JP5225570B2 - 電極基板の製造方法 - Google Patents
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Description
また、本発明は、透明導電性基板を用いた光電変換素子用電極基板であって、透明導電膜と基材の熱膨張係数の違いに限らずあらゆる変形に起因する、透明導電膜のクラック等の損傷を抑制し、耐熱性や耐薬品性、耐プレス性等に優れた透明導電性基板を有する光電変換素子に用いられる電極基板の製造方法を提供することを第二の目的とする。
半導体層を有し、窓極として機能する第一電極基板と、少なくとも一部に電解質層を介し
て該第一電極基板と対向して配される第二電極基板とを備え、前記第一電極基板および前
記第二電極基板の少なくとも一方は、樹脂からなる基材と該基材の一面に金属酸化物から
なる透明導電膜を配してなる透明導電性基板を有する光電変換素子に用いられる電極基板
の製造方法であって、前記基材を加熱して膨張させることにより、前記基材を延伸状態に
保持する工程と、前記延伸状態を保ちつつ、前記基材の一面に前記透明導電膜を形成する
工程と、前記延伸状態を解除し、前記透明導電膜に圧縮応力をかける工程と、前記透明導
電膜の表面に、多孔質酸化物半導体を含有するペーストを塗布する工程と、前記ペースト
を焼成する工程と、を備え、前記延伸状態における、前記基材の延伸率が、少なくとも一
方向に対して0.08%以上1%以下であり、前記加熱における前記基材の温度を、100℃以上かつ該基材の軟化点温度以下とすることを特徴とする。
この透明導電性基板10は、透明基材11、および、その一方の面11aに形成された透明導電膜12から概略構成されている。
透明導電膜12を形成する導電性金属酸化物としては、例えば、スズ添加酸化インジウム(ITO)、フッ素添加酸化スズ(FTO)、酸化スズ(SnO2 )などが用いられる。これらの中でも、高い透明性と低い抵抗とを兼ね備えるという観点から、ITO、FTOが好ましい。
樹脂からなる透明基材11の一面11aを覆うように金属酸化物からなる透明導電膜12を形成し、透明導電性基板10を作製する。
このとき本発明では、透明基材11を延伸状態に保持する工程と、前記延伸状態を保ちつつ、透明基材11の一面に前記透明導電膜12を形成する工程と、前記延伸状態を解除し、透明導電膜12に圧縮応力をかける工程と、を備えることを特徴とする。
具体的には、前記延伸状態における、透明基材11の延伸率が、少なくとも一方向に対して0.08%以上1%以下であることが好ましい。透明基材11の延伸率を0.08%以上とすることで、耐プレス性等の機械的強度を向上することができる。一方、延伸しすぎると、それを解除した際の反りが生じるため、その後の用途を考えると0.3%以下程度が好ましいが、耐熱性、耐薬品性については、透明基材11が復元する範囲(1%以下)であれば問題ない。
図2において、符号10は透明導電性基板、11は透明基材、12は透明導電膜、13は多孔質酸化物半導体層、14は作用極、15は電解質層、16は他の基材、17は導電膜、18は対極、19は封止部材、30は色素増感型光電変換素子をそれぞれ示している。
この光電変換素子30は、作用極14と、対極18と、これらの間に封入された電解質からなる電解質層15と、から概略構成されている。
対極18は、他の基材16と、この一方の面上に形成された導電膜17とから構成されている。
光電変換素子30において、電解質層15を作用極14と対極18で挟んでなる積層体が、その外周部が封止部材19によって接着、一体化されて光電変換素子として機能する。
この電解液をゲル化する際に用いられるゲル化剤としては、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレンオキシド誘導体、アミノ酸誘導体などが挙げられる。
常温溶融塩のカチオンとしては、四級化イミダゾリウム誘導体、四級化ピリジニウム誘導体、四級化アンモニウム誘導体などが挙げられる。
常温溶融塩のアニオンとしては、BF4 −、PF6 −、F(HF)n −、ビストリフルオロメチルスルホニルイミド[N(CF3SO2)2 −]、ヨウ化物イオンなどが挙げられる。
イオン液体の具体例としては、四級化イミダゾリウム系カチオンとヨウ化物イオンまたはビストリフルオロメチルスルホニルイミドイオンなどからなる塩類を挙げることができる。
このような酸化物半導体粒子としては、TiO2、SiO2、SnO2、WO3、ZnO、Nb2O5、In2O3、ZrO2、Ta2O5、La2O3、SrTiO3、Y2O3、Ho2O3、Bi2O3、CeO2、Al2O3 からなる群から選択される1種または2種以上の混合物が好ましく、二酸化チタン微粒子(ナノ粒子)、二酸化ケイ素が特に好ましい。この二酸化チタンあるいは二酸化ケイ素の平均粒径は2nm〜1000nm程度が好ましい。
このような導電性微粒子としては、カーボンを主体とする物質からなるものが挙げられ、具体例としては、カーボンナノチューブ、カーボンファイバ、カーボンブラックなどの粒子を例示できる。これらの物質の製造方法はいずれも公知であり、また、市販品を用いることもできる。
導電膜17は、他の基材16に導電性を付与するために、その一方の面に形成された金属、炭素、導電性高分子などからなる薄膜である。導電膜17としては、例えば炭素や白金などの層を、蒸着、スパッタ、塩化白金酸塗布後に熱処理を行ったものが好適に用いられるが、電極として機能するものであれば特に限定されるものではない。
まず、樹脂からなる透明基材11の一面11aを覆うように金属酸化物からなる透明導電膜12を形成し、透明導電性基板10を作製する。
このとき本発明では、前記透明基材11を延伸状態に保持する工程と、前記延伸状態を保ちつつ、前記透明基材11の一面に前記透明導電膜12を形成する工程と、前記延伸状態を解除し、前記透明導電膜12に圧縮応力をかける工程と、を備えることを特徴とする。
塗布工程とは、例えばTiO2 粉末と界面活性剤を所定の比率で混ぜ合わせてなるTiO2 コロイドのペーストを、親水性化を図った透明導電膜12の表面に塗布するものである。その際、塗布法としては、加圧手段(例えば、ガラス棒)を用いて前記コロイドを透明導電膜12上に押し付けながら、塗布されたコロイドが均一な厚さを保つように、加圧手段を透明導電膜12の上を移動させる方法が挙げられる。
色素担持用の色素溶液は、例えばアセトニトリルとt−ブタノールを容積比で1:1とした溶媒に対して極微量のN719粉末を加えて調整したものを予め準備しておく。
シャーレ状の容器内に入れた色素溶媒に、別途電気炉にて120〜150℃程度に加熱処理した多孔質酸化物半導体層13を浸した状態とし、暗所にて一昼夜(およそ20時間)浸漬する。その後、色素溶液から取り出した多孔質酸化物半導体層13は、アセトニトリルとt−ブタノールからなる混合溶液を用い洗浄する。
上述した工程により、色素担持したTiO2 薄膜からなる多孔質酸化物半導体層13を透明基板上に設けてなる作用極14(窓極とも呼ぶ)を得る。
このようにして得られる電極基板は、透明導電膜と基材の熱膨張係数の違いに起因する、透明導電膜のクラック等の損傷の発生を抑制することができる。これにより、耐熱性、耐薬品性(電解液)、耐プレス性等の機械的特性が向上したものとなる。
この成膜装置50は、チャンバ51内に、支持手段52と、該支持手段52の外側面部に対向してそれぞれ設けられた加熱装置53と、第一カソード54と、第二カソード55と、表面処理装置56と、を備える。
支持手段52は、カルーセル型基材で、図3では、略八角柱形状をしており、この外周側面部に被処理体である基材が取り付けられる。支持手段52は、内蔵されている図示しない回転機構により、成膜中は図中の矢印方向に一定の自転速度で回転する。
加熱装置53は、基材を所定の温度に加熱、保持しながら薄膜を形成するため、基材を加熱する。加熱装置53は、例えば赤外線ランプヒータである。
第二カソード(TOターゲット)55は、支持手段の外側面部に対向して設けられ、ターゲットをスパッタして基材の一面上にTO薄膜を形成する。
表面処理装置56は、形成された薄膜に対して、例えばプラズマ洗浄等の表面処理を施す。
また、チャンバ51内は、図示しない真空排気装置により、真空状態とされている。
その後、チャンバ51内を真空排気装置により、真空引きを行う。
成膜前に加熱装置(赤外線ランプヒータ)52を用いて、基材の表面温度を予め昇温しておく。
チャンバ51内にプラズマガスを導入し、支持手段52を一定の自転速度で回転させながら、スパッタリングにより基材の一面にITO膜を成膜する。
例えば支持手段52は12秒で一回転し、350μm/分で成膜が行われる。
(実施例1)
透明基材には厚さ188μmのポリエチレンナフタレート(PEN)基板(線膨張係数:約20×10−6/K)を用いた。
この基材をスパッタチャンバにセットし真空引きを行った。スパッタ装置にはバッチ式のカルーセル型スパッタ装置を用いた。成膜前にスパッタチャンバに設置してある赤外線ランプヒータを用いて、PEN基板の表面温度を150℃に予め昇温した。スパッタのプラズマガスにはアルゴンを用い、7×10−3Torrの真空下で、カルーセルを回転させながら、スパッタリングにより基材の一面に透明導電膜としてITO膜(線膨張係数:約7.2×10−6/K)を成膜し、透明導電性基板を作製した。
このときの成膜条件を表1に示す。
成膜温度を50℃(実施例2)、80℃(実施例3)、100℃(実施例4)、120℃(実施例5)としたこと以外は実施例1と同様にして成膜を行い、透明導電性基板を作製した。
基材に、ポリエチレンテレフタレート(PET)(実施例6)、ポリカーボネート(PC)(実施例7)、ポリアリレート(PAR)(実施例8)、ポリシクロオレフィン(PCO)(実施例9)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)(実施例10)を用いたこと以外は実施例1と同様にして成膜を行い、透明導電性基板を作製した。
実施例1と同様にPEN基板にITO膜を成膜後、同様に基板を加熱した状態で、TO(酸化スズ)膜を積層形成し、透明導電性基板を作製した。
成膜温度を室温(24℃)とし、基材に、ポリエチレンナフタレート(PEN)(比較例1)、ポリエチレンテレフタレート(PET)(比較例2)、ポリカーボネート(PC)(比較例3)、ポリアリレート(PAR)(比較例4)、ポリシクロオレフィン(PCO)(比較例5)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)(比較例6)を用いたこと以外は実施例1と同様にして成膜を行い、透明導電性基板を作製した。
基材に、ソーダガラスを用いて、成膜温度を室温(比較例7)と120℃(比較例8)とし、他は実施例1と同様にして成膜を行い、透明導電性基板を作製した。
図4から明らかなように、基板の加熱温度が160℃以下の場合、特定の2θにおいて強い回折ピークが殆ど観測されないことから、ITO膜の結晶化が殆ど生じないことが分かった。なお、本例ではプラズマガスとして酸素を導入していないので、酸素欠損の状態になっており、キャリア濃度が通常よりも高くなっている。
耐熱性とは、150℃で1時間加熱を5サイクル行った後の比抵抗の測定値である。
耐薬品性とは、エタノールとアセトニトリルに、それぞれ40℃、13時間浸漬した後の比抵抗の測定値である。
また、耐プレス性とは、室温にて、1分間、100MPaプレス後に、比抵抗が10%以上、上昇したものを不良(×印)、それ以外を良(○印)として評価を行った。
これらの評価結果を、基材の線膨張係数と併せて表2に示す。
Claims (1)
- 増感色素を担持させた多孔質酸化物半導体層を有し、窓極として機能する第一電極基板と、少なくとも一部に電解質層を介して該第一電極基板と対向して配される第二電極基板とを備え、前記第一電極基板および前記第二電極基板の少なくとも一方は、樹脂からなる基材と該基材の一面に金属酸化物からなる透明導電膜を配してなる透明導電性基板を有する光電変換素子に用いられる電極基板の製造方法であって、
前記基材を加熱して膨張させることにより、前記基材を延伸状態に保持する工程と、
前記延伸状態を保ちつつ、前記基材の一面に前記透明導電膜を形成する工程と、
前記延伸状態を解除し、前記透明導電膜に圧縮応力をかける工程と、
前記透明導電膜の表面に、多孔質酸化物半導体を含有するペーストを塗布する工程と、
前記ペーストを焼成する工程と、を備え、
前記延伸状態における、前記基材の延伸率が、少なくとも一方向に対して0.08%以上1%以下であり、
前記加熱における前記基材の温度を、100℃以上かつ該基材の軟化点温度以下とすることを特徴とする電極基板の製造方法。
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