JP5369612B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
先ず、第1の実施形態について説明する。図5A乃至図5Vは、第1の実施形態に係るGaN系HEMTを製造する方法を工程順に示す断面図である。
次に、第2の実施形態について説明する。図8A乃至図8Dは、第2の実施形態に係るGaN系HEMTを製造する方法を工程順に示す断面図である。
次に、第3の実施形態について説明する。図9A乃至図9Dは、第3の実施形態に係るGaN系HEMTを製造する方法を工程順に示す断面図である。
1a:ビアホール
1b:スルーホール
2:GaN層
3:n型AlGaN層
4d:ドレイン電極
4g:ゲート電極
4s:ソース電極
5:SiN層
11:接着剤
12:キャリア(支持基板)
21:メタルマスク
21a、21b:開口部
31:金属膜
41:有機膜
Claims (4)
- 半導体素子が形成された素子形成基板の第1の面に、接着剤を用いて支持基板を貼り付ける工程と、
前記素子形成基板の前記第1の面とは反対側の第2の面から、前記素子形成基板の途中まで延びる複数の貫通孔を互いに離間して形成する工程と、
前記第2の面の処理を行う工程と、
前記複数の貫通孔を前記接着剤まで到達させる工程と、
前記複数の貫通孔から前記接着剤の溶解液を前記接着剤まで浸透させて、前記接着剤を溶解させる工程と、
を有し、
前記第2の面の処理を行う工程は、
前記素子形成基板にビアホールを形成する工程と、
前記ビアホール内及び前記第2の面上に配線を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記素子形成基板は、前記第1の面の前記複数の貫通孔が形成される予定の領域に形成された複数の浸透防止膜を有し、
前記複数の貫通孔を形成する工程において、前記複数の貫通孔の形成を前記複数の浸透防止膜の表面又は内部で停止し、
前記複数の貫通孔を前記接着剤まで到達させる工程において、前記複数の貫通孔に前記浸透防止膜を貫通させることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2の面の処理を行う工程は、前記第2の面の研磨を行う工程を有することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記複数の貫通孔の形成を、前記ビアホールの形成と並行して行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
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