JP5367951B2 - 表示装置及び信号ラインのリペア方法 - Google Patents
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Description
従って、本発明は従来の問題を解決するためのものであり、信号ラインのリペア成功率を向上させる液晶表示装置及びその製造方法を提供するものである。
を含む表示装置及びその信号ラインのリペア方法を開示する。
前記第1リダンダンシ導電パターンは電気的にフローティング構造を有する。
上記表示装置における信号ラインのリペア方法であって、前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインが前記第1領域で前記第1リダンダンシ導電パターンに電気的に接続されることを特徴とする。
前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインとが前記第1領域で第1リダンダンシ導電パターンと共に電気的に接続され、前記信号ラインと前記第2リダンダンシパターンとが前記第2領域で電気的に接続され、前記リペアラインと前記第2リダンダンシパターンとが第3領域で電気的に接続されている。
前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインとが前記第1領域で第1リダンダンシ導電パターンと電気的に接続され、前記信号ラインが前記第2領域で前記第2リダンダンシ導電パターンと電気的に接続される。
前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインが前記第1領域で前記第1リダンダンシ導電パターンと電気的に接続され、前記リペアラインと前記第2リダンダンシ導電パターンとの電気的接続は前記第3領域において行われる。
図1は本発明の実施形態による液晶表示装置のデータラインのリペア構造を示す平面図である。
図2〜図3Bに示すように、データライン14はリペアライン16と第1絶縁膜32を介して交差し、この交差部には第2絶縁膜34を介してリダンダンシ導電パターン20がさらに形成される。
図4は本発明の第2実施形態によるデータラインのリペア部分を示す平面図であり、図5は図4のリペア部分のV-V’線断面図である。
図6及び図7に示すように、第1リダンダンシ導電パターン20は、データライン14とリペアライン16との交差部と重なり、第2リダンダンシ導電パターン40はこの交差部、すなわち第1リダンダンシ導電パターン20と離間して一側部はデータライン14と重なり、他側部はリペアライン16と重なるように形成される。第1リダンダンシ導電パターン20及び第2リダンダンシ導電パターン40は、保護膜34上に透明導電層または反射金属層の少なくとも一方を利用してフローティング構造で形成されるので、第1リダンダンシ導電パターン20及び第2リダンダンシ導電パターン40による寄生容量の増加を防止する。第1リダンダンシ導電パターン20は保護膜34を介してデータライン14とリペアライン16との交差部と重なり、第2リダンダンシ導電パターン40の一側部は保護膜34を介してデータライン14と重なり、他側部は保護膜34及びゲート絶縁膜32を介してリペアライン16と重なる。
図8〜図11に示すように、リダンダンシ導電パターン40がデータライン14とリペアライン16との交差部を迂回し、一側部はデータライン14またはリペアライン16のいずれか一方と絶縁されるように重なり、他側部はデータライン14又はリペアライン16のいずれか一方と電気的に接続される構造に形成される。例えば、リダンダンシパターン40の一側部は、図8及び図9のように保護膜34及びゲート絶縁膜32を介してリペアライン16と重なり、他側部は保護膜34を貫通するコンタクトホール46を介してデータライン14と電気的に接続される。これとは異なり、リダンダンシ導電パターン40の一側部は、図10及び図11のように保護膜34を介してデータライン14と重なり、他側部は保護膜34及びゲート絶縁膜32を貫通するコンタクトホール48を介してリペアライン16と電気的に接続される。前述したリダンダンシ導電パターン40の一側部はフローティング構造であるため、リダンダンシ導電パターン40による寄生容量の増加を防止できる。リダンダンシ導電パターン40は、保護膜34上に透明導電層または反射金属層の少なくとも一方を利用して形成される。
図12A〜図13に示すように、リダンダンシ導電パターン50は、データライン14とリペアライン16との交差部と重なり、データライン14と重なるようにデータライン14の方向に延長され、リペアライン16と重なるようにリペアライン16の方向に延長される。つまり、リダンダンシ導電パターン50は、保護膜34を介してデータライン14とリペアライン16との交差部と重なり、一側部がデータライン14の方向に延長されて保護膜34を介してデータライン14と重なり、他側部がリペアライン16の方向に延長されて保護膜34及びゲート絶縁膜32を介してリペアライン16と重なる。ここで、リダンダンシ導電パターン50は、図12Aのように四角形状に広く形成することも可能であり、図12Bのように不要部分を除去したL字形状に形成することも可能である。ここで、図12Aに示すリダンダンシ導電パターン50は、図6及び図7に示す第1リダンダンシパターン20及び第2リダンダンシパターン40が一体化した構造と同一である。前述したリダンダンシ導電パターン50は、保護膜34上に透明導電層または反射金属層の少なくとも一方を利用してフローティング構造で形成されるので、リダンダンシ導電パターン50による寄生容量の増加を防止できる。
図14A〜図15に示すデータラインのリペア部分は、図12A〜図13に示すリペア部分と比較して、リペアライン16と第1リダンダンシ導電パターン50との間に第2リダンダンシ導電パターン52がさらに形成されることを除いては同一である。第2リダンダンシ導電パターン52は、データライン14と同じ第2導電層、すなわちソース/ドレイン金属層としてゲート絶縁膜32上に形成される。第2リダンダンシ導電パターン52は、レーザ26による溶接ポイント44によって第1リダンダンシ導電パターン50と共にリペアライン16と電気的に接続されることにより、第1リダンダンシ導電パターン50とリペアライン16との溶接ポイント44を補強する。これにより、第2リダンダンシ導電パターン52は、リペアライン16と第1リダンダンシ導電パターン50との重なった部分に少なくとも2つの絶縁膜32、34が存在するので、すなわちリペアライン16と第1リダンダンシ導電パターン50との間隔が相対的に大きくなるので、レーザ溶接成功率が減少することを防止する。また、第2リダンダンシ導電パターン52は、図4〜図9に示すリペア部分にも同様に適用することができる。
図16に示すように、データライン14とリペアライン56との交差部に複数の溶接ポイント62が位置するように、リペアライン56とデータライン14との重なり面積を大きくする。例えば、リペアライン56の線幅がデータライン14との交差部で少なくとも4つの溶接ポイント62を形成できるように、交差部でのみ大きくするか、全体的に大きくしてリペアライン56とデータライン14との重なり面積を大きくする。これにより、データライン14のリペア時に、データライン14とリペアライン56との交差部に約6つの、すなわち少なくとも4つの溶接ポイント62により、データライン14とリペアライン56とは多重構造で並列に電気的に接続されるので、データライン14のリペア成功率が向上し、電流パスの分散による各溶接ポイント62における電流量減少により、溶接ポイント62の進行性オープン不良を防止できる。これとは異なり、リペアライン56の代わりに交差部でデータライン14の線幅が増加するように形成することにより、リペアライン56とデータライン14との重なり面積を少なくとも4つの溶接ポイント62が形成されるように大きくしてもよい。また、図16に示すデータライン14のリペア部分には、図2〜図15で前述したリペア部分をさらに適用することができる。
12:ゲートライン
14:データライン
16,56:リペアライン
18:交差部
20,40,50,52:リダンダンシ導電パターン
22,42,44,62:レーザ溶接ポイント
24:半導体パターン
26:レーザ光
30:絶縁基板
32:ゲート絶縁膜
34:保護膜
46,48:コンタクトホール
Claims (9)
- 基板上に形成される信号ラインと、
前記信号ラインと電気絶縁状態で交差して前記基板上に形成されるリペアラインと、
前記信号ラインと前記リペアラインとが交差する前記基板の第1領域と絶縁されるように重なる第1リダンダンシ導電パターンと、
一側部と前記信号ラインとが前記基板の前記第1領域とは異なる第2領域で絶縁されるように重なり、他側部と前記リペアラインとが前記基板の前記第1領域とは異なる第3領域で絶縁されるように重なる第2リダンダンシ導電パターンと、
を含むことを特徴とする表示装置。 - 前記第1リダンダンシ導電パターンが電気的にフローティングしていることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 請求項1に記載の表示装置における信号ラインのリペア方法であって、
前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインが前記第1領域で前記第1リダンダンシ導電パターンに電気的に接続されることを特徴とする信号ラインのリペア方法。 - 前記第2リダンダンシ導電パターンが前記第1リダンダンシ導電パターンと離間、または一体化することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインとが前記第1領域で第1リダンダンシ導電パターンと共に電気的に接続され、前記信号ラインと前記第2リダンダンシパターンとが前記第2領域で電気的に接続され、前記リペアラインと前記第2リダンダンシパターンとが第3領域で電気的に接続されることを特徴とする請求項3に記載の信号ラインのリペア方法。
- 前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインがコンタクトホールを介して前記第2リダンダンシ導電パターンに電気的に接続されることを特徴とする請求項3に記載の信号ラインのリペア方法。
- 前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインとが前記第1領域で第1リダンダンシ導電パターンと電気的に接続され、前記信号ラインと前記第2リダンダンシ導電パターンとの電気的接続は前記第2領域において行われることを特徴とする請求項6に記載の信号ラインのリペア方法。
- 前記信号ラインのリペアによって、前記リペアラインがコンタクトホールを介して前記第2リダンダンシ導電パターンと電気的に接続されることを特徴とする請求項3に記載の信号ラインのリペア方法。
- 前記信号ラインのリペアによって、前記信号ラインと前記リペアラインが前記第1領域で前記第1リダンダンシ導電パターンと電気的に接続され、前記リペアラインと前記第2リダンダンシ導電パターンとの電気的接続は前記第3領域において行われることを特徴とする請求項8に記載の信号ラインのリペア方法。
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