JP5218466B2 - 半導体集積回路の配線レイアウト方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明による半導体集積回路の実施の第1形態を示す概略的平面図である。図1中、6は半導体チップ、7はパッド、8は入出力セル領域、9は内部セル領域である。
図2は本発明による半導体集積回路の実施の第2形態を示す概略的平面図である。図2中、11は半導体チップ、12はパッド、13は入出力セル領域、14は内部セル領域である。
図3は本発明による半導体集積回路の実施の第3形態を示す概略的平面図である。図3中、16は半導体チップ、17はパッド、18は入出力セル領域、19は内部セル領域である。
図4は本発明による半導体集積回路の実施の第4形態を示す概略的平面図であり、本発明による半導体集積回路の実施の第4形態は、入出力セル領域8のうち、チップ面のコーナ部26に設けられている2個の入出力セル領域8A、8Bに部分的に囲まれている領域に入出力セル領域27、28、29、30を設け、その他については、図1に示す本発明による半導体集積回路の実施の第1形態と同様に構成したものである。
図5は本発明による半導体集積回路の実施の第5形態を示す概略的平面図である。図5中、32は半導体チップ、33はパッド、34は入出力セル領域、35は内部セル領域である。
図12は本発明による半導体集積回路の実施の第6形態を示す概略的平面図である。図12中、72は半導体チップ、73はパッド、74は入出力セル領域、75は内部セル領域である。
図14は本発明による半導体集積回路の配線レイアウト方法の実施の一形態を説明するための概略的平面図であり、本発明による半導体集積回路の配線レイアウト方法の実施の一形態で使用する入出力セル85、86、87、88、89、90、91を示している。
7 パッド
8 入出力セル領域
9 内部セル領域
Claims (1)
- 自己に必要な配線パターンを有する第1入出力セルと、自己に必要な配線パターンを有するとともに、他の入出力セルに接続する配線パターンをレイアウトすることができる構造を有する第2入出力セルと、配線パターンを有しない第3入出力セルを含む、複数の入出力セルを使用して配線パターンをレイアウトする半導体集積回路の配線レイアウト方法であって、
前記半導体集積回路を、内部セルを含む内部セル領域と、前記内部セル領域の周辺部に配列された前記複数の入出力セルを含む入出力セル領域と、前記入出力セル領域とチップの辺との間に配列されたパッドとを有するものとし、
前記入出力セル領域が、形状を幅を同一とする矩形とし、面積をその入出力セルが必要とする面積に応じた面積とし、かつ、奥行が異なるようにした前記複数の入出力セルを含み、前記パッド側に凹凸を有さず、前記内部セル領域側に凹凸を有するように、前記複数の入出力セルを幅方向を配列方向として配列し、
前記幅方向に配列した複数の入出力セルに含まれる2つの前記第1入出力セルの配線パターンを相互に接続する配線パターンを、前記2つの第1入出力セルの間に挟まれた、前記第2入出力セル及び前記第3入出力セルの少なくとも1つにレイアウトし、
前記内部セル領域を、その外周部が前記複数の入出力セル領域の前記内部セル領域側の前記凹凸に沿うように形成する工程を含むこと
を特徴とする半導体集積回路の配線レイアウト方法。
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