JP5322927B2 - 14位置換基に複素芳香環カルボン酸構造を有するムチリン誘導体 - Google Patents
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Description
Aは下記化学式
窒素原子を含むB環は下記化学式
R3は水素原子またはフッ素原子を表し、R4はCH、Nまたは式
C−XもしくはCOR7
(式中、Xはハロゲン原子を表し、R7は水素原子または置換されていてもよい低級アルキル基を表す)を表し、R5は置換されていてもよい低級アルキル基、置換されていてもよい低級アルケニル基、芳香環が置換されていてもよいアラルキル基、芳香環が置換されていてもよいヘテロアラルキル基、置換されていてもよい芳香環もしくは置換されていてもよい芳香族複素環を表すか、またはR5とR7が一緒になって環を形成してもよく、その場合は任意の炭素原子に置換されていてもよい低級アルキル基が置換されていてもよく、R6は水素原子、置換されていてもよい低級アルキル基または置換されていてもよいホウ酸を表す]
で表されるムチリン誘導体又は薬学的に許容されるそれらの付加塩類、
または上記ムチリン誘導体又は薬学的に許容されるそれらの付加塩類を有効成分として含有する感染症治療薬に関する。
「低級アシルオキシ基」とは、炭素数1〜5のアシルオキシ基を意味し、たとえば、ホルミルオキシ基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基または2,2−ジメチルプロピオニルオキシ基等があげられる。
「低級アルキルスルホニルオキシ基」とは、炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐したアルキルスルホニルオキシ基を意味し、たとえばメチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基等があげられる。
「置換されていてもよいチオール基」とは、チオール基、置換されていてもよい低級アルキルチオ基、芳香環が置換されていてもよいアラルキルチオ基、芳香環が置換されていてもよいアリールチオ基、芳香環が置換されていてもよいヘテロアリールチオ基、低級アシルチオ基、アリールアシルチオ基、あるいは保護基を有するチオール基等を意味し、また硫黄原子が1ないし2つの酸素原子によって酸化されていてもよい。
「低級アシルチオ基」とは、アセチルシチオ基、プロピオニルチオ基、または2,2−ジメチルプロピオニルチオ基等の炭素数1〜5のものがあげられる。
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
塩酸14−(1−{3−[2−(4−モルホリル)エトキシカルボニル]−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
塩酸14−(1−{3−[2−(ジメチルアミノ)エトキシカルボニル]−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−1−エチル−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−6,8−ジフルオロ−1−エチル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−1−(2−フルオロエチル)−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−(2−フルオロエチル)−4−オキソキノリン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−(2−フルオロエチル)−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、
14−[1−(6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−9−フルオロ−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1−(2,4−ジフルオロフェニル)−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−8−クロロー1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−8−ジフルオロメトキシ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−1−(1,1−ジメチルエチル)−6−フルオロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−8−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−{1−[(3S)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、
14−{1−[(3R)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−9−フルオロ−3−フルオロメチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、
14−{1−[(3S)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−3−メチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、
14−{1−[(3R)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−3−フルオロメチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイルムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン、
14−{エキソ−8’−(1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)−8’−アザビシクロ[3.2.1]オクタン−3−イルスルファニル}アセトキシムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−1−エチル−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−1−エチル−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−1−(2−フルオロエチル)−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−(2−フルオロエチル)−4−オキソキノリン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−(2−フルオロエチル)−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−9−フルオロ−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1−(2,4−ジフルオロフェニル)−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−8−クロロー1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−6,8−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−8−クロロ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−8−ジフルオロメトキシ−6−フルオロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−(1−{3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−1−[(1R,2S)−2−フルオロシクロプロパン−1−イル]−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[3−カルボキシ−1,4−ジヒドロ−1−(1,1−ジメチルエチル)−6−フルオロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−7−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−8−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[(3S)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−9−フルオロ−3−メチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[(3R)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−9−フルオロ−3−フルオロメチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[(3S)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−3−メチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−{1−[(3R)−6−カルボキシ−2,3−ジヒドロ−3−フルオロメチル−7−オキソ−7H−ピリド[1,2,3−de][1,4]ベンズオキサジン−10−イル]ピペリジン−4−カルボニル}カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン、
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−8−メトキシ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリンなどがあげられる。
本工程は、前記一般式(8)で表される12位デスエテニル4−エピムチリン誘導体の12位に適当な親電子剤、例えば、低級ハロゲン化アルキルや低級ハロゲン化アルケニル、低級ハロゲン化アルキニルやDavis試薬に代表される酸化剤、置換アルキル、置換アリール、もしくは置換ヘテロアリールチオールスルホネート等を等量〜過剰量用いて塩基存在下で反応させ、前記一般式(9−1)で表される12位R1置換4−エピムチリン誘導体を製造するものである。
即ち、文献記載の方法(Tetrahedron Lett. 1984, 25, 1753.)により、R1がメチルチオ基である前記一般式(9−3)で表される12位デスエテニル4−エピムチリン誘導体を酸化反応に付してスルホキシド体(9−4)とし、次いでトリフルオロ酢酸無水物などを用いてPummerer転位反応によりスルフィド誘導体(9−5)とし、さらに塩基性条件下で反応を行うことによりR1がメルカプト基である前記一般式(9−6)で表される12位デスエテニル4−エピムチリン誘導体を製造するものである。スルフィドの酸化反応は一般的な酸化条件を使用することができ、例えば過酢酸、ベンゾイル過酢酸、過酸化水素水などの過酸化物、m−クロロ過安息香酸などの酸化剤、Davis試薬などを用いることができる。溶媒としては反応に関与しなければいかなる溶媒も用いることができるが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、およびそれらと水の混合系溶媒が好適に用いられる。反応は−110℃から100℃で、円滑に進行する。続くPummerer転位反応は、文献記載の方法(Ber.1910, 43, 1401.; Org. React. 1991, 40, 157.)に準じて行うことができる。塩基性条件下でのメルカプト基の生成反応については、一般的な塩基、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミドのようなアルカリ金属有機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ−7−セン等の三級有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基等の存在下で行われる。溶媒としては反応に関与しなければいかなる溶媒も用いることができるが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒が用いられる。反応は、−100℃から100℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(9−1)で表される12位R1置換4−エピムチリン誘導体中の、14位水酸基の保護基を除去し、前記一般式(9−2)で表される14位水酸化4−エピムチリン誘導体を製造するものである。水酸基の保護基を除去する方法は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)。例えば保護基としてメトキシメチル基を選択していた場合は、ピリジニウムp-トルエンスルホネート等が好適に用いられる。溶媒としては反応に関与しなければいかなるものも用いることができるが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール等のアルコール系溶媒が好適に用いられる。反応は−110℃から100℃で、円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(9−2)で表される14位水酸化4−エピムチリン誘導体中の14位水酸基に、適当な反応条件下前記一般式(10)などで表される環状アミンカルボン酸ハロゲン物誘導体を反応させてアシルカルバモイル化反応を行い、前記一般式(11−1)で表される14位アシルカルバモイル化4−エピムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(11−1)で表される14位アシルカルバモイル化4−エピムチリン誘導体中の14位スペーサー部位に存在する窒素原子にR2(水素原子を除く)で示される置換基を導入し、前記一般式(11−2)で表される14位アシルカルバモイル化4−エピムチリン誘導体を製造するものである。用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミドのようなアルカリ金属有機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ−7−セン等の三級有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基存在下で行うことができる。溶媒としては反応に関与しなければいかなる溶媒も用いることができるが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール等のアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒が好適に用いられる。反応は−110℃から100℃で、円滑に進行する。
本工程は、前記第四工程で得られる前記一般式(11−1,もしくは11−2)で表される14位アシルカルバモイル化4−エピムチリン誘導体中の環状アミン部位の1位保護基を除去し、前記一般式(12)で表される14位アシルカルバモイル化4−エピムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)。例えば保護基としてt−ブトキシカルボニル基を選択していた場合には、トリフルオロ酢酸を反応試剤に用いるか、もしくは180℃前後での加熱によって脱保護を行う。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと酢酸、あるいは水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(12)で表される14位アシルカルバモイル化4−エピムチリン誘導体中の3位保護基を除去し、前記一般式(5−1)で表される14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)が、3位保護基がメチル基である場合には好適には塩酸、あるいは塩化亜鉛―塩酸(Lucas試薬)を用いる。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(5−1)で表される14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体と前記一般式(6)で表される複素芳香環カルボン酸誘導体を適当な塩基存在下反応させ、前記一般式(1)で表される14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体を製造するものである。用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミドのようなアルカリ金属有機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ−7−セン等の三級有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基存在下で行うことができる。溶媒としては反応に関与しなければいかなる溶媒も用いることができるが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール等のアルコール系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒が好適に用いられる。反応は−110℃から200℃で、円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(13)で表される11位水酸基が保護された12位R1置換ムチリン誘導体中の14位水酸基に、適当な反応条件下前記一般式(10)で表される環状アミンカルボン酸ハロゲン化物誘導体を反応させてアシルカルバモイル化反応を行い、前記一般式(14−1)で表される11位水酸基が保護された14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(14−1)で表される11位水酸基が保護された14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体中の14位スペーサー部位に存在する窒素原子にR2(水素原子を除く)で示される置換基を導入し、前記一般式(14−2)で表される11位水酸基が保護された14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体を製造するものである。用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物、n−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、カリウムビス(トリメチルシリル)アミドのようなアルカリ金属有機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン、イミダゾール、ピロリジン、ピペリジン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデ−7−セン等の三級有機塩基、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基存在下で行うことができる。溶媒としては反応に関与しなければいかなる溶媒も用いることができるが、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、2−メチル−1−プロパノール、2−メチル−2−プロパノール等のアルコール系溶媒、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒が好適に用いられる。反応は−110℃から200℃で、円滑に進行する。
本工程は、前記第二工程で得られる前記一般式(14−1,もしくは14−2)で表される11位水酸基が保護された14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体中の環状アミン部位の1位保護基を除去し、前記一般式(15)で表される11位水酸基が保護された14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Green ら)。たとえば窒素原子の保護基としてt−ブトキシカルボニル基を選択していた場合には、トリフルオロ酢酸を反応試剤に用いるか、もしくは180℃前後での加熱によって脱保護を行う。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと酢酸、あるいは水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(15)で表される11位水酸基が保護された14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体中の11位水酸基の保護基を除去し、前記一般式(5−2)で表される14位アシルカルバモイル化ムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(9−2)で表される14位水酸化4−エピムチリン誘導体を酢酸誘導体(16)と適当な試薬存在下で反応させ、前記一般式(17−1)で表される14位水酸基がアシル化された4−エピムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(17−1)で表される水酸基が保護された14−アシル化−4−エピムチリン誘導体中の水酸基の保護基を除去し、前記一般式(17−2)で表されるグリコール酸エステル誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(17−2)で表されるグリコール酸エステル誘導体の水酸基をR10へ変換し、前記一般式(17−3)で表される14位がアシル化された4−エピムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(17−3)で表される14位がアシル化された4−エピムチリン誘導体に対して前記一般式(18)で表される環状アミン誘導体を反応させ、前記一般式(17−4)で表される14位がアシル化されたムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(17−4)で表される14位がアシル化された4−エピムチリン誘導体中の環状アミン部位の1位保護基を除去し、前記一般式(17−5)で表される14位がアシル化された4−エピムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)。たとえば窒素原子の保護基としてt−ブトキシカルボニル基を選択していた場合には、トリフルオロ酢酸を反応試剤に用いるか、もしくは180℃前後での加熱によって脱保護を行う。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと酢酸、あるいは水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(17−5)で表される14位がアシル化された4−エピムチリン誘導体中の3位保護基を除去し、前記一般式(5−3)で表される14位がアシル化されたムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)が、好適には塩酸、あるいは塩化亜鉛―塩酸(Lucas試薬)を用いる。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(13)で表される11位水酸基が保護された14位水酸化ムチリン誘導体を酢酸誘導体(16)と適当な試薬存在下で反応させ、前記一般式(19−1)で表される11位水酸基が保護され14位水酸基がアシル化されたムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(19−1)で表される11位水酸基が保護された14−アシル化ムチリン誘導体中のグリコール酸エステル部位に係る水酸基の保護基を選択的に除去し、前記一般式(19−2)で表されるグリコール酸エステル誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(19−2)で表されるグリコール酸エステル誘導体の水酸基を選択的にR10へ変換し、前記一般式(19−3)で表される14位がアシル化されたムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(19−3)で表される14位がアシル化されたムチリン誘導体のR10に対して前記一般式(18)で表される環状アミン誘導体を反応させ、前記一般式(19−4)で表される14位がアシル化されたムチリン誘導体を製造するものである。
本工程は、前記一般式(19−4)で表される14位がアシル化されたムチリン誘導体中の環状アミン部位の1位保護基を除去し、前記一般式(19−5)で表される14位がアシル化されたムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)。たとえば窒素原子の保護基としてt−ブトキシカルボニル基を選択していた場合には、トリフルオロ酢酸を反応試剤に用いるか、もしくは180℃前後での加熱によって脱保護を行う。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと酢酸、あるいは水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
本工程は、前記一般式(19−5)で表される11位水酸基が保護された14位アシル化ムチリン誘導体中の11位水酸基の保護基を除去し、前記一般式(5−4)で表される14位アシル化ムチリン誘導体を製造するものである。保護基の除去は、文献記載の方法を適宜採用して行うことができる(Greenら)。反応溶媒としては、反応に関与しない限りいかなる溶媒も用いることができるが、例えばペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロメタン、ニトロエタン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒またはこれらと水の混合系溶媒の存在下あるいは非存在下で行われ、通常−20℃から200℃で円滑に進行する。
以下、実施例および参考例により本発明を詳細に説明するが、本発明がこれらに限定されるものでないことはいうまでもない。
1−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル)ピペリジン−4−カルボン酸
MS (CI) (m/z): 332 (MH+).
HRMS (CI) (m/z): Calcd. for C11H17Cl3NO4(MH+):332.0223. Found, 332.0190.
MS (CI) (m/z): 304 (MH+).
HRMS (CI) (m/z): Calcd. for C9H13Cl3NO4(MH+):303.9910. Found, 303.9937.
第一工程
(3R)−14−[1−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−3−デオキソ−11−デオキシ−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (ESI) (m/z): 661.2 (MH-).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C31H44Cl3N2O7(MH-):661.22141. Found, 661.21932.
(3R)−14−(1−ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−3−デオキソ−11−デオキシ−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (ESI) (m/z): 489.3 (MH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C28H45N2O5(MH+):489.33285. Found, 489.33387.
14−(1−ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン
MS (ESI) (m/z): 475.3 (MH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C27H43N2O5(MH+):475.31720. Found, 475.31631.
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイルムチリン
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.77 (d, J =7.3 Hz, 3H), 0.91(d, J = 7.3 Hz, 3H), 1.13-1.86 (m, 12H), 1.21 (s, 3H), 1.44 (s, 3H), 1.91-2.40(m, 9H), 2.97-3.15 (m, 2H), 3.32-3.62 (m, 4H), 3.70-3.86 (m, 2H), 5.25 (d, J =17.1 Hz, 1H), 5.37 (d, J= 11.6 Hz, 1H), 5.72 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 6.50 (dd, J =17.1, 11.3 Hz, 1H), 7.37 (d,J = 6.7 Hz, 1H), 7.47 (br, 1H), 8.02 (d, J = 12.8Hz, 1H), 8.77 (s, 1H), 15.0 (s, 1H).
MS (ESI) (m/z): 720.4 (MH+).
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−12−メチルチオ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 399 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H39O4S (MH+):399.2569. Found, 399.2608.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−12−メチルチオ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 355 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C20H35O3S (MH+):355.2307. Found, 355.2305.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−12−メチルチオ−11−オキソ−14−[1−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 683.5 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C30H46Cl3N2O7S(MH+):683.2091. Found, 683.2077.
(3R)−3−オキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−12−メチルチオ−11−オキソ−14−[(1−ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 509 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C27H45N2O5S(MH+):509.3049. Found, 509.3044.
12−デスエテニル−12−メチルチオ−14−(1−ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイルムチリン
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C26H43N2O5S(MH+):495.2893. Found, 495.2897.
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.78 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 0.95(d, J = 6.7 Hz, 3H), 1.04-1.85 (m, 11H), 1.45 (s, 3H), 1.46 (s, 3H), 1.92-2.33(m, 9H), 2.02 (s, 3H), 2.51-2.61 (m, 1H), 2.97-3.11 (m, 2H), 3.42-3.55 (m, 4H),3.62-3.84 (m, 2H), 5.77(d,J = 8.0 Hz, 1H), 7.37 (d, J = 7.3Hz, 1H), 7.38 (br,1H), 8.03 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 8.78 (s, 1H), 15.0 (s, 1H).
MS (ESI) (m/z): 770.3 (MH+).
第一工程
1−シクロプロピル−6,7−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸2−(4−モルホリル)エチル
MS (ESI) (m/z): 379.2 (MH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C19H21F2N2O4(MH+):379.14694. Found, 379.14771.
14−(1−{3−[2−(4−モルホリル)エトキシカルボニル]−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソ−3−キノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン
MS (ESI) (m/z): 853.5 (MH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C45H62FN4O9S(MH+):853.42215. Found, 853.42141.
塩酸14−(1−{3−[2−(4−モルホリル)エトキシカルボニル]−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン
mgの黄色粉末状結晶である表題化合物を得た(収率91%)。
MS (ESI) (m/z): 853.5 (フリー体のMH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C45H62FN4O9S(MH+):853.42215. Found, 853.42219.
第一工程
1−シクロプロピル−6,7−ジフルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボン酸2−(ジメチルアミノ)エチル
MS (ESI) (m/z): 337.2 (MH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C17H19F2N2O3(MH+):337.13637. Found, 337.14031.
14−(1−{3−[2−(ジメチルアミノ)エトキシカルボニル]−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン
MS (ESI) (m/z): 811.4 (MH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C43H60FN4O8S(MH+):811.41159. Found, 811.40816.
塩酸14−(1−{3−[2−(ジメチルアミノ)エトキシカルボニル]−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−6−フルオロ−4−オキソキノリン−7−イル}ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−デスエテニル−12−メチルチオムチリン
MS (ESI) (m/z): 811.4 (フリー体のMH+).
HRMS (ESI) (m/z): Calcd. for C43H60FN4O8S(フリー体のMH+):811.41159. Found, 811.40887.
発明化合物5〜27を実施例1と同様な操作により製造した。
発明化合物28を実施例2と同様な操作により製造した。
発明化合物29〜52を実施例2と同様な操作により製造した。
発明化合物53〜70を実施例1と同様な操作により製造した。
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−(1−プロペン−1−イル)ムチリン
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(2−プロピン−1−イル)−4−エピムチリン
MS (FAB+) m/z:329 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB+) for C22H33O2(MH+-HOCH2OCH3):calcd,.329.2481; found, 329.2467.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(1−プロピン−1−イル)−4−エピムチリン
MS (FAB+) m/z:391 (MH+).
HRMS (FAB+) for C24H39O4(MH+):calcd, 391.2848; found, 391.2871.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(1−プロペン−1−イル)−4−エピムチリン
MS (FAB+) m/z:393 (MH+).
HRMS (FAB+) for C24H41O4(MH+):calcd, 393.3005; found, 393.3010.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−(1−プロペン−1−イル)−4−エピムチリン
MS (FAB+) (m/z):331 (MH+-H2O).
HRMS (FAB+)for C22H35O2 (MH+-H2O):calcd, 331.2637; found, 331.2645.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−(1−プロペン−1−イル)−14−[1−(2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−4−エピムチリン
MS (ESI-) m/z:675.2 (MH-).
HRMS (ESI-) for C32H46Cl3N2O7(MH-):calcd, 675.23706. found, 675.23651.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−14−(ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−(1−プロペン−1−イル)−4−エピムチリン
MS (ESI+) m/z: 503.31 (MH+).
HRMS (ESI+) for C29H47N2O5(MH+):
calcd, 503.34850; found, 503.34896.
12−デスエテニル−14−(ピペリジン−4−カルボニル)カルバモイル−12−(1−プロペン−1−イル)ムチリン
MS (ESI+) m/z: 489.3 (MH+).
HRMS (ESI+) for C28H45N2O5:calcd, 489.33285 (MH+); found, 489.33244.
14−[1−(3−カルボキシ−1−シクロプロピル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソキノリン−7−イル)ピペリジン−4−カルボニル]カルバモイル−12−デスエテニル−12−(1−プロペン−1−イル)ムチリン
MS (ESI+) m/z: 734.4 (MH+).
HRMS (ESI+) for C41H53FN3O8(MH+): calcd, 734.38167; found, 734.38163.
1H NMR (400 MHz, CDCl3) d 0.75 (d, J =6.7 Hz, 3H), 0.98 (d, J = 6.7 Hz, 3H), 1.12-2.43 (m, 22H), 1.39 (s, 3H), 1.42(s, 3H), 1.75 (d, J = 6.1 Hz, 3H), 3.00-3,10 (m, 2H), 3.35 (t, J = 6.7 Hz, 1H),3.40-3.50 (m, 2H), 3.73-3.84 (m, 2H), 5.60 (d,J = 8.0 Hz, 1H), 5.68-5.79 (m,2H), 7.33 (brs, 1H), 7.37 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 8.04 (d, J = 12.8 Hz, 1H), 8.78(s, 1H), 15.04 (s, 1H).
発明化合物72〜112を実施例9と同様な操作により合成した。
S−メチル p−トルエンチオスルホネート
MS (FAB) (m/z): 203 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C8H11O2S2(MH+): 203.0200. Found, 203.0177.
S−エチル p−トルエンチオスルホネート
MS (EI) (m/z): 216 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C9H12O2S2(M+): 216.0279. Found, 216.0238.
S−プロピル p−トルエンチオスルホネート
MS (EI) (m/z): 230 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C10H14O2S2(M+): 230.0435. Found, 230.0449.
S−ブチル p−トルエンチオスルホネート
MS (EI) (m/z): 244 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C11H16O2S2(M+): 244.0592. Found, 244.0595.
S−ペンタン p−トルエンチオスルホネート
MS (EI) (m/z): 258 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C12H18O2S2(M+): 258.0748. Found, 258.0755.
S−(2−フルオロ)エタン p−トルエンチオスルホネート
mL(58.2 mmoL)を滴下し、自然昇温させながら40時間攪拌した。反応混合物に希クエン酸水溶液を加えて酢酸エチル抽出(50 mLx3)した。合した有機層を飽和食塩水洗浄(50 mL)後、ろ過し、無水硫酸マグネシウム乾燥し、溶媒を留去した。得られた残渣を参考例6の方法に従ってp−トルエンスルフィン酸ナトリウム11.1 g(62.1 mmoL)、およびヨウ素9.85 g(38.8 mmoL)を用いて反応を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=20:1)にて精製し、877 mgの黄色油状物である表題化合物を得た(収率10%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 2.47 (s, 3H), 3.26 (t, J = 6.1Hz, 1H), 3.31 (t, J =6.1 Hz, 1H), 4.51 (t, J= 6.4 Hz, 1H), 4.62 (t, J = 6.4 Hz,1H), 7.36 (d, J = 7.9 Hz, 2H), 7.82 (d, J = 7.9 Hz, 2H).
IR (neat): 1330, 1140 (cm-1).
MS (EI) (m/z): 234 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C9H11FO2S2(M+): 234.0185. Found, 234.0186.
S−(2−t−ブチルジメチルシリルオキシ)エタン p−トルエンチオスルホネート
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.01 (s, 6H), 0.85 (s, 9H),2.45 (s, 3H), 3.12 (t, J =6.1 Hz, 2H), 3.77 (t, J= 6.1 Hz, 2H), 7.34 (d, J =7.9 Hz, 2H), 7.82 (d, J = 7.9Hz, 2H).
IR (neat): 1330, 1140 (cm-1).
MS (CI) (m/z): 347 (MH+).
HRMS (CI) (m/z): Calcd. for C15H27O3S2Si(MH+): 347.1171. Found, 347.1148.
S−(2−プロペン) p−トルエンチオスルホネート
MS (CI) (m/z): 229 (MH+).
HRMS (CI) (m/z): Calcd. for C10H13O2S2(MH+): 229.0357. Found, 229.0359.
S−(1−メチル)エタン p−トルエンチオスルホネート
MS (EI) (m/z): 230 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C10H14O2S2(M+): 230.0435. Found, 230.0458.
S−ベンゼン p−トルエンチオスルホネート
MS (EI) (m/z): 264 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C13H12O2S2(M+): 264.0279. Found, 264.0245.
S−(4−クロロ)ベンゼン p−トルエンチオスルホネート
MS (EI) (m/z): 298 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C13H11ClO2S2(M+): 297.9889. Found, 297.9909.
S−(2−ピリジン) p−トルエンチオスルホネート
MS (CI) (m/z): 266 (MH+).
HRMS (CI) (m/z): Calcd. for C12H12NO2S2(MH+): 266.0309. Found, 266.0279.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−ヒドロキシ−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
mmoL)を加え、−50℃まで昇温させながら2.5時間攪拌した。反応混合液に希クエン酸水溶液を加えて減圧留去して、得られた残渣を酢酸エチル抽出した(30 mLx3)。合した有機層を飽和食塩水洗浄(30 mL)し、無水硫酸マグネシウム乾燥し
、ろ過し、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製し、777 mgの無色結晶である表題化合物を得た(収率74%)。
MS (FAB) (m/z): 307 (MH+-HOCH2CH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C19H31O3 (MH+-HOCH2CH3):307.2273. Found, 307.2270.
(3R)―3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(2−プロピニルオキシ)−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 345 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H33O3 (MH+-HOCH2OCH3):345.2430. Found, 345.2387.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−(2−プロピニルオキシ)−4−エピムチリン
MS (CI) (m/z): 363 (MH+).
HRMS (CI) (m/z): Calcd. for C22H35O4 (MH+):363.2535. Found, 363.2511.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3,12−ジメトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 321 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C20H33O3 (MH+-HOCH2OCH3):321.2430. Found, 321.2394.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3,12−ジメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 339 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C20H35O4 (MH+):339.2535. Found, 339.2508.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(2−プロペニル)オキシ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 347 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H35O3
(MH+-HOCH2OCH3):347.2586. Found, 347.2623.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−(2−プロペニル)オキシ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 365 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H37O4 (MH+):365.2692. Found, 365.2670.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−1−デオキシ−12−デスエテニル−12−エトキシ−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 335 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H35O3 (MH+-HOCH2OCH3):335.2586. Found, 335.2552.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−エトキシ−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 353 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H37O4 (MH+):353.2692. Found, 353.2667.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−(2−フルオロエトキシ)−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 353 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H34FO3 (MH+-HOCH2OCH3):353.2492. Found, 353.2494.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−(2−フルオロエトキシ)−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 353 (MH+-H2O).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H34FO3 (MH+-H2O):353.2492. Found, 353.2517.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−(2,2−ジフルオロエトキシ)−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 371 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H33F2O3(MH+-HOCH2OCH3): 371.2398. Found, 371.2364.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−(2,2−ジフルオロエトキシ)−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 389 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H35F2O4(MH+): 389.2503. Found, 389.2466.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−エチルチオ−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
mg(3.41 mmoL)、およびカリウムビス(トリメチルシリル)アミド(0.5 mol/Lトルエン溶液)6.82 mL(3.41 mmoL)を用いて反応を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=6:1)にて精製して772 mgの無色油状物である表題化合物を得た(収率60%)。
MS (FAB) (m/z): 413 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C23H41O4S (MH+):413.2726. Found, 413.2753.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−エチルチオ−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 369 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H37O3S (MH+):369.2463. Found, 369.2438.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−12−メチルスルホニル−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 431 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H39O6S (MH+):431.2467. Found, 431.2450.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−12−メチルスルホニル−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 369 (MH+-H2O).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C20H33O4S (MH+-H2O):369.2160. Found, 369.2136.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−プロピルチオ−4−エピムチリン
MS (CI) (m/z): 427 (MH+).
HRMS (CI) (m/z): Calcd. for C24H43O4S (MH+):427.2882. Found, 427.2903.
(3R)−3−デオキソ-11-デオキシ-12-デスエテニル-3-メトキシ-11-オキソ-12-プロピルチオ-4-エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 383 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H39O3S (MH+):383.2620. Found, 383.2655.
第一工程
(3R)−3−ブチルチオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 441 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C25H45O4S (MH+):441.3039. Found, 441.3022.
(3R)−12−ブチルチオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 397 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C23H41O3S (MH+):397.2776. Found, 397.2791.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−ペンチルチオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 455 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C26H47O4S (MH+):455.3195. Found, 455.3224.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−ペンチルチオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 411 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C24H43O3S (MH+):411.2933 Found, 411.2927.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−(2−フルオロエチル)チオ−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS(FAB) (m/z): 431 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C23H40FO4S (MH+):431.2631. Found, 431.2666.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−2−デスエテニル−12−(2−フルオロエチル)チオ−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 387 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H36FO3S (MH+):387.2369. Found, 387.2367.
第一工程
(3R)−12−(2−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)チオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
g(3.41 mmoL)、およびカリウムビス(トリメチルシリル)アミド(0.5mol/Lトルエン溶液)6.82 mL(3.41 mmoL)を用いて反応を行い、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=10:1)にて精製し、1.33 gの無色油状物である表題化合物を得た(収率79%)。
MS (FAB) (m/z): 481.5 (MH+-HOCH2OCH3).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C27H49O3SSi (MH+-HOCH2OCH3):481.3172. Found, 481.3191.
(3R)−12−(2−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル)チオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 499 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C27H51O4SSi (MH+):499.3277. Found, 499.3267.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(2−プロペニル)チオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 425.5 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C24H41O4S (MH+):425.2726. Found, 425.2749.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−(2−プロペニル)チオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 381 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H37O3S (MH+):381.2463. Found, 381.2470.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−12−(1−メチルエチル)チオ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 427.5 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C24H43O4S (MH+):427.2882. Found, 427.2932.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−12−(1−メチルエチル)チオ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 383 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H39O3S
(MH+):383.2620. Found, 383.2609.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−フェニルチオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 429.5 (MH+-CH3O).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C26H37O3S (MH+-CH3O):429.2463. Found, 429.2442.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−フェニルチオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 417.6 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C25H37O3S (MH+):417.2463. Found, 417.2433.
第一工程
(3R)−12−(4−クロロフェニル)チオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 495 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C27H40ClO4S (MH+):495.2336. Found, 495.2334.
(3R)−12−(4−クロロフェニル)チオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 433 (MH+-H2O).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C25H34ClO2S (MH+-H2O):433.1968. Found, 433.1995.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(2−ピリジル)チオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 462 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C26H40NO4S (MH+):462.2678. Found, 462.2673.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−(2−ピリジル)チオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 418 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C24H36NO3S (MH+):418.2416. Found, 418.2439.
(参考例32)
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−12−メチルスルフィニル−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 415 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H39O5S (MH+):415.2518. Found, 415.2534.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−12−メルカプト−11−オキソ−4−エピムチリン
1753.)に従って、第一工程の化合物100 mg(0.24 mmoL)のトリフルオロ酢酸溶液(3 mL)を40℃にて1.5時間加熱攪拌した。冷後反応混合物を減圧留去し、残渣にメタノール(2.5 mL)、およびトリエチルアミン(2.5 mL)を加え、室温下4時間攪拌した。反応混合物を減圧留去して、得られた残渣に酢酸エチル(3 mL)を加え、飽和塩化アンモニウム水溶液(3 mL)、次いで飽和食塩水(3 mL)で洗浄し、無水硫酸マグネシウム乾燥し、ろ過し、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製し、88.1 mgの無色粉末状物である表題化合物を得た(収率95%)。
MS (EI) (m/z): 384 (M+).
HRMS (EI) (m/z): Calcd. for C21H36O4S (M+):384.2334. Found, 384.2340.
(3R)−12−(2−クロロエチル)チオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 447.5 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C23H40ClO4S (MH+):447.2336. Found, 447.2344.
(3R)−12−(2−クロロエチル)チオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 385 (MH+-H2O).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H34ClO2S (MH+-H2O):385.1968. Found, 385.1956.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−12−(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 467 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C23H38F3O4S(MH+): 467.2443. Found, 467.2441.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−12−(2,2,2−トリフルオロエチル)チオ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 423 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C21H34F3O3S(MH+): 423.2181. Found, 423.2218.
第一工程
(3R)−12−ベンゾイルチオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 489 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C28H41O5S (MH+):489.2675. Found, 489.2719.
(3R)−12−ベンゾイルチオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 445 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C26H37O4S (MH+):445.2413. Found, 445.2441.
第一工程
(3R)−12−ベンジルチオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 475 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C28H43O4S (MH+):475.2882. Found, 475.2899.
(3R)−12−ベンジルチオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 413 (MH+-H2O).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C26H37O2S (MH+-H2O):413.2514. Found, 413.2491.
第一工程
(3R)−12−(3−ベンゾイルオキシ)プロピルチオ−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 547 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C31H47O6S (MH+):547.3093. Found, 547.30.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−(3−ヒドロキシ)プロピルチオ−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 442 (M+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C24H42O5S (M+):442.2753. Found, 442.2769.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−12−(3−フルオロ)プロピルチオ−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 445 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C24H42FO4S (MH+):445.2788. Found, 445.2768.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−12−(3−フルオロ)プロピルチオ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 383 (MH+-H2O).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C22H36FO2S (MH+-H2O):383.2420. Found, 383.2424.
第一工程
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−14−メトキシメトキシ−12−{エキソ−8’−メチル−8’−アザビシクロ[3.2.1]オクタン−3−カルボニル}チオ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 508.5 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C29H50NO4S (MH+):508.3461. Found, 508.3482.
(3R)−3−デオキソ−11−デオキシ−12−デスエテニル−3−メトキシ−12−{エキソ−8’−メチル−8’−アザビシクロ[3.2.1]オクタン−3−カルボニル}チオ−11−オキソ−4−エピムチリン
MS (FAB) (m/z): 464 (MH+).
HRMS (FAB) (m/z): Calcd. for C27H46NO3S (MH+):464.3198. Found, 464.3242.
MIC[最小発育阻止濃度(MIC, minimum inhibitory concentration)]の測定は、NCCLS寒天平板希釈法 (Methodsfor dilution antimicrobial susceptibility testsfor bacteria that growaerobically; approved standard-sixth edition. NCCLS. 2003, M7-A6, Vol. 23 (No.2).)に準じて行った。その結果、本発明化合物が優れた抗菌活性を有することを見出した。
本発明に係る化合物は、特にメチシリン耐性ブドウ球菌(例えば、methicillin-resistant Staphylococcus aureus L39)、キノロン‐メチシリン耐性ブドウ球菌(例えば、Staphylococcus aureus OITI MR1-1002)、ペニシリン耐性肺炎球菌(例えば、penicillin-resistant Streptococcus pneumoniae PR44)、キノロン耐性肺炎球菌(例えば、Streptococcus pneumoniae No.55)、バンコマイシン耐性腸球菌(例えば、Enterococcus faecium A2280)などの薬剤耐性グラム陽性菌に対し強い抗菌活性を示す。
Claims (5)
- 下記一般式(1)
[式中、R1は水素原子、ホルミル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基、低級アルキルオキシカルボニル基、水酸基、低級アルキルチオ基またはアミノ基を表し、
Aは下記化学式
(式中、R2は水素原子または低級アルキル基を表し、Qは酸素原子または硫黄原子を表す)を表し、
窒素原子を含むB環は下記化学式
(式中、mおよびnは、それぞれ0または1を表す)を表し、
R3は水素原子またはフッ素原子を表し、R4はCH、Nまたは式
C−XもしくはCOR7
(式中、Xはハロゲン原子を表し、R7は水素原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基を表す)を表し、R5は低級アルコキシ基、低級アルコキシ−低級アルコキシ基、低級シクロアルキル基若しくはハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基、低級アルケニル基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい芳香環又は芳香族複素環を表すか、またはR5とR7が一緒になって環を形成してもよく、その場合は任意の炭素原子に、ハロゲン原子で置換されていてもよい低級アルキル基が置換されていてもよく、R6は水素原子、5〜14員環の酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群より選ばれるヘテロ原子を1つ以上含む脂肪族複素環または1若しくは2個の低級アルキル基によって置換されていてもよいアミノ基で置換されていてもよい低級アルキル基、またはホウ酸を表す]
で表されるムチリン誘導体又は薬学的に許容されるそれらの付加塩。 - 一般式(1)において、R1が、水素原子、ホルミル基、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基または低級アルキルオキシカルボニル基である請求項1記載のムチリン誘導体又は薬学的に許容されるそれらの付加塩。
- 一般式(1)において、R1が、水酸基、低級アルキルチオ基またはアミノ基である請求項1記載のムチリン誘導体又は薬学的に許容されるそれらの付加塩。
- 一般式(1)において、Aが下記化学式
(式中、R2は水素原子または低級アルキル基を表す)
であり、窒素原子を含むB環が下記化学式
- 一般式(1)において、Aが下記化学式
(式中、Qは酸素原子または硫黄原子を表す)であり、窒素原子を含むB環が下記化学式
である請求項1〜3のいずれかに記載のムチリン誘導体又は薬学的に許容されるそれらの付加塩。
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