JP5319977B2 - ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT - Google Patents

ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT Download PDF

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本発明は、照明光源、液晶表示器用バックライト及びフラットパネルディスプレイ等に用いられる有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic electroluminescence element used for an illumination light source, a backlight for a liquid crystal display, a flat panel display, and the like, and a method for producing the organic electroluminescence element.

照明光源、液晶表示器用バックライト及びフラットパネルディスプレイ等に用いられる発光体として有機エレクトロルミネッセンス素子が知られている。有機エレクトロルミネッセンス素子は、光変換率が高く軽量で薄型なため、電子機器や照明機器の小型化、薄型化、形状の自由化及び高効率化などの要求を満たすものであり、発光の性能を上げるためにさらなる研究開発が行われている。   An organic electroluminescence element is known as a light emitter used in an illumination light source, a backlight for a liquid crystal display, a flat panel display, and the like. Organic electroluminescence elements have high light conversion rate, are lightweight and thin, and meet the demands for downsizing, thinning, freedom of shape and high efficiency of electronic equipment and lighting equipment. Further research and development is underway to raise it.

図3には、従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の一例が示されている。この例では、透明な基板11上に陽極16となる透明電極が形成され、この陽極16の上にホール輸送層17、有機発光層15及び電子注入層14がこの順で積層され、その上に陰極12が形成されている構成となっている。この有機エレクトロルミネッセンスは、陽極16と陰極12との間に電圧を印加することによって、電子注入層14を介して有機発光層15に注入された電子と、ホール輸送層17を介して有機発光層15に注入されたホールとが、有機発光層15内で結合して発光が生じるものである。そして、有機発光層15で発光した光は、透明電極である陽極16及び透明な基板11を通して外部に出光する。有機エレクトロルミネッセンス素子を構成するホール輸送層17、有機発光層15及び電子注入層14の各層は、数十nmの薄さで形成されており、このような薄い層厚となることにより機器の薄型化や小型化がなされている。   FIG. 3 shows an example of a conventional organic electroluminescence element. In this example, a transparent electrode to be an anode 16 is formed on a transparent substrate 11, and a hole transport layer 17, an organic light emitting layer 15, and an electron injection layer 14 are laminated in this order on the anode 16. The cathode 12 is formed. In this organic electroluminescence, by applying a voltage between the anode 16 and the cathode 12, electrons injected into the organic light emitting layer 15 through the electron injection layer 14 and the organic light emitting layer through the hole transport layer 17 are used. The holes injected into 15 are combined in the organic light emitting layer 15 to emit light. Then, the light emitted from the organic light emitting layer 15 is emitted to the outside through the anode 16 which is a transparent electrode and the transparent substrate 11. Each of the hole transport layer 17, the organic light emitting layer 15, and the electron injection layer 14 constituting the organic electroluminescence element is formed with a thickness of several tens of nanometers. Downsizing and downsizing.

このような有機エレクトロルミネッセンス素子は、水分に弱いことが知られている。すなわち、水分の存在する環境下においては、ダークスポットと呼ばれる非発光点が発生し、発光状態が悪化する。ダークスポットの発生は、水分の浸入により、陰極と陰極に接する層との間に剥離が生じるためであると考えられている。   Such an organic electroluminescence element is known to be vulnerable to moisture. That is, in an environment where moisture exists, a non-light emitting point called a dark spot is generated, and the light emitting state is deteriorated. The generation of dark spots is considered to be due to peeling between the cathode and the layer in contact with the cathode due to the ingress of moisture.

このダークスポットを抑制するために種々の方法が研究されている。その一つとして、水分の浸入を抑制する方法が提案されており、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子が形成された基板の上にガラス封止缶を貼付することにより水分の侵入を抑制する方法、さらにこのガラス封止缶の内部に乾燥剤を入れることにより侵入した水分を捕捉する方法、SiONなどの無機薄膜を有機エレクトロルミネッセンス素子の上に形成して水分の浸入を抑制する方法などが知られている。しかしながら、このような封止による方法によっても、長期に使用された場合、封止缶を微量の水分が通過するために、ダークスポットを確実に防ぐことはできない。   Various methods have been studied to suppress this dark spot. As one of them, a method for suppressing the intrusion of moisture has been proposed, for example, a method for suppressing the intrusion of moisture by sticking a glass sealing can on a substrate on which an organic electroluminescent element is formed, There are known methods for trapping moisture that has entered by placing a desiccant inside the glass sealing can, methods for suppressing the ingress of moisture by forming an inorganic thin film such as SiON on the organic electroluminescence element, and the like. Yes. However, even with such a method by sealing, when used for a long period of time, a minute amount of moisture passes through the sealing can, so that dark spots cannot be reliably prevented.

また、界面での剥離が生じにくい陽極を外層に配置し、陰極を基板側に形成したトップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス素子とすることにより、水分との接触を遠ざける方法も考えられる。例えば、特許文献1には、基板に陰極が形成されたリバースタイプと称されている有機エレクトロルミネッセンス素子が開示されている。しかしながら、電子注入性の物質を含む層を陰極に積層する際には、異物が混入したり、表面の凹凸によって層が十分に形成されない部分ができたりして陰極の界面でショートを招きやすく、有機ルミネッセンス素子の電気的な信頼性が低下しやすい。   Another possible method is to keep the contact with moisture away by arranging a top emission type organic electroluminescence element in which an anode that hardly peels off at the interface is arranged in the outer layer and the cathode is formed on the substrate side. For example, Patent Document 1 discloses an organic electroluminescence element called a reverse type in which a cathode is formed on a substrate. However, when laminating a layer containing an electron injecting substance on the cathode, foreign matter is mixed in, or a portion where the layer is not sufficiently formed due to surface irregularities is likely to cause a short circuit at the cathode interface, The electrical reliability of the organic luminescence element tends to be lowered.

また、陰極と陰極に隣接する層との間の剥離を抑制することにより、ダークスポットの発生を抑制する方法も考えられる。陰極に接する層は、電子注入性を高めるため、LiFやアルカリ金属などの電子注入性の物質で形成されることが多い。これらの電子注入性の物質は水分に弱く、形成された界面は陰極への密着性がよくないため、密着性の向上が必要となっている。特許文献2には、陰極に接する層として層厚の薄い電荷変換層を形成した有機エレクトロルミネッセンス素子が開示されている。この有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、前記のような電子注入性の高い物質が陰極に接する層に含まれていないので、陰極との密着性は向上するものと考えられる。しかしながら、陰極と電子注入性の層との間の距離は短く、この構成によっても、陰極の界面における層の剥離を十分には抑制できない。
特開2000−068073号公報 特開2005−166637号公報
Further, a method of suppressing the generation of dark spots by suppressing peeling between the cathode and a layer adjacent to the cathode can be considered. The layer in contact with the cathode is often formed of an electron injecting material such as LiF or alkali metal in order to improve the electron injecting property. Since these electron injecting substances are weak against moisture and the formed interface does not have good adhesion to the cathode, it is necessary to improve the adhesion. Patent Document 2 discloses an organic electroluminescence element in which a thin charge conversion layer is formed as a layer in contact with a cathode. According to this organic electroluminescence element, since the substance having a high electron injection property as described above is not contained in the layer in contact with the cathode, it is considered that the adhesion with the cathode is improved. However, the distance between the cathode and the electron injecting layer is short, and even with this configuration, peeling of the layer at the cathode interface cannot be sufficiently suppressed.
JP 2000-068073 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-166737

本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、水分の存在する環境下におかれた場合であってもダークスポットの発生を抑制すると共に耐ショート性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of the above points, and suppresses the generation of dark spots even when placed in an environment where moisture exists, and is an organic electroluminescent device excellent in short-circuit resistance, And the manufacturing method of an organic electroluminescent element is provided.

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、陽極6と基板1の表面に形成された陰極2との間に有機発光層5を備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、陰極2と有機発光層5との間に、電子受容物質及び当該電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物を含み塗布により前記陰極2に直接接触して形成される第1混合物層3と、電子供与物質及び当該電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物を含み蒸着により形成される第2混合物層4a、又は、仕事関数3.7eV以下の金属からなり蒸着により形成される電子注入層4bとが、真空蒸着又はスパッタリングによって形成された陰極2側からこの順で積層されて備えられていることを特徴とするものである。 The organic electroluminescence device according to the present invention is an organic electroluminescence device comprising an organic light emitting layer 5 between an anode 6 and a cathode 2 formed on the surface of a substrate 1, wherein the cathode 2 and the organic light emitting layer 5 are provided. A first mixture layer 3 that includes an electron accepting material and an organic material capable of donating electrons to the electron accepting material and is formed in direct contact with the cathode 2 by coating; and an electron donating material And a second mixture layer 4a formed by vapor deposition containing an organic substance capable of accepting electrons from the electron donor material, or an electron injection layer 4b formed by vapor deposition of a metal having a work function of 3.7 eV or less. Are stacked in this order from the cathode 2 side formed by vacuum deposition or sputtering .

上記有機エレクトロルミネッセンス素子では、第1混合物層3の厚みは5〜80nmであることが好ましい In the said organic electroluminescent element , it is preferable that the thickness of the 1st mixture layer 3 is 5-80 nm .

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、陽極6と基板1の表面に形成された陰極2との間に有機発光層5を備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、陰極2と、電子受容物質及び当該電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物を含む第1混合物層3と、電子供与物質及び当該電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物を含む第2混合物層4a、又は、仕事関数3.7eV以下の金属からなる電子注入層4bと、有機発光層5とを順次に積層して形成する工程を含み、前記陰極2は真空蒸着又はスパッタリングによって形成されるものであり、前記第1混合物層3は塗布によって前記陰極2に直接接触して形成されるものであり、前記第2混合物層4a又は前記電子注入層4bは蒸着によって形成されるものであることを特徴とするものである。 The method for producing an organic electroluminescent element according to the present invention is a method for producing an organic electroluminescent element comprising an organic light emitting layer 5 between an anode 6 and a cathode 2 formed on the surface of a substrate 1. 2, a first mixture layer 3 containing an electron accepting material and an organic material capable of donating electrons to the electron accepting material, and an organic material capable of accepting electrons from the electron donating material and the electron donating material Including a step of sequentially stacking and forming the second mixture layer 4a including the electron injection layer 4b made of a metal having a work function of 3.7 eV or less and the organic light emitting layer 5, and the cathode 2 is formed by vacuum evaporation or and those formed by sputtering, the first mixture layer 3 is intended to be formed in direct contact with the cathode 2 by a coating, said second mixture layer 4a or the electronic Sintering bed 4b is characterized in that it is intended to be formed by vapor deposition.

本発明係る有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、水分への耐性が低い界面である陰極と陰極に接する層との界面が外層側ではなく基板側に配置されていることにより、水分の浸入を抑制して陰極と陰極に接する層との密着強度を維持することができ、有機エレクトロルミネッセンス素子の耐環境性を向上させることができる。また、耐水性の高い第1混合物層が陰極との界面に形成されることにより、水分が浸入した場合でも陰極と陰極に接する層との界面で層が剥離せず、陰極と陰極に接する層との密着を維持してダークスポットの発生を防止すると共に耐ショート性を向上させることができる。 According to the organic electroluminescence device according to the present invention , since the interface between the cathode, which is an interface with low moisture resistance, and the layer in contact with the cathode is disposed on the substrate side, not on the outer layer side, moisture penetration is suppressed. Thus, the adhesion strength between the cathode and the layer in contact with the cathode can be maintained, and the environmental resistance of the organic electroluminescence element can be improved. In addition, the first mixture layer having high water resistance is formed at the interface between the cathode and the layer that does not peel off at the interface between the cathode and the layer in contact with the cathode even when moisture enters, and is in contact with the cathode and the cathode. It is possible to prevent the occurrence of dark spots and improve short-circuit resistance by maintaining close contact with each other.

また、第1混合物層が塗布によって形成されることにより、この第1混合物層が電極の凹凸を平坦化する層として機能するので、陰極表面の凹凸が起因となって生じる電気的接続の欠陥を抑制し、水分の侵入を低減してダークスポットとショートの発生をより防止し、電気的信頼性をさらに向上させることができる。 In addition , since the first mixture layer is formed by coating, the first mixture layer functions as a layer for flattening the unevenness of the electrode. It is possible to suppress, reduce the intrusion of moisture, prevent the occurrence of dark spots and shorts, and further improve the electrical reliability.

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法によれば、水分への耐性が低い界面である陰極と陰極に接する層との界面を基板側に形成することにより、水分の浸入を抑制して陰極と陰極に接する層との密着強度を確保するので、耐環境性の向上した有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。また、耐水性の高い第1混合物層を陰極との界面に形成することにより、水分が浸入した場合でも陰極と陰極に接する層とが剥離するのを抑制してダークスポットの発生を防止すると共に耐ショート性を向上させた有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。 According to the method for producing an organic electroluminescent element of the present invention , the cathode is formed by forming an interface between the cathode, which is an interface with low moisture resistance, and a layer in contact with the cathode on the substrate side. Since the adhesion strength between the electrode and the layer in contact with the cathode is ensured, an organic electroluminescence device with improved environmental resistance can be obtained. In addition, by forming the first mixture layer having high water resistance at the interface with the cathode, it is possible to prevent the occurrence of dark spots by suppressing the separation of the cathode and the layer in contact with the cathode even when moisture enters. An organic electroluminescence element with improved short-circuit resistance can be obtained.

図1には、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の一例が示されている。この例では、基板1上に陰極2が形成され、この陰極2と陽極6との間に、第1混合物層3と、第2混合物層4a又は電子注入層4bと、有機発光層5とが、陰極2側からこの順に積層されて備えられている。基板1は、透明な板状体として形成されている。陰極2は、光透過性の電極として形成されている。陽極6は、光反射性の電極として形成されている。したがって、この実施形態では有機発光層5における発光は、陰極2側から基板1を通して取り出される構成となっている。なお、この図1では省略しているが、陰極2と陽極6との間に、電子輸送層、ホール注入層及びホール輸送層を適宜形成することができる。   FIG. 1 shows an example of the organic electroluminescence element of the present invention. In this example, the cathode 2 is formed on the substrate 1, and the first mixture layer 3, the second mixture layer 4 a or the electron injection layer 4 b, and the organic light emitting layer 5 are interposed between the cathode 2 and the anode 6. The cathode 2 is laminated in this order from the cathode 2 side. The substrate 1 is formed as a transparent plate. The cathode 2 is formed as a light transmissive electrode. The anode 6 is formed as a light reflective electrode. Therefore, in this embodiment, light emitted from the organic light emitting layer 5 is extracted from the cathode 2 side through the substrate 1. Although omitted in FIG. 1, an electron transport layer, a hole injection layer, and a hole transport layer can be appropriately formed between the cathode 2 and the anode 6.

第1混合物層3は、陰極2と直接接触する層である。この第1混合物層3は、電子受容物質及び当該電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物を含んでいる。通常の有機エレクトロルミネッセンス素子では、陰極2に直接接触する層として電子注入性の層が形成されるが、そのような層に用いられる物質は水分に弱いため、陰極2との界面で層が剥離しやすい。しかしながら、本発明では、陰極2上には耐水性の高い第1混合物層3が隣接して積層されており、水分が侵入した場合でも陰極2の界面における層の剥離を抑制するので、有機エレクトロルミネッセンス素子におけるダークスポットの発生を防止することができる。   The first mixture layer 3 is a layer in direct contact with the cathode 2. The first mixture layer 3 includes an electron accepting material and an organic material that can donate electrons to the electron accepting material. In a normal organic electroluminescence device, an electron injecting layer is formed as a layer in direct contact with the cathode 2, but since the material used for such a layer is weak against moisture, the layer peels off at the interface with the cathode 2. It's easy to do. However, in the present invention, the first mixture layer 3 having high water resistance is laminated adjacently on the cathode 2, and even when moisture penetrates, peeling of the layer at the interface of the cathode 2 is suppressed. Generation of dark spots in the luminescence element can be prevented.

電子受容物質は、電子を供与することが可能な有機物から電子を引き抜く性質を有する物質である。電子受容物質としては、例えば、金属、金属酸化物、無機アクセプタ及び有機アクセプタなどが挙げられる。金属としては、仕事関数が5eV以上の金属が好ましく、具体的には、バナジウム、モリブデン、レニウム、タングステン、ニッケルなどが例示される。また、金属酸化物としては、バナジウム、モリブデン、レニウム、タングステン、ニッケル、亜鉛、スズ、ニオブなどの酸化物が例示される。無機アクセプタとしては、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化銅、臭素、ヨウ素などが例示される。有機アクセプタとしては、フッ素を含有する有機化合物やシアノ基を含有する有機化合物が好ましく、例えば、F4TCNQ(tetrafluorotetracyanoquinodimethane)、DDQ(2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone)、CF3TCNQ(trifluoromethyl-TCNQ)、2−TCNQ(7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane)、TBPAH(tris(4-bromophenyl)aminium hexachloroantimonate)などやこれらの誘導体が挙げられる。   An electron-accepting substance is a substance having a property of extracting electrons from an organic substance that can donate electrons. Examples of the electron accepting material include metals, metal oxides, inorganic acceptors, and organic acceptors. As the metal, a metal having a work function of 5 eV or more is preferable, and specific examples include vanadium, molybdenum, rhenium, tungsten, nickel, and the like. Examples of the metal oxide include oxides such as vanadium, molybdenum, rhenium, tungsten, nickel, zinc, tin, and niobium. Examples of inorganic acceptors include iron chloride, iron bromide, copper iodide, bromine, iodine and the like. The organic acceptor is preferably an organic compound containing fluorine or an organic compound containing a cyano group. For example, F4TCNQ (tetrafluorotetracyanoquinodimethane), DDQ (2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone), CF3TCNQ ( Examples thereof include trifluoromethyl-TCNQ), 2-TCNQ (7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane), TBPAH (tris (4-bromophenyl) aminium hexachloroantimonate), and the like.

電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物は、電子が引き抜かれやすい性質を有した有機物であり、第1混合物層3において電子受容物質に電子を供与するものである。電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物としては、電荷移動錯体系を形成するものとして知られている有機物を用いることができる。このようなものとして、ホール輸送性の有機物が例示され、通常ホール輸送層の材料として使用されている有機物を用いることができる。そのような有機物として具体的には、トリアリールアミン誘導体、ビフェニル誘導体、アントラセン誘導体、ナフタレン誘導体、アニリン誘導体、チオフェン誘導体などが例示される。また、これらの誘導体を骨格に有する高分子であるトリアリールアミンポリマー、ポリアニリン、ポリチオフェンなども例示される。さらに、導電性の高分子材料として知られているPEDOT:PSS(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)-poly(styrene sulfonate))なども例示される。これらの中でも、芳香族誘導体が好ましく、トリアリールアミン誘導体又はそのポリマーがより好ましい。トリアリールアミン誘導体としては、具体的には、α−NPD(4,4’−ビス[N−(ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル)、TPD(N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン)、DNTPD(N,N'-Bis-[4-(di-m-tolylamino)phenyl]-N,N'-diphenylbiphenyl-4,4-diamine)、2−TNATA(tris[2-naphthyl(phenyl)amino]triphenylamine)などが例示される。また、トリアリールアミンのポリマーとしては、TPDPES(tetraphenyldiamine-containing poly(arylene ether. sulfone)などが例示される。   The organic substance that can donate electrons to the electron accepting substance is an organic substance having a property that electrons are easily extracted, and the first mixture layer 3 donates electrons to the electron accepting substance. As an organic substance that can donate an electron to an electron accepting substance, an organic substance that is known to form a charge transfer complex system can be used. Examples of such materials include hole-transporting organic materials, and organic materials that are usually used as materials for hole-transporting layers can be used. Specific examples of such organic substances include triarylamine derivatives, biphenyl derivatives, anthracene derivatives, naphthalene derivatives, aniline derivatives, thiophene derivatives, and the like. Also exemplified are triarylamine polymers, polyaniline, polythiophene, and the like, which are polymers having these derivatives in the skeleton. Furthermore, PEDOT: PSS (Poly (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrene sulfonate)), which is known as a conductive polymer material, is also exemplified. Among these, aromatic derivatives are preferable, and triarylamine derivatives or polymers thereof are more preferable. Specific examples of the triarylamine derivative include α-NPD (4,4′-bis [N- (naphthyl) -N-phenyl-amino] biphenyl), TPD (N, N′-bis (3-methyl). Phenyl)-(1,1′-biphenyl) -4,4′-diamine), DNTPD (N, N′-Bis- [4- (di-m-tolylamino) phenyl] -N, N′-diphenylbiphenyl-4) , 4-diamine), 2-TNATA (tris [2-naphthyl (phenyl) amino] triphenylamine) and the like. Examples of the triarylamine polymer include TPDPES (tetraphenyldiamine-containing poly (arylene ether. Sulfone)).

電子受容物質と電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物との混合比率は、材料の種類に応じて適宜設定することが可能であるが、これらの合計量を100mol%とした場合に、電子受容物質が好ましくは0.1〜80mol%、更に好ましくは1〜50mol%の範囲で有機物に混合される。混合比をこの範囲にすることにより良好な電子注入性が確保でき、信頼性など素子の特性を向上させることができる。電子受容物質の混合比が0.1mol%よりも低いと混合の効果がなく十分な電子注入性が得られないおそれがあり、電子受容物質の混合比が80mol%よりも高いと素子の特性が低下するおそれがある。   The mixing ratio of the electron-accepting substance and the organic substance capable of donating electrons to the electron-accepting substance can be appropriately set according to the type of the material, but the total amount of these is 100 mol%. In this case, the electron accepting material is preferably mixed with the organic substance in the range of 0.1 to 80 mol%, more preferably 1 to 50 mol%. By setting the mixing ratio within this range, good electron injection properties can be secured, and device characteristics such as reliability can be improved. If the mixing ratio of the electron-accepting material is lower than 0.1 mol%, there is a possibility that the mixing effect is not obtained and sufficient electron injection property may not be obtained. May decrease.

第1混合物層3は、一般的に知られている方法によって積層形成され得るものである。そのような方法として、例えば、二種以上の材料による共蒸着、交互蒸着、混合物の蒸着、混合物の塗布などが挙げられる。これらの方法のうち、第1混合物層3は塗布によって形成されているのが好ましい。塗布によって形成されることにより、その積層表面が平滑にされ、電極上の異物や凹凸に起因して層の形成されない部分が生じるのを防ぎ、ショートを低減させてさらに電気的に信頼性のある有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。そのため、第1混合物層3に用いられる成分は、上記成分のうち塗布の容易なものが好ましく、そのような成分として、高分子の有機材料や平滑なアモルファスを形成する低分子の有機材料などが例示される。   The first mixture layer 3 can be laminated by a generally known method. Examples of such a method include co-evaporation using two or more materials, alternating deposition, vapor deposition of a mixture, and application of a mixture. Of these methods, the first mixture layer 3 is preferably formed by coating. By being formed by coating, the laminated surface is smoothed, and it is possible to prevent occurrence of a portion where no layer is formed due to foreign matters or unevenness on the electrode, and it is possible to reduce short circuit and to be electrically more reliable. An organic electroluminescence element can be obtained. Therefore, the component used for the first mixture layer 3 is preferably one that is easy to apply among the above components, such as a high molecular organic material or a low molecular organic material that forms a smooth amorphous material. Illustrated.

第1混合物層3の厚みは、適宜設定され得るものであるが、5〜80nmであるのが好ましい。第1混合物層3の厚みがこの範囲になることにより平坦で均一な層が得られるとともに、電極上の凹凸などに起因する欠陥を抑制し、さらに光透過率が低下することによる素子の特性の低下も防止することができる。第1混合物層3の厚みがこの範囲より小さいと欠陥を抑制する効果が十分に得られないおそれがあり、第1混合物層3の厚みがこの範囲より大きいと光透過率が低下して素子の特性が低下するおそれがある。   Although the thickness of the 1st mixture layer 3 can be set suitably, it is preferable that it is 5-80 nm. When the thickness of the first mixture layer 3 falls within this range, a flat and uniform layer can be obtained, defects caused by irregularities on the electrodes can be suppressed, and the light transmittance can be further reduced. A decrease can also be prevented. If the thickness of the first mixture layer 3 is smaller than this range, the effect of suppressing defects may not be sufficiently obtained. If the thickness of the first mixture layer 3 is larger than this range, the light transmittance is reduced and the element There is a risk that the characteristics will deteriorate.

第2混合物層4a又は電子注入層4bは、有機発光層5側に電子を注入するための層である。本発明においては、これらのいずれかの層が第1混合物層3と有機発光層5との間に形成されることにより、素子内で電流が流れるのを確保することができる。詳しくは、この第2混合物層4a又は電子注入層4bは、第1混合物層3との間で電荷の交換・分離を行っている。すなわち、第2混合物層4a又は電子注入層4b側に電子、第1混合物層3側にホールという、電荷の分離が行われる。そのため、ホール輸送性の有機物を含む第1混合物層3が陰極2に隣接して形成されていても素子の電子注入能力を確保することができ、電流の流れを妨げず良好な発光を得ることができる構成となっている。   The second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b is a layer for injecting electrons into the organic light emitting layer 5 side. In the present invention, any one of these layers is formed between the first mixture layer 3 and the organic light emitting layer 5 to ensure that a current flows in the element. Specifically, the second mixture layer 4 a or the electron injection layer 4 b exchanges / separates charges with the first mixture layer 3. That is, charges are separated such as electrons on the second mixture layer 4a or electron injection layer 4b side and holes on the first mixture layer 3 side. Therefore, even if the first mixture layer 3 containing a hole transporting organic substance is formed adjacent to the cathode 2, the electron injection capability of the device can be secured, and good light emission can be obtained without disturbing the flow of current. It has a configuration that can.

第2混合物層4aは、電子供与物質及び当該電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物を含む層である。この第2混合物層は、電荷移動錯体系として知られている電子注入に寄与する物質系により構成することができる。   The second mixture layer 4a is a layer containing an electron donating substance and an organic substance that can accept electrons from the electron donating substance. This second mixture layer can be composed of a material system that contributes to electron injection, known as a charge transfer complex system.

電子供与物質としては、有機物に電子を供与することが可能なエネルギー準位の物質を用いることができ、例えば、仕事関数が3.7eV以下の金属やその酸化物半導体、有機ドナーとして知られている有機材料などを用いることができる。具体的には、仕事関数が3.7eV以下の金属としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属などの金属が挙げられ、具体的には、セリウム、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、ルビジウム、サマリウム、イットリウムなどや、それらの酸化物などが例示される。また、有機ドナーとしてはルテニウム錯体が例示される。   As the electron donating substance, an energy level substance capable of donating an electron to an organic substance can be used. For example, a metal having a work function of 3.7 eV or less, its oxide semiconductor, and an organic donor are known. Organic materials that are used can be used. Specifically, examples of the metal having a work function of 3.7 eV or less include metals such as alkali metals, alkaline earth metals, rare earth metals, and specifically, cerium, lithium, sodium, magnesium, potassium, and the like. , Rubidium, samarium, yttrium, and oxides thereof. Moreover, a ruthenium complex is illustrated as an organic donor.

電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物としては、電子輸送性の有機物を用いることができる。そのような有機物として、例えば、Alq等の有機金属錯体や、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体等のヘテロ環を有する化合物などが挙げられる。 As an organic substance that can accept an electron from an electron-donating substance, an electron-transporting organic substance can be used. Examples of such organic substances include organometallic complexes such as Alq 3 and compounds having a heterocycle such as phenanthroline derivatives, pyridine derivatives, tetrazine derivatives, and oxadiazole derivatives.

電子注入層4bは、仕事関数3.7eV以下の金属からなる層である。仕事関数が3.7eV以下の金属としては、前記と同様のものが例示され、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属などの金属が挙げられ、具体的には、セリウム、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、ルビジウム、サマリウム、イットリウムなどや、それらの酸化物などが例示される。   The electron injection layer 4b is a layer made of a metal having a work function of 3.7 eV or less. Examples of the metal having a work function of 3.7 eV or less include the same metals as described above, and examples include metals such as alkali metals, alkaline earth metals, and rare earth metals. Specifically, cerium, lithium, and sodium , Magnesium, potassium, rubidium, samarium, yttrium, and oxides thereof.

第2混合物層4a又は電子注入層4bには、上記以外の有機化合物や無機化合物が含まれていてもよい。これらの層が、二種以上の材料によって形成されることにより、単独では安定性が悪い材料を安定にしたり、隣接する層との密着性を向上させたりすることが可能となる。このような化合物としては、Al、Cu、Ni、Ag、Au、Tiなどの金属、LiF、LiO、NaF、CsFなどの金属ハロゲン化物が例示される。 The second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b may contain an organic compound or an inorganic compound other than those described above. By forming these layers with two or more kinds of materials, it becomes possible to stabilize a material that is not stable by itself or to improve the adhesion with an adjacent layer. Examples of such compounds include metals such as Al, Cu, Ni, Ag, Au, and Ti, and metal halides such as LiF, Li 2 O, NaF, and CsF.

さらに、この第2混合物層4a又は電子注入層4bには、非導電性の有機化合物や絶縁性の無機化合物が含まれていてもよい。無機化合物としては、フッ化リチウムやフッ化マグネシウムなどの金属フッ化物、塩化ナトリウムや塩化マグネシウムなどの金属塩化物、その他金属ハロゲン化物などであって導電性を有さない化合物や、アルミニウム、コバルト、ジルコニウム、チタン、バナジウム、ニオブ、クロム、タンタル、タングステン、マンガン、モリブデン、ルテニウム、鉄、ニッケル、銅、ガリウム、亜鉛などの酸化物などであって導電性を有さない化合物や、これらの金属の窒化物、炭化物及び酸化窒化物などであって導電性を有さない化合物が例示される。具体的には、Al、MgO、酸化鉄、AlN、SiC、SiON、BNなどの絶縁物として用いられるものや、SiO、SiOなどの珪素化合物、炭素化合物などが例示される。 Further, the second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b may contain a nonconductive organic compound or an insulating inorganic compound. Examples of inorganic compounds include metal fluorides such as lithium fluoride and magnesium fluoride, metal chlorides such as sodium chloride and magnesium chloride, other metal halides that do not have conductivity, aluminum, cobalt, Zirconium, titanium, vanadium, niobium, chromium, tantalum, tungsten, manganese, molybdenum, ruthenium, iron, nickel, copper, gallium, zinc, etc. Examples thereof include nitrides, carbides, oxynitrides, and the like, which have no conductivity. Specific examples include those used as insulators such as Al 2 O 3 , MgO, iron oxide, AlN, SiC, SiON, and BN, silicon compounds such as SiO 2 and SiO, and carbon compounds.

第2混合物層4a又は電子注入層4bの厚みは、適宜設定され得るものであるが、第2混合物層4aの場合は1〜20nmであるのが好ましく、電子注入層4bの場合は0.1〜5nmであるのが好ましい。第2混合物層4a又は電子注入層4bの厚みがこの範囲になることにより電子注入能を確保することがより容易となる。第2混合物層4a又は電子注入層4bの厚みがこの範囲より小さいと電子注入性が低下するおそれがあり、第2混合物層4a又は電子注入層4bの厚みがこの範囲より大きいと熱安定性が低下するおそれがある。   The thickness of the second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b can be set as appropriate. In the case of the second mixture layer 4a, it is preferably 1 to 20 nm, and in the case of the electron injection layer 4b, it is 0.1. It is preferably ˜5 nm. When the thickness of the second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b is within this range, it becomes easier to ensure the electron injection ability. If the thickness of the second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b is smaller than this range, the electron injection property may be lowered, and if the thickness of the second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b is larger than this range, the thermal stability is improved. May decrease.

第2混合物層4a又は電子注入層4bは、蒸着や転写等乾式プロセスによって成膜することにより形成しても良いし、スピンコート、スプレーコート、ダイコート、グラビア印刷等及び湿式プロセスによって成膜することにより形成してもよい。   The second mixture layer 4a or the electron injection layer 4b may be formed by a dry process such as vapor deposition or transfer, or by a wet process such as spin coating, spray coating, die coating, gravure printing, or the like. May be formed.

有機発光層5は、電子とホールとが結合することにより発光が生じる層である。有機発光層5に使用できる発光材料としては、有機エレクトロルミネッセンス素子用の材料として知られる任意の材料が使用可能である。そのようなものとして、例えば、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム錯体、トリス(4−メチル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、トリス(5−フェニル−8−キノリナート)アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−(p−ターフェニル−4−イル)アミン、1−アリール−2,5−ジ(2−チエニル)ピロール誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチリルベンゼン、ジスチリルアリーレン、ジスチリルアミン、及び、これらの化合物の誘導体や各種蛍光色素等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物のうちから選択される発光材料を適宜混合して用いることも好ましい。また、前記化合物に代表される蛍光発光を生じる化合物のみならず、スピン多重項からの発光を示す材料系、例えば燐光発光を生じる燐光発光材料、及び、それらからなる部位を分子内の一部に有する化合物も好適に用いることができる。これらの発光材料に適宜の材料が加えられて有機発光層5が形成される。   The organic light emitting layer 5 is a layer that emits light by combining electrons and holes. As a light emitting material that can be used for the organic light emitting layer 5, any material known as a material for an organic electroluminescence element can be used. Such as, for example, anthracene, naphthalene, pyrene, tetracene, coronene, perylene, phthaloperylene, naphthaloperylene, diphenylbutadiene, tetraphenylbutadiene, coumarin, oxadiazole, bisbenzoxazoline, bisstyryl, cyclopentadiene, quinoline metal complex , Tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum complex, tris (4-methyl-8-quinolinato) aluminum complex, tris (5-phenyl-8-quinolinato) aluminum complex, aminoquinoline metal complex, benzoquinoline metal complex, tri -(P-terphenyl-4-yl) amine, 1-aryl-2,5-di (2-thienyl) pyrrole derivative, pyran, quinacridone, rubrene, distyrylbenzene, distyryl aryle , Distyrylamine, and, although derivatives and various fluorescent pigments, etc. of these compounds, but is not limited thereto. In addition, it is also preferable to use a mixture of light emitting materials selected from these compounds as appropriate. Further, not only a compound that generates fluorescence emission typified by the above-described compound, but also a material system that emits light from a spin multiplet, for example, a phosphorescent material that generates phosphorescence emission, and a site formed thereof are part of the molecule. The compound which has can also be used suitably. An appropriate material is added to these light emitting materials to form the organic light emitting layer 5.

有機発光層5は、蒸着や転写等乾式プロセスによって成膜することにより形成しても良いし、スピンコート、スプレーコート、ダイコート、グラビア印刷等及び湿式プロセスによって成膜することにより形成してもよい。   The organic light emitting layer 5 may be formed by forming a film by a dry process such as vapor deposition or transfer, or by forming a film by a wet process such as spin coating, spray coating, die coating, gravure printing, or the like. .

有機エレクトロルミネッセンス素子を構成するその他の部材である基板1、陰極2及び陽極6等には、従来から使用されているものを使用することができる。   Conventionally used materials can be used for the substrate 1, the cathode 2, the anode 6, and the like, which are other members constituting the organic electroluminescence element.

基板1は素子を保持する板状体であり、図1の実施の形態のように、有機発光層5における発光が陰極2側から取り出される場合、すなわち基板1を通して外部に出射される場合には、基板1は光透過性を有するものである。この場合、基板1は光が透過するものであればよく、無色透明の他に、多少着色されているものであっても、すりガラス状のものであってもよい。基板1を形成する材料としては、例えば、ソーダライムガラスや無アルカリガラスなどの透明ガラス板や、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、エポキシ等の樹脂、フッ素系樹脂等から任意の方法によって形成されたプラスチックフィルムやプラスチック板などの材料を用いることができる。さらに、基板1内に基板1の母剤とは屈折率の異なる粒子、粉体、泡等を含有させたり、あるいは基板1の表面形状を加工したりすることによって、有機エレクトロルミネッセンス素子に光拡散効果を付与することもできる。   The substrate 1 is a plate-like body that holds elements, and when light emitted from the organic light emitting layer 5 is taken out from the cathode 2 side, that is, when emitted to the outside through the substrate 1 as in the embodiment of FIG. The substrate 1 is light transmissive. In this case, the board | substrate 1 should just be what can permeate | transmit light, and in addition to colorless and transparent, it may be a little colored or a frosted glass thing. As a material for forming the substrate 1, for example, a transparent glass plate such as soda lime glass or non-alkali glass, a plastic film formed by an arbitrary method from a resin such as polyester, polyolefin, polyamide, epoxy, or a fluorine resin Or a material such as a plastic plate can be used. Furthermore, light diffusion to the organic electroluminescence element is achieved by adding particles, powder, bubbles, or the like having a refractive index different from that of the base material of the substrate 1 or processing the surface shape of the substrate 1 in the substrate 1. An effect can also be imparted.

また、図1とは別の実施の形態として基板1を通さずに光が射出される場合、すなわち陽極6側からでのみ光が取り出される場合には、基板1は必ずしも光透過性を有するものでなくてもよく、素子の発光特性、寿命特性等を損なわない限り、任意の材料により形成することができる。特に、通電時の素子の発熱による温度上昇を軽減するために、熱伝導性の高い材料により基板1を形成することもできる。   Further, when light is emitted without passing through the substrate 1 as an embodiment different from FIG. 1, that is, when light is extracted only from the anode 6 side, the substrate 1 is not necessarily transparent. As long as the light emission characteristics, life characteristics, and the like of the element are not impaired, they can be formed of any material. In particular, the substrate 1 can be formed of a material having high thermal conductivity in order to reduce a temperature rise due to heat generation of the element during energization.

陰極2は、素子中に電子を注入するための電極である。本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、この陰極2は基板1の表面に形成されている。それにより、水分に耐性の高い陽極6と陽極6に接する層との界面が基板1から遠い外層側に配置され、水分に耐性の低い界面である陰極2と陰極2に接する層との界面が基板側に配置されている構成となるので、水分の浸入が抑制されて陰極2と陰極2に接する層との密着強度が確保され、有機エレクトロルミネッセンス素子の耐環境性が向上する。   The cathode 2 is an electrode for injecting electrons into the device. In the organic electroluminescence device of the present invention, the cathode 2 is formed on the surface of the substrate 1. Thereby, the interface between the anode 6 having high moisture resistance and the layer in contact with the anode 6 is disposed on the outer layer side far from the substrate 1, and the interface between the cathode 2 and the layer in contact with the cathode 2, which is an interface with low moisture resistance, is provided. Since it becomes the structure arrange | positioned at the board | substrate side, infiltration of a water | moisture content is suppressed, the contact | adhesion intensity | strength of the layer which touches the cathode 2 and the cathode 2 is ensured, and the environmental resistance of an organic electroluminescent element improves.

陰極2に使用される材料は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、陽極6に使用される材料と同じものを用いることができる。陰極2と陽極6の材料を同じにすると、電極を同一の材料で形成することができ、素子を製造する際の作業性が向上される。また、一般に陰極2として好ましいとされている仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物からなる電極材料を用いることもでき、この場合、仕事関数が5eV以下のものを用いるのがさらに好ましい。陰極2の材料としては、図1の実施の形態のように陰極2側から光を取り出す場合には、透明電極を形成できる材料が好ましい。このような材料として、ITO(インジウム−スズ酸化物)、SnO、ZnO、IZO(インジウム−亜鉛酸化物)等を使用することができる。これらの材料を用いれば、同一の材料で陽極6を形成することができる。また、その他に陰極2に好ましい材料として、例えば、リチウムやナトリウムなどのアルカリ金属、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ金属の酸化物、アルカリ土類金属等、およびこれらと他の金属との合金等を使用することができる。陰極2の形成は、これらの電極材料を真空蒸着やスパッタリング等の方法を用いて基板1の上に薄膜として形成することにより行われる。 The material used for the cathode 2 can be the same as the material used for the anode 6 in the organic electroluminescence device of the present invention. When the materials of the cathode 2 and the anode 6 are the same, the electrodes can be formed of the same material, and the workability when manufacturing the device is improved. In addition, it is possible to use an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound and a mixture thereof having a small work function, which is generally considered preferable as the cathode 2, and in this case, a material having a work function of 5 eV or less is used. Is more preferable. As the material of the cathode 2, when light is extracted from the cathode 2 side as in the embodiment of FIG. 1, a material capable of forming a transparent electrode is preferable. As such a material, ITO (indium-tin oxide), SnO 2 , ZnO, IZO (indium-zinc oxide), or the like can be used. If these materials are used, the anode 6 can be formed of the same material. Other preferred materials for the cathode 2 include, for example, alkali metals such as lithium and sodium, halides of alkali metals, alkali metal oxides, alkaline earth metals, and alloys of these with other metals. Can be used. The cathode 2 is formed by forming these electrode materials as a thin film on the substrate 1 using a method such as vacuum deposition or sputtering.

陰極2側から光を取り出す場合、すなわち、図1の実施の形態のように陰極2を透明電極にして陰極2側から発光を取りだす場合や、陽極6と陰極2の両電極から光を取り出す場合には、陰極2の光透過率は70%以上であることが好ましい。この場合、材料によっても異なるが、陰極2の層厚は、陰極2の光透過率等の特性を制御するために、通常500nm以下、好ましくは100〜200nmの範囲とするのがよい。一方、有機発光層5における発光を陽極6側のみから取り出す場合には、陰極2は光反射性の層であるのが好ましく、陰極2の光透過率は10%以下であることが好ましい。陰極2のシート抵抗は、数百Ω/□以下であるのが好ましく、より好ましくは100Ω/□以下であり、さらに好ましくは20Ω/□以下である。   When light is extracted from the cathode 2 side, that is, when light is extracted from the cathode 2 side using the cathode 2 as a transparent electrode as in the embodiment of FIG. 1, or when light is extracted from both the anode 6 and the cathode 2 In addition, the light transmittance of the cathode 2 is preferably 70% or more. In this case, although it depends on the material, the layer thickness of the cathode 2 is usually 500 nm or less, preferably in the range of 100 to 200 nm, in order to control characteristics such as light transmittance of the cathode 2. On the other hand, when light emitted from the organic light emitting layer 5 is extracted only from the anode 6 side, the cathode 2 is preferably a light reflective layer, and the light transmittance of the cathode 2 is preferably 10% or less. The sheet resistance of the cathode 2 is preferably several hundred Ω / □ or less, more preferably 100 Ω / □ or less, and further preferably 20 Ω / □ or less.

陽極6は、素子中にホールを注入するための電極である。本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、この陽極6は素子の外層側に形成されている。このように、耐水性のある陽極6と陽極6に接する層との界面が外層側に配置されているので、有機エレクトロルミネッセンス素子の耐水性が向上する。図1の実施の形態では、陽極6は光反射性の電極として形成されている。   The anode 6 is an electrode for injecting holes into the element. In the organic electroluminescence device of the present invention, the anode 6 is formed on the outer layer side of the device. Thus, since the interface between the water-resistant anode 6 and the layer in contact with the anode 6 is arranged on the outer layer side, the water resistance of the organic electroluminescence element is improved. In the embodiment of FIG. 1, the anode 6 is formed as a light reflective electrode.

陽極6に使用される材料は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子においては、光反射性の電極を形成する材料の他、上記のとおり陰極2に使用される材料と同じものを用いることもできる。また、一般に陽極6として好ましいとされている仕事関数の大きい金属、合金、電気伝導性化合物、あるいはこれらの混合物からなる電極材料を用いることも好ましく、この場合、仕事関数が4eV以上のものを用いるのが好ましい。陽極6の材料としては、例えば、金、アルミ、銀、Niなどの金属、CuI、ITO(インジウム−スズ酸化物)、SnO、ZnO、IZO(インジウム−亜鉛酸化物)等、カーボンナノチューブなどの導電性材料を挙げることができる。陽極6の形成は、これらの電極材料を有機発光層5等が積層された内部層の上に真空蒸着やスパッタリングなどの方法を用いて薄膜として形成することにより行われる。 In the organic electroluminescent element of the present invention, the material used for the anode 6 may be the same as the material used for the cathode 2 as described above, in addition to the material forming the light-reflective electrode. In addition, it is also preferable to use an electrode material made of a metal, an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof having a large work function, which is generally preferred as the anode 6, and in this case, a material having a work function of 4 eV or more is used. Is preferred. Examples of the material of the anode 6 include metals such as gold, aluminum, silver, and Ni, CuI, ITO (indium-tin oxide), SnO 2 , ZnO, IZO (indium-zinc oxide), and carbon nanotubes. A conductive material can be mentioned. The anode 6 is formed by forming these electrode materials as a thin film on the inner layer on which the organic light emitting layer 5 or the like is laminated by using a method such as vacuum deposition or sputtering.

図1の実施の形態のように陽極6を光反射性の電極に形成して、陽極6側からは光を取り出さずに陰極2側からでのみ光を取り出す場合には、陽極6の光透過率は10%以下であることが好ましい。一方、図1とは別の実施の形態として、有機発光層5における発光を陽極6側から取り出す場合、すなわち光が陽極6を透過して外部に照射する場合には、陽極6の光透過率は70%以上であることが好ましい。   When the anode 6 is formed as a light-reflective electrode as in the embodiment of FIG. 1 and light is extracted only from the cathode 2 side without extracting light from the anode 6 side, the light transmission of the anode 6 is performed. The rate is preferably 10% or less. On the other hand, as an embodiment different from FIG. 1, when light emitted from the organic light emitting layer 5 is extracted from the anode 6 side, that is, when light passes through the anode 6 and is irradiated outside, the light transmittance of the anode 6 is obtained. Is preferably 70% or more.

陽極6のシート抵抗は、数百Ω/□以下であるのが好ましく、さらに好ましくは100Ω/□以下である。また、陽極6の層厚は、光透過率、シート抵抗等の特性に合わせて適宜設定され得るものであり、材料によっても異なるが、通常500nm以下、好ましくは10〜200nmの範囲とするのがよい。   The sheet resistance of the anode 6 is preferably several hundred Ω / □ or less, more preferably 100 Ω / □ or less. The layer thickness of the anode 6 can be appropriately set in accordance with the characteristics such as light transmittance and sheet resistance, and varies depending on the material, but is usually 500 nm or less, preferably 10 to 200 nm. Good.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子には、本発明の効果を損ねない限り、上記の層以外にも任意の層を形成することができる。例えば、図1の実施の形態では省略しているが、前述のとおり、ホールの注入性を高めるホール注入層、ホールの輸送性を高めるホール輸送層及び電子の輸送性を高める電子輸送層を形成することができる。   In the organic electroluminescent element of the present invention, any layer other than the above layers can be formed as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, although omitted in the embodiment of FIG. 1, as described above, a hole injection layer that improves hole injection properties, a hole transport layer that improves hole transport properties, and an electron transport layer that improves electron transport properties are formed. can do.

ホール輸送層に用いられる材料としては、一般に知られている任意のホール輸送性を有する化合物を用いることが可能である。そのような化合物としては、例えば、4,4’−ビス[N−(ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル(α−NPD)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(TPD)、2−TNATA、4,4’,4”−トリス(N−(3−メチルフェニル)N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン(MTDATA)、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニル(CBP)、スピロ−NPD、スピロ−TPD、スピロ−TAD、TNBなどを代表例とする、アリールアミン系化合物、カルバゾール基を含むアミン化合物、フルオレン誘導体を含むアミン化合物などを挙げることができる。   As a material used for the hole transport layer, any generally known compound having a hole transport property can be used. Examples of such a compound include 4,4′-bis [N- (naphthyl) -N-phenyl-amino] biphenyl (α-NPD), N, N′-bis (3-methylphenyl)-(1 , 1′-biphenyl) -4,4′-diamine (TPD), 2-TNATA, 4,4 ′, 4 ″ -tris (N- (3-methylphenyl) N-phenylamino) triphenylamine (MTDATA) 4,4′-N, N′-dicarbazole biphenyl (CBP), spiro-NPD, spiro-TPD, spiro-TAD, TNB and the like, arylamine compounds, amine compounds containing carbazole groups, An amine compound containing a fluorene derivative can be exemplified.

ホール注入層に用いられる材料としては、一般に知られている任意のホール注入性を有する化合物を用いることが可能である。そのような化合物としては、例えば、フタロシアニン化合物、ポルフィリン化合物、スターバーストアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、チオフェン誘導体などの低分子などを挙げることができる。   As a material used for the hole injection layer, any generally known compound having a hole injection property can be used. Examples of such compounds include small molecules such as phthalocyanine compounds, porphyrin compounds, starburst amine derivatives, triarylamine derivatives, and thiophene derivatives.

電子輸送層に用いられる材料としては、一般に知られている任意の電子輸送性を有する材料を用いることが可能である。そのような化合物としては、例えば、Alq等の電子輸送性材料として知られる金属錯体や、フェナントロリン誘導体、ピリジン誘導体、テトラジン誘導体、オキサジアゾール誘導体等のヘテロ環を有する化合物などが挙げることができる。 As a material used for the electron transport layer, any generally known material having an electron transport property can be used. Examples of such compounds include metal complexes known as electron transport materials such as Alq 3 and compounds having a heterocycle such as phenanthroline derivatives, pyridine derivatives, tetrazine derivatives, oxadiazole derivatives, and the like. .

また、有機発光層5へのホール注入をさらに促進したり、陽極6が成膜される際に有機発光層5がダメージを受けるのを抑制したりするために、陽極6と有機発光層5との間に、前述の第1混合物層3と同種の材料からなる層を形成したり、モリブデン、レニウム、ルテニウム、イリジウム、タングステン、バナジウムなどの金属の酸化物からなる金属酸化物層を形成したりすることもできる。このような層が導入されることにより、陽極6と有機発光層5との界面がより安定化されて剥離が生じにくくなり、電気的に信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。   Further, in order to further promote hole injection into the organic light emitting layer 5 or to prevent the organic light emitting layer 5 from being damaged when the anode 6 is formed, the anode 6 and the organic light emitting layer 5 In the meantime, a layer made of the same material as the first mixture layer 3 is formed, or a metal oxide layer made of a metal oxide such as molybdenum, rhenium, ruthenium, iridium, tungsten, vanadium is formed. You can also By introducing such a layer, the interface between the anode 6 and the organic light-emitting layer 5 is further stabilized and peeling is less likely to occur, and an organic electroluminescent element with high electrical reliability can be obtained.

上記のような層によって構成される本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板1の表面に形成された陰極2の上に、電子受容物質及び当該電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物を含む第1混合物層3と、電子供与物質及び当該電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物を含む第2混合物層4a、又は、仕事関数3.7eV以下の金属からなる電子注入層4bと、有機発光層5とを順次に積層して形成し、さらにその間又は後に適宜の層を形成した後、最後に陽極6を積層することにより製造されるものである。   The organic electroluminescence device of the present invention constituted by the above layers can donate electrons to the electron accepting material and the electron accepting material on the cathode 2 formed on the surface of the substrate 1. A first mixture layer 3 containing an organic material and an electron donor material and a second mixture layer 4a containing an organic material capable of accepting electrons from the electron donor material, or an electron comprising a metal having a work function of 3.7 eV or less The injection layer 4b and the organic light emitting layer 5 are formed by sequentially laminating, and an appropriate layer is formed between or after that, and then the anode 6 is finally laminated.

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
[実施例1]
実施例として図2に示されている形状の有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。図2(a)には平面図が、図2(b)にはA−A’断面図が示されている。
Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples.
[Example 1]
As an example, an organic electroluminescence element having the shape shown in FIG. 2 was produced. FIG. 2A shows a plan view, and FIG. 2B shows a cross-sectional view along AA ′.

まず、基板1として、0.7mm厚のガラス製の基板1を用意した。この基板1には、陰極2が、厚み110nm、幅5mm、シート抵抗約12Ω/□のITO膜として形成されており、その形成のパターンは図2に示されているとおりである。この基板1に対して、洗剤、イオン交換水、アセトンで各10分間超音波洗浄を行った後、IPA(イソプロピルアルコール)で蒸気洗浄を行い、その後、基板1を乾燥して、さらにこの基板1にUV/O3処理を施した。 First, a 0.7 mm thick glass substrate 1 was prepared as the substrate 1. A cathode 2 is formed on the substrate 1 as an ITO film having a thickness of 110 nm, a width of 5 mm, and a sheet resistance of about 12 Ω / □, and the pattern of the formation is as shown in FIG. The substrate 1 was subjected to ultrasonic cleaning with detergent, ion-exchanged water, and acetone for 10 minutes each, then subjected to vapor cleaning with IPA (isopropyl alcohol), and then the substrate 1 was dried. Was subjected to UV / O 3 treatment.

次に、TPDPES(95重量%)とTBPAH(5重量%)との混合物が2重量%で溶解されたクロロホルム溶液をスピンコートで陰極2上に塗布することにより、陰極2の上に塗布膜を形成した。この塗布膜を40℃のホットプレートで30秒間乾燥した後、クロロホルムを含ませた綿棒で外周を除去し、有機発光層5の積層されるサイズよりも各辺が約3mm大きくなるように塗布膜を残すことにより、第1混合物層3を層厚15nmで形成した。   Next, a coating solution is formed on the cathode 2 by applying a chloroform solution in which a mixture of TPDPES (95 wt%) and TBPAH (5 wt%) is dissolved at 2 wt% onto the cathode 2 by spin coating. Formed. After drying this coating film on a hot plate at 40 ° C. for 30 seconds, the outer periphery is removed with a cotton swab containing chloroform, and the coating film is about 3 mm larger on each side than the size of the organic light emitting layer 5 to be laminated. As a result, the first mixture layer 3 was formed with a layer thickness of 15 nm.

次に、第1混合物層3が形成された基板1を真空蒸着装置に入れ、1×10−4Pa以下の減圧雰囲気下でAlqにLiが20mol%混合された混合物を蒸着させてAlqとLiからなる第2混合物層4aを層厚5nmで形成した。続いて、Alqを第2混合物層4aの上に蒸着させて電子輸送層を層厚30nmで形成した。さらに、Alqとルブレンとを共蒸着することにより、Alqとルブレン7重量%とからなる有機発光層5を層厚20nmで形成した。 Next, the substrate 1 on which the first mixture layer 3 is formed is placed in a vacuum deposition apparatus, and a mixture of 20 mol% of Li in Alq 3 is deposited in a vacuum atmosphere of 1 × 10 −4 Pa or less to deposit Alq 3. And a second mixture layer 4a made of Li and having a layer thickness of 5 nm. Subsequently, Alq 3 was deposited on the second mixture layer 4a to form an electron transport layer with a layer thickness of 30 nm. Further, by co-evaporation of Alq 3 and rubrene, to form an organic light-emitting layer 5 consisting of Alq 3 and rubrene 7 wt% at a layer thickness of 20 nm.

次いで、この有機発光層5の上に、4,4’−ビス[N−(ナフチル)−N−フェニル−アミノ]ビフェニル(α−NPD)を蒸着してホール輸送層を層厚40nmで形成した。さらに、α−NPDと酸化モリブデン(MoO)を共蒸着(モル比1:1)してホール注入層を層厚30nmで形成した。 Next, 4,4′-bis [N- (naphthyl) -N-phenyl-amino] biphenyl (α-NPD) was deposited on the organic light emitting layer 5 to form a hole transport layer with a layer thickness of 40 nm. . Furthermore, α-NPD and molybdenum oxide (MoO 3 ) were co-evaporated (molar ratio 1: 1) to form a hole injection layer with a layer thickness of 30 nm.

そして、アルミニウムを蒸着速度0.4nm/sにて蒸着し、幅5mm、層厚100nmの陽極6を形成した。陽極6の形成パターンは図2に示されているとおりである。このようにして実施例1の有機エレクトロルミネッセンス素子が得られた。なお、図2では、電子輸送層、ホール輸送層及びホール注入層が省略されている。   Then, aluminum was vapor-deposited at a vapor deposition rate of 0.4 nm / s to form an anode 6 having a width of 5 mm and a layer thickness of 100 nm. The formation pattern of the anode 6 is as shown in FIG. Thus, the organic electroluminescent element of Example 1 was obtained. In FIG. 2, the electron transport layer, the hole transport layer, and the hole injection layer are omitted.

[実施例2]
DNTPD(98mol%)とF4TCNQ(2mol%)との混合物が濃度2重量%で溶解されたクロロホルム溶液をスピンコートで塗布することにより第1混合物層3を形成した。その他は実施例1と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Example 2]
A first mixture layer 3 was formed by applying a chloroform solution in which a mixture of DNTPD (98 mol%) and F4TCNQ (2 mol%) was dissolved at a concentration of 2 wt% by spin coating. The other materials and methods were the same as in Example 1 to obtain an organic electroluminescence element.

[実施例3]
第1混合物層3の層厚を20nmとした。また、第2混合物層4aと置き換えて電子注入層4bをLiで形成し、層厚を1nmとした。その他は実施例1と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Example 3]
The layer thickness of the first mixture layer 3 was 20 nm. Further, the electron injection layer 4b was formed of Li in place of the second mixture layer 4a, and the layer thickness was 1 nm. The other materials and methods were the same as in Example 1 to obtain an organic electroluminescence element.

[実施例4]
NPDと酸化モリブデン(MoO)との共蒸着(モル比1:1)により、層厚15nmとなるように第1混合物層3を形成した。その他は実施例1と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Example 4]
The first mixture layer 3 was formed by co-evaporation (molar ratio 1: 1) of NPD and molybdenum oxide (MoO 3 ) so as to have a layer thickness of 15 nm. The other materials and methods were the same as in Example 1 to obtain an organic electroluminescence element.

[実施例5]
陰極2として、スパッタにより層厚100nmのアルミニウム層を形成した。また、IZOをスパッタすることにより陽極6を層厚100nmで形成した。なお、有機エレクトロルミネッセンスのパターン形成は実施例1と同じである。その他は実施例1と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Example 5]
As the cathode 2, an aluminum layer having a layer thickness of 100 nm was formed by sputtering. Moreover, the anode 6 was formed with a layer thickness of 100 nm by sputtering IZO. The pattern formation of organic electroluminescence is the same as that in Example 1. The other materials and methods were the same as in Example 1 to obtain an organic electroluminescence element.

[実施例6]
DNTPD(98mol%)とF4TCNQ(2mol%)との混合物を共蒸着することにより第1混合物層3を形成した。その他は実施例1と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Example 6]
A first mixture layer 3 was formed by co-evaporation of a mixture of DNTPD (98 mol%) and F4TCNQ (2 mol%). The other materials and methods were the same as in Example 1 to obtain an organic electroluminescence element.

[比較例1]
比較例1として基板1上に陽極6が形成されている、実施例1とは逆順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
[Comparative Example 1]
As Comparative Example 1, an organic electroluminescence element having an anode 6 formed on a substrate 1 and laminated in the reverse order of Example 1 was produced.

まず、基板1として、0.7mm厚のガラス製の基板1を用意した。この基板1には、陽極6が、厚み110nm、幅5mm、シート抵抗約12Ω/□のITO膜として形成されている。この陽極6の上にα−NPDと酸化モリブデン(MoO)を共蒸着(モル比1:1)してホール注入層を層厚30nmで形成した。次いで、α−NPDを蒸着して蒸着してホール輸送層を層厚40nmで形成した。さらに、Alqとルブレンとを共蒸着することにより、Alqとルブレン7重量%とからなる有機発光層5を層厚20nmで形成した。 First, a 0.7 mm thick glass substrate 1 was prepared as the substrate 1. An anode 6 is formed on the substrate 1 as an ITO film having a thickness of 110 nm, a width of 5 mm, and a sheet resistance of about 12Ω / □. On the anode 6, α-NPD and molybdenum oxide (MoO 3 ) were co-evaporated (molar ratio 1: 1) to form a hole injection layer with a layer thickness of 30 nm. Next, α-NPD was deposited and deposited to form a hole transport layer with a layer thickness of 40 nm. Further, by co-evaporation of Alq 3 and rubrene, to form an organic light-emitting layer 5 consisting of Alq 3 and rubrene 7 wt% at a layer thickness of 20 nm.

次に、Alqを有機発光層5の上に蒸着させて電子輸送層を層厚50nmで形成した。続いて、Liを蒸着させて電子注入層4bを層厚0.5nmで形成した。最後に、アルミニウムを蒸着速度0.4nm/sにて蒸着し、幅5mm、層厚100nmの陰極2を形成した。 Next, Alq 3 was deposited on the organic light emitting layer 5 to form an electron transport layer with a layer thickness of 50 nm. Subsequently, Li was vapor-deposited to form the electron injection layer 4b with a layer thickness of 0.5 nm. Finally, aluminum was deposited at a deposition rate of 0.4 nm / s to form a cathode 2 having a width of 5 mm and a layer thickness of 100 nm.

このようにして、図2と同じパターン形状を有し、陽極6が基板1に形成された有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。   In this way, an organic electroluminescence element having the same pattern shape as in FIG. 2 and having the anode 6 formed on the substrate 1 was obtained.

[比較例2]
第2混合物層4a及び電子注入層4bのいずれの層も形成しなかった。その他は実施例1と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Comparative Example 2]
Neither the second mixture layer 4a nor the electron injection layer 4b was formed. The other materials and methods were the same as in Example 1 to obtain an organic electroluminescence element.

[比較例3]
第1混合物層3を形成しなかった。また、第2混合物層4aの層厚を20nmとした。その他は実施例1と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Comparative Example 3]
The first mixture layer 3 was not formed. The layer thickness of the second mixture layer 4a was 20 nm. The other materials and methods were the same as in Example 1 to obtain an organic electroluminescence element.

[比較例4]
第1混合物層3を形成しなかった。また、陰極2としてスパッタにより層厚100nmのアルミニウム層を形成した。その他は実施例5と同様の材料及び方法で、有機エレクトロルミネッセンス素子を得た。
[Comparative Example 4]
The first mixture layer 3 was not formed. Further, an aluminum layer having a thickness of 100 nm was formed as the cathode 2 by sputtering. The other materials and methods were the same as in Example 5 to obtain an organic electroluminescence element.

[評価]
実施例及び比較例の各有機エレクトロルミネッセンス素子に10mA/cmの電流を通電して、電圧及び輝度を測定した。また、封止を行わない状態で有機エレクトロルミネッセンス素子を温度23℃、湿度50%の大気雰囲気下に12時間放置し、再度点灯した際の発光面の状態(ダークスポットの有無及び発光面積)を観察した。また、各有機エレクトロルミネッセンス素子のサンプル5つについて、N雰囲気下で30mA/cmの電流を通電して点灯させ、200時間後にショートせずに光っているサンプルの数を検査した。
[Evaluation]
A current of 10 mA / cm 2 was passed through each of the organic electroluminescence elements of Examples and Comparative Examples, and voltage and luminance were measured. In addition, the state of the light emitting surface (the presence or absence of dark spots and the light emitting area) when the organic electroluminescence element was left in an air atmosphere at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% for 12 hours without being sealed, and turned on again. Observed. Further, the one sample 5 of each of the organic electroluminescent device, is lit by energizing a current of 30 mA / cm 2 under N 2, was examined the number of samples glowing without short after 200 hours.

Figure 0005319977
Figure 0005319977

表1には、実施例1〜6の有機エレクトロルミネッセンス素子が良好な駆動電圧にて十分な輝度の発光をすることが示されており、大気雰囲気下に放置された後にも、ダークスポットの発生や発光面積の減少がなく、発光面の状態が悪化しにくいことが示された。また、200時間の通電後もショートの発生が低減されており、電気的信頼性が高いことが示された。さらに、第1混合物層3が共蒸着で形成された実施例6よりも塗布で形成された実施例2の方が、ショートの発生が低減されていることが示された。   Table 1 shows that the organic electroluminescence elements of Examples 1 to 6 emit light with sufficient luminance at a good driving voltage, and dark spots are generated even after being left in an air atmosphere. It was shown that there was no decrease in the light emitting area, and the state of the light emitting surface was hardly deteriorated. In addition, the occurrence of short circuit was reduced after 200 hours of energization, indicating that the electrical reliability was high. Furthermore, it was shown that the occurrence of short circuit is reduced in Example 2 in which the first mixture layer 3 is formed by coating rather than Example 6 in which the first mixture layer 3 is formed by co-evaporation.

一方、比較例1、3、4の有機エレクトロルミネッセンス素子では、駆動電圧と輝度は実施例と同等であるものの、大気雰囲気下に放置された後に、ダークスポットが発生して発光面積が減少しており、発光面の状態が悪化することが示された。また、200時間の通電後には多数のショートが観測された。また、比較例2の有機エレクトロルミネッセンスでは、電圧を10Vに上げても電流が流れず発光が観測されなかった。   On the other hand, in the organic electroluminescence elements of Comparative Examples 1, 3, and 4, although the driving voltage and the luminance are the same as those of the example, after being left in the atmosphere, a dark spot is generated and the light emitting area is reduced. It was shown that the state of the light emitting surface deteriorated. Many shorts were observed after 200 hours of energization. Further, in the organic electroluminescence of Comparative Example 2, no current flowed and no light emission was observed even when the voltage was increased to 10V.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of a structure of the organic electroluminescent element of this invention. 実施例1の有機エレクトロルミネッセンス素子のパターンの一例を示し、(a)は平面図であり、(b)はA−A’断面図である。An example of the pattern of the organic electroluminescent element of Example 1 is shown, (a) is a top view, (b) is A-A 'sectional drawing. 従来の有機エレクトロルミネッセンス素子の構成の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of a structure of the conventional organic electroluminescent element.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 陰極
3 第1混合物層
4a 第2混合物層
4b 電子注入層
5 有機発光層
6 陽極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Cathode 3 1st mixture layer 4a 2nd mixture layer 4b Electron injection layer 5 Organic light emitting layer 6 Anode

Claims (3)

陽極と基板の表面に形成された陰極との間に有機発光層を備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、陰極と有機発光層との間に、電子受容物質及び当該電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物を含み塗布により前記陰極に直接接触して形成される第1混合物層と、電子供与物質及び当該電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物を含み蒸着により形成される第2混合物層、又は、仕事関数3.7eV以下の金属からなり蒸着により形成される電子注入層とが、真空蒸着又はスパッタリングによって形成された陰極側からこの順で積層されて備えられていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescent device comprising an organic light emitting layer between an anode and a cathode formed on the surface of a substrate, wherein the electron accepting material and the electron accepting material are disposed between the cathode and the organic light emitting layer. A first mixture layer formed by direct contact with the cathode containing an organic material capable of donating electrons, and an electron donor material and an organic material capable of accepting electrons from the electron donor material Or an electron injection layer formed by vapor deposition made of a metal having a work function of 3.7 eV or less and stacked in this order from the cathode side formed by vacuum vapor deposition or sputtering. An organic electroluminescence device characterized by being made. 第1混合物層の厚みは5〜80nmであることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。   The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the thickness of the first mixture layer is 5 to 80 nm. 陽極と基板の表面に形成された陰極との間に有機発光層を備えてなる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、陰極と、電子受容物質及び当該電子受容物質に対して電子を供与することが可能な有機物を含む第1混合物層と、電子供与物質及び当該電子供与物質から電子を受容することが可能な有機物を含む第2混合物層、又は、仕事関数3.7eV以下の金属からなる電子注入層と、有機発光層とを順次に積層して形成する工程を含み、前記陰極は真空蒸着又はスパッタリングによって形成されるものであり、前記第1混合物層は塗布によって前記陰極に直接接触して形成されるものであり、前記第2混合物層又は前記電子注入層は蒸着によって形成されるものであることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 A method for manufacturing an organic electroluminescent device comprising an organic light emitting layer between an anode and a cathode formed on a surface of a substrate, the method comprising donating electrons to the cathode, the electron accepting material, and the electron accepting material A first mixture layer containing an organic substance capable of being absorbed, and a second mixture layer containing an electron donor substance and an organic substance capable of accepting electrons from the electron donor substance, or a metal having a work function of 3.7 eV or less Including a step of sequentially laminating an electron injection layer and an organic light emitting layer, wherein the cathode is formed by vacuum deposition or sputtering, and the first mixture layer is in direct contact with the cathode by coating. An organic electroluminescent element characterized in that the second mixture layer or the electron injection layer is formed by vapor deposition. Production method.
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