JP4795665B2

JP4795665B2 - Organic electroluminescence display panel and manufacturing method thereof

Info

Publication number: JP4795665B2
Application number: JP2004307843A
Authority: JP
Inventors: 健一永山
Original assignee: Pioneer Corp
Current assignee: Pioneer Corp
Priority date: 2004-10-22
Filing date: 2004-10-22
Publication date: 2011-10-19
Anticipated expiration: 2024-10-22
Also published as: JP2006120892A

Description

本発明は、有機エレクトロルミネセンス表示パネルおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an organic electroluminescence display panel and a method for manufacturing the same.

従来技術Conventional technology

従来、エレクトロルミネセンス特性を有する有機発光材料を発光源とする有機エレクトロルミネセンス表示パネル（以下有機ＥＬ表示パネルと称する）が知られている。該有機ＥＬ表示パネルは、発光機能を備えた有機機能層が第１および第２表示電極によって挟持されて形成されている有機エレクトロルミネセンス素子（以下有機ＥＬ素子と称する）と、該有機ＥＬ素子を支持する基板と、を含み、該基板上に複数の該有機ＥＬ素子が例えばマトリックス状に並べられている。 2. Description of the Related Art Conventionally, an organic electroluminescence display panel (hereinafter referred to as an organic EL display panel) using an organic light emitting material having electroluminescence characteristics as a light source is known. The organic EL display panel includes an organic electroluminescent element (hereinafter referred to as an organic EL element) in which an organic functional layer having a light emitting function is sandwiched between first and second display electrodes, and the organic EL element A plurality of organic EL elements are arranged in a matrix, for example, on the substrate.

有機機能層は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などの有機材料層を含む。該有機機能層は、例えば有機化合物材料からなり発光機能を有する発光層のみの単一層、あるいは有機正孔輸送層、発光層および有機電子輸送層の３層構造、又は有機正孔輸送層及び発光層の２層構造、さらにこれらの適切な層間に電子或いは正孔の注入層やキャリアブロック層を挿入した積層体とすることができる。 The organic functional layer includes organic material layers such as a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. The organic functional layer is made of, for example, a single layer of a light emitting layer made of an organic compound material and having a light emitting function, or a three-layer structure of an organic hole transporting layer, a light emitting layer and an organic electron transporting layer, or an organic hole transporting layer and a light emitting layer. A two-layer structure of layers, and a laminate in which an electron or hole injection layer or a carrier block layer is inserted between these appropriate layers can be obtained.

かかる構成の有機ＥＬ素子において、第１及び第２表示電極間に電圧を印加すると、正孔および電子が有機機能層へと注入されて、これらが発光層にて再結合して発光するのである。 In the organic EL element having such a configuration, when a voltage is applied between the first and second display electrodes, holes and electrons are injected into the organic functional layer, and these recombine in the light emitting layer to emit light. .

上記の如き有機ＥＬ表示パネルにおける有機機能層および電極の形成方法として、例えばマスク蒸着法が採用されている。マスク蒸着法は、所定の開口パターンを有する金属マスクを蒸着源からの蒸着材料流の遮蔽部として使用して、当該パターンに対応する有機機能層および電極を成膜する方法である。 As a method for forming the organic functional layer and the electrode in the organic EL display panel as described above, for example, a mask vapor deposition method is employed. The mask vapor deposition method is a method for forming an organic functional layer and an electrode corresponding to a pattern using a metal mask having a predetermined opening pattern as a shielding portion for a vapor deposition material flow from a vapor deposition source.

当該マスク蒸着法を用いて有機機能層および電極を成膜する場合、マスクの開口部に対応するパターンを有する有機機能層および電極が形成できる。図１に示す如く、基板１上に設けられている第１表示電極２の上にマスク蒸着法を用いて有機機能層３と第２表示電極４を形成した場合、通常、有機機能層３および第２表示電極４の端部がなだらかになっている。マスク蒸着法を用いて成膜する際に、蒸着材料流の一部がマスク部の下方へ僅かに回り込み、マスクの開口部よりも大なる領域で有機機能層及び第２表示電極が形成される場合がある。そして、第２表示電極４の蒸着の際に、第２表示電極の蒸着材料流が有機機能層の端部を越えて付着すると、第１表示電極２と第２表示電極４とが接触（図１丸点線内）して電極間のショートが発生してしまう。 When the organic functional layer and the electrode are formed using the mask vapor deposition method, the organic functional layer and the electrode having a pattern corresponding to the opening of the mask can be formed. As shown in FIG. 1, when the organic functional layer 3 and the second display electrode 4 are formed on the first display electrode 2 provided on the substrate 1 by using a mask vapor deposition method, the organic functional layer 3 and The end of the second display electrode 4 is gentle. When forming a film using the mask vapor deposition method, a part of the vapor deposition material flow slightly goes below the mask portion, and the organic functional layer and the second display electrode are formed in a region larger than the opening of the mask. There is a case. Then, when the second display electrode 4 is deposited, if the deposition material flow of the second display electrode adheres beyond the end of the organic functional layer, the first display electrode 2 and the second display electrode 4 come into contact with each other (see FIG. One round dotted line) and a short circuit between the electrodes occurs.

また、ストライプ状パターンの開口部を有するマスク等を用いたマスク蒸着法を用いて大型でありかつ高精細である有機ＥＬ表示パネルを製造する場合、金属マスクの開口部が大きくなって該開口部を規定するマスク部の幅が狭くなってしまう故、マスクの強度が不足して撓んでしまう。かかる撓みを防止するべく金属マスクに張力が付与されるものの、マスク部が次第に伸長して変形し、当該マスク部が基板上の有機機能層と接触して該有機機能層に欠陥部を形成してしまう。かかる有機機能層上に第２表示電極を形成すると、第２表示電極が該欠陥部を介して第１表示電極と接触してショートが発生するおそれがある。 Further, when a large-sized and high-definition organic EL display panel is manufactured by using a mask vapor deposition method using a mask having a striped pattern opening or the like, the opening of the metal mask becomes large and the opening Since the width of the mask portion that defines the above becomes narrow, the strength of the mask is insufficient and the mask portion is bent. Although tension is applied to the metal mask to prevent such bending, the mask portion gradually expands and deforms, and the mask portion comes into contact with the organic functional layer on the substrate to form a defective portion in the organic functional layer. End up. When the second display electrode is formed on such an organic functional layer, the second display electrode may contact the first display electrode through the defective portion, thereby causing a short circuit.

有機機能層および電極を形成する別の方法として、基板上に予め隔壁を形成しておき該隔壁を蒸着材料流の遮蔽部として使用する方法が知られている（特許文献１参照）。かかる方法の１例を図２に示してこれを参照しつつ説明する。図２に示す如く、基板１上に第１表示電極２を形成した後、第１表示電極２上に基板から突出する隔壁５を形成する。隔壁５はその上部に基板に平行な方向に突出するオーバーハング部を有し、隔壁の断面が逆台形状になっている。かかる隔壁５が形成された基板の主面に対して略垂直方向から蒸着材料流を入射せしめて、有機機能層３および第２表示電極４を蒸着する。蒸着分子は隔壁５の側部まで回り込めず、蒸着膜が隔壁のオーバーハング部によって分断される。その結果、隔壁５によって分断されてパターン化された有機機能層３および第２表示電極４を形成することができる。 As another method for forming the organic functional layer and the electrode, there is known a method in which a partition wall is formed in advance on a substrate and the partition wall is used as a shielding part for a deposition material flow (see Patent Document 1). An example of such a method will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, after the first display electrode 2 is formed on the substrate 1, the partition wall 5 protruding from the substrate is formed on the first display electrode 2. The partition wall 5 has an overhang portion projecting in a direction parallel to the substrate at an upper portion thereof, and the partition wall has an inverted trapezoidal cross section. The organic functional layer 3 and the second display electrode 4 are vapor-deposited by causing a vapor deposition material flow to enter from a substantially vertical direction with respect to the main surface of the substrate on which the partition walls 5 are formed. The vapor deposition molecules do not wrap around to the side of the partition wall 5, and the deposited film is divided by the overhang portion of the partition wall. As a result, the organic functional layer 3 and the second display electrode 4 which are divided and patterned by the partition walls 5 can be formed.

ところが、有機機能層を形成する蒸着材料流が隔壁の根元部まで回り込めない場合、有機機能層によって覆われていない第１表示電極の露出部が隔壁の根元部の近傍に形成されてしまう。その結果、第２表示電極がかかる露出部において第１表示電極と接して、ショートを発生させるおそれがある。 However, when the flow of the vapor deposition material forming the organic functional layer cannot reach the base of the partition, the exposed portion of the first display electrode that is not covered by the organic functional layer is formed in the vicinity of the base of the partition. As a result, the second display electrode may come into contact with the first display electrode at the exposed portion and cause a short circuit.

かかるショートの発生を防止する方法として、図３に示す如く、有機機能層３および第２表示電極４の材料が隔壁５の根元まで到達できるように隔壁５の上部に基板へ向かって突出するひさし６を設ける技術が知られている（特許文献２参照）。かかる技術は、ひさし６が基板１へ向かって突出していることから不要な蒸着材料の回り込みを防止できて、蒸着により隔壁５の側部を覆うように有機機能層および第２表示電極の材料を隔壁の根元まで到達させることができる。ところが、蒸着により隔壁の根元に蒸着材料を付着させるには、当該材料を基板に対して多方向から侵入させなければならない。すなわち、蒸着材料流の隔壁の根元部への回り込みが表示パネルの全面において均一ではない場合、第１表示電極が有機機能層によって覆われていない露出部が形成されて、第１および第２表示電極間のショートが発生するおそれがある。蒸着材料流の回り込みを表示パネル全体に対して均一にするには、例えば蒸着中に基板を回転させる、蒸着中に基板を傾ける、蒸着源を多数用意するなどしなければならない。その結果、蒸着装置が複雑かつ大型化し、当該装置に要するコストが増大してしまうなどの問題がある。そしてさらに、上記技術は、蒸着材料を根元部に回り込ませるために隔壁にひさしを設ける必要であることから、表示パネルの製造工程数が増加して煩雑になってしまう。
特開平８−３１５９８１特開２００１−９３６７２ As a method for preventing the occurrence of such a short circuit, as shown in FIG. 3, eaves projecting toward the substrate above the partition walls 5 so that the materials of the organic functional layer 3 and the second display electrode 4 can reach the bases of the partition walls 5. 6 is known (see Patent Document 2). In this technique, since the eaves 6 protrude toward the substrate 1, unnecessary vapor deposition material can be prevented from flowing around, and the materials of the organic functional layer and the second display electrode can be formed so as to cover the side portion of the partition wall 5 by vapor deposition. The root of the partition can be reached. However, in order to deposit the vapor deposition material on the base of the partition wall by vapor deposition, the material has to enter the substrate from multiple directions. That is, when the wraparound of the vapor deposition material flow to the base portion of the partition is not uniform over the entire surface of the display panel, an exposed portion in which the first display electrode is not covered with the organic functional layer is formed, and the first and second displays are formed. There is a risk of short circuit between the electrodes. In order to make the flow of the vapor deposition material uniform with respect to the entire display panel, for example, the substrate must be rotated during vapor deposition, the substrate should be tilted during vapor deposition, and a large number of vapor deposition sources should be prepared. As a result, there is a problem that the vapor deposition apparatus becomes complicated and large, and the cost required for the apparatus increases. In addition, the above technique requires an eaves on the partition wall so that the vapor deposition material can be circulated to the root portion, which increases the number of manufacturing steps of the display panel and becomes complicated.
JP-A-8-315981 JP 2001-93672 A

本発明は、上記した問題が１例として挙げられる諸問題を解決する手段を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a means for solving various problems mentioned above as an example.

請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルは、基板と、該基板上に形成されている第１表示電極と、該第１表示電極上に形成されている有機機能層と、該有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機ＥＬ表示パネルであって、該有機機能層は少なくとも１層の有機材料層からなり、少なくとも１層の該有機材料層は該第１および第２表示電極の交差部の中心部分に比べて該第２表示電極の端部の近傍において膜厚が大となっている厚膜部を有することを特徴とする。 The organic EL display panel according to claim 1 includes a substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and the organic functional layer. An organic EL display panel, wherein the organic functional layer is composed of at least one organic material layer, and the at least one organic material layer includes the first and first organic material layers. It has a thick film part whose film thickness is larger in the vicinity of the end part of the second display electrode than the central part of the intersection of the two display electrodes.

請求項５に記載の有機ＥＬ表示パネルは、基板と、該基板上に形成されている第１表示電極と、該第１表示電極上に形成されている有機機能層と、該有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機ＥＬ表示パネルであって、該有機機能層は少なくとも１層の有機材料層からなり、少なくとも１層の該有機材料層は該第１表示電極の発光画素領域の中心部分に比べて該第１表示電極の端部の近傍において膜厚が大となっている厚膜部を有することを特徴とする。 The organic EL display panel according to claim 5 includes a substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and the organic functional layer. A second display electrode formed on the organic EL display panel, wherein the organic functional layer is composed of at least one organic material layer, and the at least one organic material layer is the first display electrode. And a thick film portion having a larger thickness in the vicinity of the end portion of the first display electrode than the central portion of the light emitting pixel region.

請求項７に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板と、該基板上に形成されている第１表示電極と、該第１表示電極上に形成されている有機機能層と、該有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、該基板上に該第１表示電極を形成する工程と、該第１表示電極の上に少なくとも１層の有機材料層からなる該有機機能層を形成する工程と、該有機機能層上に該第２表示電極を形成する工程と、を含み、該有機機能層を形成する工程は該第２表示電極の端部が配されるべき位置の近傍において少なくとも１層の該有機材料層を該第１および第２表示電極の交差部の中心部分に比べて厚く形成する厚膜部形成工程を含むことを特徴とする。 The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 7 includes a substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and the organic A method of manufacturing an organic EL display panel including a second display electrode formed on a functional layer, the step of forming the first display electrode on the substrate; Forming the organic functional layer comprising at least one organic material layer; and forming the second display electrode on the organic functional layer. The step of forming the organic functional layer includes the step of forming the organic functional layer. A thick film portion forming step of forming at least one organic material layer thicker than the center portion of the intersection of the first and second display electrodes in the vicinity of the position where the end portions of the two display electrodes are to be disposed; It is characterized by including.

請求項１３に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板と、該基板上に形成されている第１表示電極と、該第１表示電極上に形成されている有機機能層と、該有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、該基板上に該第１表示電極を形成する工程と、該第１表示電極の上に少なくとも１層の有機材料層からなる該有機機能層を形成する工程と、該有機機能層上に該第２表示電極を形成する工程と、を含み、該有機機能層を形成する工程は該第１表示電極の端部の近傍において少なくとも１層の該有機材料層を該第１表示電極の発光画素領域の中心部分に比べて厚く形成する厚膜部形成工程を含むことを特徴とする。 The method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 13 includes a substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and the organic A method of manufacturing an organic EL display panel including a second display electrode formed on a functional layer, the step of forming the first display electrode on the substrate; Forming the organic functional layer comprising at least one organic material layer; and forming the second display electrode on the organic functional layer. The step of forming the organic functional layer includes the step of forming the organic functional layer. And a thick film portion forming step of forming at least one organic material layer thicker than the central portion of the light emitting pixel region of the first display electrode in the vicinity of the end portion of the one display electrode.

以下、本発明による有機ＥＬ表示パネルおよびその製造方法を、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。 Hereinafter, an organic EL display panel and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

（実施例１）
有機ＥＬ表示パネルは、ガラスや樹脂などからなる基板と、基板上に設けられたインジウム錫酸化物（以下ＩＴＯと称する）等の導電性材料からなる第１表示電極と、を有する。第１表示電極は、ストライプ状などのパターンを形成するように配置されていることとしても良い。 (Example 1)
The organic EL display panel includes a substrate made of glass or resin, and a first display electrode made of a conductive material such as indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) provided on the substrate. The first display electrode may be arranged so as to form a pattern such as a stripe shape.

図４（ａ）に示す如く、基板７に設けられた第１表示電極８上には第１機能層９が成膜されている。第１機能層９は、少なくとも１層の有機材料からなる有機材料層からなり、たとえば正孔注入層からなることとしても良い。第１機能層９は後述する第２表示電極の端部の近傍における膜厚（Ｙ１）が第１および第２表示電極の交差部の中心部分における膜厚（Ｙ０）に比べて大となるように（Ｙ１＞Ｙ０）形成されていて、かかる部分が厚膜部となっている。なお、第１機能層が複数の有機材料層からなる場合、各有機材料層の膜厚が第２表示電極の端部の近傍において大となっていてもよい。 As shown in FIG. 4A, the first functional layer 9 is formed on the first display electrode 8 provided on the substrate 7. The first functional layer 9 is made of an organic material layer made of at least one organic material, and may be made of, for example, a hole injection layer. The first functional layer 9 has a film thickness (Y1) in the vicinity of the end of the second display electrode, which will be described later, larger than the film thickness (Y0) in the central portion of the intersection of the first and second display electrodes. (Y1> Y0), and this portion is a thick film portion. When the first functional layer is composed of a plurality of organic material layers, the film thickness of each organic material layer may be large in the vicinity of the end portion of the second display electrode.

なお、厚膜部の膜厚が不均一であっても良い。例えば図４（ｂ）に示す如く、厚膜部はその膜厚が隣り合う第２表示電極同士の間の中間位置において最大になっていることとしても良い。 Note that the thickness of the thick film portion may be non-uniform. For example, as shown in FIG. 4B, the thickness of the thick film portion may be maximized at an intermediate position between the adjacent second display electrodes.

また、第１機能層が低分子材料からなる場合、蒸着法などのドライプロセスを用いて第１機能層を形成することとしても良い。第１機能層が高分子材料からなる場合、スピンコート法や印刷法などのウエットプロセスを用いて第１機能層を形成することとしても良い。 When the first functional layer is made of a low molecular material, the first functional layer may be formed using a dry process such as a vapor deposition method. When the first functional layer is made of a polymer material, the first functional layer may be formed using a wet process such as a spin coating method or a printing method.

第１機能層９上には第２機能層１０が形成されている。第２機能層１０は、少なくとも１層の有機材料層からなることとしても良く、たとえば正孔輸送層、発光層、電子輸送層が順に積み重ねられて形成されていることとしても良い。第２機能層１０は、その膜厚が均一になるように形成されていることとしても良い。 A second functional layer 10 is formed on the first functional layer 9. The second functional layer 10 may be composed of at least one organic material layer. For example, the second functional layer 10 may be formed by sequentially stacking a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer. The 2nd functional layer 10 is good also as being formed so that the film thickness may become uniform.

上記の如き第１および第２機能層９，１０の積層体が有機機能層１１を構成している。 The laminated body of the first and second functional layers 9 and 10 as described above constitutes the organic functional layer 11.

有機機能層１１上には第２表示電極１２が設けられている。第２表示電極１２は、例えば第１表示電極８と直交するストライプパターンを形成するように配置されている。第２表示電極１２の端部は、第１機能層の膜厚が大となっている位置に配されている。第１表示電極と第２表示電極が交差する領域が発光画素領域となり、有機機能層が第１及び第２表示電極によって挟持されている部分が有機ＥＬ表示パネル１３の発光部を形成している。かかる構成の有機ＥＬ表示パネル１３は、第１表示電極８、有機機能層１１、第２表示電極１２を封止する封止缶（図示せず）や封止膜（図示せず）を含み、有機機能層を大気から遮断することとしても良い。 A second display electrode 12 is provided on the organic functional layer 11. The second display electrode 12 is arranged so as to form, for example, a stripe pattern orthogonal to the first display electrode 8. The end of the second display electrode 12 is disposed at a position where the thickness of the first functional layer is large. A region where the first display electrode and the second display electrode intersect is a light emitting pixel region, and a portion where the organic functional layer is sandwiched between the first and second display electrodes forms a light emitting portion of the organic EL display panel 13. . The organic EL display panel 13 having such a configuration includes a sealing can (not shown) and a sealing film (not shown) for sealing the first display electrode 8, the organic functional layer 11, and the second display electrode 12. It is good also as shielding an organic functional layer from air | atmosphere.

上記の如き構成の有機ＥＬ表示パネルは、第２表示電極の端部の近傍において有機機能層が厚く形成されていることから、第１表示電極と第２表示電極とを確実に絶縁することができる故、電極間のショート発生を防止することができる。また、有機機能層の当該厚膜部に金属マスクの接触などの機械的な衝撃が加えられたとしても、有機機能層に第１表示電極を露出せしめる欠陥部が発生し難くなり、第２表示電極と第１表示電極とのショートが発生し難くなる。 In the organic EL display panel configured as described above, since the organic functional layer is formed thick in the vicinity of the end of the second display electrode, the first display electrode and the second display electrode can be reliably insulated. Therefore, it is possible to prevent a short circuit between the electrodes. Further, even when a mechanical impact such as contact of a metal mask is applied to the thick film portion of the organic functional layer, a defect portion that exposes the first display electrode to the organic functional layer is less likely to occur, and the second display Short circuit between the electrode and the first display electrode is less likely to occur.

なお、第１機能層の厚膜部における厚さＹ１を大とすればするほど第１表示電極と第２表示電極との間のショート発生の防止に効果的であるものの、当該厚膜部の形成に時間がかかってしまう。よって、Ｙ１／Ｙ０の値が２〜１００００であることが好ましく、Ｙ１／Ｙ０の値が２〜１０００程度であることがより好ましい。 Note that the larger the thickness Y1 in the thick film portion of the first functional layer, the more effective the prevention of the occurrence of a short circuit between the first display electrode and the second display electrode. It takes time to form. Therefore, the value of Y1 / Y0 is preferably 2 to 10000, and the value of Y1 / Y0 is more preferably about 2 to 1000.

また、有機機能層のうち、第２表示電極の端部の近傍において膜厚が大となっている有機材料層が、第１表示電極上の第１機能層である場合に限定されない。例えば、有機機能層のうち第２機能層の膜厚が第２表示電極の端部の近傍において大となっていることとしても良い。すなわち、第１機能層の膜厚が均一であり、第２機能層の膜厚が第２表示電極の端部の近傍において大であることとしても良い。また、有機機能層が第１、第２及び第３機能層からなり、第１および第３機能層の膜厚が均一でありかつ第２機能層の膜厚が第２表示電極の端部の近傍において大であることとしても良い。さらに、有機機能層が第１、第２及び第３機能層からなり、第２機能層の膜厚が均一でありかつ第１および第３機能層の膜厚が第２表示電極の端部の近傍において大であることとしても良い。すなわち、有機機能層が複数の有機材料層からなる場合において、第２表示電極の端部の近傍において膜厚が大となっている有機材料層は、１以上の任意の層である。また、当該第２表示電極の端部の近傍において膜厚が大となっている有機材料層は、高分子材料からなることとしても良い。 Moreover, it is not limited when the organic material layer whose film thickness is large in the vicinity of the edge part of a 2nd display electrode is a 1st functional layer on a 1st display electrode among organic functional layers. For example, the film thickness of the second functional layer in the organic functional layer may be large in the vicinity of the end portion of the second display electrode. That is, the thickness of the first functional layer may be uniform, and the thickness of the second functional layer may be large in the vicinity of the end portion of the second display electrode. The organic functional layer is composed of first, second and third functional layers, the first and third functional layers have a uniform thickness, and the second functional layer has a thickness at the end of the second display electrode. It may be large in the vicinity. Further, the organic functional layer is composed of the first, second, and third functional layers, the second functional layer has a uniform thickness, and the first and third functional layers have the thickness at the end of the second display electrode. It may be large in the vicinity. That is, when the organic functional layer is composed of a plurality of organic material layers, the organic material layer having a large thickness in the vicinity of the end portion of the second display electrode is one or more arbitrary layers. Further, the organic material layer having a large film thickness in the vicinity of the end portion of the second display electrode may be made of a polymer material.

上記実施例において、第２機能層は発光画素領域ごとに有機材料膜片が配置されて形成されていることとしても良い。たとえば、有機ＥＬ表示パネルがフルカラー表示パネルである場合、第２機能層が赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）の各色を発するのに適した発光材料を含む有機材料膜片をマトリックス状に分散された発光画素領域に配置して形成され、第１機能層がＲＧＢ３色の共通層としても良い。 In the above embodiment, the second functional layer may be formed by arranging organic material film pieces for each light emitting pixel region. For example, when the organic EL display panel is a full color display panel, an organic material film piece including a light emitting material suitable for the second functional layer to emit each color of red (R), green (G), and blue (B) is used. The first functional layer may be formed as a common layer of RGB three colors by being arranged in the light emitting pixel regions dispersed in a matrix.

（実施例２）
有機ＥＬ表示パネルの変形例を図５に示して説明する。図５に示す如く、有機ＥＬ表示パネルは、第１表示電極上の複数の画素表示領域１４にそれぞれ有機機能層を構成する有機材料からなる薄膜片が配置されている点が、実施例１とは異なっている。基板７上には第１表示電極８が形成されている。第１表示電極８上の複数の発光画素領域１４には正孔注入機能を有する有機材料などからなる第１薄膜片１５がそれぞれ配置されていて第１機能層９を形成している。第１機能層９の第１薄膜片１５の膜厚は後述する第２表示電極１２の端部の近傍において大となっている。複数の第１薄膜片１５上にはそれぞれ発光機能などを有する有機材料からなる第２薄膜片１６が設けられていて、第２機能層１０が形成されている。第２薄膜片１６は、例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）もしくは青色（Ｂ）の光を発するのに適した有機発光材料を含むこととしても良い。上記の如き第１機能層９と第２機能層１０は有機機能層１１を構成している。第２薄膜片１６上には導電性材料からなる第２表示電極１２が設けられている。第２表示電極１２は第１薄膜片１５の幅よりも小なる幅で形成されており、かつ第２表示電極１２の端部の近傍に第１薄膜片の厚膜部が配置されている。 (Example 2)
A modification of the organic EL display panel will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 5, the organic EL display panel is different from the first embodiment in that thin film pieces made of an organic material constituting an organic functional layer are arranged in a plurality of pixel display regions 14 on the first display electrode. Is different. A first display electrode 8 is formed on the substrate 7. In the plurality of light emitting pixel regions 14 on the first display electrode 8, first thin film pieces 15 made of an organic material or the like having a hole injection function are arranged to form the first functional layer 9. The film thickness of the first thin film piece 15 of the first functional layer 9 is large in the vicinity of the end portion of the second display electrode 12 described later. On the plurality of first thin film pieces 15, second thin film pieces 16 made of an organic material each having a light emitting function or the like are provided, and the second functional layer 10 is formed. The second thin film piece 16 may include, for example, an organic light emitting material suitable for emitting red (R), green (G), or blue (B) light. The first functional layer 9 and the second functional layer 10 as described above constitute an organic functional layer 11. A second display electrode 12 made of a conductive material is provided on the second thin film piece 16. The second display electrode 12 is formed with a width smaller than the width of the first thin film piece 15, and the thick film portion of the first thin film piece is disposed in the vicinity of the end of the second display electrode 12.

かかる構成の有機ＥＬ表示パネルによれば、第２薄膜片および第２表示電極を形成する際に使用した金属マスクが接触するなどの機械的な衝撃に起因する第１機能層の欠陥部が発生し難くなり、第１表示電極と第２表示電極とのショートが発生し難くなる。 According to the organic EL display panel having such a configuration, a defect portion of the first functional layer is generated due to a mechanical impact such as contact of a metal mask used when forming the second thin film piece and the second display electrode. This makes it difficult to cause a short circuit between the first display electrode and the second display electrode.

また、例えば第２表示電極をマスク蒸着により形成する場合において、第２表示電極の蒸着材料流のうち僅かに第１薄膜片の端部方向へと流れても、第１薄膜片の厚膜部が段差部を形成しており、さらに該蒸着材料流が該段差部に付着しにくい故、蒸着膜が該段差部を完全に覆うことが困難になる。その結果、第１表示電極と第２表示電極との間のショートが発生し難くなる。 Further, for example, when the second display electrode is formed by mask vapor deposition, even if the deposition material flow of the second display electrode slightly flows toward the end portion of the first thin film piece, the thick film portion of the first thin film piece Forms a step portion, and further, the vapor deposition material flow hardly adheres to the step portion, so that it becomes difficult for the vapor deposition film to completely cover the step portion. As a result, a short circuit between the first display electrode and the second display electrode hardly occurs.

なお、第１薄膜片の膜厚が他の部分に比べて大となるように形成されている部分、すなわち厚膜部の幅（Ｘ）は、第１薄膜片および第２表示電極のパターン精度に依存して設定される。例えば、第１薄膜片のパターン精度が±ａであり、第２表示電極のパターン精度が±ｂである場合には、第１薄膜片の端部と第２表示電極の端部の間の最大ずれ量の最大値は、（ａ＋ｂ）となる。かかる最大値と厚膜部を作製するための時間及びコスト等を考慮して、Ｘはかかる位置ズレ量の２倍（２×（ａ＋ｂ））程度であることが望ましい。具体的に、Ｘは１〜１００μｍ程度が望ましい。 Note that the width (X) of the first thin film piece and the second display electrode is the pattern accuracy of the first thin film piece and the second display electrode. Set depending on. For example, when the pattern accuracy of the first thin film piece is ± a and the pattern accuracy of the second display electrode is ± b, the maximum between the end of the first thin film piece and the end of the second display electrode The maximum deviation amount is (a + b). In consideration of the maximum value and the time and cost for producing the thick film portion, it is desirable that X is about twice (2 × (a + b)) the positional deviation amount. Specifically, X is preferably about 1 to 100 μm.

また、第１表示電極上に発光画素領域を画定する絶縁膜（図示せず）が配されおり、該絶縁膜上に有機機能層の厚膜部が配置されていることとしても良い。第２表示電極の端部の近傍において膜厚が大となっている有機機能層と絶縁膜とを組み合わせることによって、電極間のショート発生をより確実に抑制することができる。 Further, an insulating film (not shown) for defining a light emitting pixel region may be disposed on the first display electrode, and a thick film portion of the organic functional layer may be disposed on the insulating film. By combining the organic functional layer having a large film thickness in the vicinity of the end portion of the second display electrode and the insulating film, occurrence of a short circuit between the electrodes can be more reliably suppressed.

（実施例３）
有機ＥＬ表示パネルに隣り合う第２表示電極同士を分断している隔壁が設けられている実施例について説明する。有機ＥＬ表示パネルは、基板上に例えばストライプ状に配置された電極片を有する第１表示電極が設けられている。図６に示す如く、第１表示電極８上には基板７の主面から突出する方向に伸長している複数の隔壁１７が設けられている。隔壁１７はその上部に基板に平行な方向に突出するオーバーハング部が形成されていて、その断面が例えば逆台形状となっていることとしても良い。また隔壁１７は、樹脂材料からなることとしても良い。隔壁１７のうち隣り合うもの同士は、第１表示電極８上に発光領域１４を画定している。 (Example 3)
An embodiment in which a partition wall that divides the second display electrodes adjacent to the organic EL display panel is provided will be described. The organic EL display panel is provided with a first display electrode having electrode pieces arranged, for example, in stripes on a substrate. As shown in FIG. 6, a plurality of partition walls 17 extending in a direction protruding from the main surface of the substrate 7 are provided on the first display electrode 8. The partition wall 17 may be formed with an overhang portion projecting in a direction parallel to the substrate at an upper portion thereof, and the cross section thereof may be, for example, an inverted trapezoidal shape. The partition wall 17 may be made of a resin material. Adjacent ones of the partition walls 17 define a light emitting region 14 on the first display electrode 8.

第１表示電極８上の複数の発光画素領域１４にはそれぞれ第１薄膜片１５が設けられている。当該第１薄膜片群は、第１機能層９を形成している。第１薄膜片１５の膜厚は、後述する第２表示電極の端部の近傍に対応する隔壁の根元部において、大となっている。かかる第１薄膜片は、例えばスピンコート法などのウエットプロセスを用いて形成することとしても良い。ウエットプロセスを用いて毛管現象を利用することによって、隔壁の根元部に第１薄膜片の厚膜部が形成できる。 A first thin film piece 15 is provided in each of the plurality of light emitting pixel regions 14 on the first display electrode 8. The first thin film piece group forms the first functional layer 9. The film thickness of the first thin film piece 15 is large at the base part of the partition wall corresponding to the vicinity of the end part of the second display electrode described later. The first thin film piece may be formed using a wet process such as a spin coating method. By utilizing the capillary phenomenon using a wet process, the thick film portion of the first thin film piece can be formed at the base portion of the partition wall.

複数の第１薄膜片１５上に、それぞれ発光機能などを有する有機材料からなる第２薄膜片１６が設けられている。当該第２薄膜片群が、第２機能層１０を形成し、第１及び第２機能層９，１０が有機機能層１１を形成している。なお、第２機能層の各第２薄膜片が例えばＲＧＢ３色の光を発するのに適した有機発光材料の何れかを含むこととしても良い。 On the plurality of first thin film pieces 15, second thin film pieces 16 made of an organic material each having a light emitting function or the like are provided. The second thin film piece group forms the second functional layer 10, and the first and second functional layers 9 and 10 form the organic functional layer 11. Each of the second thin film pieces of the second functional layer may include any one of organic light emitting materials suitable for emitting RGB three-color light, for example.

複数の第２薄膜片１６上にはそれぞれ第２表示電極１２が設けられており、第２表示電極１２のうち隣り合うもの同士が隔壁１７によって分断されている。第２表示電極１２が隔壁１７によって分断されることにより、第２表示電極１２の端部が隔壁１７の側部の近傍に配されている。したがって、第１薄膜片の厚膜部を隔壁の根元部に形成することによって、第２表示電極の端部の近傍に第１機能層の厚膜部が配置されることとなる。 A second display electrode 12 is provided on each of the plurality of second thin film pieces 16, and adjacent ones of the second display electrodes 12 are separated by a partition wall 17. Since the second display electrode 12 is divided by the partition wall 17, the end portion of the second display electrode 12 is arranged in the vicinity of the side portion of the partition wall 17. Therefore, by forming the thick film portion of the first thin film piece at the base portion of the partition wall, the thick film portion of the first functional layer is disposed in the vicinity of the end portion of the second display electrode.

かかる構成の有機ＥＬ表示パネル１３は、隔壁１７の根元部に有機機能層１１の厚膜部が形成されていることによって、第１表示電極８と第２表示電極１２との間のショートを防止することができる。 The organic EL display panel 13 having such a configuration prevents a short circuit between the first display electrode 8 and the second display electrode 12 by forming the thick film portion of the organic functional layer 11 at the base portion of the partition wall 17. can do.

また、第１機能層が蒸着に適さない高分子材料からなる場合であっても、ウエットプロセスを用いて厚膜部を形成することができて、ショートの発生を防止した有機ＥＬ表示パネルが得られる。 In addition, even when the first functional layer is made of a polymer material that is not suitable for vapor deposition, a thick film portion can be formed using a wet process, and an organic EL display panel that prevents occurrence of a short circuit is obtained. It is done.

なお、複数の有機材料層からなる有機機能層において、厚膜部を有する有機材料層は、１以上の任意の層としても良い。 In the organic functional layer composed of a plurality of organic material layers, the organic material layer having the thick film portion may be one or more arbitrary layers.

隔壁が第１表示電極上に直接形成される場合に限定されず、例えば第１表示電極上に設けられた絶縁膜上に隔壁が形成されても良い。かかる点を除き、他の構成は上述した図６に示す如き構成と同様である。かかる有機ＥＬ表示パネルによれば、隔壁の根元部における第１および第２表示電極間のショート発生をより効果的に防止することができる。 The partition is not limited to be formed directly on the first display electrode. For example, the partition may be formed on an insulating film provided on the first display electrode. Except for this point, the other configuration is the same as the configuration shown in FIG. 6 described above. According to such an organic EL display panel, it is possible to more effectively prevent occurrence of a short circuit between the first and second display electrodes at the base portion of the partition wall.

（実施例４）
有機ＥＬ表示パネルの他の実施例を図７に示して説明する。図７に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１３は、基板７上に第１表示電極８が形成されており、第１表示電極８の発光画素領域１４上に第１機能層９が形成されている。第１機能層９の膜厚は第１表示電極８の発光画素領域１４の中心部分に比べて前記第１表示電極の端部の近傍において大となっていて、かかる部分が厚膜部となっている。その他の構成は上述した実施例１とほぼ同じように、第１機能層９上には第２機能層１０が形成されており、第２機能層１０上には第２表示電極１２が形成されている。有機機能層が第１及び第２表示電極によって挟持されている部分が有機ＥＬ表示パネル１３の発光部を形成している。 Example 4
Another embodiment of the organic EL display panel will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7, in the organic EL display panel 13, the first display electrode 8 is formed on the substrate 7, and the first functional layer 9 is formed on the light emitting pixel region 14 of the first display electrode 8. . The thickness of the first functional layer 9 is larger in the vicinity of the end portion of the first display electrode than in the central portion of the light emitting pixel region 14 of the first display electrode 8, and this portion becomes a thick film portion. ing. In other respects, the second functional layer 10 is formed on the first functional layer 9 and the second display electrode 12 is formed on the second functional layer 10 as in the first embodiment. ing. A portion where the organic functional layer is sandwiched between the first and second display electrodes forms a light emitting portion of the organic EL display panel 13.

かかる構成によれば、第２機能層及び第２表示電極をマスク蒸着により形成する際にマスクが有機機能層と接触しても、有機機能層に欠陥部が形成され難い。その結果、第１表示電極と第２表示電極間のショートが発生しにくい。 According to this configuration, even when the second functional layer and the second display electrode are formed by mask vapor deposition, even if the mask comes into contact with the organic functional layer, it is difficult for a defective portion to be formed in the organic functional layer. As a result, a short circuit between the first display electrode and the second display electrode hardly occurs.

かかる構成は、例えば第２表示電極がベタ蒸着により形成されているアクティブマトリクス型有機ＥＬ表示パネルである場合であっても、電極間のショートの発生を防止することができる。例えば、アクティブマトリックス型有機ＥＬ表示パネルがフルカラー表示パネルである場合、ＲＧＢ３色にそれぞれ対応する発光材料膜片が順番にかつ互いに間隔を置いて繰返して配置されている。かかる発光材料膜片はそれぞれマスク蒸着法を用いて形成されていても良い。上記の如き第１表示電極の端部において厚膜部を有する第１機能層を形成した後に該発光材料膜片を形成する場合、当該マスクが第１機能層の端部に接触しても、第１表示電極を露出せしめる欠陥部が第１機能層に形成されにくい。したがって、第２表示電極と第１表示電極とが短絡する可能性が低くなる。 Such a configuration can prevent the occurrence of a short circuit between the electrodes even when the second display electrode is an active matrix organic EL display panel formed by solid deposition, for example. For example, when the active matrix organic EL display panel is a full-color display panel, the light emitting material film pieces corresponding to the three RGB colors are sequentially and repeatedly arranged at intervals. Each of the light emitting material film pieces may be formed by using a mask vapor deposition method. When the light emitting material film piece is formed after forming the first functional layer having the thick film portion at the end portion of the first display electrode as described above, even if the mask contacts the end portion of the first functional layer, Defects that expose the first display electrodes are unlikely to be formed in the first functional layer. Therefore, the possibility that the second display electrode and the first display electrode are short-circuited is reduced.

なお、上記した全ての実施例は、電極間に挟持されている有機材料層が有機材料からなる有機ＥＬ表示パネルとして説明しているものの、有機材料層の一部に無機材料を含んでいても良い。 In addition, although all the above-described embodiments are described as an organic EL display panel in which the organic material layer sandwiched between the electrodes is made of an organic material, an inorganic material may be included in a part of the organic material layer. good.

（実施例５）
上記した実施例１の如き構成の有機ＥＬ表示パネルの製造方法について説明する。ガラスもしくは樹脂からなる基板１７上にスパッタ法などの成膜方法を用いてインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと称する）等の導電材料膜を形成した後、該導電材料膜上にフォトレジストを配した後に所定のパターンでフォトレジストを配して、エッチング処理を施す。エッチング処理後、マスクを除去して、第１表示電極８を形成する。（図８（ａ））。第１表示電極８を形成した後、図８（ｂ）に示す如く、第１表示電極上に第１機能層９を形成する。第１機能層９を作成する工程において、後述する第２表示電極の端部が形成されるべき位置の近傍において膜厚が大となる厚膜部を形成する工程を実施する。第１機能層９の形成は、例えばインクジェット法を用いた成膜方法が使用できる。インクジェット法を用いて成膜する場合、かかる厚膜部の形成は、第１機能層９を構成する材料を含む溶液を第２表示電極の端部が形成されるべき位置において多量に供給することによって行われる。なお、第１機能層９が複数の有機材料層からなる場合、有機材料層を成膜する毎に上記工程を繰り返して、各有機材料層の膜厚が第２表示電極の端部が形成されるべき位置の近傍において大となるように実施する。 (Example 5)
A method for manufacturing the organic EL display panel having the structure as described in Example 1 will be described. A conductive material film such as indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO) is formed on a substrate 17 made of glass or resin by using a film forming method such as sputtering, and then a photoresist is disposed on the conductive material film. After that, a photoresist is arranged in a predetermined pattern and an etching process is performed. After the etching process, the mask is removed and the first display electrode 8 is formed. (FIG. 8 (a)). After forming the first display electrode 8, as shown in FIG. 8B, the first functional layer 9 is formed on the first display electrode. In the step of creating the first functional layer 9, a step of forming a thick film portion having a large film thickness in the vicinity of a position where an end portion of a second display electrode described later is to be formed is performed. For the formation of the first functional layer 9, for example, a film forming method using an ink jet method can be used. In the case of forming a film using the ink jet method, the thick film portion is formed by supplying a large amount of a solution containing the material constituting the first functional layer 9 at a position where the end portion of the second display electrode is to be formed. Is done by. In addition, when the 1st functional layer 9 consists of a several organic material layer, the said process is repeated whenever it forms an organic material layer, and the film thickness of each organic material layer forms the edge part of a 2nd display electrode. It carries out so that it may become large in the vicinity of the position to be.

第１機能層９を形成した後、例えば蒸着法などの成膜方法を用いて第２機能層１０を形成する（図８（ｃ））。第１及び第２機能層９，１０が有機機能層１１を形成している。第２機能層１０を形成した後、マスク蒸着法などの成膜方法を用いてアルミニウム合金等の導電性材料からなる第２表示電極１２を形成する（図８（ｄ））。蒸着の際に、マスクが有機機能層１１と接触する場合であっても、第１機能層９に膜厚が大となっている領域が形成されていることから、第１表示電極８を露出せしめる欠陥部が有機機能層１１に形成されにくい。換言すれば、マスクの変形等に起因するマスクと有機機能層との間の接触は、マスクの開口部を規定しているマスク部が存する位置の近傍、すなわち第２表示電極の端部が形成されるべき位置の近傍において発生しやすいことから、当該位置における第１機能層の膜厚を大とすることによって、第１表示電極を露出せしめる欠陥部が有機機能層に形成されにくい。その結果、第１および第２表示電極間のショートが発生し難くなる。 After forming the first functional layer 9, the second functional layer 10 is formed by using a film forming method such as vapor deposition (FIG. 8C). The first and second functional layers 9 and 10 form the organic functional layer 11. After the second functional layer 10 is formed, the second display electrode 12 made of a conductive material such as an aluminum alloy is formed by using a film forming method such as a mask vapor deposition method (FIG. 8D). Even when the mask is in contact with the organic functional layer 11 during vapor deposition, the first functional layer 9 is formed with a region having a large film thickness, so that the first display electrode 8 is exposed. The damaging defect portion is difficult to be formed in the organic functional layer 11. In other words, the contact between the mask and the organic functional layer due to the deformation of the mask is formed in the vicinity of the position where the mask portion defining the opening of the mask exists, that is, at the end of the second display electrode. Since it is likely to occur in the vicinity of the position to be formed, by increasing the film thickness of the first functional layer at the position, a defect portion that exposes the first display electrode is hardly formed in the organic functional layer. As a result, a short circuit between the first and second display electrodes is less likely to occur.

上記の如き工程を経て、有機機能層１１が第１および第２表示電極８，１２によって挟持されている有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ表示パネル１３が得られる。なお、第２表示電極１２を形成した後に、スパッタ法などの成膜方法を用いて有機ＥＬ素子を封止する封止膜（図示せず）を成膜する、若しくは有機ＥＬ素子を封止するように封止缶（図示せず）を配することとしても良い。 Through the steps as described above, an organic EL display panel 13 having an organic EL element in which the organic functional layer 11 is sandwiched between the first and second display electrodes 8 and 12 is obtained. Note that after the second display electrode 12 is formed, a sealing film (not shown) for sealing the organic EL element is formed using a film forming method such as sputtering, or the organic EL element is sealed. It is good also as arranging a sealing can (not shown) like this.

厚膜部を形成する方法は、上記の如く有機材料層の材料の供給量の増減によって形成する方法に限定されない。例えば、図９（ａ）に示す如く、基板７上にスパッタ法などの成膜方法を用いて第１表示電極８を形成した後、第２表示電極の端部が形成されるべき位置の近傍のみにおいて有機機能材料からなる第１機能薄膜片９ａを形成する。第１機能薄膜片９ａは、例えばマスク蒸着や印刷法などの任意の位置に所定のパターンで薄膜を形成することができる成膜方法を用いて実施することができる。第１機能薄膜片９ａを形成した後、第１表示電極上の発光領域および第１機能薄膜片９ａを覆いかつ第１機能薄膜片９ａと同一の材料からなる第１機能薄膜９ｂを形成する（図９（ｂ））。かかる第１機能薄膜片９ａ及び第１機能薄膜９ｂが第１機能層９を形成する。第１機能層を形成した後、第２機能層、第２表示電極を上述した方法を用いて形成し、有機ＥＬ表示パネルが得られる。 The method of forming the thick film portion is not limited to the method of forming by increasing / decreasing the supply amount of the material of the organic material layer as described above. For example, as shown in FIG. 9A, after the first display electrode 8 is formed on the substrate 7 by using a film forming method such as sputtering, the vicinity of the position where the end of the second display electrode is to be formed. Only the first functional thin film piece 9a made of an organic functional material is formed. The first functional thin film piece 9a can be implemented using a film forming method capable of forming a thin film with a predetermined pattern at an arbitrary position such as mask vapor deposition or printing. After the first functional thin film piece 9a is formed, the first functional thin film 9b made of the same material as the first functional thin film piece 9a covering the light emitting region on the first display electrode and the first functional thin film piece 9a is formed ( FIG. 9B). The first functional thin film piece 9 a and the first functional thin film 9 b form the first functional layer 9. After forming the first functional layer, the second functional layer and the second display electrode are formed using the method described above, and an organic EL display panel is obtained.

上記の如く、有機機能層のうち厚膜部を有する有機材料層は、第２表示電極の端部が形成されるべき位置における薄膜片の形成と、発光画素領域における有機薄膜の形成と、を分けて実施するなどの複数回の成膜を実施することによって形成される。なお薄膜片の形成と有機薄膜の形成との順番は、上記説明とは逆に、有機薄膜の形成を行った後に薄膜片の形成を行うこととしても良い。 As described above, the organic material layer having the thick film portion of the organic functional layer includes the formation of the thin film piece at the position where the end of the second display electrode is to be formed and the formation of the organic thin film in the light emitting pixel region. The film is formed by performing film formation a plurality of times, for example, by carrying out separately. Note that the order of the formation of the thin film pieces and the formation of the organic thin film may be reverse to the above description, and the thin film pieces may be formed after the formation of the organic thin film.

なお、上記製造方法の説明において、有機機能層のうち厚膜部を有する有機材料層が第１機能層である場合について記載しているものの、これに限定されない。複数の有機材料層からなる有機機能層のうち任意の有機材料層において膜厚が大となっている有機材料層を形成する工程を行うこととしても良い。 In the description of the above manufacturing method, although the case where the organic material layer having the thick film portion in the organic functional layer is the first functional layer is described, the present invention is not limited to this. It is good also as performing the process of forming the organic material layer whose film thickness is large in arbitrary organic material layers among the organic functional layers which consist of a plurality of organic material layers.

また、上記の如く、有機材料層の膜厚が大となるように成膜する工程は、第１表示電極の端部の近傍において少なくとも１層の有機材料層を第１表示電極の発光画素領域の中心部分に比べて厚く形成する工程であることとしても良い。例えば、第１表示電極の端部の近傍において、インクジェットノズルから吐出される溶液の量を大とする成膜方法若しくは印刷法などの成膜方法を用いて薄膜形成を繰り返すこととしても良い。かかる工程を行うことによって、実施例４として上述した有機ＥＬ表示パネルを作製することができる。 In addition, as described above, the step of forming the organic material layer so as to increase the film thickness includes at least one organic material layer in the vicinity of the end portion of the first display electrode. It is good also as the process of forming thickly compared with the center part. For example, in the vicinity of the end of the first display electrode, the thin film formation may be repeated using a film formation method such as a film formation method or a printing method in which the amount of the solution discharged from the inkjet nozzle is large. By performing this process, the organic EL display panel described above as Example 4 can be manufactured.

（実施例６）
有機ＥＬ表示パネルの製造方法の変形例を図１０に示して説明する。図１０（ａ）に示す如く、スパッタ法などの成膜方法を用いて、基板上にストライプパターンを形成するように配置されている第１表示電極８を形成した後、第１表示電極８の複数の発光領域１４の上にそれぞれ第１薄膜片１５を設けて、第１機能層９を形成する。第１薄膜片１５は、インクジェット法、マスク蒸着や印刷法などの成膜方法を用いて、後述する第２表示電極の端部の近傍において第１薄膜片１５の膜厚が大となるように形成される。 (Example 6)
A modification of the method for manufacturing the organic EL display panel will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 10A, after forming the first display electrode 8 arranged so as to form a stripe pattern on the substrate by using a film forming method such as sputtering, the first display electrode 8 A first thin film piece 15 is provided on each of the plurality of light emitting regions 14 to form the first functional layer 9. The first thin film piece 15 is formed by using a film forming method such as an inkjet method, mask vapor deposition, or a printing method so that the film thickness of the first thin film piece 15 is increased in the vicinity of the end portion of the second display electrode described later. It is formed.

複数の第１薄膜片１５上に、それぞれ発光機能などを有する有機材料からなる第２薄膜片を例えばマスク蒸着法を用いて成膜する（図１０（ｂ））。当該第２薄膜片群が、第２機能層１０となる。なお、第２薄膜片が例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）もしくは青色（Ｂ）の光を発するのに適した有機発光材料を含むこととしても良い。たとえば、赤色有機発光材料を所定のパターンの開口部を有するマスクを用いて蒸着して第２薄膜片１６Ｒを形成した後、かかるマスクの開口部の位置を変更して、緑色有機発光材料の蒸着を行う。第２薄膜片１６Ｇを形成した後、さらにマスクの開口部の位置を変更して、青色有機発光材料の蒸着を行い、第２薄膜片１６Ｂを形成することとしても良い。 A second thin film piece made of an organic material having a light emitting function or the like is formed on the plurality of first thin film pieces 15 by using, for example, a mask vapor deposition method (FIG. 10B). The second thin film piece group becomes the second functional layer 10. The second thin film piece may include an organic light emitting material suitable for emitting red (R), green (G), or blue (B) light, for example. For example, after a red organic light emitting material is deposited using a mask having openings of a predetermined pattern to form the second thin film piece 16R, the position of the opening of the mask is changed to deposit the green organic light emitting material. I do. After the second thin film piece 16G is formed, the position of the opening of the mask may be further changed, and the blue organic light emitting material may be deposited to form the second thin film piece 16B.

第２機能層９の第２薄膜片の上に、マスク蒸着法を用いて導電性材料からなる第２表示電極１２を形成する（図１０（ｃ））。第２表示電極１２は第１薄膜片１５の幅よりも小なる幅で形成し、第２表示電極１２の端部が第１薄膜片１５の厚膜部上に配されるように設けられている。第２表示電極１２が形成されて、有機ＥＬ表示パネル１３が得られる。 A second display electrode 12 made of a conductive material is formed on the second thin film piece of the second functional layer 9 by using a mask vapor deposition method (FIG. 10C). The second display electrode 12 is formed to have a width smaller than the width of the first thin film piece 15, and the end of the second display electrode 12 is provided so as to be disposed on the thick film portion of the first thin film piece 15. Yes. The second display electrode 12 is formed, and the organic EL display panel 13 is obtained.

上記の如き有機ＥＬ表示パネルの製造方法によれば、フルカラー表示パネルを製造する場合などのマスク蒸着法を多用する場合においても、有機機能層に欠陥部が発生し難くなる。 According to the method for manufacturing an organic EL display panel as described above, even when a mask vapor deposition method is frequently used such as when a full-color display panel is manufactured, a defective portion is hardly generated in the organic functional layer.

また、蒸着材料流が有機材料層を構成する薄膜片の厚膜部を越えても、該厚膜部によって形成される段差部は蒸着膜によって被覆されにくい故、第２表示電極のマスク蒸着の際にマスク位置が規定した位置から偏倚している場合およびマスクが変形している場合であっても、ショートが発生し難くなる。 Further, even if the vapor deposition material flow exceeds the thick film portion of the thin film piece constituting the organic material layer, the step portion formed by the thick film portion is not easily covered with the vapor deposition film. At this time, even when the mask position is deviated from the specified position and when the mask is deformed, it is difficult for a short circuit to occur.

（実施例７）
有機ＥＬ表示パネルの製造方法の別の変形例について説明する。基板７上にスパッタ法などの成膜方法を用いて第１表示電極８を形成した後、第１表示電極８上に、例えばフォトレジストを配した後に所定のパターンが形成されているフォトマスクを介して該フォトレジストを露光、現像して、隔壁１７を形成する（図１１（ａ））。隔壁１７のうち隣り合うもの同士は、第１表示電極８上に発光領域１４を規定している。隔壁１７が設けられた後、例えばウエットプロセスを用いて発光画素領域１４上に第１薄膜片１５を成膜して第１機能層９を形成する（図１１（ｂ））。第１機能層９を形成する際に、隔壁１７の根元部において第１薄膜片１５の膜厚が大となっている厚膜部を形成する。ウエットプロセスを用いて薄膜を形成する方法には、例えばスピンコート法やインクジェット法を用いて第１機能層を構成する材料を含む溶液を配した後に溶媒を除去して薄膜を形成する方法がある。ウエットプロセスを用いると、隔壁の側面と第１表示電極の面とによって挟まれて形成される空間に当該溶液が侵入し、かつ毛管現象により当該空間における溶液膜の膜厚が大となる。かかる溶液の溶媒を蒸発させて形成された薄膜は、隔壁の根元部においてその膜厚が大となるのである。 (Example 7)
Another modification of the method for manufacturing the organic EL display panel will be described. After the first display electrode 8 is formed on the substrate 7 by using a film forming method such as sputtering, a photomask on which a predetermined pattern is formed after, for example, a photoresist is disposed on the first display electrode 8 is formed. Then, the photoresist is exposed to light and developed to form partition walls 17 (FIG. 11A). Adjacent ones of the partition walls 17 define a light emitting region 14 on the first display electrode 8. After the partition wall 17 is provided, the first functional layer 9 is formed by forming the first thin film piece 15 on the light emitting pixel region 14 by using, for example, a wet process (FIG. 11B). When the first functional layer 9 is formed, a thick film portion where the film thickness of the first thin film piece 15 is large is formed at the base portion of the partition wall 17. As a method of forming a thin film using a wet process, for example, there is a method of forming a thin film by disposing a solution containing a material constituting the first functional layer using a spin coating method or an inkjet method and then removing the solvent. . When the wet process is used, the solution enters a space formed by being sandwiched between the side surface of the partition wall and the surface of the first display electrode, and the film thickness of the solution film in the space increases due to capillary action. The thin film formed by evaporating the solvent of the solution has a large film thickness at the base of the partition wall.

第１薄膜片１５上に発光機能などを有する有機材料からなる第２薄膜片を例えばマスク蒸着法を用いて成膜する（図１１（ｃ））。当該第２薄膜片群が、第２機能層となる。マスク蒸着法を用いる場合、隔壁１７がマスクと基板との間のスペーサとして作用する。なお、第２薄膜片１６が例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）もしくは青色（Ｂ）の光を発するのに適した有機発光材料を含むこととしても良い。たとえば、所定のパターンで穴開けされているマスクの開口部を隔壁のうち隣り合うもの同士によって形成される凹部の開口に位置あわせした後に該マスクを隔壁に載置し、赤色有機発光材料を蒸着して第２薄膜片１６Ｒを形成する。マスクの開口部の位置を例えば隔壁１つ分ずらして、緑色有機発光材料の蒸着を行い、第２薄膜片１６Ｇを形成する。第２薄膜片１６Ｇを形成した後、さらにマスクの開口部の位置を隔壁１つ分ずらして、青色有機発光材料の蒸着を行い、第２薄膜片１６Ｂを形成することとしても良い。 A second thin film piece made of an organic material having a light emitting function or the like is formed on the first thin film piece 15 by using, for example, a mask vapor deposition method (FIG. 11C). The said 2nd thin film piece group becomes a 2nd functional layer. When the mask vapor deposition method is used, the partition wall 17 acts as a spacer between the mask and the substrate. The second thin film piece 16 may include an organic light emitting material suitable for emitting red (R), green (G), or blue (B) light, for example. For example, after aligning the opening of the mask perforated in a predetermined pattern with the opening of the recess formed by adjacent ones of the partition walls, the mask is placed on the partition walls and the red organic light emitting material is deposited Thus, the second thin film piece 16R is formed. The position of the opening of the mask is shifted by, for example, one partition wall, and the green organic light emitting material is deposited to form the second thin film piece 16G. After forming the second thin film piece 16G, the second thin film piece 16B may be formed by further shifting the position of the opening of the mask by one partition wall and depositing a blue organic light emitting material.

第２機能層１０の複数の第２薄膜片上に、蒸着法などの成膜方法を用いて第２表示電極１２を形成する（図１１（ｄ））。蒸着法による第２表示電極１２の形成は、例えば隔壁１７を利用して行うこととしても良い。第２表示電極１２の蒸着材料流を基板の主面に対して略垂直方向から入射せしめると、隔壁１７がオーバーハング部を有することにより、蒸着膜が隔壁の上部と根元部で分断されて、第２表示電極１２が形成される。 A second display electrode 12 is formed on the plurality of second thin film pieces of the second functional layer 10 by using a film forming method such as an evaporation method (FIG. 11D). The formation of the second display electrode 12 by the vapor deposition method may be performed using, for example, the partition wall 17. When the vapor deposition material flow of the second display electrode 12 is incident from a direction substantially perpendicular to the main surface of the substrate, the partition wall 17 has an overhang portion, so that the deposited film is divided at the upper portion and the root portion of the partition wall, A second display electrode 12 is formed.

上記の如き製造方法によれば、ウエットプロセスを用いかつ溶液の毛管現象を使用することによって、隔壁の根元部に有機機能層の厚膜部を形成することができることから、当該厚膜部を形成する工程および装置を簡便にすることができる。 According to the manufacturing method as described above, the thick film part of the organic functional layer can be formed at the root part of the partition wall by using the wet process and using the capillary action of the solution. The process and apparatus to perform can be simplified.

（有機ＥＬ表示パネルの作製例）
上記の如き構成の有機ＥＬ表示パネルを、以下のような手順で作製した。
（１）第１表示電極（陽極）の形成
スパッタ法を用いてガラス基板上に１５０ｎｍの厚さのＩＴＯ膜を成膜した。次に東京応化製のフォトレジストＡＺ６１１２を該ＩＴＯ膜上に配した後、当該レジストの露光及び現像によって、ストライプ状のレジストパターンを形成した。ＩＴＯのエッチャントとして塩化第２鉄水溶液と塩酸の混合液を用い、かかる混合液中に当該基板を浸漬して、レジストに覆われていない部分のＩＴＯ膜にエッチング処理を施した。エッチング処理後、当該基板をアセトン中に浸漬してレジストを除去した。得られたＩＴＯ膜はライン幅１２０μｍ、ギャップ幅１０μｍ（ピッチ１３０μｍ）でライン数が４８０本からなるストライプ状のパターンを有し、当該ＩＴＯ膜を第１表示電極とした。
（２）隔壁の形成
上記の如き第１表示電極が形成されている基板上に、隔壁材料として日本ゼオン製フォトレジストＺＰＮ−１１００を配した後、ストライプパターンを有するフォトマスクを用いて露光を行った。さらに現像を行って、第１表示電極と直交する１２１本のストライプ状の隔壁を形成した。
（３）第１機能層の形成
かかる隔壁が形成された基板上に、日産化学工業（株）製ポリアニリンＮＤ−１００８をスピンコートした。続いてスピンコート膜について、表示パネルの表示部以外の不要部分をアセトンで拭き取った。更に、基板をホットプレートにて加熱して、当該スピンコート膜中の溶媒を蒸発させて、表示部に略３５ｎｍのポリアニリン膜を形成した。隔壁の側面と基板面との隙間に、毛管現象でポリアニリン液が入り込み、この部分では他の部分に比べて大なる膜厚となっているポリアニリン膜からなる第１機能層が形成された。
（４）第２機能層および第２表示電極（陰極）の形成
ポリアニリン膜からなる第１機能層上に、マスク蒸着法を用いて、α−ＮＰＤを４５ｎｍ、およびＡｌｑ₃を６０ｎｍ、をそれぞれ順に成膜して第２機能層を形成した。 (Example of manufacturing an organic EL display panel)
The organic EL display panel having the above-described configuration was produced by the following procedure.
(1) Formation of first display electrode (anode) An ITO film having a thickness of 150 nm was formed on a glass substrate by sputtering. Next, a photoresist AZ6112 made by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. was disposed on the ITO film, and then a resist pattern having a stripe shape was formed by exposing and developing the resist. A mixed liquid of ferric chloride aqueous solution and hydrochloric acid was used as an etchant for ITO, and the substrate was immersed in the mixed liquid, and the ITO film in a portion not covered with the resist was etched. After the etching treatment, the substrate was immersed in acetone to remove the resist. The obtained ITO film had a stripe pattern with a line width of 120 μm, a gap width of 10 μm (pitch of 130 μm), and 480 lines, and the ITO film was used as a first display electrode.
(2) Formation of barrier ribs After a Zeon-made photoresist ZPN-1100 is disposed as a barrier rib material on the substrate on which the first display electrode as described above is formed, exposure is performed using a photomask having a stripe pattern. It was. Further development was performed to form 121 stripe-shaped partition walls orthogonal to the first display electrodes.
(3) Formation of first functional layer On the substrate on which such partition walls were formed, polyaniline ND-1008 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. was spin coated. Subsequently, unnecessary portions of the spin coat film other than the display portion of the display panel were wiped off with acetone. Further, the substrate was heated with a hot plate to evaporate the solvent in the spin coat film, and a polyaniline film having a thickness of about 35 nm was formed on the display portion. The polyaniline liquid entered into the gap between the side wall of the partition wall and the substrate surface by capillary action, and a first functional layer made of a polyaniline film having a larger film thickness than that of the other part was formed in this part.
(4) Formation of second functional layer and second display electrode (cathode) On the first functional layer made of a polyaniline film, α-NPD is 45 nm, and Alq ₃ is 60 nm in order using a mask vapor deposition method. A second functional layer was formed by forming a film.

第２機能層が形成された基板に、蒸着法を用いて、１００ｎｍの厚さのアルミニウム−リチウム（Ａｌ―Ｌｉ）合金からなる金属薄膜を成膜した。蒸着は、Ａｌ―Ｌｉ合金の蒸着材料流を、基板の主面に対して略垂直方向から入射せしめて行い、当該金属薄膜は隔壁の上面と根元で分断された。その結果、第２機能層上に成膜された金属薄膜が第２表示電極となり、第２表示電極は、ライン数が１２０本からなるストライプ状のパターンを有して形成された。第２表示電極が形成されて、４８０×１２０画素の単純マトリクスからなる有機ＥＬ素子群が基板上に形成された。
（５）封止
第２表示電極形成後、有機ＥＬ素子群が設けられた基板に、凹部を有しかつ当該凹部に乾燥剤が貼り付けられたガラス板をＵＶ硬化型接着剤により接着して、有機ＥＬ素子群を封止した。上記の如き工程を経て、緑色単色で４８０×１２０ドットで様々な表示を行うことが出来る有機ＥＬ表示パネルが得られた。かかる有機ＥＬ表示パネルにおいて、電極間のショートに起因する不点灯画素の発生は見られなかった。 A metal thin film made of an aluminum-lithium (Al—Li) alloy having a thickness of 100 nm was formed on the substrate on which the second functional layer was formed by vapor deposition. Vapor deposition was performed by allowing a vapor deposition material flow of an Al—Li alloy to enter from a direction substantially perpendicular to the main surface of the substrate, and the metal thin film was separated from the top surface of the partition wall. As a result, the metal thin film formed on the second functional layer became the second display electrode, and the second display electrode was formed with a stripe pattern having 120 lines. A second display electrode was formed, and an organic EL element group consisting of a simple matrix of 480 × 120 pixels was formed on the substrate.
(5) Sealing After forming the second display electrode, a glass plate having a recess and a desiccant attached to the recess is bonded to the substrate on which the organic EL element group is provided with a UV curable adhesive. The organic EL element group was sealed. Through the steps as described above, an organic EL display panel capable of various displays with 480 × 120 dots in a single green color was obtained. In such an organic EL display panel, no non-lighted pixels were generated due to a short circuit between the electrodes.

従来の有機ＥＬ表示パネルを示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the conventional organic EL display panel. 従来の有機ＥＬ表示パネルを示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the conventional organic EL display panel. 従来の有機ＥＬ表示パネルを示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing the conventional organic EL display panel. 本発明による有機ＥＬ表示パネルを示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the organic electroluminescence display panel by this invention. 本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the modification of the organic electroluminescence display panel by this invention. 本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the modification of the organic electroluminescence display panel by this invention. 本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the modification of the organic electroluminescence display panel by this invention. 本発明による有機ＥＬ表示パネルの製造方法を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the manufacturing method of the organic electroluminescence display panel by this invention. 本発明による有機ＥＬ表示パネルの製造方法の変形例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the modification of the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel by this invention. 本発明による有機ＥＬ表示パネルの製造方法の変形例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the modification of the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel by this invention. 本発明による有機ＥＬ表示パネルの製造方法の変形例を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view which shows the modification of the manufacturing method of the organic electroluminescent display panel by this invention.

符号の説明Explanation of symbols

７基板
８第１表示電極
９第１機能層
１０第２機能層
１１有機機能層
１２第２表示電極
１３有機ＥＬ表示パネル
１７隔壁 7 Substrate 8 First display electrode 9 First functional layer 10 Second functional layer 11 Organic functional layer 12 Second display electrode 13 Organic EL display panel 17

Claims

基板と、前記基板上に形成されている第１表示電極と、前記第１表示電極上に形成されている有機機能層と、前記有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、
前記有機機能層は少なくとも１層の有機材料層からなり、
少なくとも１層の前記有機材料層は前記第１および第２表示電極の交差部の中心部分に比べて前記第２表示電極の端部において膜厚が大でありかつ前記少なくとも１層の前記有機材料層の材料からなりかつ前記第１表示電極から突出する厚膜部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 A substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and a second display electrode formed on the organic functional layer. An organic electroluminescence display panel comprising:
The organic functional layer comprises at least one organic material layer,
Wherein at least one layer of the organic material layer is Oite thickness larger at an end portion of the second display electrode as compared with the central portion of the intersection of the first and second display electrodes and the at least one layer of An organic electroluminescence display panel comprising a thick film portion made of an organic material layer and projecting from the first display electrode .

前記厚膜部はその膜厚が隣り合う第２表示電極同士の間の中間位置において最大になるように設けられており、又は、
前記第１表示電極上に備えられていて前記第２表示電極のうち隣り合うもの同士を分断している隔壁が設けられておりかつ前記隔壁の根元部に前記厚膜部が設けられている、ことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 The thick film portion is provided so that the film thickness becomes maximum at an intermediate position between adjacent second display electrodes, or
The thick portion at the base portion of the first said feature on the display electrode and the second between and disrupt it has and the partition wall and the partition wall is provided adjacent ones of the display electrodes are provided, The organic electroluminescence display panel according to claim 1.

前記第１表示電極上に絶縁膜が設けられており、
前記絶縁膜上において前記厚膜部が設けられている、ことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 An insulating film is provided on the first display electrode;
The organic electroluminescence display panel according to claim 1, wherein the thick film portion is provided on the insulating film.

前記有機機能層のうち少なくとも１層の前記有機材料層の膜厚が前記第１および第２表示電極の交差部の中心部分に比べて前記第１表示電極の端部において大となっていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 It becomes Oite in diameter in an end portion of the first display electrode film thickness of the organic material layer of at least one layer as compared with the central portion of the intersection of the first and second display electrodes of the organic functional layer The organic electroluminescence display panel according to claim 1, wherein

基板と、前記基板上に形成されている第１表示電極と、前記第１表示電極上に形成されている有機機能層と、前記有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、
前記有機機能層は少なくとも１層の有機材料層からなり、
少なくとも１層の前記有機材料層は前記第１表示電極の発光画素領域の中心部分に比べて前記第１表示電極の端部において膜厚が大でありかつ前記少なくとも１層の前記有機材料層の材料からなりかつ前記第１表示電極から突出する厚膜部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 A substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and a second display electrode formed on the organic functional layer. An organic electroluminescence display panel comprising:
The organic functional layer comprises at least one organic material layer,
The organic material at least one layer of the organic material layer Oite thickness at an end portion of the first display electrode as compared with the central portion of the light emitting pixel region of the first display electrode is large and the at least one layer of An organic electroluminescence display panel comprising a thick film portion made of a layer material and projecting from the first display electrode .

前記第１表示電極上に絶縁膜が設けられており、
前記絶縁膜上において前記厚膜部が設けられている、ことを特徴とする請求項５記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。 An insulating film is provided on the first display electrode;
6. The organic electroluminescence display panel according to claim 5, wherein the thick film portion is provided on the insulating film.

基板と、前記基板上に形成されている第１表示電極と、前記第１表示電極上に形成されている有機機能層と、前記有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、
前記基板上に前記第１表示電極を形成する工程と、前記第１表示電極の上に少なくとも１層の有機材料層からなる前記有機機能層を形成する工程と、前記有機機能層上に前記第２表示電極を形成する工程と、を含み、
前記有機機能層を形成する工程は前記第２表示電極の端部が配されるべき位置において少なくとも１層の前記有機材料層を前記第１および第２表示電極の交差部の中心部分に比べて膜厚が大でありかつ前記少なくとも１層の前記有機材料層の材料からなりかつ前記第１表示電極から突出する厚膜部を形成する厚膜部形成工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 A substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and a second display electrode formed on the organic functional layer. A method for producing an organic electroluminescence display panel comprising:
Forming the first display electrode on the substrate, forming the organic functional layer made of at least one organic material layer on the first display electrode, and forming the first functional layer on the organic functional layer. 2 forming a display electrode,
The central portion of the intersection of the organic material layer using the first and second display electrodes of at least one layer Oite step of forming the organic functional layer at positions where the ends are disposed in said second display electrode A thick film portion forming step of forming a thick film portion having a larger film thickness and made of a material of the at least one organic material layer and protruding from the first display electrode ; Manufacturing method of electroluminescent display panel.

前記厚膜部形成工程は前記第２表示電極の端部が配されるべき位置において有機材料層を構成する材料の供給量を大とする工程を含むことを特徴とする請求項７記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 According to claim 7 wherein the thick portion forming step which comprises the step of a large supply amount of the material constituting the Oite organic material layer at positions where the ends are disposed in said second display electrode Manufacturing method of organic electroluminescence display panel.

前記厚膜部形成工程は前記第２表示電極の端部が配されるべき位置において有機材料層を構成する材料を複数回に分けて配置する工程を含むことを特徴とする請求項７記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 7. The thick film portion forming step which comprises placing separately the material constituting the Oite organic material layer at positions where the ends are disposed in said second display electrodes in a plurality of times The manufacturing method of the organic electroluminescent display panel of description.

前記第１表示電極を形成する工程と前記有機機能層を形成する工程との間に前記第１表示電極上に隔壁を形成する工程が含まれ、
前記厚膜部形成工程はウエットプロセスを用いて有機機能層を構成する材料を前記隔壁の根元部に配置する工程である、ことを特徴とする請求項７記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 Including a step of forming a partition wall on the first display electrode between the step of forming the first display electrode and the step of forming the organic functional layer,
8. The organic electroluminescence display panel according to claim 7, wherein the thick film portion forming step is a step of disposing a material constituting the organic functional layer at a root portion of the partition using a wet process. Method.

前記第１表示電極を形成する工程と前記有機機能層を形成する工程との間に前記第１表示電極上に絶縁膜を形成する工程が含まれることを特徴とする請求項７記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 8. The organic electro luminescence device according to claim 7, further comprising a step of forming an insulating film on the first display electrode between the step of forming the first display electrode and the step of forming the organic functional layer. Manufacturing method of luminescence display panel.

前記厚膜部形成工程は前記第１表示電極の端部において前記有機機能層のうちの少なくとも１層の前記有機材料層を前記第１および第２表示電極の交差部の中心部分に比べて厚く形成する工程を含むことを特徴とする請求項７記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 The thick portion forming step than in the central portion of the cross section of the organic material layer the first and second display electrodes of at least one layer of Oite the organic functional layer on the end portion of the first display electrode The method for producing an organic electroluminescence display panel according to claim 7, further comprising a step of forming a thick film.

基板と、前記基板上に形成されている第１表示電極と、前記第１表示電極上に形成されている有機機能層と、前記有機機能層上に形成されている第２表示電極と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、
前記基板上に前記第１表示電極を形成する工程と、前記第１表示電極の上に少なくとも１層の有機材料層からなる前記有機機能層を形成する工程と、前記有機機能層上に前記第２表示電極を形成する工程と、を含み、
前記有機機能層を形成する工程は前記第１表示電極の端部において少なくとも１層の前記有機材料層を前記第１表示電極の発光画素領域の中心部分に比べて膜厚が大でありかつ前記少なくとも１層の前記有機材料層の材料からなりかつ前記第１表示電極から突出する厚膜部を形成する厚膜部形成工程を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 A substrate, a first display electrode formed on the substrate, an organic functional layer formed on the first display electrode, and a second display electrode formed on the organic functional layer. A method for producing an organic electroluminescence display panel comprising:
Forming the first display electrode on the substrate, forming the organic functional layer made of at least one organic material layer on the first display electrode, and forming the first functional layer on the organic functional layer. 2 forming a display electrode,
To form the organic functional layer step is a film thickness is larger than the organic material at least one layer of Oite the end of the first display electrode in the center portion of the light-emitting pixel region of the first display electrode And a method of manufacturing an organic electroluminescence display panel, comprising: a thick film portion forming step of forming a thick film portion made of the material of the at least one organic material layer and protruding from the first display electrode. .

前記厚膜部形成工程は前記第１表示電極の端部において有機材料層を構成する材料の供給量を大とする工程を含むことを特徴とする請求項１３記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 The thick portion forming step of the organic electroluminescent display of claim 13, characterized in that it comprises a step of a large supply amount of the material constituting the Oite organic material layer on the end portion of the first display electrode Panel manufacturing method.

前記厚膜部形成工程は前記第１表示電極の端部において有機材料層を構成する材料を複数回に分けて配置する工程を含むことを特徴とする請求項１３記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 The organic electroluminescence according to claim 13, wherein the thick portion forming step which comprises placing separately the material constituting the Oite organic material layer on the end portion of the first display electrode a plurality of times Manufacturing method of display panel.

前記第１表示電極を形成する工程と前記有機機能層を形成する工程との間に前記第１表示電極上に絶縁膜を形成する工程が含まれることを特徴とする請求項１３記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。 The organic electro of claim 13, further comprising a step of forming an insulating film on the first display electrode between the step of forming the first display electrode and the step of forming the organic functional layer. Manufacturing method of luminescence display panel.