JP5237326B2 - 液浸リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
[0031]− 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
[0032]− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0033]− 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0034]− パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
Claims (12)
- 液浸リソグラフィ装置であって、
投影システムと、
前記投影システム、自身及び基板及び/又は基板テーブルによって画定された液浸空間に液浸液を少なくとも部分的に閉じ込める液体閉じ込め構造と、
第1の液体源、活性クリーニング剤の源を備える第2の液体源、前記第1の液体源からの液体を前記第2の液体源からの液体と混合するミキサ、及び混合液を前記ミキサから前記基板及び/又は基板テーブルに対面する前記液体閉じ込め構造の表面の開口へと提供する導管を備える液体供給デバイスと、
前記液浸リソグラフィ装置による露光中にインラインクリーニングを行うために前記投影システムから液浸液を通して基板へと放射のビームが当たる間に、前記第1の液体源からの液体及び前記第2の液体源からの液体を備える混合液の、前記液体供給デバイスから前記液体閉じ込め構造への供給を制御するコントローラと、を備える液浸リソグラフィ装置。 - 前記第1の液体源が超純水源を備える、請求項1に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第2の液体源からの前記液体が洗浄剤を、望ましくはトップコート洗浄剤を含む、請求項1又は2に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記洗浄剤が以下から、つまり石鹸、溶剤、界面活性剤、グリコールエーテル、エステル、アルコール、ケトンから選択された少なくとも1つを含む、請求項3に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第2の液体源が石鹸と溶剤の混合物の源である、請求項1から4のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、前記液体閉じ込め構造に提供される混合液が、前記第1の液体源からの液体中に300ppb以下の前記第2の液体源からの洗浄剤を含むように、前記液体供給デバイスの前記ミキサを制御する、請求項1から5のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記ミキサが、1つの液体源からの液体を計量して別の液体源の液体に供給する弁を備える、請求項1から6のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記ミキサが、前記第1の液体源及び前記第2の液体源と流体連絡する第1のリザーバをさらに備える、請求項7に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記ミキサが、前記第1のリザーバ及び前記第1の液体源と流体連絡するさらなるリザーバを備える、請求項8に記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記コントローラが、前記液体閉じ込め構造に提供される前記混合液中の前記第2の液体源からの液体の濃度を測定し、前記測定に基づいてフィードバック式に混合を制御する、請求項1から9のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記第1の液体源からの液体は、第2の液体源からの液体がそれと混合されない状態で、導管によって前記液浸空間への開口に提供される、請求項1から10のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
- 前記ミキサは、前記第2の液体源からの1ppm以下、望ましくは500ppb以下又は300ppb以下の添加剤を、前記第1の液体源からの液体と混合するように構成される請求項1から11のいずれかに記載の液浸リソグラフィ装置。
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