JP5243793B2 - マルチマイクロコラムにおける電子ビームの制御方法及びこの方法を利用したマルチマイクロコラム - Google Patents
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Description
図面において、レンズ層の組合せでソースレンズまたはデフレクターが形成される。各レンズ層間は詳細に説明しなかったが、絶縁層が介在することができ、レンズ間の結合などは従来の方法で結合される。
12・・・ホルダーベース 13・・・ソースレンズ
14・・・コラムベース 15・・・デフレクター
16・・・フォーカスレンズ 17・・・レンズプレート
20、30、40、50・・・層 21、31、41、51・・・単位孔
22、32、42、52・・・電極 33、43、53・・・連結部
61・・・電子放出源 62・・・エクストラクター
63・・・ソースレンズの層 64、65・・・デフレクター
66・・・第1レンズ 67・・・第2レンズ
68・・・第3レンズ 70・・・電子放出源層
71・・・電子放出源チップ 80・・・組合型マルチマイクロコラム
81・・・固定具 82・・・電子放出源チップ
83・・・エクストラクター層 84・・・絶縁層
85・・・レンズ層 86・・・デフレクター
87・・・第1レンズ層 88・・・第2レンズ層
89・・・第3レンズ層 90・・・ハウジング
91・・・レンズ孔 92・・・単位レンズ部分
91a・・・単位孔 92a、92b、92c、92d・・・単位電極
100・・・電子放出源 130・・・ソースレンズ
140・・・デフレクター 160・・・フォーカスレンズ
B・・・電子ビーム 161・・・フォーカスレンズ
161b・・・デフレクター型レンズ層 130a・・・上部レンズ層
130b・・・中間レンズ層 130c・・・下部レンズ層
170・・・マルチマイクロコラム 171・・・マルチ型電子放出源
173・・・ソースレンズ 176・・・デフレクター
176b・・・デフレクター型レンズ
Claims (11)
- 電子を放出させて電子ビームを形成し制御する各単位マイクロコラムをn×m行列に含むマルチマイクロコラムにおける電子ビームを制御する方法において、
個別電子放出源及び個別電子レンズを、
前記単位マイクロコラムの電子が通過する全ての孔、または全ての電子放出源に単一電圧を印加する方式(第1方式)、
単位マイクロコラム(孔または電子放出源)別に電圧を印加する方式(第2方式)、
単位マイクロコラム当たり同一方位(座標)電極別に同一電圧を印加する方式(第3方式)、及び
各単位マイクロコラム及び電極(方位または座標)別に電圧を印加する方式(第4方式)、
のなかで選択された方式で選択的に制御し、
電子の放出及び進行を誘導するために、個別電子放出源及びレンズ部の個別エクストラクターに第1方式を同時に使用せず、第1方式または第2方式で相互に補完するようにそれぞれ電圧を印加し、
第3方式及び/又は第4方式で電圧を印加して電子ビームを偏向させる段階、を含み、
二つ以上のレンズ層を含むレンズ部であって、前記電子放出源から一番目のレンズ部に第1方式を、そして、第3方式及び/又は第4方式を含んで電圧を印加することを特徴とするマルチマイクロコラムにおける電子ビームの制御方法。 - フォーカシング段階をさらに含むことを特徴とする、請求項1に記載のマルチマイクロコラムにおける電子ビームの制御方法。
- 前記偏向段階と前記フォーカシング段階が一つのレンズ部で行われることを特徴とする、請求項1または2に記載のマルチマイクロコラムにおける電子ビームの制御方法。
- 前記電子ビームの形状を所定の形状に特定するために、所定形状の孔を有するレンズ層に第1方式で電圧を印加することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のマルチマイクロコラムにおける電子ビームの制御方法。
- 電子ビームを遮断するために、ビームブランカー層を第3または第4方式で制御することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のマルチマイクロコラムにおける電子ビームの制御方法。
- 電子を放出させて電子ビームを形成し制御する各単位マイクロコラムをn×m行列に含むマルチマイクロコラムにおいて、
個別電子放出源及び個別電子レンズを、
前記単位マイクロコラムの電子が通過する全ての孔、または全ての電子放出源に単一電圧を印加する方式(第1方式)、
単位マイクロコラム(孔または電子放出源)別に電圧を印加する方式(第2方式)、
単位マイクロコラム当たり同一方位(座標)電極別に同一電圧を印加する方式(第3方式)、及び
各単位マイクロコラム及び電極(方位または座標)別に電圧を印加する方式(第4方式)、
のなかで選択された方式で選択的に構成し、
電子の放出及び進行を誘導するために、個別電子放出源及びレンズ部の個別エクストラクターを第1方式で同時に構成せず、第1方式または第2方式で相互に補完するようにそれぞれ構成し、
前記レンズ部は、前記電子放出源から一番目のレンズ部であって、二つ以上のレンズ層を含み、第1方式を、そして、第3方式及び/又は第4方式を含んで電圧を印加することを特徴とするマルチマイクロコラム。 - デフレクターの役目をするように、第3方式または第4方式で構成されるレンズ層またはデフレクターをさらに含むことを特徴とする、請求項6に記載のマルチマイクロコラム。
- 前記電子放出源層、及び前記レンズが半導体製造方法またはMEMS(Micro−Electro−Mechanical Systems)工程によってウェハータイプとして形成され、絶縁層によって絶縁されることを特徴とする、請求項6または7に記載のマルチマイクロコラム。
- 前記マルチマイクロコラムがX−Y−Zロボットまたはアームロボットなどの産業用ロボットまたは多関節移動メカニズムに取り付けられてともに使用されることを特徴とする、請求項6〜8のいずれか一項に記載のマルチマイクロコラム。
- 前記マルチマイクロコラムのレンズ部の一つの層の孔が、所定の形状を備えてビームの形状を前記所定の形状に形成することを特徴とする、請求項6〜9のいずれか一項に記載のマルチマイクロコラム。
- 前記マルチマイクロコラムの電子ビームを遮断するかまたは偏向させるために、デフレクターまたはデフレクターの役目をするレンズの前に第3または第4方式で構成されるビームブランカー層をさらに含むことを特徴とする、請求項6〜10のいずれか一項に記載のマルチマイクロコラム。
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