JP5251330B2 - X線分析装置 - Google Patents
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Description
a)前記領域制限部としての、大きさの相違する複数の絞り孔が設けられた遮蔽板と、
b)前記絞り孔を選択的に前記励起線又はX線の光軸上に移動させるべく前記遮蔽板を移動させるための、パルスモータを含む駆動機構と、
c)前記遮蔽板が第1の位置に来たことを検知する位置検知手段と、
d)前記絞り孔の変更に伴い、変更前の絞り孔に応じた数のパルスを前記パルスモータに与えて前記遮蔽板を第2の位置に戻した後に、さらに前記位置検知手段による検知信号が得られるまでパルスを前記パルスモータに与えることで前記遮蔽板を移動させる移動制御手段と、
e)前記移動制御手段による移動制御の際に、前記遮蔽板が第2の位置から第1の位置に来るまでのパルス数を計数し、その計数値を利用して、絞り孔の変更直前の遮蔽板の位置が異常であることを検知する異常検知手段と、
を備え、
前記移動制御手段は、絞り孔の変更がない場合であっても所定の分析実行回数毎に、その絞り孔に応じた数のパルスを前記パルスモータに与えて前記遮蔽板を第2の位置に戻した後に、さらに前記位置検知手段による検知信号が得られるまでパルスを前記パルスモータに与えることで前記遮蔽板を移動させ、
前記異常検知手段は、その移動制御の際に、前記遮蔽板が第2の位置から第1の位置に来るまでのパルスの計数値を利用して、少なくともその移動直前の遮蔽板の位置が異常であることを検知することを特徴としている。
2…試料
2a…X線照射領域
3…半導体検出器
4…X線遮蔽板
4a〜4d…絞り孔
10…制御部
11…入力部
12…表示部
13…センサ
14…駆動機構
15…伝達機構
Claims (1)
- 励起線源から出射された励起線を試料に照射し、それにより試料から放出されるX線を検出器に導入するX線分析装置であって、励起線源と試料との間に配置された励起線の照射領域を制限する領域制限部、又は試料と検出器との間に配置された視野領域を制限するための領域制限部のいずれかを具備するX線分析装置において、
a)前記領域制限部としての、大きさの相違する複数の絞り孔が設けられた遮蔽板と、
b)前記絞り孔を選択的に前記励起線又はX線の光軸上に移動させるべく前記遮蔽板を移動させるための、パルスモータを含む駆動機構と、
c)前記遮蔽板が第1の位置に来たことを検知する位置検知手段と、
d)前記絞り孔の変更に伴い、変更前の絞り孔に応じた数のパルスを前記パルスモータに与えて前記遮蔽板を第2の位置に戻した後に、さらに前記位置検知手段による検知信号が得られるまでパルスを前記パルスモータに与えることで前記遮蔽板を移動させる移動制御手段と、
e)前記移動制御手段による移動制御の際に、前記遮蔽板が第2の位置から第1の位置に来るまでのパルス数を計数し、その計数値を利用して、絞り孔の変更直前の遮蔽板の位置が異常であることを検知する異常検知手段と、
を備え、
前記移動制御手段は、絞り孔の変更がない場合であっても所定の分析実行回数毎に、その絞り孔に応じた数のパルスを前記パルスモータに与えて前記遮蔽板を第2の位置に戻した後に、さらに前記位置検知手段による検知信号が得られるまでパルスを前記パルスモータに与えることで前記遮蔽板を移動させ、
前記異常検知手段は、その移動制御の際に、前記遮蔽板が第2の位置から第1の位置に来るまでのパルスの計数値を利用して、少なくともその移動直前の遮蔽板の位置が異常であることを検知することを特徴とするX線分析装置。
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JP2008190214A JP5251330B2 (ja) | 2008-07-23 | 2008-07-23 | X線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2008190214A JP5251330B2 (ja) | 2008-07-23 | 2008-07-23 | X線分析装置 |
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Family
ID=41731833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2008190214A Active JP5251330B2 (ja) | 2008-07-23 | 2008-07-23 | X線分析装置 |
Country Status (1)
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- 2008-07-23 JP JP2008190214A patent/JP5251330B2/ja active Active
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