JP5239189B2 - Method for manufacturing organic electroluminescence display device - Google Patents
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本発明は、有機のエレクトロルミネッセンス現象を利用した有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」とする）を複数、配列した有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、「有機ＥＬ表示装置」とする）、特に発光体層が高分子化合物からなる有機ＥＬ表示装置の製造方法に関するものである。 The present invention relates to an organic electroluminescence display device (hereinafter referred to as “organic EL display device”) in which a plurality of organic electroluminescence elements (hereinafter referred to as “organic EL elements”) utilizing an organic electroluminescence phenomenon are arranged. In particular, the present invention relates to a method for manufacturing an organic EL display device in which a light emitting layer is made of a polymer compound.
有機ＥＬ素子は、導電性の発光体に電圧を印加し、注入された電子と正孔とを再結合させ、この再結合の際に前記発光体を発光させるものである。一般に、この有機ＥＬ素子は、透光性基板上に設けられたインジウムと錫の複合酸化物（ＩＴＯ）などの透明電極からなる陽極、その上に設けられた発光体層、および陰極が順次積層された構成を有する。 The organic EL element applies a voltage to a conductive light emitter, recombines injected electrons and holes, and causes the light emitter to emit light during the recombination. In general, this organic EL element has an anode made of a transparent electrode such as a composite oxide of indium and tin (ITO) provided on a translucent substrate, a light emitter layer provided thereon, and a cathode sequentially stacked. It has the structure made.
このように前記発光体層の両側に直接両電極を積層することもできるが、発光効率を増大するなどの目的から、発光体層と電極との間に別の層を設ける場合もある。具体的には、陽極と発光体層との間に正孔注入層や正孔輸送層あるいはその両層を設けたり、陰極と発光体層との間に電子注入層や電子輸送層などを設けたりする場合も多い。両電極間に挟まれた積層体の全体は、これら正孔注入層などを合わせて有機発光媒体層と呼ばれている。 In this way, both electrodes can be directly laminated on both sides of the light emitting layer, but another layer may be provided between the light emitting layer and the electrode for the purpose of increasing the light emission efficiency. Specifically, a hole injection layer and / or a hole transport layer are provided between the anode and the light emitter layer, or an electron injection layer and an electron transport layer are provided between the cathode and the light emitter layer. There are many cases. The entire laminated body sandwiched between both electrodes is called an organic light emitting medium layer by combining these hole injection layers and the like.
有機ＥＬ素子は、発光体層に用いられる材料の違いからいくつかのグループに分類することができる。代表的なものの一つは発光体層に低分子量の有機化合物を用いる素子で、主に真空蒸着を用いて作製される。そして今一つは本発明が関与するところの発光媒体層に高分子化合物を用いる高分子有機ＥＬ素子である。高分子有機ＥＬ素子は各機能層を構成する材料として、溶解した溶液を用いることで、ウエットプロセスによる成膜を可能とした。ウエットプロセスによる成膜方法としては、スピンコート法、インクジェット法、印刷法などがあるが、いずれも真空を必要とせず、したがってエネルギーコストおよび材料コストの面でも有利となり、特に大面積のパターニングに有効となっている。 Organic EL elements can be classified into several groups based on the difference in materials used for the light emitting layer. One of the typical ones is an element using a low molecular weight organic compound for the light emitting layer, and is mainly produced by vacuum deposition. The other is a polymer organic EL device using a polymer compound in the light emitting medium layer to which the present invention is concerned. The polymer organic EL element can be formed by a wet process by using a dissolved solution as a material constituting each functional layer. There are spin coating methods, ink jet methods, printing methods, etc. as the film formation method by the wet process, but none of them requires a vacuum, so it is advantageous in terms of energy cost and material cost, and is particularly effective for large area patterning. It has become.
有機ＥＬ表示装置は、この有機ＥＬ素子を画素として、この画素を多数、平面上に配列し、画素ごとに有機ＥＬ素子の発光を制御して画面表示する表示装置である。なお、以下では一つの画素部位にある１対の電極およびこれら電極に挟まれた有機発光媒体層を、単一の有機ＥＬ素子として説明する。 The organic EL display device is a display device that uses the organic EL element as a pixel, arranges a large number of the pixels on a plane, controls light emission of the organic EL element for each pixel, and displays the screen. Hereinafter, a pair of electrodes in one pixel portion and an organic light emitting medium layer sandwiched between these electrodes will be described as a single organic EL element.
前記画素は、例えば、陽極として透明電極をストライプ状に設け、他方、前記陰極を透明電極と交差する方向のストライプ状に設け、両電極の交点に相当する位置に前記有機発光媒体層を設けることで構成される。そして、これらストライプ状陽極の１本を選択し、また、ストライプ状陰極の１本を選択し、こうして選択された陽極と陰極との間に電圧を印加することによって、その交点の画素部位に配置された有機発光媒体層を選択的に発光させて画面表示する。そして、前記ストライプ状陽極とストライプ状陰極との間に電圧を印加するため、有機ＥＬ素子が形成された表示領域の外側の周辺部の前記基板上には、それぞれ、陽極側取り出し電極および陰極側取り出し電極が形成されている。一般には、表示領域にある有機ＥＬ素子を金属製封止缶で覆って封止し、封止缶を周辺部で基板に接着固定して前記有機ＥＬ表示装置を構成している。 For example, the pixel is provided with a transparent electrode as an anode in a stripe shape, and on the other hand, the cathode is provided in a stripe shape in a direction intersecting the transparent electrode, and the organic light emitting medium layer is provided at a position corresponding to the intersection of both electrodes. Consists of. Then, one of these striped anodes is selected, and one of the striped cathodes is selected, and a voltage is applied between the anode and the cathode thus selected, so that it is arranged at the pixel portion at the intersection. The formed organic light emitting medium layer is selectively emitted to display on the screen. In order to apply a voltage between the stripe-shaped anode and the stripe-shaped cathode, the anode-side extraction electrode and the cathode-side are respectively disposed on the substrate in the peripheral portion outside the display region where the organic EL element is formed. An extraction electrode is formed. In general, the organic EL element in the display region is covered and sealed with a metal sealing can, and the sealing can is adhered and fixed to the substrate at the periphery to constitute the organic EL display device.
各画素部位には、同一の色彩に発光する発光体層を配列することもできるが、この場合には単一色の表示装置となる。カラー画面を表示する場合には、それぞれの画素部位に互いに異なる色彩に発光する発光体層をパターン状に配列する必要がある。カラー表示を行う画素の発光体層は、一般に、光の三原色に相当する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）および青（Ｂ）のいずれかに発光するように設定される。また、赤、緑、および青の補色に相当するイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）およびマゼンタ（Ｍ）が利用されることもある。 A light-emitting layer that emits light of the same color can be arranged in each pixel portion, but in this case, a single-color display device is obtained. In the case of displaying a color screen, it is necessary to arrange light emitting layers that emit light in different colors at respective pixel portions in a pattern. The light emitter layer of a pixel that performs color display is generally set to emit light in one of red (R), green (G), and blue (B) corresponding to the three primary colors of light. Further, yellow (Y), cyan (C), and magenta (M) corresponding to complementary colors of red, green, and blue may be used.
それぞれの画素部位に互いに異なる発光体層を形成する際には混色を防ぐため、表示面に平行に隣り合って並ぶ画素同士の間を絶縁層で隔絶することが一般的である。絶縁層は、ある程度の高さを有する隔壁で構成されることが一般的であるが、これに限定されず、以下では画素間を隔絶する隔壁等の要素を「隔絶帯」と称する。隔絶帯の具体例としては、隔壁（凸部）の他、溝（凹部）、および凹凸によらずに画素間を隔絶する帯のような部分などが挙げられる。 In order to prevent color mixture when forming different light-emitting layers in the respective pixel portions, it is common to isolate the pixels arranged adjacent to each other in parallel with the display surface with an insulating layer. In general, the insulating layer is composed of a partition wall having a certain height. However, the present invention is not limited to this, and hereinafter, an element such as a partition wall that isolates pixels is referred to as an “isolation zone”. Specific examples of the isolation band include a partition (convex part), a groove (concave part), and a part such as a band that isolates pixels regardless of the unevenness.
正孔輸送層はそれぞれの画素で共通に必要であり塗りわけの必要がないため、パターニングせずに、有機ＥＬ表示装置の画像形成に関わる部分（表示領域）全体に全面塗布、いわゆるベタ塗りする方法が一般的である。ベタ塗りの方法としては、スピンコート法、ダイコート法、ディッピング法、スリットコート法などがある。例えば特許文献１ではスリットコート法を用いた正孔輸送層の成膜方法に言及している。 Since the hole transport layer is necessary for each pixel in common and does not need to be applied separately, the entire surface of the organic EL display device related to image formation (display region) is applied, so-called solid coating, without patterning. The method is common. Examples of the solid coating method include spin coating, die coating, dipping, and slit coating. For example, Patent Document 1 refers to a method for forming a hole transport layer using a slit coating method.
しかし正孔輸送層には一般的に発光体層よりも導電率の高い材料が使われることが多く、隔壁上に形成された正孔輸送層を介して発光させる画素外への電流リークが発生し、表示時にクロストークが発生することが懸念される。 However, the hole transport layer is generally made of a material having a higher conductivity than the phosphor layer, and current leaks outside the pixel that emits light through the hole transport layer formed on the barrier rib. However, there is a concern that crosstalk may occur during display.
これを防ぐ為に、高い抵抗値を有する正孔輸送層を用いることが提案されているが、発光時の駆動電圧が上昇しＥＬ特性の低下が生じることや、材料選択に制限が課されるなどの問題点があった。 In order to prevent this, it has been proposed to use a hole transport layer having a high resistance value. However, the drive voltage at the time of light emission is increased, the EL characteristics are lowered, and the material selection is restricted. There were problems such as.
このようなリーク電流を防ぐために、隔壁で仕切られた画素電極内のみに正孔輸送層を形成させる方法として、特許文献２ではインクジェット法を用いて正孔輸送層を成膜する方法が提案されている。インクジェット法とはインクジェットノズルからインキを被印刷部位に複数回、滴下する方式であり、ノズルと被印刷基板に距離があり、インキは自身の重力でのみ隔壁内の被印刷部位に広がる。したがって、インクジェット法では隔壁に囲まれた被印刷部位（すなわち画素部位）全てにインキを塗布することが難しく、特に画素部位の縁部においてはインキが塗布されずに印刷抜けが発生しやすいという問題がある。 In order to prevent such a leakage current, Patent Document 2 proposes a method of forming a hole transport layer using an inkjet method as a method for forming a hole transport layer only in the pixel electrode partitioned by the partition walls. ing. The ink jet method is a method in which ink is dropped from an ink jet nozzle to a printing site a plurality of times. There is a distance between the nozzle and the printing substrate, and the ink spreads to the printing site in the partition only by its own gravity. Therefore, in the inkjet method, it is difficult to apply ink to all the printing parts (that is, pixel parts) surrounded by the partition walls, and in particular, there is a problem that ink is not applied to the edges of the pixel parts and printing omission is likely to occur. There is.
そこで本発明では、正孔輸送層の形成において簡便な塗布法である、スピンコート法、ダイコート法、ディッピング法、スリットコート法などのベタ塗りを用いた際に、材料の導電率によるリーク電流を懸念することなく、ＥＬ素子の良好な特性を得られる正孔輸送材料を用いることができるＥＬ表示装置の製造方法を提案する。 Therefore, in the present invention, when a solid coating such as a spin coating method, a die coating method, a dipping method, or a slit coating method, which is a simple coating method in forming the hole transport layer, is used, the leakage current due to the conductivity of the material is reduced. A method of manufacturing an EL display device that can use a hole transport material that can obtain good characteristics of an EL element without concern is proposed.
本発明の請求項１に係る発明は、透光性基板上に、陽極、正孔輸送層とストライプ状の発光体層とを少なくとも含む有機発光媒体層、および陰極が積層された有機エレクトロルミネッセンス素子が形成され、複数の画素が、前記発光体層と平行な第１の方向、及び該第１の方向と直交する第２の方向に延びる格子状であってドーム形状からなる頂部を有する隔絶帯により互いに隔絶されて配置された表示領域を少なくとも有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、前記透光性基板上に、前記陽極を形成し、前記陽極が形成された前記透光性基板の少なくとも表示領域全面に前記有機発光媒体層を構成する有機膜を成膜し、前記有機膜のうち前記隔絶帯の前記頂部を覆う部分を粘着性物質に接触させることにより剥離させ除去し、凸版印刷法により前記有機膜上及び前記第２の方向の隔絶帯上に前記ストライプ状の発光体層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 The invention according to claim 1 of the present invention is an organic electroluminescent device in which an anode, an organic light emitting medium layer including at least a hole transport layer and a stripe-shaped light emitter layer, and a cathode are laminated on a translucent substrate. Yusuke There are formed a plurality of pixels, a first direction parallel to the light-emitting layer, and a top consisting of a dome shape I lattice shape der extending in a second direction perpendicular to the first direction In the method of manufacturing an organic electroluminescence display device having at least display regions arranged to be isolated from each other by an isolated band, the translucent substrate is formed with the anode formed on the translucent substrate. and forming an organic film of the organic light emitting medium layer on at least the entire display area of the substrate, peeling by contacting the adhesive substance portions covering the top of said isolated zone of said organic film It was removed, a method of manufacturing the organic electroluminescent display device, and forming the stripe-shaped phosphor layer on the organic film and the second direction on the isolated zone by a relief printing method.
本発明の請求項２に係る発明は、前記有機膜をウエットプロセスで前記隔絶帯及び表示装置上に形成した後に、前記有機膜のうち前記隔絶帯を覆う部分を除去することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 The invention according to claim 2 of the present invention is characterized in that after the organic film is formed on the isolated zone and the display device by a wet process, a portion of the organic film covering the isolated zone is removed. Item 12. A method for producing an organic electroluminescence display device according to Item 1.
本発明の請求項３に係る発明は、前記有機膜のうち前記隔絶帯を覆う部分を拭き取ることにより除去することを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 The invention according to claim 3 of the present invention is a method for producing an organic electroluminescence display device according to claim 1 or 2, wherein the organic film is removed by wiping off a portion covering the isolation zone. is there.
本発明の請求項４に係る発明は、前記有機膜のうち前記隔絶帯を覆う部分を粘着性物質に接触させることにより剥離させ除去することを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 The invention according to claim 4 of the present invention is characterized in that the portion of the organic film covering the isolation zone is peeled and removed by contacting with an adhesive substance. It is a manufacturing method of a luminescence display device.
本発明の請求項５に係る発明は、前記有機膜のうち前記隔絶帯を覆う部分をレーザーアブレーションにより除去することを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 The invention according to claim 5 of the present invention is the method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 1 or 2, wherein a portion of the organic film covering the isolation zone is removed by laser ablation. is there.
本発明の請求項６に係る発明は、前記の透光性基板表面から前記の隔絶帯の頂部までの高さが積層方向に０．５μｍから５．０μｍの範囲であって、前記の隔絶帯がドーム状であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法である。 In the invention according to claim 6 of the present invention, the height from the surface of the translucent substrate to the top of the isolation band is in the range of 0.5 μm to 5.0 μm in the stacking direction, and the isolation band The method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to claim 1 , wherein the dome shape is a dome shape .
本発明によれば、正孔輸送層を簡便な方法である、スピンコート法、ダイコート法、ディッピング法、スリットコート法などのベタ塗りで形成する際でも、膜を分割することができるため、画素間のリーク電流を非常に少なくすることができる。よって、インクジェット法などの大規模な装置を用いずとも正孔輸送層を画素部位のみに形成でき、正孔輸送材料の導電率を考慮せず、ＥＬ素子の特性を最も効率良く発揮できる材料を広範囲で選択することが可能となる。 According to the present invention, the film can be divided even when the hole transport layer is formed by solid coating such as a spin coating method, a die coating method, a dipping method, or a slit coating method, which is a simple method. The leakage current between them can be greatly reduced. Therefore, a material that can form the hole transport layer only in the pixel portion without using a large-scale apparatus such as an ink jet method, and can exhibit the characteristics of the EL element most efficiently without considering the conductivity of the hole transport material. A wide range can be selected.
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、透光性基板上に有機ＥＬ素子を形成し、各有機ＥＬ素子を発光させて画面表示する装置である。有機ＥＬ素子は、陽極としてのパターニングされた透明電極、画素部位に配列された有機層、および有機層を挟んで透明電極と対向する陰極としての対向電極をこの順に積層して形成されている。有機ＥＬ素子の透明電極（陽極）および対向電極（陰極）には、それぞれ、取り出し電極が接続される。そして、有機ＥＬ素子の陽極と陰極との間に電圧を印加する／しないを制御することにより、画面表示を行う。 The organic EL display device according to the present invention is a device that forms an organic EL element on a light-transmitting substrate and causes each organic EL element to emit light to display a screen. The organic EL element is formed by laminating a patterned transparent electrode as an anode, an organic layer arranged in a pixel portion, and a counter electrode as a cathode facing the transparent electrode with the organic layer interposed therebetween in this order. An extraction electrode is connected to each of the transparent electrode (anode) and the counter electrode (cathode) of the organic EL element. Then, screen display is performed by controlling whether or not a voltage is applied between the anode and the cathode of the organic EL element.
図１は、隔絶帯としての隔壁１１で分画された３画素の有機ＥＬ表示装置３０の断面模式図である。一つの画素部位は、構成が実質的に同一の有機ＥＬ素子で構成されているが、これらの有機ＥＬ素子の発光体層４は異なる色に着色されている。発光体層４の色は、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれか、またはイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンダ（Ｍ）のいずれかであるが、色の違い以外は有機ＥＬ素子の構成は同一であるため、まず、単一の有機ＥＬ素子２０をそのまま一つの画素とする単一の有機ＥＬ素子２０で構成された有機ＥＬ表示装置３１を例として、有機ＥＬ表示装置の基本的な構造を説明する。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a three-pixel organic EL display device 30 fractionated by a partition wall 11 serving as an isolation zone. One pixel part is composed of organic EL elements having substantially the same configuration, but the light emitting layer 4 of these organic EL elements is colored in a different color. The color of the light emitting layer 4 is any one of red (R), green (G), and blue (B), or any of yellow (Y), cyan (C), and magenta (M). Since the configuration of the organic EL elements is the same except for the difference, first, as an example, an organic EL display device 31 configured by a single organic EL element 20 using the single organic EL element 20 as one pixel as it is. The basic structure of the organic EL display device will be described.
図２は、単一の有機ＥＬ素子２０から構成され画素が一つの有機ＥＬ表示装置３１の断面説明図である。この表示装置３１は、透光性基板１と、この上に順に積層された透明電極層（陽極）２、有機発光媒体層５および対向電極層（陰極）６の各層を含んで構成された有機ＥＬ素子２０と、図示しない陽極取り出し電極と、陰極取り出し電極８とで構成されている。有機ＥＬ素子２０はその全体が封止缶９で覆われており、封止缶９は電気絶縁性の封止樹脂で透光性基板１に接着固定されている。 FIG. 2 is a cross-sectional explanatory view of an organic EL display device 31 that is composed of a single organic EL element 20 and has one pixel. The display device 31 includes an organic layer composed of a translucent substrate 1, a transparent electrode layer (anode) 2, an organic light-emitting medium layer 5, and a counter electrode layer (cathode) 6 that are sequentially stacked thereon. The EL element 20 is composed of an anode extraction electrode (not shown) and a cathode extraction electrode 8. The entire organic EL element 20 is covered with a sealing can 9, and the sealing can 9 is bonded and fixed to the translucent substrate 1 with an electrically insulating sealing resin.
陽極取り出し電極および陰極取り出し電極８は、透光性基板１の、有機ＥＬ素子２０が形成された側の表面のうち、封止缶９に覆われていない部分に形成されている。陰極取り出し電極８は、封止缶９と透光性基板１との間を通り対向電極層（陰極）６から延びる電極層により対向電極層（陰極）６と電気的に接続されている。同様に、陽極取り出し電極は、封止缶９と透光性基板１との間を通り透明電極層（陽極）２から延びる電極層により透明電極層（陽極）２と電気的に接続されている。これら陽極取り出し電極と陰極取り出し電極８とは、後述するように同一工程で、かつ、同一材料で形成することが可能である。 The anode extraction electrode and the cathode extraction electrode 8 are formed on the surface of the translucent substrate 1 on the side where the organic EL element 20 is formed, which is not covered with the sealing can 9. The cathode extraction electrode 8 is electrically connected to the counter electrode layer (cathode) 6 through an electrode layer that passes between the sealing can 9 and the translucent substrate 1 and extends from the counter electrode layer (cathode) 6. Similarly, the anode extraction electrode is electrically connected to the transparent electrode layer (anode) 2 by an electrode layer that passes between the sealing can 9 and the translucent substrate 1 and extends from the transparent electrode layer (anode) 2. . The anode take-out electrode and the cathode take-out electrode 8 can be formed in the same process and with the same material as described later.
透光性基板１としては、ガラス基板やプラスチック製のフィルムやシートを用いることができる。透光性基板として可撓性のプラスチック製のフィルムを用いれば、長いフィルムを巻き取りながら有機ＥＬ素子を形成して有機ＥＬ表示装置を製造することが可能になる。よって、有機ＥＬ表示装置を安価に提供することが可能になる。 As the translucent substrate 1, a glass substrate or a plastic film or sheet can be used. If a flexible plastic film is used as the translucent substrate, an organic EL display device can be manufactured by forming an organic EL element while winding a long film. Therefore, an organic EL display device can be provided at a low cost.
また、透明電極層（陽極）２は、インジウムと錫の複合酸化物（ＩＴＯ）を真空蒸着またはスパッタリング法により成膜して形成することができる。また、ＩＴＯの代わりに、アルミニウム、金、銀などの金属を使用し、これを真空蒸着またはスパッタリング法により成膜して、膜厚１００ｎｍ以下の半透明薄膜としたものを透明電極層として使用することもできる。この他、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を前記基板上に塗布後、熱分解によって酸化物を形成する塗布熱分解法などにより薄膜を形成して透明電極層を形成することもできる。 The transparent electrode layer (anode) 2 can be formed by depositing a composite oxide (ITO) of indium and tin by vacuum deposition or sputtering. Also, instead of ITO, a metal such as aluminum, gold, or silver is used, and this is formed by vacuum deposition or sputtering to form a translucent thin film having a thickness of 100 nm or less as the transparent electrode layer. You can also. In addition, a transparent electrode layer can be formed by coating a precursor such as indium octylate or indium acetone on the substrate and then forming a thin film by a coating pyrolysis method in which an oxide is formed by thermal decomposition.
有機発光媒体層の膜厚は、発光体層単層から構成される場合も多層構造の場合も有機発光媒体層全体として１０００ｎｍ以下であり、好ましくは５０〜３００ｎｍである。 The film thickness of the organic light emitting medium layer is 1000 nm or less, preferably 50 to 300 nm as a whole of the organic light emitting medium layer, regardless of whether it is composed of a single light emitter layer or a multilayer structure.
図１および図２に示した例では、有機発光媒体層５は、正孔輸送層３および発光体層４を含む二層構成とされているが、有機発光媒体層５を発光体層４のみで構成して単一の層とすることもできる。有機発光媒体層５を発光体層４以外の層を含む多層構造とする場合、発光体層４以外の層としては、発光効率を高める働きをする発光補助層を用いることができる。発光補助層は発光体層と陽極との間に設けることができ、また、発光体層と陰極との間に設けることもできる。発光体層と陽極との間に設ける発光補助層としては、例えば、陽極から発光体層への正孔の移動を助ける正孔輸送層および正孔注入層、または電子を堰き止める働きをする電子ブロック層などが例示できる。また、発光体層と陰極との間に設ける発光補助層としては、例えば、陰極から発光体層への電子の移動を助ける電子輸送層および電子注入層、または正孔を堰き止める働きをする正孔ブロック層などが例示できる。 In the example shown in FIGS. 1 and 2, the organic light emitting medium layer 5 has a two-layer structure including the hole transport layer 3 and the light emitter layer 4, but the organic light emitting medium layer 5 includes only the light emitter layer 4. It can also be made into a single layer. When the organic light emitting medium layer 5 has a multilayer structure including layers other than the light emitter layer 4, a light emission auxiliary layer that functions to increase the light emission efficiency can be used as a layer other than the light emitter layer 4. The light emission auxiliary layer can be provided between the light emitter layer and the anode, and can also be provided between the light emitter layer and the cathode. Examples of the light emission auxiliary layer provided between the light emitter layer and the anode include, for example, a hole transport layer and a hole injection layer that help move holes from the anode to the light emitter layer, or an electron that functions to block electrons. A block layer etc. can be illustrated. In addition, the light emission auxiliary layer provided between the light emitter layer and the cathode may be, for example, an electron transport layer and an electron injection layer that assist the movement of electrons from the cathode to the light emitter layer, or a positive hole that functions to block holes. A hole block layer etc. can be illustrated.
図１および図２に示した例では、発光体層４と透明電極層（陽極）２との間に発光補助層として正孔輸送層３を設け、有機発光媒体層５を発光体層４と正孔輸送層３からなる二層としている。有機発光媒体層は、正孔輸送層に代えて正孔注入層を用いることで正孔注入層と発光体層とを積層した二層構成にすることもできる。また、正孔注入層、正孔輸送層および発光体層を順次積層した三層構成の有機発光媒体層とすることも可能である。さらに、有機発光媒体層を複数の機能を有する単一の層で構成してもよく、例えば発光体層に正孔輸送機能を付与して発光体層が正孔輸送機能を有するように構成することも可能である。 In the example shown in FIGS. 1 and 2, a hole transport layer 3 is provided as a light emission auxiliary layer between the light emitter layer 4 and the transparent electrode layer (anode) 2, and the organic light emitting medium layer 5 is replaced with the light emitter layer 4. Two layers are formed of the hole transport layer 3. The organic light-emitting medium layer can also have a two-layer structure in which a hole injection layer and a light emitter layer are stacked by using a hole injection layer instead of the hole transport layer. It is also possible to form an organic light-emitting medium layer having a three-layer structure in which a hole injection layer, a hole transport layer, and a light emitting layer are sequentially stacked. Further, the organic light emitting medium layer may be composed of a single layer having a plurality of functions. For example, the light emitting layer is provided with a hole transport function so that the light emitter layer has a hole transport function. It is also possible.
なお、正孔注入層は陽極から正孔を輸送する機能を持った層であり、正孔輸送層は発光体層に正孔を輸送する機能を持った層である。これらの層は正孔輸送機能と正孔注入機能とを併せ持つ場合もあり、その程度に応じてどちらかあるいは両方の名称で呼ばれることになる。 The hole injection layer is a layer having a function of transporting holes from the anode, and the hole transport layer is a layer having a function of transporting holes to the light emitting layer. These layers may have both a hole transport function and a hole injection function, and are referred to by either or both names depending on the degree.
このような正孔注入層または正孔輸送層３を構成する材料としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子材料を用いることができる。この他にも導電率１０−２〜１０−６Ｓ/ｃｍの導電性高分子を好ましく用いることができる。湿式法による層形成が可能である点で、高分子材料を用いることが好ましい。これらの材料を水または溶剤を用いて溶液化若しくは分散液化して使用することで正孔注入層または正孔輸送層３を形成できる。 Examples of the material constituting the hole injection layer or the hole transport layer 3 include high polyaniline, polythiophene, polyvinyl carbazole, a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid, and the like. Molecular materials can be used. In addition, a conductive polymer having a conductivity of 10 −2 to 10 −6 S / cm can be preferably used. A polymer material is preferably used in that a layer can be formed by a wet method. The hole injection layer or the hole transport layer 3 can be formed by using these materials in the form of a solution or dispersion using water or a solvent.
一方、電子注入層は陰極から電子を輸送する機能を持った層であり、電子輸送層は発光体層に電子を輸送する機能を持った層である。これらの層は電子輸送機能と電子注入機能とを併せ持つ場合もあり、その程度に応じてどちらかあるいは両方の名称で呼ばれることになる。このような電子注入層または電子輸送層を構成する材料としては、例えば、１，２，４−トリアゾール誘導体（ＴＡＺ）などのニトロ置換フルオレン、ジフェニルキソン誘導体などが挙げられる。 On the other hand, the electron injection layer is a layer having a function of transporting electrons from the cathode, and the electron transport layer is a layer having a function of transporting electrons to the light emitting layer. These layers may have both an electron transport function and an electron injection function, and are referred to by either or both names depending on the degree. Examples of the material constituting such an electron injection layer or electron transport layer include nitro-substituted fluorenes such as 1,2,4-triazole derivatives (TAZ), diphenylxone derivatives, and the like.
発光体層４は、陽極２および陰極６の間に電圧を印加することによって注入された電子と正孔とを再結合させ、この再結合の際に発光するものである。発光した光は、透明電極（陽極）２と透光性基板１とを通して外部に放射される。 The luminous body layer 4 recombines electrons and holes injected by applying a voltage between the anode 2 and the cathode 6, and emits light upon this recombination. The emitted light is emitted to the outside through the transparent electrode (anode) 2 and the translucent substrate 1.
発光体層４の材料としては、発光性色素を高分子ポリマー（例えば、分子量１，０００以上）に溶解させたものが使用できる。発光性色素としては、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィリン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系などの発光性色素が挙げられる。発光性色素を溶解させる高分子ポリマーとしては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどが挙げられる。また、デンドリマー材料、ポリパラフェニレンビニレン（ＰＰＶ）系やポリフルオレン（ＰＦ）系、ポリパラフェニレン系などの高分子発光材料を用いることも可能である。好ましくは、水または溶剤に可溶で溶液化できる材料である。 As the material of the light emitting layer 4, a material in which a light emitting dye is dissolved in a high molecular polymer (for example, a molecular weight of 1,000 or more) can be used. Examples of luminescent dyes include coumarin-based, perylene-based, pyran-based, anthrone-based, porphyrin-based, quinacdolin-based, N, N'-dialkyl-substituted quinacdolin-based, naphthalimide-based, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based Examples thereof include luminescent dyes. Examples of the polymer that dissolves the luminescent dye include polystyrene, polymethyl methacrylate, and polyvinyl carbazole. It is also possible to use a polymer light emitting material such as a dendrimer material, polyparaphenylene vinylene (PPV), polyfluorene (PF), or polyparaphenylene. Preferably, the material is soluble in water or a solvent and can be made into a solution.
対向電極層（陰極）６としては、電子注入をしやすくするため、例えば、ＡｌＬｉ、ＦＬi、ＭｇＩｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ，ＣａなどのＷＦ（仕事関数）の小さい金属を単体であるいは合金で用いることができる。また、これら金属と金、銀などの安定な金属との合金の薄膜を用いて対向電極層（陰極）６を形成することも可能である。また、対向電極層（陰極）６は、これら金属薄膜または合金薄膜を二層以上積層して構成される多層構造とすることもできる。また、インジウム酸化物、亜鉛酸化物、錫酸化物などの導電性酸化物の薄膜を対向電極層（陰極）６として用いることもできる。なお、これらの薄膜は、真空成膜法で形成することができる。真空成膜法としては、抵抗加熱、ＥＢ加熱などによる真空蒸着法やスパッタ法などが利用できる。対向電極層（陰極）６の膜厚は特に限定されないが、１ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましい。 For the counter electrode layer (cathode) 6, in order to facilitate electron injection, for example, a metal having a small WF (work function) such as AlLi, FLi, MgIn, Li, Na, Mg, Ca is used alone or in an alloy. be able to. It is also possible to form the counter electrode layer (cathode) 6 using a thin film of an alloy of these metals and a stable metal such as gold or silver. The counter electrode layer (cathode) 6 can also have a multilayer structure formed by laminating two or more of these metal thin films or alloy thin films. Further, a thin film of a conductive oxide such as indium oxide, zinc oxide, or tin oxide can be used as the counter electrode layer (cathode) 6. Note that these thin films can be formed by a vacuum film formation method. As the vacuum film forming method, a vacuum deposition method or a sputtering method using resistance heating, EB heating, or the like can be used. The thickness of the counter electrode layer (cathode) 6 is not particularly limited, but is preferably 1 nm or more and 500 nm or less.
図３は、多数の画素を有する有機ＥＬ表示装置３３の平面模式図であり、透光性基板１上に、透明電極層（陽極）２と対向電極層（陰極）６とをストライプ状にパターニングして形成し、複数の陽極取り出し電極７、および複数の陰極取り出し電極８と接続した状態を示す。直線状の複数の陽極２は、複数の陽極取り出し電極７とそれぞれ１対１で接続されている。すなわち、１本の直線状にされた陽極に対して１つの陽極取り出し電極が接続されている。同様に、複数の直線状の陰極６は、複数の陰極取り出し電極８とそれぞれ１対１で接続されている。 FIG. 3 is a schematic plan view of an organic EL display device 33 having a large number of pixels. A transparent electrode layer (anode) 2 and a counter electrode layer (cathode) 6 are patterned in a stripe pattern on a translucent substrate 1. A state in which a plurality of anode extraction electrodes 7 and a plurality of cathode extraction electrodes 8 are connected is shown. The plurality of linear anodes 2 are connected to the plurality of anode extraction electrodes 7 on a one-to-one basis. That is, one anode extraction electrode is connected to one linear anode. Similarly, the plurality of linear cathodes 6 are connected to the plurality of cathode extraction electrodes 8 on a one-to-one basis.
ストライプ状の陽極２と陰極６とは互いにほぼ直角に交差し、これら陽極２と陰極６の交点が一つの画素とされる部位（画素部位）となる。カラー画像を表示する有機ＥＬ表示装置では、図１に示すように隣接する画素２１同士は異なる色に着色された発光体層４を有するので、隣接する画素２１Ｇ、２１Ｂ、２１Ｒ同士の間には、隔壁１１のような隔絶帯が設けられ、異なる色に着色された発光体層４を隔絶して混色を回避する。有機ＥＬ表示装置では、この画素ごとに電圧を印加して、その部位の前記有機発光媒体層を選択的に発光させ、発光させた画素と発光させない画素の全体で画像を表示する。 The stripe-shaped anode 2 and the cathode 6 intersect each other at a substantially right angle, and the intersection of the anode 2 and the cathode 6 is a portion (pixel portion) where one pixel is formed. In the organic EL display device that displays a color image, the adjacent pixels 21 have the light emitting layer 4 colored in different colors as shown in FIG. 1, and therefore, between the adjacent pixels 21G, 21B, and 21R. An isolation zone such as the partition wall 11 is provided to isolate the phosphor layer 4 colored in different colors to avoid color mixing. In the organic EL display device, a voltage is applied to each pixel to selectively emit light from the organic light emitting medium layer at that portion, and an image is displayed on the whole of the pixels that emit light and the pixels that do not emit light.
次に、本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造法および構成を述べる。 Next, the manufacturing method and configuration of the organic EL display device according to the present invention will be described.
まず、前述した材料を用いて透光性基板１上に、ＩＴＯ薄膜などの薄膜を成膜して透明電極層（陽極）２を形成する。透光性基板１片側全面に形成された薄膜を、フォトエッチングなどの方法によりパターニングすることにより、ストライプ状の陽極２を複数、形成する。陽極取り出し電極７と陰極取り出し電極８とは、ストライプ状の陽極２を形成する工程と同一の工程で薄膜をパターニングすることで形成できる（図３参照）。 First, a transparent electrode layer (anode) 2 is formed by forming a thin film such as an ITO thin film on the translucent substrate 1 using the above-described materials. A plurality of stripe-shaped anodes 2 are formed by patterning a thin film formed on the entire surface of one side of the translucent substrate 1 by a method such as photoetching. The anode extraction electrode 7 and the cathode extraction electrode 8 can be formed by patterning a thin film in the same step as the step of forming the striped anode 2 (see FIG. 3).
透明電極層をパターニングしてストライプ状の陽極２を形成した後、隣接する陽極２の間に感光性材料を用いて、フォトリソグラフィ法により隔絶帯としての隔壁１１を形成する（図２参照）。隔壁１１を形成する工程を詳しく説明すると、まず、陽極２が形成された透光性基板１上に感光性絶縁樹脂を塗布する。次いで、感光性絶縁樹脂をパターン露光、現像して隔壁１１のパターンを形成する。そして、隔壁パターン１１を焼成した後、光照射などを施して親水化させ、隔壁１１を形成する。 After the transparent electrode layer is patterned to form the stripe-shaped anode 2, a partition 11 as an isolation band is formed by photolithography using a photosensitive material between the adjacent anodes 2 (see FIG. 2). The step of forming the partition wall 11 will be described in detail. First, a photosensitive insulating resin is applied on the translucent substrate 1 on which the anode 2 is formed. Next, the pattern of the partition wall 11 is formed by pattern exposure and development of the photosensitive insulating resin. Then, after the partition wall pattern 11 is fired, the partition wall 11 is formed by light irradiation or the like to make it hydrophilic.
隔壁１１を形成する感光性樹脂としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、公知の感光性樹脂を用いればよいが、絶縁性を有する感光性樹脂を用いる。隔壁１１が十分な絶縁性を有さない場合に、ある画素に電圧を印加すると、隔壁１１を挟んでその画素と隣り合う画素にも電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。隔壁１１を形成する感光性樹脂の具体例としては、ポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といった樹脂が挙げられるがこれに限定するものではない。また、有機ＥＬ素子の表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を感光性樹脂に含有させても良い。 The photosensitive resin for forming the partition wall 11 may be either a positive resist or a negative resist, and a known photosensitive resin may be used, but an insulating photosensitive resin is used. If a voltage is applied to a certain pixel when the partition wall 11 does not have sufficient insulation, a current flows to a pixel adjacent to the pixel with the partition wall 11 interposed therebetween, resulting in a display defect. Specific examples of the photosensitive resin that forms the partition wall 11 include, but are not limited to, resins such as polyimide, acrylic resin, novolak resin, and fluorene. Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL element, a light shielding material may be contained in the photosensitive resin.
隔壁１１を形成する感光性樹脂はスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーターなどの公知の塗布方法を用いて塗布される。塗布した感光性樹脂をパターン露光、現像して隔壁パターンを形成する工程では、公知の露光、現像方法により隔壁となる部分のパターンを形成できる。また焼成に関してはオーブン、ホットプレートなどでの公知の方法により焼成を行うことができる。 The photosensitive resin forming the partition wall 11 is applied using a known coating method such as a spin coater, bar coater, roll coater, die coater, or gravure coater. In the step of forming a partition wall pattern by pattern exposure and development of the coated photosensitive resin, a pattern of a portion to be a partition wall can be formed by a known exposure and development method. Regarding firing, firing can be performed by a known method using an oven, a hot plate, or the like.
焼成した隔壁パターンに光照射を施して親水化させる工程では、隔壁パターンを形成した透光性基板の上面から紫外線などを照射して隔壁１１となる部分および陽極２部分を親水化させる。照射する光としては、一般に親水化処理などの紫外線洗浄に用いられる紫外線が好ましく、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどによる紫外線照射処理が好ましい。なお、親水化処理の工程は正孔輸送層３を形成する直前に行われることが好ましい。 In the step of irradiating the fired partition wall pattern with light to make it hydrophilic, the part that becomes the partition wall 11 and the anode 2 part are made hydrophilic by irradiating ultraviolet light or the like from the upper surface of the translucent substrate on which the partition wall pattern is formed. As the light to be irradiated, ultraviolet rays generally used for ultraviolet cleaning such as hydrophilization treatment are preferable, and ultraviolet irradiation treatment using an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is preferable. The hydrophilic treatment step is preferably performed immediately before the hole transport layer 3 is formed.
隔壁１１は、厚み、すなわち積層方向に平行な方向の高さが０．５μｍから５．０μｍの範囲にあることが望ましい。隣接する画素間に隔壁１１を設けることにより、各画素に印刷形成された正孔輸送層３を構成するインキの広がりを抑え、また画素部位の電極の端部からのショート発生を防ぐことができる。隔壁１１が低すぎるとショートの防止効果が得られないことがあり注意が必要である。 The partition wall 11 preferably has a thickness, that is, a height in a direction parallel to the stacking direction, in the range of 0.5 μm to 5.0 μm. By providing the partition wall 11 between adjacent pixels, the spread of the ink constituting the hole transport layer 3 printed and formed on each pixel can be suppressed, and the occurrence of a short circuit from the end of the electrode at the pixel portion can be prevented. . Note that if the partition wall 11 is too low, the effect of preventing a short circuit may not be obtained.
また、例えばパッシブマトリックスタイプの有機ＥＬ表示装置において、画素間に隔壁１１を設けた場合、図１に示すように陰極となる対向電極層６は隔壁１１を乗り越えて延伸することになる。このように隔壁１１をまたぐ形で対向電極層６を形成する場合、隔壁１１が高すぎると（例えば高さが５．０μｍを超えるような場合）対向電極層６の断線が起こって表示不良となる場合がある。 For example, in the passive matrix type organic EL display device, when the partition walls 11 are provided between the pixels, the counter electrode layer 6 serving as a cathode extends over the partition walls 11 as shown in FIG. When the counter electrode layer 6 is formed so as to straddle the partition wall 11 as described above, if the partition wall 11 is too high (for example, when the height exceeds 5.0 μm), the counter electrode layer 6 is disconnected and display defects are caused. There is a case.
有機発光媒体層５は、対向電極層（陰極）６を形成する前に、隔壁１１を形成した後の透光性基板１に正孔輸送層３および発光体層４を順に積層して形成される。本実施態様では、有機発光体層５を構成する膜の一つである正孔輸送層３が成膜後に一部除去され、画素と同様のパターンを描くように分割されている。 Before forming the counter electrode layer (cathode) 6, the organic light emitting medium layer 5 is formed by sequentially laminating the hole transport layer 3 and the phosphor layer 4 on the translucent substrate 1 after the partition wall 11 is formed. The In the present embodiment, the hole transport layer 3 which is one of the films constituting the organic light-emitting layer 5 is partially removed after the film formation and divided so as to draw the same pattern as the pixels.
以下、図４および図５を参照して正孔輸送層３を形成し、分割する方法について説明する。 Hereinafter, a method of forming and dividing the hole transport layer 3 will be described with reference to FIGS. 4 and 5.
まず、ストライプ状の透明電極（陽極）２、陽極取り出し電極７および、陰極取り出し電極８を設けて隔壁１１を形成した透光性基板１上の表示領域全面に正孔輸送層３を一括形成する（図４（ａ））。正孔輸送層３は、前述した正孔輸送材料を水、有機溶剤、あるいはこれらの混合溶剤に溶解してインキとして、スピンコート法、ダイコート法、ディッピング法、スリットコート法などの簡便な方法により一括形成できる。有機溶剤としては、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが使用できる。またインキには、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤などを添加してもよい。 First, the hole transport layer 3 is collectively formed on the entire display region on the translucent substrate 1 provided with the stripe-shaped transparent electrode (anode) 2, the anode extraction electrode 7 and the cathode extraction electrode 8 to form the partition wall 11. (FIG. 4A). The hole transport layer 3 is prepared by dissolving the above-described hole transport material in water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof as an ink by a simple method such as a spin coating method, a die coating method, a dipping method, or a slit coating method. Batch formation is possible. As the organic solvent, toluene, xylene, anisole, mesitylene, tetralin, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate, butyl acetate and the like can be used. Further, a surfactant, an antioxidant, a viscosity modifier, an ultraviolet absorber and the like may be added to the ink.
次に、正孔輸送層３のうち、画素となる部分（画素部位）Ｐの間にある部分（サブピクセル間）Ｓを除去する（図４（ｂ））。サブピクセル間Ｓにある正孔輸送層３を除去する方法としては、発泡ウレタンなどの吸水性の弾性体に水または有機溶剤を含ませてワイピングにより除去してもよいし、粘着性物質に接触させ剥離してもよいし、レーザーアブレーションを用いて除去してもよい。 Next, the part (between subpixels) S between the part (pixel part) P to be a pixel is removed from the hole transport layer 3 (FIG. 4B). As a method of removing the hole transport layer 3 between the sub-pixels S, water or an organic solvent may be included in a water-absorbing elastic body such as urethane foam, or it may be removed by wiping, or contact with an adhesive substance. It may be peeled off and removed by laser ablation.
ワイピングにより正孔輸送層３を除去する場合に用いる溶剤の特性としては、正孔輸送材料を適度に溶解させること、および沸点が、好ましくは２０〜２００℃、より好ましくは５０〜１５０℃であることが挙げられる。沸点が高すぎる、また溶解度が高すぎる溶媒を用いた場合は、溶剤が十分に乾燥されず隔壁上に残ったり、画素内に形成された正孔輸送層をも溶かしてしまい膜の平坦性を下げるなどの現象が生じたりして、ＥＬ特性の劣化原因となる。沸点が低すぎる、また溶解度が低すぎる溶媒を用いた場合は、正孔輸送層の除去が不十分となる、もしくはコンタミが生じてしまうといった現象が生じて、ＥＬ特性の劣化原因となる。ワイピングに用いる有機溶剤としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが挙げられる。ただし、本発明はこれらを用いることに限定されない。 As the characteristics of the solvent used when removing the hole transport layer 3 by wiping, the hole transport material is appropriately dissolved and the boiling point is preferably 20 to 200 ° C., more preferably 50 to 150 ° C. Can be mentioned. If a solvent with a boiling point that is too high or too high in solubility is used, the solvent will not be sufficiently dried and will remain on the barrier ribs, or the hole transport layer formed in the pixel will be dissolved, resulting in film flatness. A phenomenon such as lowering may occur, causing deterioration of EL characteristics. When a solvent having a boiling point that is too low or too low in solubility is used, a phenomenon such as insufficient removal of the hole transport layer or contamination may occur, resulting in deterioration of EL characteristics. Examples of the organic solvent used for wiping include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, toluene, xylene, anisole, mesitylene, tetralin, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, and butyl acetate. However, the present invention is not limited to using these.
図５は、粘着性物質を用いて正孔輸送層を剥離させる方法を説明する模式図である。図５に示すように、粘着性物質１２を表面に付着させた粘着フィルムなどが巻き取られたロール１３を回転させ、粘着性物質１２を隔壁１１上に形成された正孔輸送層３と接触させる。そしてロール１３を回転させることで、粘着性物質１２と接触した部分の（すなわち隔壁１１上に形成された）正孔輸送層３を剥離する。粘着フィルムを正孔輸送層３と接触させる時の接触圧を調整することにより、どの程度正孔輸送層３を除去するかを制御することができる。粘着性物質１２としてはポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンジアルキルエーテル、エチルセルロース、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリレート、ポリビニルピロリドン、カルボキシビニルポリマー、カルボキシメチルセルロース、セルロース、寒天、カラギーナン、アルギン酸、ファーセレラン、ローカストビーンガム、グアガム、サイリュウガム、タマリンドガム、アラビアガム、トラガカントガム、カラヤガム、ペクチン、アラビノガラクタン、キサタンガム、プルラン、デキストラン、ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどが挙げられる。尚、本発明はこれらを用いることに限定されない。 FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a method of peeling the hole transport layer using an adhesive substance. As shown in FIG. 5, the roll 13 on which the adhesive film or the like having the adhesive substance 12 attached to the surface is wound is rotated to bring the adhesive substance 12 into contact with the hole transport layer 3 formed on the partition wall 11. Let Then, by rotating the roll 13, the hole transport layer 3 in a portion in contact with the adhesive substance 12 (that is, formed on the partition wall 11) is peeled off. The degree to which the hole transport layer 3 is removed can be controlled by adjusting the contact pressure when the adhesive film is brought into contact with the hole transport layer 3. Examples of the adhesive material 12 include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene dialkyl ether, ethyl cellulose, polyethylene glycol, polyethylene oxide, polyacrylate, polyvinyl pyrrolidone, carboxyvinyl polymer, carboxymethyl cellulose, cellulose, agar, carrageenan, alginic acid, fur celerane, locust Examples include bean gum, guar gum, syrup gum, tamarind gum, gum arabic, tragacanth gum, karaya gum, pectin, arabinogalactan, xanthan gum, pullulan, dextran, polyvinyl alcohol, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylmethylcellulose, hydroxypropylcellulose and the like. In addition, this invention is not limited to using these.
レーザーアブレーションを用いて正孔輸送層３を除去する方法では、エネルギーの強いパルスレーザーをザブピクセル間Ｓに照射し、瞬間的にレーザー照射された部分の正孔輸送層３を昇華させる。例えば、用いるレーザーとしてはＫｒＦエキシマレーザー（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長：１９３ｎｍ）などが挙げられる。尚、本発明はこれらを用いることに限定されない。 In the method of removing the hole transport layer 3 using laser ablation, a pulse laser with strong energy is irradiated to the inter-subpixel S, and the hole transport layer 3 in a portion irradiated with the laser instantaneously is sublimated. For example, examples of the laser used include a KrF excimer laser (wavelength: 248 nm), an ArF excimer laser (wavelength: 193 nm), and the like. In addition, this invention is not limited to using these.
透明電極（陽極）２上に設けられた有機発光媒体層５は、その層構成および材質のいずれについても、前述の有機ＥＬ素子の場合と同様である。ただし、発光体層４は、画素ごとに発光色の異なる発光体材料を用いて構成することが望ましい。例えば、図１では、第１の画素部位２１Ｒに赤色発光の発光体層４Ｒ、第２の画素部位２１Ｇに緑色発光の発光体層４Ｇ、第３の画素部位２１Ｂに青色発光の発光体層４Ｂを配列しており、フルカラーの画面を表示することが可能である。 The organic light-emitting medium layer 5 provided on the transparent electrode (anode) 2 is the same as that of the organic EL element described above with respect to both the layer configuration and the material. However, it is desirable that the light emitter layer 4 be formed using light emitter materials having different emission colors for each pixel. For example, in FIG. 1, the red light emitting layer 4R is formed in the first pixel portion 21R, the green light emitting layer 4G is formed in the second pixel portion 21G, and the blue light emitting layer 4B is formed in the third pixel portion 21B. Are arranged, and a full-color screen can be displayed.
これら各発光体層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、画素部位２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂにそれぞれパターン状に設けられている。サブピクセル間Ｓにある有機発光媒体層５は、少なくとも正孔輸送層３が除去されていればよい。そこで、本実施態様では、透明電極層（陽極）２および隔壁１１を形成した透光性基板１の全面に正孔輸送層３を形成した後、サブピクセル間Ｓにある正孔輸送層３を除去した後、発光体層４を形成する。 Each of these light emitter layers 4R, 4G, and 4B is provided in a pattern on the pixel portions 21R, 21G, and 21B. The organic light emitting medium layer 5 located between the sub-pixels S only needs to have at least the hole transport layer 3 removed. Therefore, in this embodiment, after the hole transport layer 3 is formed on the entire surface of the translucent substrate 1 on which the transparent electrode layer (anode) 2 and the partition wall 11 are formed, the hole transport layer 3 located between the sub-pixels S is formed. After the removal, the phosphor layer 4 is formed.
これら各発光体層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂは、スクリーン印刷法、インクジェット法などの印刷法によって形成することができる。これらの印刷法を用いれば、発光体層４を画素部位２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂに形成する一方、サブピクセル間Ｓ（すなわち隔壁１１上）に発光体層４が形成されてしまうことを回避できる。これら印刷法で形成する場合には、前記発光材料を、有機溶剤、水、あるいはこれらの混合溶剤に溶解してインキとすることができる。有機溶剤としては、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチルなどが使用できる。また、インキには、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤などを添加してもよい。 Each of the phosphor layers 4R, 4G, 4B can be formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet method. By using these printing methods, the light emitter layer 4 is formed in the pixel portions 21R, 21G, and 21B, while the light emitter layer 4 can be prevented from being formed between the sub-pixels S (that is, on the partition walls 11). In the case of forming by these printing methods, the light emitting material can be dissolved in an organic solvent, water, or a mixed solvent thereof to obtain an ink. As the organic solvent, toluene, xylene, anisole, mesitylene, tetralin, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate, butyl acetate and the like can be used. In addition, surfactants, antioxidants, viscosity modifiers, ultraviolet absorbers and the like may be added to the ink.
なお、本実施態様では発光体層４をパターン状に印刷することにより発光体層４が隔壁１１の頂部を覆うことを回避して、正孔輸送層３および発光体層４の両方について隔壁１１の頂部を覆わないようにしている。ただし、本発明では、有機発光媒体層に含まれる２以上の層を構成する有機膜のいずれかについて、隔絶帯を覆う部分が除去されていればよい。すなわち、本実施態様について述べれば、有機発光媒体層５を構成する正孔輸送層３と発光体層４のうちのいずれか一方のみについて、隔絶帯（本実施態様では隔壁１１）を覆う部分が除去されていればよい。 In this embodiment, the phosphor layer 4 is printed in a pattern so that the phosphor layer 4 does not cover the top of the partition wall 11, and both the hole transport layer 3 and the phosphor layer 4 have the partition wall 11. The top is not covered. However, in this invention, the part which covers the isolation zone should just be removed about either of the organic films which comprise two or more layers contained in an organic light emitting medium layer. That is, when describing this embodiment, only one of the hole transport layer 3 and the light emitter layer 4 constituting the organic light emitting medium layer 5 has a portion covering the isolation band (the partition wall 11 in this embodiment). It only has to be removed.
よって、本実施態様において、発光体層４をパターン状に印刷する代わりに、表示領域全体に全面塗布、すなわちベタ塗りしてもよい。本実施態様では、有機発光媒体層５を構成する２層のうちの１層である正孔輸送層３について隔壁１１を覆う部分を除去しているので、発光体層４をベタ塗りしても、有機発光媒体層を構成する有機膜の一部であって隔絶帯を覆う部分が除去されていることになるためである。 Therefore, in this embodiment, instead of printing the light emitting layer 4 in a pattern, the entire display area may be applied, that is, solidly coated. In the present embodiment, since the portion covering the partition wall 11 is removed from the hole transport layer 3 which is one of the two layers constituting the organic light emitting medium layer 5, even if the phosphor layer 4 is solid-coated. This is because a part of the organic film constituting the organic light emitting medium layer and covering the isolated zone is removed.
また、隔壁１１が、第１の方向（例えば縦方向）および第１の方向と直交する第２の方向（例えば横方向）に延びる格子状に設けられる場合、発光体層４をストライプ状に印刷してもよい。例えば、発光体層４を縦方向に平行なストライプ状に印刷すると、縦方向に延びる隔壁１１の頂部は発光体層４に覆われない一方、横方向に延びる隔壁１１の頂部は、発光体層４で覆われることになる。しかし、この場合も正孔輸送層３について隔壁１１を覆う部分が除去されているので、横方向に延びる隔壁１１の頂部が発光体層４に覆われていてもよい。さらに、このように格子状に設けた隔壁１１の頂部を覆う正孔輸送層３を除去する場合、発光体層４はベタ塗りしてもよい。 Further, when the partition walls 11 are provided in a lattice shape extending in the first direction (for example, the vertical direction) and the second direction (for example, the horizontal direction) orthogonal to the first direction, the light emitting layer 4 is printed in a stripe shape. May be. For example, when the light emitter layer 4 is printed in a stripe shape parallel to the vertical direction, the top of the partition wall 11 extending in the vertical direction is not covered with the light emitter layer 4, while the top of the partition wall 11 extending in the lateral direction is the light emitter layer. 4 will be covered. However, also in this case, since the portion covering the partition wall 11 of the hole transport layer 3 is removed, the top of the partition wall 11 extending in the lateral direction may be covered with the light emitting layer 4. Furthermore, when removing the hole transport layer 3 covering the tops of the partition walls 11 provided in a lattice shape in this way, the light emitting layer 4 may be solid-coated.
本実施態様では、発光体層４をした後、対向電極層（陰極）６を形成する。対向電極層（陰極）６は、前記金属または合金の薄膜を真空成する際に、蒸着マスクを使用して、この蒸着マスクの開口部に選択的に成膜することにより、前記ストライプ状パターンに形成すると共に、陰極取り出し電極８との導通を図ることができる。蒸着マスクとしては、金属製、セラミック製のものが利用できる。 In this embodiment, the counter electrode layer (cathode) 6 is formed after the phosphor layer 4 is formed. The counter electrode layer (cathode) 6 is formed into the stripe pattern by selectively forming a film on the opening of the vapor deposition mask using a vapor deposition mask when the metal or alloy thin film is vacuum-formed. In addition to the formation, electrical connection with the cathode extraction electrode 8 can be achieved. A metal or ceramic mask can be used as the vapor deposition mask.
なお、対向電極（陰極）６の上に、無機物や樹脂などにより絶縁性保護層を設けることができる。 An insulating protective layer can be provided on the counter electrode (cathode) 6 with an inorganic material, resin, or the like.
そして封止缶９で表示画面全体を覆って表示領域とし、封止缶９の端部を電気絶縁性の封止樹脂１０で透光性基板１に接着固定し、図２の有機ＥＬ表示装置３３を製造することができる。 Then, the entire display screen is covered with a sealing can 9 to form a display region, and an end of the sealing can 9 is bonded and fixed to the light-transmitting substrate 1 with an electrically insulating sealing resin 10, and the organic EL display device of FIG. 33 can be manufactured.
このように本実施態様では、表示領域全面に正孔輸送層を一括形成した上で、サブピクセル間にある正孔輸送層を除去するため、画素同士を隔絶する隔絶帯の頂部は正孔輸送層に覆われずに露出される。正孔輸送層は、表示領域全面に一括形成され、表示領域に設けられた複数の画素部位にある正孔輸送層は実質的に同一の膜で構成されるため、正孔輸送層をインクジェット法で形成する場合に比べ、表示領域にある複数の画素部位の正孔輸送層は均質化される。また、一括形成された正孔輸送層の一部を除去することにより画素同士を隔絶する隔絶帯の頂部が露出されるため、画素部位の辺縁の正孔輸送層の印刷抜けが防止でき、正孔輸送層が隔絶帯に存在してしまうことによる電流リークの発生も回避できる。 As described above, in this embodiment, the hole transport layer is formed all over the display region, and the hole transport layer between the sub-pixels is removed, so that the top of the isolated zone that separates the pixels is the hole transport. Exposed without being covered by a layer. The hole transport layer is formed all over the display area, and the hole transport layers in a plurality of pixel portions provided in the display area are formed of substantially the same film. As compared with the case of forming the hole transport layer, the hole transport layers in the plurality of pixel portions in the display region are homogenized. In addition, since the top of the isolation zone that isolates the pixels is exposed by removing a part of the hole transport layer formed in a lump, printing omission of the hole transport layer at the edge of the pixel part can be prevented, The occurrence of current leakage due to the presence of the hole transport layer in the isolated zone can also be avoided.
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置の実施例を挙げるが、本発明は下記実施例に何ら制限されるものではない。 Examples of the organic EL display device of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.
［実施例１］
対角１．８インチサイズのガラス基板を透光性基板として用いて、このガラス基板上にスパッタ法を用いてＩＴＯ（インジウム-錫酸化物）薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法により陽極のパターンを描き、酸溶液によるエッチングでＩＴＯ膜をパターニングして、陽極を形成した。陽極のラインパターンは、線幅１３６μｍ、スペース３０μｍでラインが約３２ｍｍ角の中に１９２ライン形成されるパターンとした。
[Example 1]
Using a 1.8-inch diagonal glass substrate as a light-transmitting substrate, an ITO (indium-tin oxide) thin film is formed on this glass substrate by sputtering, and an anode pattern is formed by photolithography. The ITO film was patterned by etching with an acid solution to form an anode. The anode line pattern was a pattern in which a line width of 136 μm, a space of 30 μm, and 192 lines were formed in about 32 mm square.
次に隔壁を以下のように形成した。陽極を形成したガラス基板上にポジ型感光性ポリイミド（東レ社製フォトニース DL-1000）を全面スピンコートした。スピンコートの条件は、１５０ｒｐｍで５秒間回転させた後、５００ｒｐｍで２０秒間回転させ１回コーティングとした。感光性ポリイミドは、隔壁の高さを１．５μｍとするように約１．５μｍの厚さで塗布した。次いで、全面に塗布した感光性ポリイミドに対し、フォトリソグラフィ法により露光、現像を行い、陽極の間に配置される隔壁となる部分のラインパターンを形成した。隔壁のパターンは２３０℃３０分でオーブンにて焼成を行い、隔壁を形成した。 Next, the partition was formed as follows. A positive photosensitive polyimide (Photo Nice DL-1000 manufactured by Toray Industries, Inc.) was spin-coated on the glass substrate on which the anode was formed. The spin coating was performed at 150 rpm for 5 seconds and then at 500 rpm for 20 seconds to form a single coating. The photosensitive polyimide was applied with a thickness of about 1.5 μm so that the height of the partition wall was 1.5 μm. Next, the photosensitive polyimide coated on the entire surface was exposed and developed by a photolithography method, thereby forming a line pattern of a portion to be a partition disposed between the anodes. The partition pattern was baked in an oven at 230 ° C. for 30 minutes to form the partition.
次に、正孔輸送層を印刷する前の基板（陽極および隔壁が形成されたガラス基板）に、前処理としてオーク製作所製 ＵＶ/Ｏ３洗浄装置にて３分間紫外線照射を行い親水化させた。親水化処理した基板に、正孔輸送層を形成するインキとして、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の１ｗｔ％水分散液を、スピンコート法を用いて表示領域となる部分全面に厚さ４０ｎｍで成膜した。 Next, the substrate before printing the hole transport layer (a glass substrate on which an anode and a partition wall were formed) was hydrophilized by UV irradiation for 3 minutes using a UV / O 3 cleaning device manufactured by Oak Manufacturing as a pretreatment. . As an ink for forming a hole transport layer on a hydrophilized substrate, a 1 wt% aqueous dispersion of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid (hereinafter PEDOT / PSS) is spin-coated. It was used to form a film with a thickness of 40 nm on the entire surface serving as a display region.
次いで、サブピクセル間（すなわち隔壁上）に成膜された正孔輸送層のみを、水と１−プロパノールの混合溶媒を含ませた発泡ウレタンでワイピングすることにより除去した。その後２００℃３０分大気中で正孔輸送層の焼成を行った。このときの正孔輸送層の膜厚は５０ｎｍとなった。形成された正孔輸送層のパターニング状態を観察したところ、各画素内の正孔輸送層は均一な膜形状を保持し、サブピクセル間に成膜された正孔輸送層は綺麗に除去され、隔壁の頂部が露出されていることが確認できた。 Next, only the hole transport layer formed between the sub-pixels (that is, on the partition walls) was removed by wiping with foamed urethane containing a mixed solvent of water and 1-propanol. Thereafter, the hole transport layer was baked in the atmosphere at 200 ° C. for 30 minutes. The film thickness of the hole transport layer at this time was 50 nm. When the patterning state of the formed hole transport layer was observed, the hole transport layer in each pixel maintained a uniform film shape, and the hole transport layer formed between the subpixels was removed cleanly, It was confirmed that the top of the partition wall was exposed.
そこで次に、有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体を濃度１％になるようにトルエンに溶解させた有機発光インキを用い、隔壁に挟まれた画素部位にある陽極の真上に、そのラインパターンにあわせて有機発光材料を凸版印刷法で印刷して発光体層を形成し、乾燥させた。印刷、乾燥後の発光体層の膜厚は１００ｎｍとなった。 Therefore, next, using organic light-emitting ink in which polyphenylene vinylene derivative, which is an organic light-emitting material, is dissolved in toluene so as to have a concentration of 1%, the line pattern is formed just above the anode in the pixel portion sandwiched between the partition walls. In addition, an organic light emitting material was printed by a relief printing method to form a light emitting layer and dried. The thickness of the phosphor layer after printing and drying was 100 nm.
その上にＣａ、Ａｌからなる対向電極（陰極）層を陽極のラインパターンと直交するようなラインパターンで抵抗加熱蒸着法によりマスク蒸着して形成した。以上の手順で有機ＥＬ素子を形成し、最後に、有機ＥＬ素子を外部の酸素や水分から保護するためにガラスキャップで覆い、接着剤を用いてガラスキャップを接着して有機ＥＬ素子を密閉封止し、有機ＥＬ表示装置を作製した。 A counter electrode (cathode) layer made of Ca and Al was formed thereon by mask vapor deposition using a resistance heating vapor deposition method in a line pattern orthogonal to the anode line pattern. The organic EL element is formed by the above procedure, and finally, the organic EL element is covered with a glass cap in order to protect it from external oxygen and moisture, and the glass cap is adhered using an adhesive, and the organic EL element is hermetically sealed. Then, an organic EL display device was produced.
得られた有機ＥＬ表示装置の表示部の周辺部には各画素の電極に接続されている陽極側の取り出し電極と、陰極側の取り出し電極とがあり、これらを電源に接続することにより、得られた有機ＥＬディスプレイパネルの点灯表示確認を行った。 In the periphery of the display portion of the obtained organic EL display device, there are an anode-side extraction electrode and a cathode-side extraction electrode connected to the electrodes of each pixel, and these are obtained by connecting them to a power source. The lighting display of the obtained organic EL display panel was confirmed.
得られた有機ＥＬ表示装置を駆動したところクロストークはなく、選択した画素のみ綺麗に点灯できた。 When the obtained organic EL display device was driven, there was no crosstalk, and only selected pixels could be lit beautifully.
［実施例２］
サブピクセル間に成膜された正孔輸送層を除去する方法として、粘着性物質による剥離方法を用いた以外は実施例１と同様に作製した。具体的には、ポリビニルカルバゾールと増粘多糖類の混合物である粘着性物質が塗布されているフィルムをロール状にしてフィルムと正孔輸送層とを接触させることにより、サブピクセル間に成膜された正孔輸送層を剥離させた。この方法を用いて作製した有機ＥＬ表示装置を駆動したところクロストークは見られなかった。
[Example 2]
As a method for removing the hole transport layer formed between the sub-pixels, it was produced in the same manner as in Example 1 except that a peeling method using an adhesive substance was used. Specifically, a film coated with an adhesive substance, which is a mixture of polyvinyl carbazole and thickening polysaccharide, is rolled to form a film between subpixels by bringing the film into contact with the hole transport layer. The positive hole transport layer was peeled off. When an organic EL display device manufactured using this method was driven, no crosstalk was observed.
［実施例３］
サブピクセル間に成膜された正孔輸送層を除去する方法としてレーザーアブレーションを用いた以外は実施例１と同様に作製した。レーザーアブレーションの方法としては、正孔輸送層を成膜した基板をＸＹステージ付きの台に固定し、ＫｒＦの２８４ｎｍのＵＶパルスレーザーを１００ｍＪ／ｃｍ２の出力で３ショット照射し行った。この方法を用いて作製した有機ＥＬ表示装置を駆動したところクロストークは見られなかった。
[Example 3]
It was produced in the same manner as in Example 1 except that laser ablation was used as a method for removing the hole transport layer formed between the subpixels. As a laser ablation method, a substrate on which a hole transport layer was formed was fixed on a stage with an XY stage, and a KrF 284 nm UV pulse laser was irradiated for 3 shots at an output of 100 mJ / cm 2 . When an organic EL display device manufactured using this method was driven, no crosstalk was observed.
［比較例］
正孔輸送層を形成するインキとしてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の１ｗｔ％水分散液を、スピンコート法を用いて表示領域全面に５０ｎｍ成膜した後、サブピクセル間に成膜された正孔輸送層の除去を一切行わなかった。その他の条件は実施例１と同様である。
[Comparative example]
As the ink for forming the hole transport layer, a 1 wt% aqueous dispersion of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid (hereinafter PEDOT / PSS) is formed on the entire surface of the display area by spin coating. After film formation, the hole transport layer formed between the subpixels was not removed at all. Other conditions are the same as in the first embodiment.
得られた有機ＥＬ表示装置を駆動したところクロストークが生じてしまった。 When the obtained organic EL display device was driven, crosstalk occurred.
このように、本発明によればクロストークの発生を防止できる。 Thus, according to the present invention, occurrence of crosstalk can be prevented.
１ 透光性基板
２ 陽極
３ 正孔輸送層
４ 発光体層
５ 有機発光媒体層
６ 陰極
７ 陽極取り出し電極
８ 陰極取り出し電極
９ 封止缶
１０ 封止樹脂
１１ 隔壁（隔絶帯）
１２ 粘着性物質
１３ ロール
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Translucent board | substrate 2 Anode 3 Hole transport layer 4 Light-emitting body layer 5 Organic luminescent medium layer 6 Cathode 7 Anode taking-out electrode 8 Cathode taking-out electrode 9 Sealing can 10 Sealing resin 11 Partition (isolation zone)
12 adhesive material 13 roll
Claims (6)
前記透光性基板上に、前記陽極を形成し、
前記陽極が形成された前記透光性基板の少なくとも表示領域全面に前記有機発光媒体層を構成する有機膜を成膜し、
前記有機膜のうち前記隔絶帯の前記頂部を覆う部分を粘着性物質に接触させることにより剥離させ除去し、
凸版印刷法により前記有機膜上及び前記第２の方向の隔絶帯上に前記ストライプ状の発光体層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 An organic electroluminescent element in which an anode, an organic light-emitting medium layer including at least a hole transport layer and a stripe-shaped light emitter layer, and a cathode are stacked is formed on a light-transmitting substrate. body layer parallel to the first direction, and are arranged to be isolated from each other by isolation zones that have a top portion comprising a dome-shaped I lattice shape der extending in a second direction perpendicular to the first direction In the method of manufacturing an organic electroluminescence display device having at least a display area,
Forming the anode on the translucent substrate;
Forming an organic film constituting the organic light emitting medium layer on at least the entire display region of the translucent substrate on which the anode is formed;
The part of the organic film covering the top of the isolated zone is peeled and removed by contacting the adhesive substance ,
A method for producing an organic electroluminescence display device, comprising: forming the stripe-shaped light-emitting layer on the organic film and the isolation band in the second direction by a relief printing method.
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