようになる。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、（Ａ）成分は過酸化水素であって、拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ａ）成分の含有割合は０．１〜５質量％であり、０．５〜２質量％であることが好ましい。
（Ａ）成分の含有割合が０．１質量％以上であると、良好な洗浄力が得られる。一方、５質量％以下であると、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際にムセにくくなる効果が得られ、２質量％以下であると、ムセにくくなる効果がより向上する。
（Ａ）成分の含有割合が５質量％を超えると、ムセるようになったり、鼻又はのどに違和感を覚えたりするようになる。
＜（Ｂ）成分＞
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、（Ｂ）成分は、前記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩（以下、（Ｂ１）成分という。）、および前記一般式（２）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩（以下、（Ｂ２）成分という。）からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、（Ｂ）成分は、前記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩（以下、（Ｂ１）成分という。）、および前記一般式（２）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩（以下、（Ｂ２）成分という。）からなる群から選ばれる少なくとも一種である。
［（Ｂ１）成分］
（Ｂ１）成分は、前記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩である。
前記一般式（１）中、ｍ＋ｎ＝１０〜１４であり、すなわち、（Ｂ１）成分は、炭素数１３〜１７（ただし、式（１）におけるＭ中の炭素数を除く。）の二級アルキルスルホン酸又はその塩である。
ｍ＋ｎ＝１０以上であると、洗浄力が向上する。一方、ｍ＋ｎ＝１４以下であると、（Ｂ１）成分自体の溶解性が良好となるため、保存時における析出などが抑制される。
前記一般式（１）中、Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミン、又はアンモニウムを表す。具体的には、水素原子；ナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属原子；カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属原子；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン；アンモニウムなどが挙げられ、これらが混在していてもよい。なかでも、Ｍとしては、アルカリ金属原子が好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
（Ｂ１）成分は、前記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩である。
前記一般式（１）中、ｍ＋ｎ＝１０〜１４であり、すなわち、（Ｂ１）成分は、炭素数１３〜１７（ただし、式（１）におけるＭ中の炭素数を除く。）の二級アルキルスルホン酸又はその塩である。
ｍ＋ｎ＝１０以上であると、洗浄力が向上する。一方、ｍ＋ｎ＝１４以下であると、（Ｂ１）成分自体の溶解性が良好となるため、保存時における析出などが抑制される。
前記一般式（１）中、Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミン、又はアンモニウムを表す。具体的には、水素原子；ナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属原子；カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属原子；モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン；アンモニウムなどが挙げられ、これらが混在していてもよい。なかでも、Ｍとしては、アルカリ金属原子が好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
本発明における（Ｂ１）成分は、炭素数１０〜２１の二級アルキルスルホン酸塩の混合物（以下、混合物（ｂ１）という。）に含まれた形態で提供されてもよい。なお、混合物（ｂ１）には、少量の一級アルキルスルホン酸塩、ジスルホン酸塩、ポリスルホン酸塩が含まれていてもよい。
本発明において用いることができる混合物（ｂ１）としては、炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸塩を８０質量％以上含有するものが好ましく、９０質量％以上含有するものがさらに好ましい。
混合物（ｂ１）を含有する原料として好適に用いることができる市販品としては、
ＨＯＳＴＡＰＵＲ ＳＡＳ ３０（商品名、クラリアントジャパン（株）製；炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上）、
ＨＯＳＴＡＰＵＲ ＳＡＳ ６０（商品名、クラリアントジャパン（株）製；炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上）、
ＭＥＲＳＯＬ８０（商品名、Ｂａｙｅｒ社製；平均炭素数１５（炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が８０質量％以上））、
ＭＡＲＬＯＮシリーズ（ＳＡＳＯＬ社製；ＰＳ６５、ＰＳ６０、ＰＳ６０Ｗ（以上、商品名）、炭素数１０〜１８（炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上））が挙げられる。
本発明において用いることができる混合物（ｂ１）としては、炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸塩を８０質量％以上含有するものが好ましく、９０質量％以上含有するものがさらに好ましい。
混合物（ｂ１）を含有する原料として好適に用いることができる市販品としては、
ＨＯＳＴＡＰＵＲ ＳＡＳ ３０（商品名、クラリアントジャパン（株）製；炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上）、
ＨＯＳＴＡＰＵＲ ＳＡＳ ６０（商品名、クラリアントジャパン（株）製；炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上）、
ＭＥＲＳＯＬ８０（商品名、Ｂａｙｅｒ社製；平均炭素数１５（炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が８０質量％以上））、
ＭＡＲＬＯＮシリーズ（ＳＡＳＯＬ社製；ＰＳ６５、ＰＳ６０、ＰＳ６０Ｗ（以上、商品名）、炭素数１０〜１８（炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上））が挙げられる。
［（Ｂ２）成分］
（Ｂ２）成分は、前記一般式（２）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩である。
前記一般式（２）中、Ｒ１は、炭素数８〜１８のアルキル基又は炭素数８〜１８のアルケニル基であり、炭素数８〜１８のアルキル基が好ましい。該アルキル基又は該アルケニル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ１において、炭素数は８〜１８であり、１０〜１６が好ましく、１２〜１３がより好ましい。Ｒ1の炭素数が８以上であると、疎水性が高まるため、洗浄力が向上する。一方、Ｒ1の炭素数が１８以下であれば、（Ｂ２）成分自体の溶解性が良好となるため、保存時における析出などが抑制される。
ただし、式（２）におけるＲ１は、（Ｂ２）成分の原料である高級アルコールに由来する。そのため、該高級アルコールは、工業的に入手が容易な下記（ａ）〜（ｅ）から選択されることが好ましい。なお、「分岐率」とは、全高級アルコールに対する、分岐鎖をもつ高級アルコールの割合（質量％）を示す。
（ａ）シェルケミカルズ社製、商品名「ネオドール２３」（分岐率：２０質量％）。これは、ｎ−オレフィンから改良オキソ法により生成し、精留されたものである。
（ｂ）ブテンの３量体からオキソ法により得られる炭素数１３のアルコール（分岐率：１００質量％）。
（ｃ）中鎖アルコールからガーベット反応により得られる高級アルコール（分岐率：１００質量％）。
（ｄ）Ｓａｓｏｌ社製、商品名「Ｓａｆｏｌ２３」（分岐率：５０質量％）。これは、石炭のガス化によって得られるオレフィンからオキソ法によりアルコールを得て、さらに水素化されたものである。
（ｅ）天然油脂から合成された天然系高級アルコール（分岐率：０質量％）。
（Ｂ２）成分は、前記一般式（２）で表されるポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩である。
前記一般式（２）中、Ｒ１は、炭素数８〜１８のアルキル基又は炭素数８〜１８のアルケニル基であり、炭素数８〜１８のアルキル基が好ましい。該アルキル基又は該アルケニル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ１において、炭素数は８〜１８であり、１０〜１６が好ましく、１２〜１３がより好ましい。Ｒ1の炭素数が８以上であると、疎水性が高まるため、洗浄力が向上する。一方、Ｒ1の炭素数が１８以下であれば、（Ｂ２）成分自体の溶解性が良好となるため、保存時における析出などが抑制される。
ただし、式（２）におけるＲ１は、（Ｂ２）成分の原料である高級アルコールに由来する。そのため、該高級アルコールは、工業的に入手が容易な下記（ａ）〜（ｅ）から選択されることが好ましい。なお、「分岐率」とは、全高級アルコールに対する、分岐鎖をもつ高級アルコールの割合（質量％）を示す。
（ａ）シェルケミカルズ社製、商品名「ネオドール２３」（分岐率：２０質量％）。これは、ｎ−オレフィンから改良オキソ法により生成し、精留されたものである。
（ｂ）ブテンの３量体からオキソ法により得られる炭素数１３のアルコール（分岐率：１００質量％）。
（ｃ）中鎖アルコールからガーベット反応により得られる高級アルコール（分岐率：１００質量％）。
（ｄ）Ｓａｓｏｌ社製、商品名「Ｓａｆｏｌ２３」（分岐率：５０質量％）。これは、石炭のガス化によって得られるオレフィンからオキソ法によりアルコールを得て、さらに水素化されたものである。
（ｅ）天然油脂から合成された天然系高級アルコール（分岐率：０質量％）。
前記一般式（２）中、ｎ１は、エチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、１〜６である。なかでも、油性汚れに対する洗浄力が向上することから、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましい。
前記一般式（２）中、Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミン、又はアンモニウムを表す。Ｍとしては、前記一般式（１）中のＭと同様のものが挙げられ、なかでもアルカリ金属原子が好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
（Ｂ２）成分は、たとえば以下のようにして製造できる。
前記（ａ）〜（ｅ）から選択される高級アルコールに、エチレンオキサイドを付加させてポリオキシエチレンアルキルエーテル（アルコールエトキシレート）を得る。
得られたポリオキシエチレンアルキルエーテルを、サルファンでスルホン化あるいは硫酸化することによりポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステルが製造でき、さらに中和することによりポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が製造できる。
前記（ａ）〜（ｅ）から選択される高級アルコールに、エチレンオキサイドを付加させてポリオキシエチレンアルキルエーテル（アルコールエトキシレート）を得る。
得られたポリオキシエチレンアルキルエーテルを、サルファンでスルホン化あるいは硫酸化することによりポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステルが製造でき、さらに中和することによりポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が製造できる。
なお、（Ｂ２）成分においては、エチレンオキサイドの「平均」付加モル数が１〜６である。したがって、（Ｂ２）成分の製造の際、エチレンオキサイドの付加モル数がゼロのもの、すなわち、前記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）が生成する。そのため、（Ｂ２）成分には、（Ｂ２）成分を構成する一成分として（Ｃ）成分が含まれ、（Ｂ２）成分を配合すると、一定量の（Ｃ）成分が配合されることになる。
（Ｂ）成分は、１種又は２種以上混合して用いることができる。
上記の中でも、（Ｂ）成分としては、本発明の効果に優れることから、（Ｂ１）成分を含むことが特に好ましい。
拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｂ）成分の含有割合は０．２〜３．５質量％であり、１〜２質量％であることが好ましい。
（Ｂ）成分の含有割合が０．２質量％以上であると、良好な洗浄力が得られる。一方、３．５質量％以下であると、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際にムセにくくなる効果が得られ、２質量％以下であると、ムセにくくなる効果がより向上する。
また、（Ｂ２）成分を使用する場合、上記のように（Ｂ２）成分を構成する一成分である（Ｃ）成分も一定量配合されるが、前記（Ｂ）成分の含有割合が上限値以下であれば、拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｃ）成分の含有割合を０．５質量％以下に容易に制御できる。
上記の中でも、（Ｂ）成分としては、本発明の効果に優れることから、（Ｂ１）成分を含むことが特に好ましい。
拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｂ）成分の含有割合は０．２〜３．５質量％であり、１〜２質量％であることが好ましい。
（Ｂ）成分の含有割合が０．２質量％以上であると、良好な洗浄力が得られる。一方、３．５質量％以下であると、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際にムセにくくなる効果が得られ、２質量％以下であると、ムセにくくなる効果がより向上する。
また、（Ｂ２）成分を使用する場合、上記のように（Ｂ２）成分を構成する一成分である（Ｃ）成分も一定量配合されるが、前記（Ｂ）成分の含有割合が上限値以下であれば、拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｃ）成分の含有割合を０．５質量％以下に容易に制御できる。
＜（Ｃ）成分＞
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、（Ｃ）成分は、前記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩である。
前記一般式（３）中、Ｒ２は、炭素数８〜１８のアルキル基又は炭素数８〜１８のアルケニル基である。Ｒ２としては、前記一般式（２）中のＲ１と同様のものが挙げられ、炭素数８〜１８のアルキル基が好ましい。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミン、又はアンモニウムを表す。Ｍとしては、前記一般式（１）中のＭと同様のものが挙げられ、なかでもアルカリ金属原子が好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、（Ｃ）成分は、前記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩である。
前記一般式（３）中、Ｒ２は、炭素数８〜１８のアルキル基又は炭素数８〜１８のアルケニル基である。Ｒ２としては、前記一般式（２）中のＲ１と同様のものが挙げられ、炭素数８〜１８のアルキル基が好ましい。
Ｍは、水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子、アルカノールアミン、又はアンモニウムを表す。Ｍとしては、前記一般式（１）中のＭと同様のものが挙げられ、なかでもアルカリ金属原子が好ましく、ナトリウムが特に好ましい。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｃ）成分の含有割合は０．５質量％以下であり、０．２質量％以下であることが好ましく、（Ｃ）成分を含有しないことが最も好ましい。
（Ｃ）成分の含有割合が０．５質量％以下であることにより、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際にムセにくくなる効果が得られ、該含有割合が低いほどムセにくくなる効果が優れる。
また、０．５質量％以下の範囲で（Ｃ）成分を配合すると、洗浄力がより向上する。
（Ｃ）成分の含有割合が０．５質量％以下であることにより、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際にムセにくくなる効果が得られ、該含有割合が低いほどムセにくくなる効果が優れる。
また、０．５質量％以下の範囲で（Ｃ）成分を配合すると、洗浄力がより向上する。
＜（Ｄ）成分＞
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、金属封鎖剤（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
（Ｄ）成分を含有することにより、良好な洗浄力が得られる。また、水中の微量金属イオン等が捕捉され、拭き取り用洗浄剤組成物の液安定性（特に（Ａ）成分の安定性）が向上する。
（Ｄ）成分としては、金属イオンを封鎖する能力を有するものであれば特に制限されるものではなく、たとえば、エチレンジアミンテトラ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、ニトリロトリ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ−Ｈ）、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、エチレングルコースビス（２−アミノエチルエーテル）テトラ酢酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、マレイン酸、アジピン酸、ポリアクリル酸、アクリル酸−マレイン酸共重合体、イソアミレン−マレイン酸共重合体、グルコン酸、ヒドロキシベンジルイミジノ酢酸、イミジノ酢酸、ピロリン酸、トリポリリン酸ヘキサメタリン酸、又はそれらの塩等が挙げられる。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、金属封鎖剤（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。
（Ｄ）成分を含有することにより、良好な洗浄力が得られる。また、水中の微量金属イオン等が捕捉され、拭き取り用洗浄剤組成物の液安定性（特に（Ａ）成分の安定性）が向上する。
（Ｄ）成分としては、金属イオンを封鎖する能力を有するものであれば特に制限されるものではなく、たとえば、エチレンジアミンテトラ酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸、ニトリロトリ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ−Ｈ）、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、エチレングルコースビス（２−アミノエチルエーテル）テトラ酢酸、クエン酸、酒石酸、リンゴ酸、マレイン酸、アジピン酸、ポリアクリル酸、アクリル酸−マレイン酸共重合体、イソアミレン−マレイン酸共重合体、グルコン酸、ヒドロキシベンジルイミジノ酢酸、イミジノ酢酸、ピロリン酸、トリポリリン酸ヘキサメタリン酸、又はそれらの塩等が挙げられる。
（Ｄ）成分は、１種又は２種以上混合して用いることができる。
上記の中でも、（Ｄ）成分としては、洗浄力および液安定性に優れることから、エチレンジアミンテトラ酢酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ−Ｈ）、アクリル酸−マレイン酸共重合体、又はそれらの塩が好ましく、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ−Ｈ）又はその塩が特に好ましい。
拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｄ）成分の含有割合は０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．１〜１質量％であることがより好ましい。下限値以上であると、良好な洗浄力が得られる。また、拭き取り用洗浄剤組成物の液安定性が向上する。一方、上限値以下であると、金属イオンを封鎖する効果が充分に得られる。また、（Ｄ）成分自体の溶解性が向上する。
上記の中でも、（Ｄ）成分としては、洗浄力および液安定性に優れることから、エチレンジアミンテトラ酢酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ−Ｈ）、アクリル酸−マレイン酸共重合体、又はそれらの塩が好ましく、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ−Ｈ）又はその塩が特に好ましい。
拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｄ）成分の含有割合は０．０１〜２質量％であることが好ましく、０．１〜１質量％であることがより好ましい。下限値以上であると、良好な洗浄力が得られる。また、拭き取り用洗浄剤組成物の液安定性が向上する。一方、上限値以下であると、金属イオンを封鎖する効果が充分に得られる。また、（Ｄ）成分自体の溶解性が向上する。
＜その他の成分＞
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物には、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分以外に、必要に応じて通常、衣料用又は硬表面用等の洗浄剤組成物に用いられる成分を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜、配合することができる。
具体的には、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分以外の界面活性剤、ハイドロトロープ剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、ラジカルトラップ剤、除菌剤、香料、色素等が挙げられる。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物には、前記（Ａ）〜（Ｄ）成分以外に、必要に応じて通常、衣料用又は硬表面用等の洗浄剤組成物に用いられる成分を、本発明の効果を損なわない範囲で適宜、配合することができる。
具体的には、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分以外の界面活性剤、ハイドロトロープ剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、ラジカルトラップ剤、除菌剤、香料、色素等が挙げられる。
（界面活性剤）
（Ｂ）成分および（Ｃ）成分以外の界面活性剤としては、通常、洗浄剤組成物に用いられる界面活性剤を配合することができる。
ただし、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、界面活性剤としてカチオン界面活性剤および両性界面活性剤のいずれも含有しないことが好ましく、上記（Ｂ）成分のみを含有することが特に好ましい。これにより、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから良好に噴霧できる。かかる理由としては、以下の通りである。
上記のように、洗浄剤組成物をスプレーヤーから良好に噴出させるためには、洗浄剤組成物の粘度を低く調整することが好ましい。本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、たとえばカチオン界面活性剤又は両性界面活性剤を併用すると、（Ｂ）成分であるアニオン界面活性剤との相互作用により、拭き取り用洗浄剤組成物の粘度が高くなりやすいため、好ましくない。
（Ｂ）成分および（Ｃ）成分以外の界面活性剤としては、通常、洗浄剤組成物に用いられる界面活性剤を配合することができる。
ただし、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、界面活性剤としてカチオン界面活性剤および両性界面活性剤のいずれも含有しないことが好ましく、上記（Ｂ）成分のみを含有することが特に好ましい。これにより、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから良好に噴霧できる。かかる理由としては、以下の通りである。
上記のように、洗浄剤組成物をスプレーヤーから良好に噴出させるためには、洗浄剤組成物の粘度を低く調整することが好ましい。本発明の拭き取り用洗浄剤組成物において、たとえばカチオン界面活性剤又は両性界面活性剤を併用すると、（Ｂ）成分であるアニオン界面活性剤との相互作用により、拭き取り用洗浄剤組成物の粘度が高くなりやすいため、好ましくない。
（ハイドロトロープ剤）
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、香料等の油性成分を安定配合するために、ハイドロトロープ剤として有機溶媒が使用できる。具体的には、エタノール、イソプロパノール、フェノキシエタノール等の１価のアルコール類；エチレングルコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類が使用できる。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、香料等の油性成分を安定配合するために、ハイドロトロープ剤として有機溶媒が使用できる。具体的には、エタノール、イソプロパノール、フェノキシエタノール等の１価のアルコール類；エチレングルコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類が使用できる。
（防腐剤）
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、該拭き取り用洗浄剤組成物の安定性を向上するために、安息香酸ナトリウムを、拭き取り用洗浄剤組成物中に０．０５〜１質量％含有することが好ましく、０．１〜０．５質量％含有することがより好ましい。１質量％以下であれば、充分な安定性向上効果が得られ、０．０５質量％以上であれば、安定性向上効果が向上する。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、該拭き取り用洗浄剤組成物の安定性を向上するために、安息香酸ナトリウムを、拭き取り用洗浄剤組成物中に０．０５〜１質量％含有することが好ましく、０．１〜０．５質量％含有することがより好ましい。１質量％以下であれば、充分な安定性向上効果が得られ、０．０５質量％以上であれば、安定性向上効果が向上する。
（ｐＨ調整剤）
拭き取り用洗浄剤組成物のｐＨは、酸性物質又はアルカリ物質を適宜選択して添加することにより調整できる。
酸性物質としては、上記（Ｄ）成分の酸タイプのものの他に、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、クエン酸が好適なものとして挙げられる。
また、アルカリ物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、アルカノールアミンが好適なものとして挙げられる。
拭き取り用洗浄剤組成物のｐＨは、酸性物質又はアルカリ物質を適宜選択して添加することにより調整できる。
酸性物質としては、上記（Ｄ）成分の酸タイプのものの他に、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、クエン酸が好適なものとして挙げられる。
また、アルカリ物質としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、アルカノールアミンが好適なものとして挙げられる。
（ラジカルトラップ剤）
ラジカルトラップ剤としては、好ましくはフェノール系ラジカルトラップ剤が使用できる。フェノール系ラジカルトラップ剤とは、フェノールおよびフェノール誘導体であり、該フェノール誘導体としては、フェノール性のＯＨ基を有する化合物、フェノール性のＯＨ基のエステル誘導体、エーテル誘導体等が好ましく挙げられる。なお、置換位置は、オルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよい。なかでも、フェノール性のＯＨ基を有する化合物がより好ましい。そのなかでも、さらに好ましい化合物は、「Ｇ．Ｅ．Ｐｅｎｋｅｔｈ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ」，７，５１２〜５２１頁（１９５７）に記載された酸化還元電位（Ｏ．Ｐ．）０が１．２５Ｖ以下の化合物であり、特に好ましくは０．７５Ｖ以下の化合物である。これらのなかで、さらに好ましくは、ジメトキシフェノール、カテコール、ハイドロキノン、４−メトキシフェノール、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）等が挙げられ、４−メトキシフェノールが特に好ましい。
拭き取り用洗浄剤組成物中のラジカルトラップ剤の含有割合は、過酸化水素の分解抑制効果や経済性などの観点から、０．０１〜６質量％とすることが好ましく、０．０５〜１質量％とすることがより好ましい。
ラジカルトラップ剤としては、好ましくはフェノール系ラジカルトラップ剤が使用できる。フェノール系ラジカルトラップ剤とは、フェノールおよびフェノール誘導体であり、該フェノール誘導体としては、フェノール性のＯＨ基を有する化合物、フェノール性のＯＨ基のエステル誘導体、エーテル誘導体等が好ましく挙げられる。なお、置換位置は、オルト位、メタ位、パラ位のいずれでもよい。なかでも、フェノール性のＯＨ基を有する化合物がより好ましい。そのなかでも、さらに好ましい化合物は、「Ｇ．Ｅ．Ｐｅｎｋｅｔｈ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ」，７，５１２〜５２１頁（１９５７）に記載された酸化還元電位（Ｏ．Ｐ．）０が１．２５Ｖ以下の化合物であり、特に好ましくは０．７５Ｖ以下の化合物である。これらのなかで、さらに好ましくは、ジメトキシフェノール、カテコール、ハイドロキノン、４−メトキシフェノール、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）等が挙げられ、４−メトキシフェノールが特に好ましい。
拭き取り用洗浄剤組成物中のラジカルトラップ剤の含有割合は、過酸化水素の分解抑制効果や経済性などの観点から、０．０１〜６質量％とすることが好ましく、０．０５〜１質量％とすることがより好ましい。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、好適には水を溶剤として、常法に基づいて製造することができる。
ただし、上記のように、（Ｂ２）成分には「エチレンオキサイドの付加モル数がゼロのもの」である（Ｃ）成分が含まれる。そのため、（Ｂ）成分として（Ｂ２）成分を用いると、（Ｃ）成分も配合されることになる。したがって、（Ｂ２）成分を用いる際、（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分が配合される量と、別途単独で配合される（Ｃ）成分の量との合計量が、拭き取り用洗浄剤組成物中の含有割合で０．５質量％以下となるように制御することが必要である。
（Ｂ２）成分中に（Ｃ）成分は、たとえば下記に例示する割合で含有される。
前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２と炭素数１３との混合物で、かつ、エチレンオキサイドの平均付加モル数が３である（Ｂ２）成分の場合、（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分の含有割合は、一例として２３．２質量％である。
前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２と炭素数１３との混合物で、かつ、エチレンオキサイドの平均付加モル数が５である（Ｂ２）成分の場合、（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分の含有割合は、一例として６．１質量％である。
ここで、「（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分の含有割合」は、（Ｂ２）成分の原料であるアルコールエトキシレートのエチレンオキサイド付加体について、エチレンオキサイドの付加モル数分布をＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）により測定し、アルコールエトキシレート中の未反応アルコールの含有率を基に分子量換算した結果、求められる値を示す。
一方、（Ｂ）成分として（Ｂ１）成分を用いる場合、（Ｂ１）成分には（Ｃ）成分は含まれていないため、拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｃ）成分の含有割合が０．５質量％以下となるように、単独で配合する（Ｃ）成分の配合量を調整すればよい。
ただし、上記のように、（Ｂ２）成分には「エチレンオキサイドの付加モル数がゼロのもの」である（Ｃ）成分が含まれる。そのため、（Ｂ）成分として（Ｂ２）成分を用いると、（Ｃ）成分も配合されることになる。したがって、（Ｂ２）成分を用いる際、（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分が配合される量と、別途単独で配合される（Ｃ）成分の量との合計量が、拭き取り用洗浄剤組成物中の含有割合で０．５質量％以下となるように制御することが必要である。
（Ｂ２）成分中に（Ｃ）成分は、たとえば下記に例示する割合で含有される。
前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２と炭素数１３との混合物で、かつ、エチレンオキサイドの平均付加モル数が３である（Ｂ２）成分の場合、（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分の含有割合は、一例として２３．２質量％である。
前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２と炭素数１３との混合物で、かつ、エチレンオキサイドの平均付加モル数が５である（Ｂ２）成分の場合、（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分の含有割合は、一例として６．１質量％である。
ここで、「（Ｂ２）成分中の（Ｃ）成分の含有割合」は、（Ｂ２）成分の原料であるアルコールエトキシレートのエチレンオキサイド付加体について、エチレンオキサイドの付加モル数分布をＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）により測定し、アルコールエトキシレート中の未反応アルコールの含有率を基に分子量換算した結果、求められる値を示す。
一方、（Ｂ）成分として（Ｂ１）成分を用いる場合、（Ｂ１）成分には（Ｃ）成分は含まれていないため、拭き取り用洗浄剤組成物中の（Ｃ）成分の含有割合が０．５質量％以下となるように、単独で配合する（Ｃ）成分の配合量を調整すればよい。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、（Ａ）成分の安定性の観点から、２５℃でのｐＨが４〜８であることが好ましく、５〜７であることがより好ましい。
本発明において、拭き取り用洗浄剤組成物のｐＨは、２５℃に調温した拭き取り用洗浄剤組成物を直接、ガラス電極式ｐＨメーター（製品名：ＨＭ−３０Ｇ、東亜ディーケーケー（株）製）により測定した値を示す。
本発明において、拭き取り用洗浄剤組成物のｐＨは、２５℃に調温した拭き取り用洗浄剤組成物を直接、ガラス電極式ｐＨメーター（製品名：ＨＭ−３０Ｇ、東亜ディーケーケー（株）製）により測定した値を示す。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満である。該粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満であると、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから良好に噴霧できる。また、より良好な洗浄力が得られる。
本発明において、「２５℃での粘度」とは、２５℃に調温した拭き取り用洗浄剤組成物を、ＤＶ−Ｉ＋ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ（製品名、ＢＲＯＯＫＦＩＥＬＤ社製）を用い、ロータＮｏ．２で６０ｒｐｍ、６０秒後の測定条件により測定した値（ｍＰａ・ｓ）を示す。
本発明において、「２５℃での粘度」とは、２５℃に調温した拭き取り用洗浄剤組成物を、ＤＶ−Ｉ＋ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ（製品名、ＢＲＯＯＫＦＩＥＬＤ社製）を用い、ロータＮｏ．２で６０ｒｐｍ、６０秒後の測定条件により測定した値（ｍＰａ・ｓ）を示す。
＜トリガー式スプレーヤー＞
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物を収容するトリガー式スプレーヤーとしては、特に制限されるものではなく、たとえば、後述する≪洗浄方法≫におけるトリガー式スプレーヤーについての説明において例示されるものと同様のものが好適に挙げられる。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物を収容するトリガー式スプレーヤーとしては、特に制限されるものではなく、たとえば、後述する≪洗浄方法≫におけるトリガー式スプレーヤーについての説明において例示されるものと同様のものが好適に挙げられる。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容して用いる洗浄方法は、特に制限されるものではなく、たとえば、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーに収容し、該トリガー式スプレーヤーから噴霧して被洗物に塗布し、塗布後すぐに又は適宜放置した後、該塗布部を拭き取る方法が挙げられる。ここで、本発明において、「塗布部」とは、拭き取り用洗浄剤組成物が塗布された部位、および該部位を中心とした一定の範囲を含むものとする。
また、拭き取り用洗浄剤組成物を被洗物に塗布した後、該塗布部を水で洗い流す、あるいは該被洗物を洗濯機に投入して通常の洗濯を行うこともできる。
具体的には、後述する≪洗浄方法≫についての説明において例示される方法が好適に挙げられる。
また、拭き取り用洗浄剤組成物を被洗物に塗布した後、該塗布部を水で洗い流す、あるいは該被洗物を洗濯機に投入して通常の洗濯を行うこともできる。
具体的には、後述する≪洗浄方法≫についての説明において例示される方法が好適に挙げられる。
以上説明したように、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、良好な洗浄力を有する。
また、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーから噴霧された際にムセにくく、かつ、拭き残りが抑制されたものである。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、過酸化水素（Ａ）０．１〜５質量％と、特定のアルカンスルホン酸、特定のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル、およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、特定のアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）の含有割合が０．５質量％以下であり、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満である、という構成を備える。
本発明者らは、トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる洗浄剤組成物において、特に界面活性剤の種類によって、洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際におけるムセにくさが大きく異なることを見出した。そして、更なる検討の結果、洗浄剤組成物の粘度を低く調整し、（Ａ）成分および（Ｂ）成分をいずれも特定の含有割合に設定し、かつ、（Ｃ）成分の含有割合を制御した上記構成を備えることにより、良好な洗浄力を有すること、ムセにくくなる効果が格別顕著に向上すること、および拭き残りが抑制されること、の全てを満足することを見出し、拭き取り用として好適な洗浄剤組成物を完成するに至ったものである。
また、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーから噴霧された際にムセにくく、かつ、拭き残りが抑制されたものである。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、過酸化水素（Ａ）０．１〜５質量％と、特定のアルカンスルホン酸、特定のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル、およびそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、特定のアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）の含有割合が０．５質量％以下であり、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満である、という構成を備える。
本発明者らは、トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる洗浄剤組成物において、特に界面活性剤の種類によって、洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際におけるムセにくさが大きく異なることを見出した。そして、更なる検討の結果、洗浄剤組成物の粘度を低く調整し、（Ａ）成分および（Ｂ）成分をいずれも特定の含有割合に設定し、かつ、（Ｃ）成分の含有割合を制御した上記構成を備えることにより、良好な洗浄力を有すること、ムセにくくなる効果が格別顕著に向上すること、および拭き残りが抑制されること、の全てを満足することを見出し、拭き取り用として好適な洗浄剤組成物を完成するに至ったものである。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、（Ｂ）成分として（Ｂ１）成分又は（Ｂ２）成分のいずれかを含有することにより、該拭き取り用洗浄剤組成物の低温安定性に優れる。たとえば、（Ｂ）成分を配合せず、（Ｃ）成分を単独で配合した場合、低温安定性は不良となる。
また、（Ｂ１）成分又は（Ｂ２）成分のいずれかを含有することにより、トリガー式スプレーヤーの種類に依らず吐出性が良好であり、多様なトリガー式スプレーヤーを用いることができる。
また、（Ｂ１）成分又は（Ｂ２）成分のいずれかを含有することにより、トリガー式スプレーヤーの種類に依らず吐出性が良好であり、多様なトリガー式スプレーヤーを用いることができる。
また、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物においては、高分子化合物等の成分を必須とする必要がない。そのため、拭き取り後、被洗物面がムラになりにくく、拭き残りが抑制されやすいと推測される。本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、特にガラス面を拭き残りなく、均一に洗浄できる。
また、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、水で洗い流すことが困難な場所や物に対する拭き取り洗浄用として特に好適である。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤー用の内容液として好適である。
また、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、水で洗い流すことが困難な場所や物に対する拭き取り洗浄用として特に好適である。
本発明の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤー用の内容液として好適である。
≪洗浄方法≫
本発明の洗浄方法は、上記本発明の拭き取り用洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーに収容し、前記トリガー式スプレーヤーから噴霧して被洗物に塗布し、該塗布部を拭き取る方法である。
トリガー式スプレーヤーとしては、特に制限されるものではなく、一般に、洗浄剤製品（トリガー式スプレーヤーに洗浄剤組成物が収容されたもの）に用いられているものが挙げられる。
具体的には、拭き取り用洗浄剤組成物を霧状に吐出できるものであればよい。また、霧状にも泡状にも吐出できる、これらの切り替えが可能なものでもよい。また、拭き取り用洗浄剤組成物を広範囲に吐出するワイドパターンと、狭範囲に吐出するナローパターンとの切り替えが可能なものでもよい。
本発明の洗浄方法は、上記本発明の拭き取り用洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーに収容し、前記トリガー式スプレーヤーから噴霧して被洗物に塗布し、該塗布部を拭き取る方法である。
トリガー式スプレーヤーとしては、特に制限されるものではなく、一般に、洗浄剤製品（トリガー式スプレーヤーに洗浄剤組成物が収容されたもの）に用いられているものが挙げられる。
具体的には、拭き取り用洗浄剤組成物を霧状に吐出できるものであればよい。また、霧状にも泡状にも吐出できる、これらの切り替えが可能なものでもよい。また、拭き取り用洗浄剤組成物を広範囲に吐出するワイドパターンと、狭範囲に吐出するナローパターンとの切り替えが可能なものでもよい。
本発明の洗浄方法においては、上記本発明の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における前記拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布が１０〜３００μｍの範囲内である。
該粒子径分布の範囲の上限値は３００μｍ以下であり、１５０μｍ以下であることが好ましく、該粒子径分布の範囲の下限値は１０μｍ以上であり、１５μｍ以上であることが好ましい。
該粒子径分布が３００μｍ以下であると、被洗物表面に塗布された拭き取り用洗浄剤組成物の液滴同士の凝集が抑えられ、拭き取り用洗浄剤組成物を、被洗物表面へ均一に塗布することが可能となる。また、拭き取り用洗浄剤組成物を被洗物表面へ均一に塗布できるため、被洗物表面をムラなく均一に洗浄でき、拭き残りが抑制されやすくなる。一方、該粒子径分布が１０μｍ以上であると、噴霧後の拭き取り用洗浄剤組成物粒子の空間への舞い上がり（拡散）を効果的に防ぐことができ、被洗物表面へ効率よく塗布することができると共に、ムセにくくなる。
該粒子径分布の範囲の上限値は３００μｍ以下であり、１５０μｍ以下であることが好ましく、該粒子径分布の範囲の下限値は１０μｍ以上であり、１５μｍ以上であることが好ましい。
該粒子径分布が３００μｍ以下であると、被洗物表面に塗布された拭き取り用洗浄剤組成物の液滴同士の凝集が抑えられ、拭き取り用洗浄剤組成物を、被洗物表面へ均一に塗布することが可能となる。また、拭き取り用洗浄剤組成物を被洗物表面へ均一に塗布できるため、被洗物表面をムラなく均一に洗浄でき、拭き残りが抑制されやすくなる。一方、該粒子径分布が１０μｍ以上であると、噴霧後の拭き取り用洗浄剤組成物粒子の空間への舞い上がり（拡散）を効果的に防ぐことができ、被洗物表面へ効率よく塗布することができると共に、ムセにくくなる。
ここで、トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布は、東日コンピュータアプリケーションズ株式会社製の粒度分布測定装置（商品名：ＬＤＳＡ−１３００Ａ）を用いて測定される値を示す。
トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布は、トリガー式スプレーヤーの噴出口径、ランド長さ（噴出口を構成する部材の長さ）、スプレー量（吐出量）を調整することにより制御できる。
トリガー式スプレーヤーの噴出口径は０．２〜１．０ｍｍであることが好ましく、ランド長さは０．１〜２．５ｍｍであることが好ましく、トリガー式スプレーヤーからの吐出量は、１回（１ストローク）当たり０．３〜２．０ｍｌであることが好ましい。
トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布は、トリガー式スプレーヤーの噴出口径、ランド長さ（噴出口を構成する部材の長さ）、スプレー量（吐出量）を調整することにより制御できる。
トリガー式スプレーヤーの噴出口径は０．２〜１．０ｍｍであることが好ましく、ランド長さは０．１〜２．５ｍｍであることが好ましく、トリガー式スプレーヤーからの吐出量は、１回（１ストローク）当たり０．３〜２．０ｍｌであることが好ましい。
本発明の洗浄方法において塗布することが可能な被洗物としては、特に制限されるものではなく、たとえば、衣料、バスタオル、ハンカチ、テーブルクロス、ランチョンマット、カーテン、ソファー、カーペット等の繊維製品；台所用品、浴室、トイレ、リビングの床、壁、家具等の硬表面などが挙げられる。なかでも、本発明の洗浄方法は、水で洗い流すことが困難な場所や物において特に好適である。
本発明の洗浄方法は、一例として、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから被洗物に塗布し、塗布後すぐに又は適宜放置した後、該塗布部を拭き取ることにより被洗物を洗浄する方法が挙げられる。また、必要に応じて、水で洗い流すこともできる。
これら被洗物に対する拭き取り用洗浄剤組成物の塗布量は、被洗物の単位面積当たり、０．０００１〜０．０５ｍｌ／ｃｍ２であることが好ましい。
これら被洗物に対する拭き取り用洗浄剤組成物の塗布量は、被洗物の単位面積当たり、０．０００１〜０．０５ｍｌ／ｃｍ２であることが好ましい。
従来の洗浄方法のなかには、洗浄剤組成物を被洗物に塗布した後、水で洗い流す方法、洗濯機で洗濯する方法等がある。これらの方法においては、たとえば洗浄剤組成物の塗布部が垂直面の場合、液だれを防止する（滞留時間を長くする）ために洗浄剤組成物を高粘度に調整したり、あるいは衣料等の場合、汚れ度合に応じて洗浄剤組成物を多目に使用し、必要であれば擦り洗い等を行ったりすることが行われる。具体的には、２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ以上の洗浄剤組成物を、スクイズ容器などに収容し、該スクイズ容器から吐出して、被洗物に単位面積当たり０．２ｍｌ／ｃｍ２程度の量を塗布し、必要に応じて擦り洗い等を行った後に、水で洗い流す方法が一例として挙げられる。
本発明の洗浄方法は、上記の従来の洗浄方法とは異なり、拭き取り用洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーから噴霧し、被洗物に薄く（少量で）広範囲に塗布しても良好な洗浄力が得られる。さらに、水で洗い流すことが困難な場所や物における汚れを容易に拭き取ることができる。
本発明の洗浄方法は、上記の従来の洗浄方法とは異なり、拭き取り用洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーから噴霧し、被洗物に薄く（少量で）広範囲に塗布しても良好な洗浄力が得られる。さらに、水で洗い流すことが困難な場所や物における汚れを容易に拭き取ることができる。
以上説明したように、本発明の洗浄方法によれば、良好な洗浄力が得られ、拭き取り用洗浄剤組成物をトリガー式スプレーヤーから噴霧した際にムセにくく、かつ、被洗物面の拭き残りを抑制できる。
また、本発明の洗浄方法は、狭い空間などで使用してもムセにくく、使用性、簡便性、および安全性に優れた方法である。
また、本発明の洗浄方法は、狭い空間などで使用してもムセにくく、使用性、簡便性、および安全性に優れた方法である。
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
≪拭き取り用洗浄剤組成物の製造≫
表１〜２に示す組成に従って、各成分を常法に準じて混合することにより各例の拭き取り用洗浄剤組成物を製造した。ただし、実施例２、３、１２、１３はいずれも参考例である。
表中の配合量の単位は、拭き取り用洗浄剤組成物の全質量を基準とする質量％であり、各成分の純分換算量を示す。
また、拭き取り用洗浄剤組成物は、総量が１００質量％となるように、水で全体量をバランスした。
また、拭き取り用洗浄剤組成物の２５℃でのｐＨは、いずれの例もｐＨ６であった。ｐＨは、２５℃に調温した各例の拭き取り用洗浄剤組成物を直接、ガラス電極式ｐＨメーター（製品名：ＨＭ−３０Ｇ、東亜ディーケーケー（株）製）により測定した。
また、拭き取り用洗浄剤組成物の２５℃での粘度を表１〜２に示した。粘度（ｍＰａ・ｓ）は、各例の拭き取り用洗浄剤組成物を２５℃に調温し、ＤＶ−Ｉ＋ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ（製品名、ＢＲＯＯＫＦＩＥＬＤ社製）を用い、ロータＮｏ．２で６０ｒｐｍ、６０秒後の測定条件により測定した。
以下に、表中に示した成分について説明する。
表１〜２に示す組成に従って、各成分を常法に準じて混合することにより各例の拭き取り用洗浄剤組成物を製造した。ただし、実施例２、３、１２、１３はいずれも参考例である。
表中の配合量の単位は、拭き取り用洗浄剤組成物の全質量を基準とする質量％であり、各成分の純分換算量を示す。
また、拭き取り用洗浄剤組成物は、総量が１００質量％となるように、水で全体量をバランスした。
また、拭き取り用洗浄剤組成物の２５℃でのｐＨは、いずれの例もｐＨ６であった。ｐＨは、２５℃に調温した各例の拭き取り用洗浄剤組成物を直接、ガラス電極式ｐＨメーター（製品名：ＨＭ−３０Ｇ、東亜ディーケーケー（株）製）により測定した。
また、拭き取り用洗浄剤組成物の２５℃での粘度を表１〜２に示した。粘度（ｍＰａ・ｓ）は、各例の拭き取り用洗浄剤組成物を２５℃に調温し、ＤＶ−Ｉ＋ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ（製品名、ＢＲＯＯＫＦＩＥＬＤ社製）を用い、ロータＮｏ．２で６０ｒｐｍ、６０秒後の測定条件により測定した。
以下に、表中に示した成分について説明する。
＜表中に示した成分の説明＞。
・過酸化水素（Ａ）
過酸化水素：三菱ガス化学社製、商品名「３５ｗｔ％ 過酸化水素」。
・過酸化水素（Ａ）
過酸化水素：三菱ガス化学社製、商品名「３５ｗｔ％ 過酸化水素」。
・アルカンスルホン酸又はその塩、およびポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）
ＳＡＳ：第二級アルカンスルホン酸ナトリウム、クラリアントジャパン（株）製、商品名「ＨＯＳＴＡＰＵＲ ＳＡＳ ３０」（炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上、純分３０質量％、質量平均分子量：３２８）。
ＡＥＳ（３）：Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２のものと炭素数１３のものとの混合物、エチレンオキサイドの平均付加モル数３）、合成品［ＡＥＳ（３）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合２３．２質量％］。
ＡＥＳ（５）：Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２のものと炭素数１３のものとの混合物、エチレンオキサイドの平均付加モル数５）、合成品［ＡＥＳ（５）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合６．１質量％］。
ＳＡＳ：第二級アルカンスルホン酸ナトリウム、クラリアントジャパン（株）製、商品名「ＨＯＳＴＡＰＵＲ ＳＡＳ ３０」（炭素数１３〜１７の二級アルキルスルホン酸ナトリウムの含有量が９０質量％以上、純分３０質量％、質量平均分子量：３２８）。
ＡＥＳ（３）：Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２のものと炭素数１３のものとの混合物、エチレンオキサイドの平均付加モル数３）、合成品［ＡＥＳ（３）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合２３．２質量％］。
ＡＥＳ（５）：Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（前記一般式（１）におけるＲ１の炭素数１２のものと炭素数１３のものとの混合物、エチレンオキサイドの平均付加モル数５）、合成品［ＡＥＳ（５）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合６．１質量％］。
［ＡＥＳ（３）の合成方法］
４Ｌのオートクレーブ中に、Ｎｅｏｄｏｌ２３アルコール［商品名、シェルケミカルズ社製；Ｃ１２、１３アルコール（炭素数１２のアルコールと、炭素数１３のアルコールとの質量比１／１の混合物）、分岐率２０質量％］４００ｇと、水酸化カリウム触媒０．８ｇとを仕込み、オートクレーブ内を窒素置換し、撹拌しながら昇温した。その後、温度１８０℃、圧力０．３ｍＰａに維持しながらエチレンオキサイド２７２ｇを導入し、エチレンオキサイドの平均付加モル数３の反応物を得た。なお、そのエチレンオキサイドの付加モル数分布を、ＨＰＬＣにより下記条件（＊１）で測定し、エチレンオキサイドの付加モル数０である未反応アルコールの含有量は、前記平均付加モル数３の反応物中に２０質量％含まれていた。
次に、上記で得られたアルコールエトキシレート２８０ｇを、撹拌装置付の５００ｍＬフラスコにとり、窒素置換後、液体無水硫酸（サルファン）６７ｇを反応温度４０℃に保ちながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間撹拌を続け（硫酸化反応）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸を得た。さらに、これを水酸化ナトリウム水溶液で中和することにより、Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（ＡＥＳ（３））を得た。
なお、ＡＥＳ（３）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合は、アルコールエトキシレートのエチレンオキサイド付加体について、エチレンオキサイドの付加モル数分布をＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）により測定し、アルコールエトキシレート中の未反応アルコールの含有率を基に分子量換算した結果、２３．２質量％であった。
４Ｌのオートクレーブ中に、Ｎｅｏｄｏｌ２３アルコール［商品名、シェルケミカルズ社製；Ｃ１２、１３アルコール（炭素数１２のアルコールと、炭素数１３のアルコールとの質量比１／１の混合物）、分岐率２０質量％］４００ｇと、水酸化カリウム触媒０．８ｇとを仕込み、オートクレーブ内を窒素置換し、撹拌しながら昇温した。その後、温度１８０℃、圧力０．３ｍＰａに維持しながらエチレンオキサイド２７２ｇを導入し、エチレンオキサイドの平均付加モル数３の反応物を得た。なお、そのエチレンオキサイドの付加モル数分布を、ＨＰＬＣにより下記条件（＊１）で測定し、エチレンオキサイドの付加モル数０である未反応アルコールの含有量は、前記平均付加モル数３の反応物中に２０質量％含まれていた。
次に、上記で得られたアルコールエトキシレート２８０ｇを、撹拌装置付の５００ｍＬフラスコにとり、窒素置換後、液体無水硫酸（サルファン）６７ｇを反応温度４０℃に保ちながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間撹拌を続け（硫酸化反応）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸を得た。さらに、これを水酸化ナトリウム水溶液で中和することにより、Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（ＡＥＳ（３））を得た。
なお、ＡＥＳ（３）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合は、アルコールエトキシレートのエチレンオキサイド付加体について、エチレンオキサイドの付加モル数分布をＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）により測定し、アルコールエトキシレート中の未反応アルコールの含有率を基に分子量換算した結果、２３．２質量％であった。
［ＡＥＳ（５）の合成方法］
４Ｌのオートクレーブ中に、Ｎｅｏｄｏｌ２３アルコール［商品名、シェルケミカルズ社製；Ｃ１２、１３アルコール（炭素数１２のアルコールと、炭素数１３のアルコールとの質量比１／１の混合物）、分岐率２０質量％］４００ｇと、水酸化カリウム触媒０．８ｇとを仕込み、オートクレーブ内を窒素置換し、撹拌しながら昇温した。その後、温度１８０℃、圧力０．３ｍＰａに維持しながらエチレンオキサイド４５４ｇを導入し、エチレンオキサイドの平均付加モル数５の反応物を得た。なお、そのエチレンオキサイドの付加モル数分布を、ＨＰＬＣにより下記条件（＊１）で測定し、エチレンオキサイドの付加モル数０である未反応アルコールの含有量は、前記平均付加モル数５の反応物中に５質量％含まれていた。
次に、上記で得られたアルコールエトキシレート２８０ｇを、撹拌装置付の５００ｍＬフラスコにとり、窒素置換後、液体無水硫酸（サルファン）５３ｇを反応温度４０℃に保ちながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間撹拌を続け（硫酸化反応）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸を得た。さらに、これを水酸化ナトリウム水溶液で中和することにより、Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（ＡＥＳ（５））を得た。
なお、ＡＥＳ（５）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合は、アルコールエトキシレートのエチレンオキサイド付加体について、エチレンオキサイドの付加モル数分布をＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）により測定し、アルコールエトキシレート中の未反応アルコールの含有率を基に分子量換算した結果、６．１質量％であった。
４Ｌのオートクレーブ中に、Ｎｅｏｄｏｌ２３アルコール［商品名、シェルケミカルズ社製；Ｃ１２、１３アルコール（炭素数１２のアルコールと、炭素数１３のアルコールとの質量比１／１の混合物）、分岐率２０質量％］４００ｇと、水酸化カリウム触媒０．８ｇとを仕込み、オートクレーブ内を窒素置換し、撹拌しながら昇温した。その後、温度１８０℃、圧力０．３ｍＰａに維持しながらエチレンオキサイド４５４ｇを導入し、エチレンオキサイドの平均付加モル数５の反応物を得た。なお、そのエチレンオキサイドの付加モル数分布を、ＨＰＬＣにより下記条件（＊１）で測定し、エチレンオキサイドの付加モル数０である未反応アルコールの含有量は、前記平均付加モル数５の反応物中に５質量％含まれていた。
次に、上記で得られたアルコールエトキシレート２８０ｇを、撹拌装置付の５００ｍＬフラスコにとり、窒素置換後、液体無水硫酸（サルファン）５３ｇを反応温度４０℃に保ちながらゆっくりと滴下した。滴下終了後、１時間撹拌を続け（硫酸化反応）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸を得た。さらに、これを水酸化ナトリウム水溶液で中和することにより、Ｃ１２〜１３ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム（ＡＥＳ（５））を得た。
なお、ＡＥＳ（５）に含まれるＡＳ−Ｎａの含有割合は、アルコールエトキシレートのエチレンオキサイド付加体について、エチレンオキサイドの付加モル数分布をＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィー）により測定し、アルコールエトキシレート中の未反応アルコールの含有率を基に分子量換算した結果、６．１質量％であった。
＊１：エチレンオキサイドの付加モル数分布の測定条件
装置 ：ＬＣ−６Ａ（（株）島津製作所製）
検出器 ：ＳＰＤ−１０Ａ
測定波長：２２０ｎｍ
カラム ：Ｚｏｒｂａｘ Ｃ８（Ｄｕ Ｐｏｎｔ（株）製）
移動相 ：アセトニトリル／水＝６０／４０（体積比）
流速 ：１ｍＬ／ｍｉｎ
温度 ：２０℃
装置 ：ＬＣ−６Ａ（（株）島津製作所製）
検出器 ：ＳＰＤ−１０Ａ
測定波長：２２０ｎｍ
カラム ：Ｚｏｒｂａｘ Ｃ８（Ｄｕ Ｐｏｎｔ（株）製）
移動相 ：アセトニトリル／水＝６０／４０（体積比）
流速 ：１ｍＬ／ｍｉｎ
温度 ：２０℃
・アルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）
ＡＳ：ラウリル硫酸ナトリウム、ライオン（株）製、商品名「サンノールＬＭ−１１３０」。
ＡＳ：ラウリル硫酸ナトリウム、ライオン（株）製、商品名「サンノールＬＭ−１１３０」。
・金属封鎖剤（Ｄ）
ＣＰ−５：マレイン酸アクリル酸共重合体、ＢＡＳＦ社製、商品名「Ｓｏｋａｌａｎ ＣＰ５ Ｇｒａｎｕｌｅｓ」。
ＥＤＴＡ：エチレンジアミン四酢酸、アクゾノーベル社製、商品名「ディゾルビンＺ」。
ＨＥＤＰ：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、ローディア社製、商品名「ＢＲＩＱＵＥＳＴ ＡＤＰＡ−６０Ａ」。
ＣＰ−５：マレイン酸アクリル酸共重合体、ＢＡＳＦ社製、商品名「Ｓｏｋａｌａｎ ＣＰ５ Ｇｒａｎｕｌｅｓ」。
ＥＤＴＡ：エチレンジアミン四酢酸、アクゾノーベル社製、商品名「ディゾルビンＺ」。
ＨＥＤＰ：１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、ローディア社製、商品名「ＢＲＩＱＵＥＳＴ ＡＤＰＡ−６０Ａ」。
・その他の成分（界面活性剤）
ＡＥ（５）：ノニオン界面活性剤、高級アルコール（商品名「ＣＯ１２７０」、Ｐ＆Ｇ社製）にエチレンオキサイド（平均付加モル数５）が付加されたもの。
ＬＡＳ−Ｎａ：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ライオン社製、商品名「ライポンＬＳ−２５０」。
ＡＥ（５）：ノニオン界面活性剤、高級アルコール（商品名「ＣＯ１２７０」、Ｐ＆Ｇ社製）にエチレンオキサイド（平均付加モル数５）が付加されたもの。
ＬＡＳ−Ｎａ：直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ライオン社製、商品名「ライポンＬＳ−２５０」。
≪トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布の評価≫
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を用いて、以下に示す方法により、該拭き取り用洗浄剤組成物をスプレーヤーから噴霧した際における粒子径分布の評価を行った。
スプレーヤーとしては、トリガー式スプレーヤー［ライオン（株）製の商品名「キッチンキレイキレイアルコール除菌スプレー」の容器；噴出口径０．６ｍｍ、ランド長さ０．５ｍｍ、スプレー量１回（１ストローク）当たり０．８ｍｌ］を用いた。
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を用いて、以下に示す方法により、該拭き取り用洗浄剤組成物をスプレーヤーから噴霧した際における粒子径分布の評価を行った。
スプレーヤーとしては、トリガー式スプレーヤー［ライオン（株）製の商品名「キッチンキレイキレイアルコール除菌スプレー」の容器；噴出口径０．６ｍｍ、ランド長さ０．５ｍｍ、スプレー量１回（１ストローク）当たり０．８ｍｌ］を用いた。
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤーに収容し、２５℃に調温した後、粒度分布測定装置（商品名：ＬＤＳＡ−１３００Ａ、東日コンピュータアプリケーションズ株式会社製）を用いて、以下の測定条件で粒子径分布［粒子径（μｍ）に対する分布割合（体積％）］を測定した。
測定条件
使用レンズ ：３００ｍｍ
焦点距離 ：３０ｃｍ
噴霧距離 ：１０ｃｍ
解析モデル式：ロジン・ラムラー式
実施例７の拭き取り用洗浄剤組成物を２回測定した。
測定条件
使用レンズ ：３００ｍｍ
焦点距離 ：３０ｃｍ
噴霧距離 ：１０ｃｍ
解析モデル式：ロジン・ラムラー式
実施例７の拭き取り用洗浄剤組成物を２回測定した。
粒子径分布を測定した結果、測定された粒子径分布における拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径の最小値は１３μｍ、最大値は２１２μｍであった。したがって、トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布が１０〜３００μｍの範囲内であることが確認できた。
組成物の粘度が５ｍＰａ・ｓ以下である他の例の拭き取り用洗浄剤組成物においても、実施例７の拭き取り用洗浄剤組成物と同様の結果が得られた。
組成物の粘度が５ｍＰａ・ｓ以下である他の例の拭き取り用洗浄剤組成物においても、実施例７の拭き取り用洗浄剤組成物と同様の結果が得られた。
≪拭き取り用洗浄剤組成物の評価≫
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を用いて、以下に示す方法により、洗浄力の評価、ムセにくさの評価、および拭き残りの評価を行った。
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を用いて、以下に示す方法により、洗浄力の評価、ムセにくさの評価、および拭き残りの評価を行った。
＜洗浄力の評価＞
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤー（ライオン（株）製の容器）に収容し、２５℃に調温した後、洗浄力の評価に供した。
［モデル手垢に対する洗浄力の評価方法］
オレイン酸３０質量％とトリグリセリン３０質量％と水４０質量％とを加熱混合してモデル手垢汚れを調製し、該モデル手垢汚れ０．３ｇを、３０ｃｍ×３０ｃｍのガラス板に均一に塗布し、２５℃で１時間放置した。
このガラス板に、該ガラス板の面に対して垂直方向に２０ｃｍ離れた位置から、各例の拭き取り用洗浄剤組成物を前記トリガー式スプレーヤーからそれぞれ１回（１ストローク）噴霧した。１分後、ティッシュペーパー（日本製紙クレシア株式会社製、商品名「クリネックス ハイクオリティーフェイシャルティシュー」）で拭き取った際の汚れ落ちの状態を、下記の評価基準に従って目視判定した。評価は、○、◎、◎◎であれば合格とした。その結果を表１〜２に示す。
評価基準
◎◎：汚れ落ちが非常に良好であった。
◎：汚れ落ちがかなり良好であった。
○：汚れ落ちが良好であった。
△：汚れ落ちにムラがあった。
×：ほとんど汚れが落ちていなかった。
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤー（ライオン（株）製の容器）に収容し、２５℃に調温した後、洗浄力の評価に供した。
［モデル手垢に対する洗浄力の評価方法］
オレイン酸３０質量％とトリグリセリン３０質量％と水４０質量％とを加熱混合してモデル手垢汚れを調製し、該モデル手垢汚れ０．３ｇを、３０ｃｍ×３０ｃｍのガラス板に均一に塗布し、２５℃で１時間放置した。
このガラス板に、該ガラス板の面に対して垂直方向に２０ｃｍ離れた位置から、各例の拭き取り用洗浄剤組成物を前記トリガー式スプレーヤーからそれぞれ１回（１ストローク）噴霧した。１分後、ティッシュペーパー（日本製紙クレシア株式会社製、商品名「クリネックス ハイクオリティーフェイシャルティシュー」）で拭き取った際の汚れ落ちの状態を、下記の評価基準に従って目視判定した。評価は、○、◎、◎◎であれば合格とした。その結果を表１〜２に示す。
評価基準
◎◎：汚れ落ちが非常に良好であった。
◎：汚れ落ちがかなり良好であった。
○：汚れ落ちが良好であった。
△：汚れ落ちにムラがあった。
×：ほとんど汚れが落ちていなかった。
＜ムセにくさの評価＞
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤー（ライオン（株）製の容器）に収容し、２５℃に調温した後、ムセにくさの評価に供した。
［ムセにくさの評価方法］
温度２５℃の環境下で、拭き取り用洗浄剤組成物が収容された前記トリガー式スプレーヤーの噴射口を、ガラス面から垂直方向に５ｃｍ離れた位置に該噴射口をガラス面に向けて固定し、パネラーの顔を、トリガー式スプレーヤーの噴射口の位置からガラス面と平行に上方へ２０ｃｍ、かつ、ガラス面から垂直方向に２０ｃｍ離れた位置（拭き取り用洗浄剤組成物の跳ね返りが最も飛散する位置）に固定した。そして、ガラス面に向かってトリガー式スプレーヤーを２回（２ストローク）噴霧した際における「鼻およびのどの感覚」を、１０人のパネラーにより、下記の評価基準に従って官能評価した。評価は、○、◎であれば合格とした。その結果を表１〜２に示す。
評価基準
◎ ：何も感じなかった。
○ ：１〜３人が、鼻又はのどに違和感を覚えた。
△ ：５〜１０人が鼻又はのどに違和感を覚えた。
×：咳き込むパネラーがいた。
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤー（ライオン（株）製の容器）に収容し、２５℃に調温した後、ムセにくさの評価に供した。
［ムセにくさの評価方法］
温度２５℃の環境下で、拭き取り用洗浄剤組成物が収容された前記トリガー式スプレーヤーの噴射口を、ガラス面から垂直方向に５ｃｍ離れた位置に該噴射口をガラス面に向けて固定し、パネラーの顔を、トリガー式スプレーヤーの噴射口の位置からガラス面と平行に上方へ２０ｃｍ、かつ、ガラス面から垂直方向に２０ｃｍ離れた位置（拭き取り用洗浄剤組成物の跳ね返りが最も飛散する位置）に固定した。そして、ガラス面に向かってトリガー式スプレーヤーを２回（２ストローク）噴霧した際における「鼻およびのどの感覚」を、１０人のパネラーにより、下記の評価基準に従って官能評価した。評価は、○、◎であれば合格とした。その結果を表１〜２に示す。
評価基準
◎ ：何も感じなかった。
○ ：１〜３人が、鼻又はのどに違和感を覚えた。
△ ：５〜１０人が鼻又はのどに違和感を覚えた。
×：咳き込むパネラーがいた。
表１〜２の結果から、本発明の実施例１〜１８の拭き取り用洗浄剤組成物は、良好な洗浄力を有し、かつ、トリガー式スプレーヤーから噴霧された際にムセにくいことが確認できた。
一方、本発明とは異なる比較例１〜５、７、８の拭き取り用洗浄剤組成物は、洗浄力の評価又はムセにくさの評価のいずれかが悪いことが確認できた。
また、組成物の粘度が６０ｍＰａ・ｓである比較例６の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーから霧状に噴霧されず、均一なスプレー塗布ができなかったため、いずれの評価も行うことができなかった。
一方、本発明とは異なる比較例１〜５、７、８の拭き取り用洗浄剤組成物は、洗浄力の評価又はムセにくさの評価のいずれかが悪いことが確認できた。
また、組成物の粘度が６０ｍＰａ・ｓである比較例６の拭き取り用洗浄剤組成物は、トリガー式スプレーヤーから霧状に噴霧されず、均一なスプレー塗布ができなかったため、いずれの評価も行うことができなかった。
＜拭き残りの評価＞
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤー（ライオン（株）製の容器）に収容し、２５℃に調温した。その後、トリガー式スプレーヤー内の拭き取り用洗浄剤組成物を採取し、鏡表面に、該拭き取り用洗浄剤組成物０．１ｍｌを滴下し、８つ折りにしたティッシュペーパー（商品名「クリネックス ハイクオリティーフェイシャルティシュー」、日本製紙クレシア株式会社製）で１往復拭いた後の、該拭き取り用洗浄剤組成物の鏡表面への残り方（くもりの程度）について、専門パネラー１名により、下記の評価基準に従って官能評価した。評価は、４点以上であれば合格とした。
評価基準
５点：鏡表面に、くもりが全くなかった。
４点：鏡表面に、極くわずかなくもりが確認された。
３点：鏡表面に、薄いくもりが確認された。
２点：鏡表面の一部に、白いくもりが確認された。
１点：鏡表面の全面に、白いくもりが確認された。
各例の拭き取り用洗浄剤組成物を、前記トリガー式スプレーヤー（ライオン（株）製の容器）に収容し、２５℃に調温した。その後、トリガー式スプレーヤー内の拭き取り用洗浄剤組成物を採取し、鏡表面に、該拭き取り用洗浄剤組成物０．１ｍｌを滴下し、８つ折りにしたティッシュペーパー（商品名「クリネックス ハイクオリティーフェイシャルティシュー」、日本製紙クレシア株式会社製）で１往復拭いた後の、該拭き取り用洗浄剤組成物の鏡表面への残り方（くもりの程度）について、専門パネラー１名により、下記の評価基準に従って官能評価した。評価は、４点以上であれば合格とした。
評価基準
５点：鏡表面に、くもりが全くなかった。
４点：鏡表面に、極くわずかなくもりが確認された。
３点：鏡表面に、薄いくもりが確認された。
２点：鏡表面の一部に、白いくもりが確認された。
１点：鏡表面の全面に、白いくもりが確認された。
拭き残りの評価の結果、本発明の実施例１〜１８の拭き取り用洗浄剤組成物及び比較例１〜４、７〜８の拭き取り用洗浄剤組成物は、４点以上と良好な結果であり、拭き残りが抑制されていることが確認できた。
ＳＡＳの配合量の多い比較例５の拭き取り用洗浄剤組成物は、３点であり、拭き残りが生じることが確認された。
組成物の粘度が高い比較例６の拭き取り用洗浄剤組成物は、１点であり、拭き残りが生じることが確認された。
ＳＡＳの配合量の多い比較例５の拭き取り用洗浄剤組成物は、３点であり、拭き残りが生じることが確認された。
組成物の粘度が高い比較例６の拭き取り用洗浄剤組成物は、１点であり、拭き残りが生じることが確認された。
以上の結果から、本発明の拭き取り用洗浄剤組成物および洗浄方法によれば、良好な洗浄力を有し、トリガー式スプレーヤーから噴霧された際にムセにくく、かつ、拭き残りを抑制できることが確認できた。
Claims (3)
- トリガー式スプレーヤーに収容されて用いられる拭き取り用洗浄剤組成物において、
過酸化水素（Ａ）０．１〜５質量％と、下記一般式（１）で表されるアルカンスルホン酸又はその塩（Ｂ）０．２〜３．５質量％とを含有し、かつ、
下記一般式（３）で表されるアルキルもしくはアルケニル硫酸エステル又はその塩（Ｃ）の含有割合が０．５質量％以下であり、
２５℃での粘度が１０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする拭き取り用洗浄剤組成物。
- 金属封鎖剤（Ｄ）をさらに含有する請求項１記載の拭き取り用洗浄剤組成物。
- 請求項１又は２記載の拭き取り用洗浄剤組成物を、トリガー式スプレーヤーに収容し、前記トリガー式スプレーヤーから噴霧して被洗物に塗布し、該塗布部を拭き取る洗浄方法であって、
前記トリガー式スプレーヤーから噴霧した直後における前記拭き取り用洗浄剤組成物の粒子径分布が１０〜３００μｍの範囲内であることを特徴とする洗浄方法。
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