JP5294833B2 - 光学補償フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
nz、フィルムの厚さをdとしたとき、三軸の主屈折率の関係がnz<ny=nx(負の
一軸性)を満足し、式{(nx+ny)/2−nz}×dで表されるレターデーションが
、20nmから400nm(好ましくは30〜150nm)であることが好ましい。
輝点に関して、400個/10m以下となるまでの到達時間を測定し、到達時間に基づいて0分以上2分未満を○と、2分以上5分未満を△と、5分以上10分未満を×と評価した。400個/10mを基準にしたのは、かかる基準が光学補償フィルムの品質レベルの目安となるからである。寿命に関して、200分以上を○と、200分未満を×と評価した。布寿命は、検出輝点頻度のレベルにより判断する。
実施例1〜4について、輝点及び寿命に関し全て○以上の評価を得た。一方、実施例1及び3について、寿命の評価は○であってが、輝点の評価は×であった。また、実施例2について、輝点の評価は○であってが、寿命の評価は×であった。
Claims (7)
- 光学補償フィルムの製造方法であって、
(a)基材上に配向膜形成材料層を塗布する工程と、
(b)前記配向膜形成材料層が塗布された基材を用いて、ラビング布を貼り付けたラビングローラを、ラビング処理開始時から第1の所定時間は第1の周速度とし、次いで第2の所定時間は前記第1の周速度より小さい第2の周速度とし、第3の所定時間は前記第2の周速度を徐々に下げて第3の周速度とし、次いで前記第3の周速度でラビング処理し、配向膜を形成する工程と、
(c)前記配向膜上に液晶化合物を含む塗布液を塗布する工程と、
(d)前記塗布液から液晶化合物層を形成する工程と、
を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。 - 前記第1の周速度と前記第3の周速度との差が75m/min以上660m/min以下であり、前記第2の周速度と前記第3の周速度との差が0より大きく565m/min以下である請求項1記載の光学補償フィルムの製造方法。
- 前記第1の周速度が450m/min以上1000m/min以下であり、前記第2の周速度が300m/min以上600m/min以下であり、前記第3の周速度が200m/min以上500m/min以下である請求項1又は2記載の光学補償フィルムの製造方法。
- 前記ラビング処理が、単位面積当たり300〜1500Nm/m2のラビング仕事量の範囲内に制御される請求項1〜3の何れか1記載の光学補償フィルムの製造方法。
- 前記ラビング仕事量が、ラビング処理後の液晶化合物層の消光度に基づいて制御される請求項4記載の光学補償フィルムの製造方法。
- 前記基材が帯状可撓性の支持体である請求項1〜5の何れか1記載の光学補償フィルムの製造方法。
- 前記液晶化合物層を形成する工程が、乾燥処理、加熱処理及び紫外線照射処理を含む請求項1〜6何れか1記載の光学補償フィルムの製造方法。
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