JP5302781B2 - 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを格納した記憶媒体 - Google Patents
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Description
3 基板搬入出部 4 基板搬送部
5 基板液処理部 6 基板受渡ユニット
7 搬送ユニット 8〜15 基板洗浄ユニット
17 キャリア 18 チャンバー
19 基板回転手段 20 表面洗浄手段
21 周縁洗浄手段 22 洗浄液供給手段
23 駆動モータ 24 回転軸
25 基板保持体 26 移動機構
27 洗浄ノズル 28 移動機構
29 回転軸 30 小径スポンジ
31 大径スポンジ 32 洗浄体
33 支持体 34 供給ノズル
35 支持体 36 供給ノズル
37,38 洗浄部材
Claims (11)
- 基板を回転させるための基板回転手段と、回転する洗浄体で基板の周縁部を洗浄するための周縁洗浄手段と、基板に洗浄液を供給するための洗浄液供給手段とを備え、
基板回転手段による基板の回転方向と周縁洗浄手段による洗浄体の回転方向とを反対方向として基板と洗浄体とが接触する洗浄部分での基板と洗浄体の進行方向を同一方向とするとともに、基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)を1:1〜3.5:1の範囲となるように制御して洗浄体によって基板の周縁部を洗浄液で洗浄することを特徴とする基板液処理装置。 - 前記基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)を1.5:1〜3:1の範囲としたことを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。
- 前記基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)を2:1としたことを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。
- 前記洗浄体を円周方向に2分割した領域に異なる種類の洗浄部材を形成したことを特徴とする請求項3に記載の基板液処理装置。
- 前記洗浄体は、円周方向に2分割した領域にブラシ状の洗浄部材とスポンジ状の洗浄部材とを形成したことを特徴とする請求項4に記載の基板液処理装置。
- 基板を回転させるための基板回転手段と、回転する洗浄体で基板の周縁部を洗浄するための周縁洗浄手段と、基板に洗浄液を供給するための洗浄液供給手段とを用いて、回転する基板の周縁部に回転する洗浄体を接触させて洗浄液で洗浄する基板液処理方法において、
基板回転手段による基板の回転方向と周縁洗浄手段による洗浄体の回転方向とを反対方向として基板と洗浄体とが接触する洗浄部分での基板と洗浄体の進行方向が同一方向となるようにし、かつ、基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)が1:1〜3.5:1の範囲となるように制御して、基板と洗浄体とを回転させて洗浄体で基板の周縁部を洗浄することを特徴とする基板液処理方法。 - 前記基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)を1.5:1〜3:1の範囲とすることを特徴とする請求項6に記載の基板液処理方法。
- 前記基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)を2:1とすることを特徴とする請求項6に記載の基板液処理方法。
- 基板を回転させるための基板回転手段と、回転する洗浄体で基板の周縁部を洗浄するための周縁洗浄手段と、基板に洗浄液を供給するための洗浄液供給手段とを有する基板液処理装置を用いて、回転する基板の周縁部に回転する洗浄体を接触させて洗浄液で洗浄するための基板液処理プログラムを格納した記憶媒体において、
基板回転手段による基板の回転方向と周縁洗浄手段による洗浄体の回転方向とを反対方向として基板と洗浄体とが接触する洗浄部分での基板と洗浄体の進行方向が同一方向となるようにし、かつ、基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)が1:1〜3.5:1の範囲となるように制御して、基板と洗浄体とを回転させて洗浄体で基板の周縁部を洗浄することを特徴とする基板液処理プログラムを格納した記憶媒体。 - 前記基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)を1.5:1〜3:1の範囲とすることを特徴とする請求項9に記載の基板液処理プログラムを格納した記憶媒体。
- 前記基板回転手段による基板の回転速度と周縁洗浄手段による洗浄体の回転速度との回転速度比(基板:洗浄体)を2:1とすることを特徴とする請求項9に記載の基板液処理プログラムを格納した記憶媒体。
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