JP5209063B2 - 基板および基板を備えた表示パネル - Google Patents

Description

本発明は、基板および基板を備えた表示パネルに関する。

液晶表示パネルなどの表示パネルでは、表面における外光の反射が問題となっている。表面における外光の反射率が大きいと、観察者自身や、周囲に置かれている物、照明器具等が映り込み、表示が見にくい。特に明るい環境下では、映り込みが顕著に生じる。そこで、表示パネルの表面に、低反射構造を設けて、外光の反射を抑制することが行われている。

表示パネルの表面の反射を抑制する低反射構造として、いわゆるモスアイ（Ｍｏｔｈ ｅｙｅ、蛾の目）構造を利用した反射防止技術が提案されている（特許文献１）。表示パネルの表面に、モスアイ構造を有する低反射膜を設けることによって、表示パネルの表面における外光の反射率は１％程度以下にまで低減される。しかしながら、表示パネルの表面における反射率が低減されても、表示パネルの内部で反射された光によって、映り込みが生じる、あるいは表示のコントラスト比が低下することがある。従って、表示パネルの内部の反射率を低下させる必要がある。

表示パネルの内部反射について、液晶表示パネルを例に説明する。液晶表示パネルは、一対の基板と、これらの間に設けられた液晶層とを有する。一対の基板の内の一方は、例えばマトリクス状に形成された画素電極、ＴＦＴやバスラインを有している（以下、ＴＦＴ基板と称する）。他方の基板は、対向電極、カラーフィルタや遮光層（ブラックマトリクス）を有している（以下、対向基板と称する）。典型的には、対向基板が液晶層の観察者側に配置される。以下では、対向基板が液晶層の観察者側に配置された液晶表示パネルを例に説明する。

液晶表示パネルに入射した外光の一部は、液晶表示パネルが空気と接している表面（最表面）で反射される。すなわち、液晶表示パネルに入射した外光は、対向基板と空気との界面において反射される。一般に、対向基板の観察者側には偏光板が設けられているので、偏光板の表面と空気との界面において反射されることになる。本明細書において、液晶表示パネルが空気と接している表面（以下では、単純に、液晶表示パネルの表面という。）における反射を「表面反射」ということにする。また、このときの反射率を「表面反射率」ということがある。液晶表示パネルの表面を透過した光の一部は、対向基板やＴＦＴ基板によって反射される。本明細書において、表面反射以外の反射を「内部反射」といい、またその反射率を「内部反射率」ということにする。

液晶表示パネルの内部反射の内で強度が大きいのは、対向基板による内部反射である。その中でも、対向基板を構成する透明基板と遮光層との界面における内部反射が大きな割合を占める。例えば、遮光層としてクロム膜を用いると、透明基板と遮光層との界面の反射率は約５０％である。また、カーボンブラックを混合した樹脂で形成された遮光層を用いると、透明基板と遮光層との界面の反射率を１．５％程度にできる。

しかしながら、上述したように、モスアイ構造を有する低反射膜を設けることによって表面反射率を１．０％程度以下にすると、内部反射をさらに抑制する必要がある。

遮光層による内部反射を抑制する技術として、例えば、特許文献２〜５に開示されているものが知られている。

特許文献２に記載の技術は、遮光層の観察者側に反射防止層を設けることによって遮光層による内部反射を抑制するものである。遮光層の材料としてクロムを用い、反射防止層の材料として酸化クロムを用いると、遮光層における反射率を５０％から１％に低下させることができると記載されている。

特許文献３には、光低反射層、光吸収層および遮光層をこの順に積層することによって反射率を低下させることができると記載されている。特許文献３によると、各層にチタン酸化物を主成分とする層を用いて、光低反射層、光吸収層および遮光層の順にチタン酸化物濃度が小さくなるように積層すると、内部反射率を８％に低下させることができると記載されている。

特許文献４および特許文献５には、透明基板と遮光層との間に低反射層を設けることによって、遮光膜における内部反射を抑制する技術が記載されている。特許文献４には、遮光層としてニッケルとチタンを主成分とする金属で形成された層を好適に用いることができること、低反射層としてニッケルとチタンを主成分とする金属の酸化物、その窒化物、その炭化物又はその酸窒化物で形成された層を好適に用いることができることが記載されている。また、特許文献５には、特許文献４におけるニッケルとチタンに替えてニッケルとタンタルを用いて各層を形成することができると記載されている。

特開２００５−１５６６９５号公報 特開平６−１４８６２１号公報 特開２０００−３０３１６３号公報 特開２０００−１２１８２５号公報 特開２０００−２０６３１４号公報

特許文献２および特許文献３に記載の技術によって、遮光層による内部反射を抑制することができる。しかしながら、これらに記載の構成を採用しても、遮光層における内部反射率は数％である。従って、低反射膜を設けることによって表面反射率を数％以下まで低下させた表示パネルに特許文献２および特許文献３に記載の技術を適用すると、表面反射を抑制した効果が十分に得られないことになる。

例えば、特許文献２に記載のようにクロムで形成された遮光層の上に酸化クロムで形成された反射防止層を形成した基板の反射率のシミュレーション結果について、図１１を参照して説明する。図１１は、シミュレーションに用いた基板８０の構成を模式的に示す断面図である。基板８０は、ガラス基板８１、クロム（屈折率３．４７）で形成された厚さ１２０ｎｍの遮光層８２、および酸化クロム（屈折率２．５０）で形成された厚さ３０ｎｍの反射防止層８４を有し、遮光層８２とガラス基板８１との間に反射防止層８４が設けられている。シミュレーションプログラムとして、ＯＰＴＡＳ−ＦＩＬＭ Ｖｅｒｓｉｏｎ３．４０（ＯＰＴＯ Ｉｎｃ．製）を用いた。ガラス基板８１の表面から垂直に光を入射させたときの反射率をシミュレーションした。光源としてＣ光源を用い、視感度補正をして反射率を計算した。反射率は１７．９％であった。ここで、視感度補正をした反射率はＣＩＥ（国際照明委員会）が１９３１年に採択したＸＹＺ表色系における、反射による物体の三刺激値Ｘ、ＹおよびＺのうちのＹ値である。なお、Ｘ、ＹおよびＺは下記の式から求められる。

一方、特許文献４および特許文献５には、低反射層の光学的特性について、遮光層より透過率が高いことが好ましい、ということ以外に具体的な言及はない。従って、低反射層を、どのような光学特性を有するものとすれば、反射率を低下させることができるか不明である。また、特許文献４および特許文献５に記載の技術は、特許文献２に記載の技術と同様に、金属で形成された遮光層に金属の酸化物等で形成された低反射層を積層するものであり、遮光層における内部反射率は高いと考えられる。

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、遮光層による内部反射を抑制した表示パネル用の基板を提供することを目的とする。

本発明の表示パネル用の基板は、透明基板と、互いに光学濃度が異なる２つの層を有する遮光層とを備え、前記光学濃度が異なる２つの層のうち光学濃度が低い層である低光学濃度層は、前記光学濃度が異なる２つの層のうち光学濃度が高い層である高光学濃度層と前記透明基板との間に設けられており、前記低光学濃度層の光学濃度と前記高光学濃度層の光学濃度の和は３．０以上であることを特徴とする。

ある実施形態において、前記高光学濃度層の屈折率が３．００未満であり、前記低光学濃度層の光学濃度が０．５以上である。

ある実施形態において、前記高光学濃度層の屈折率が１．５０以上２．００以下であり、前記低光学濃度層の光学濃度が０．４以上２．０以下である。

ある実施形態において、前記高光学濃度層の屈折率が２．００より大きく３．００以下であり、前記低光学濃度層の光学濃度が１．０以上２．０以下である。

ある実施形態において、前記高光学濃度層の屈折率が１．５０以上２．００以下であり、前記低光学濃度層の光学濃度が０．５以上１．８以下である。

ある実施形態において、前記高光学濃度層の屈折率が２．００より大きく３．００以下であり、前記低光学濃度層の光学濃度が１．０以上１．８以下である。

ある実施形態において、複素屈折率をｎ＋ｋ＊ｉと表すと、前記高光学濃度層の消光係数ｋは、０．２５以上である。

ある実施形態において、前記高光学濃度層はカーボンブラックと感光性樹脂とを含む。

ある実施形態において、前記高光学濃度層は紫外線を透過する。

ある実施形態において、前記高光学濃度層はチタンブラックと感光性樹脂とを含む。

ある実施形態において、前記高光学濃度層はクロム膜で形成されている。

ある実施形態において、前記低光学濃度層はカラーフィルタと同じ材料から形成されている。

ある実施形態において、前記低光学濃度層は青色顔料を含む。

ある実施形態において、前記低光学濃度層は赤色顔料を含む。

本発明による表示パネルは、上記の構成を有する基板と、反射防止膜とを備える。

ある実施形態において、前記反射防止膜はモスアイ構造を有する。

ある実施形態において、前記モスアイ構造は、平均高さが１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である複数の円錐状の突起を有し、隣り合う突起の間隔は３０ｎｍ以上６００ｎｍ以下である。

本発明によると、遮光層による内部反射が抑制された表示パネル用の基板が提供される。

液晶表示パネル１００を模式的に示す断面図である。 （ａ）および（ｂ）は、カラーフィルタ基板１０を模式的に示す図であり、（ａ）は上面図であり、（ｂ）は断面図である。 カラーフィルタ基板１０の模式的な断面図である。 （ａ）および（ｂ）は、遮光層における反射率Ｒ₁₂のシミュレーション結果を示す図であり、（ａ）は高光学濃度層の屈折率が１．５０、（ｂ）は高光学濃度層の屈折率が２．００である場合を、低光学濃度層のＯＤ値別に示す。 （ａ）および（ｂ）は、遮光層における反射率Ｒ₁₂のシミュレーション結果を示す図であり、（ａ）は高光学濃度層の屈折率が２．５０、（ｂ）は高光学濃度層の屈折率が３．００である場合を、低光学濃度層のＯＤ値別に示す。 高光学濃度層１２ｂの屈折率を１．５０とし、低光学濃度層１２ａの屈折率を１．５５としたときのシミュレーション結果を示すグラフである。 （ａ）および（ｂ）は、反射率の測定方法を示す模式的な断面図であり、（ａ）は透明基板側から反射率を測定する場合を示し、（ｂ）は低光学濃度層側から反射率を測定する場合を示す。 （ａ）〜（ｄ）は、カラーフィルタ基板１０の製造工程を模式的に示す工程断面図である。 （ａ）〜（ｇ）は、カラーフィルタ基板１０の製造工程を模式的に示す工程断面図である。 カラーフィルタ基板１０の模式的な上面図である。 従来のカラーフィルタ基板８０の断面図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。なお、以下では、液晶表示パネルおよびそれに用いられる基板を例に本発明による実施形態を説明するが、本発明の実施形態はこれに限られず、例えば、ＰＤＰ用表示パネルや有機ＥＬ表示パネルに用いることもできる。

まず、図１を参照して、本実施形態による表示パネル用の基板１０およびそれを備える液晶表示パネル１００の構造を説明する。

図１は、液晶表示パネル１００を模式的に示す断面図である。液晶表示パネル１００は、ＴＦＴ基板２０と、ＴＦＴ基板２０に対向するカラーフィルタ基板１０と、ＴＦＴ基板２０とカラーフィルタ基板１０との間に設けられた液晶層３０とを有している。カラーフィルタ基板１０は液晶層３０の観察者側に配置され、ＴＦＴ基板２０が液晶層３０の観察者側と反対側に配置されている。

ＴＦＴ基板２０の液晶層３０側と反対側には、下側偏光層５２が配置され、カラーフィルタ基板１０の液晶層３０側と反対側には、上側偏光層５１が配置されている。上側偏光層５１の観察者側（図１において上側）には、低反射膜６０が配置されている。低反射膜６０として、例えば、モスアイ構造を有する膜が用いられる。モスアイ構造については後に詳述する。液晶表示パネル１００の観察者側と反対側（図１において下側）に、バックライト装置が設けられていてもよい（バックライト装置については不図示）。

カラーフィルタ基板１０は、透明基板１１と、遮光層１２と、カラーフィルタ層１３とを有する。透明基板１１の液晶層３０側には、遮光層１２およびカラーフィルタ層１３が設けられている。カラーフィルタ層１３は、互いに異なる色光を透過する第１のカラーフィルタ１３ａ、第２のカラーフィルタ１３ｂおよび第３のカラーフィルタ１３ｃを有している。第１のカラーフィルタ１３ａ、第２のカラーフィルタ１３ｂおよび第３のカラーフィルタ１３ｃは、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）のカラーフィルタである。

ＴＦＴ基板２０は、透明基板（例えばガラス基板）２１と、透明基板２１の液晶層３０側に設けられた配線２２を有する。ＴＦＴ基板２０として、公知のＴＦＴ基板を用いることができるので、ここではその構造の説明を省略する。

次に、図２を参照して、カラーフィルタ基板１０の構成を説明する。図２（ａ）は、カラーフィルタ基板１０の模式的な上面図（観察者側から見た図）であり、図２（ｂ）は、カラーフィルタ基板１０の模式的な断面図である。

遮光層１２は互いに光学濃度が異なる２つの層１２ａおよび１２ｂを有している。互いに光学濃度が異なる２つの層１２ａおよび１２ｂのうち光学濃度が低い層（以下、「低光学濃度層」という。）１２ａは、光学濃度が高い層（以下、「高光学濃度層」という。）１２ｂと透明基板１１との間に設けられている。遮光層１２は全体として３．０以上の光学濃度を有し、従来の遮光層と同等の遮光性を有している。ここでは、遮光層１２は、低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂのみから形成されており、低光学濃度層１２ａの光学濃度と高光学濃度層１２ｂの光学濃度の和は３．０以上である。ただし、遮光層１２はこれに限られず、透明基板１１と高光学濃度層１２ｂとの間に、複数の低光学濃度層を有してもよい。このとき、複数の低光学濃度層の光学濃度が、透明基板１１側に設けられたものほど小さくなるようにすることが好ましい。

以下、カラーフィルタ基板１０の遮光層１２における内部反射が抑制される理由を図３を参照して説明する。

図３は、カラーフィルタ基板１０の模式的な断面図である。透明基板１１側（図３において上側）からカラーフィルタ基板１０に入射する光を考える。

透明基板１１と空気との界面Ｓ₀の反射率をＲ₀、透明基板１１と低光学濃度層１２ａとの界面Ｓ₁の反射率をＲ₁、低光学濃度層１２ａと高光学濃度層１２ｂとの界面Ｓ₂の反射率をＲ₂、高光学濃度層１２ｂと液晶層３０（不図示）との界面Ｓ₃の反射率をＲ₃とする。カラーフィルタ基板１０に入射する光の強度をＩ₀、界面Ｓ₀で反射された光の強度をＩ_r0、界面Ｓ₀を通過して透明基板１１に入射する光の強度をＩ₀₁、界面Ｓ₁で反射された光の強度をＩ_r1、界面Ｓ₁を通過して低光学濃度層１２ａに入射する光の強度をＩ₀₂、界面Ｓ₂で反射された光の強度をＩ_r2、界面Ｓ₂を通過して高光学濃度層１２ｂに入射する光の強度をＩ₀₃、界面Ｓ₃で反射された光の強度をＩ_r3とする。

ここで、高光学濃度層１２ｂの光吸収係数をα₃とし、高光学濃度層１２ｂの厚さをｘ₃とすると、界面Ｓ₃で反射された光の強度Ｉ_r3は、Ｉ_r3＝Ｒ₃ ＊Ｉ ₀₃ ＊（ｅｘｐ（−α₃＊ｘ₃））²と表すことができる（＊は乗算を表す。）。高光学濃度層１２ｂのα₃は大きく、反射光の強度Ｉ_r3は非常に小さいので、Ｉ_r3を無視する。良く知られているように、ある界面Ｓに入射する光の強度をＩ₀、界面Ｓで反射された光の強度をＩ_rとすると、界面Ｓにおける反射率Ｒ（％）は、下記式（１）で表される。
Ｒ（％）＝（Ｉ_r／Ｉ₀）＊１００ （１）

従って、上記の反射率Ｒ₀、Ｒ₁およびＲ₂はそれぞれ以下のように表される。
Ｒ₀（％）＝（Ｉ_r0／Ｉ₀）＊１００ （２）
Ｒ₁（％）＝（Ｉ_r1／Ｉ₀₁）＊１００ （３）
Ｒ₂（％）＝（Ｉ_r2／Ｉ₀₂）＊１００ （４）
ここでは、表示パネルの表面に低反射膜が設けられているので、界面Ｓ₀における反射光の強度Ｉ_r0は小さい。従って、Ｉ₀₁≒Ｉ₀とする。遮光層１２に入射して観察者側（図３において上側）に帰ってくる光の強度Ｉ_rは、Ｉ_r1＋Ｉ_r2である。透明基板１１の光吸収係数をα₁とし、透明基板１１の厚さをｘ₁とすると、界面Ｓ₁で反射された光の強度Ｉ_r1は、Ｉ_r1＝Ｒ₁＊Ｉ₀₁＊（ｅｘｐ（−α₁＊ｘ₁））²と表すことができる。透明基板１１のα₁はほぼ０であることと、Ｉ₀₁≒Ｉ₀とから、Ｉ_r1＝Ｒ₁＊Ｉ₀と表すことができる。また、低光学濃度層１２ａの光吸収係数をα₂とし、低光学濃度層１２ａの厚さをｘ₂とすると、界面Ｓ₂で反射された光の強度Ｉ_r2は、Ｉ_r2＝Ｒ₂＊Ｉ₀₂＊（ｅｘｐ（−α₂＊ｘ₂））²と表すことができる。従って、Ｉ_rは、α₂、ｘ₂、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｉ₀、およびＩ₀₂を用いて、下記式（５）で表すことができる。
Ｉ_r＝Ｒ₁＊Ｉ₀＋Ｒ₂＊Ｉ₀₂＊（ｅｘｐ（−α₂＊ｘ₂））² （５）

式（５）で表されるＩ_rが遮光層１２による反射光の強度である。また、遮光層１２における反射率Ｒ₁₂は、下記式（６）で表すことができる。
Ｒ₁₂（％）＝（Ｉ_r／Ｉ₀）＊１００ （６）

ここでは、カラーフィルタ基板１０の表面反射率として、上記式（２）で表されるＲ₀を考え、遮光層１２における反射率（Ｒ₁₂）が、カラーフィルタ基板１０の表面反射率Ｒ₀よりも小さくなる条件を求める。

ある界面における反射率は、その界面を構成する２つの媒質の屈折率を用いて表すことができる。

ある媒質１（屈折率ｎ₁）からある媒質２（屈折率ｎ₂）に入射する光の、媒質１と媒質２との界面の反射率は、下記の式（７）で表される。
Ｒ（％）＝（（ｎ₁−ｎ₂）²／（ｎ₁＋ｎ₂）²）＊１００ （７）

媒質に入射する光について、その媒質による吸収を考慮する必要がある場合には、式（７）の各屈折率に代えて、複素屈折率を用いる。複素屈折率Ｎは、屈折率ｎ、消光係数をｋとして、下記の式（８）で表される。
Ｎ＝ｎ＋ｉ＊ｋ （８）

従って、媒質１および媒質２が入射光の一部を吸収する場合には、媒質１（屈折率ｎ₁、消光係数ｋ₁）の複素屈折率Ｎ₁をＮ₁＝ｎ₁＋ｉ＊ｋ₁、媒質２（屈折率ｎ₂、消光係数ｋ₂）の複素屈折率Ｎ₂をＮ₂＝ｎ₂＋ｉ＊ｋ₂として、媒質１と媒質２との界面の反射率Ｒは、下記の式（９）で表される。
R(%)＝(((n₁−n₂)²＋(k₁−k₂)²)/((n₁＋n₂)²＋(k₁＋k₂)²))*100 （９）

カラーフィルタ基板１０において、透明基板１１の複素屈折率Ｎ₁₁＝ｎ₁₁＋ｉ＊ｋ₁₁、低光学濃度層１２ａの複素屈折率Ｎ_12a＝ｎ_12a＋ｉ＊ｋ_12a、高光学濃度層１２ｂの複素屈折率Ｎ_12b＝ｎ_12b＋ｉ＊ｋ_12bとする。ここで、透明基板１１では光の吸収は無いとして、透明基板１１の消光係数ｋ₁₁を無視する。また、空気の屈折率をｎ₀とする。図３において、界面Ｓ₀の反射率Ｒ₀、界面Ｓ₁の反射率Ｒ₁、および界面Ｓ₂の反射率Ｒ₂は、式（９）を用いて、下記式（１０）、（１１）および（１２）で表される。
R₀(%)＝((n₀-n₁₁)²／(n₀+n₁₁)²)*100 （１０）
R₁(%)=(((n₁₁-n_12a)²+(0-k_12a)²)/((n₁₁+n_12a)²＋(0+k_12a)²))*100 （１１）
R₂(%)=(((n_12a-n_12b)²+(k_12a-k_12b)²)/((n_12a+n_12b)²+(k_12a+k_12b)²))*100 （１２）

遮光層１２における反射率Ｒ₁₂を低下させる、すなわち遮光層１２による反射光の強度Ｉ_rを低下させるためには、式（５）より、反射率Ｒ₁、Ｒ₂を低下させればよい。遮光層１２は入射光の一部を吸収するので、反射率Ｒ₁₂は複素屈折率で表され（式（１１）および（１２））、屈折率および消光係数を調整することによって反射率Ｒ₁、Ｒ₂を低下させることができる。

ここで、一般に、遮光層の遮光特性を表す指標として用いられている光学濃度（ＯＤ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）と消光係数ｋの関係について説明する。なお、現在、液晶表示パネルに用いられる遮光層は、３．０以上の光学濃度が必要とされている（例えば、特許文献３参照）。

入射光強度をＩ₀、透過光強度をＩとして、光学濃度（ＯＤ）は、以下の式（１３）で表される。
ＯＤ≡Ｌｏｇ（Ｉ₀／Ｉ） （１３）

一方、消光係数ｋ、層厚ｘの媒質に入射する光（波長λ）の透過光強度Ｉは、以下の式（１４）で表される。
Ｉ＝Ｉ₀＊ｅｘｐ（−４πｋ＊ｘ／λ） （１４）

式（１３）および式（１４）から、ＯＤは以下の式（１５）のように書き換えることができる。
ＯＤ＝（４πｋ／λ）＊（ｘ／２．３） （１５）

ここで、ｌｏｇ_e１０≒２．３とした。

λ＝５５０ｎｍ、ｘ＝１μｍとした場合、ＯＤとｋの関係は、下記式（１６）で表すことができる。
ＯＤ≒１０ｋ （１６）

このようにＯＤは消光係数に依存するので、ＯＤの値を調整することによって、遮光層１２における反射率Ｒ₁₂を低下させることができる。

なお、式（１５）からわかるように光学濃度ＯＤは消光係数ｋだけでなく層厚ｘにも依存する。従って、同じ物質で厚さが異なる２つの層を形成した場合、これら２つの層の光学濃度ＯＤは互いに異なるが、消光係数ｋは互いに等しいので、式（１１）で表される反射率Ｒ₁および式（１２）で表される反射率Ｒ₂を低下させる効果はない。従って、低光学濃度層と高光学濃度層とは消光係数ｋが互いに異なる材料で形成されている必要がある。

従来は、遮光層の遮光特性、すなわち遮光層のＯＤ値を３．０以上とすることに専ら注意が向けられており、遮光層による内部反射を抑制するという観点から、遮光層の光学特性を調整することは考えられていなかった。本発明は、上述したように、内部反射を抑制するための、遮光層の光学特性（複素屈折率）を詳細に検討することによって得られたものである。

次に、図４、５および６に示すシミュレーション結果を参照して、低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂの屈折率およびＯＤ値と、遮光層１２における反射率Ｒ₁₂（上記式（５））との関係を説明する。シミュレーションでは、透明基板１１の屈折率ｎ₁₁は１．５０とし、透明基板１１の消光係数ｋ₁₁は０．００とした。また、低光学濃度層１２ａの厚さおよび高光学濃度層１２ｂの厚さはいずれも１．０μｍとした。すなわち低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂのＯＤ値は、それぞれの消光係数ｋの約１０倍の値である。

図４〜図５は、Δｎ（＝｜ｎ_12b−ｎ_12a｜：低光学濃度層１２ａの屈折率ｎ_12aと高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12bとの差の絶対値）と反射率Ｒ₁₂との関係を示すグラフであり、図４（ａ）は高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝１．５０の場合、図４（ｂ）は高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝２．００の場合、図５（ａ）は高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝２．５０の場合、図５（ｂ）は高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝３．００の場合をそれぞれ示しており、それぞれに、低光学濃度層１２ａが異なる値の光学濃度ＯＤ_12aを有する場合の結果を併せて示している。図６は、Δｎ＝０．０５のときの低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aと反射率Ｒ₁₂との関係を示すグラフであり、図４（ａ）と同様に高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝１．５０の場合を示している（低光学濃度層１２ａの屈折率ｎ_12a＝１．５５）。

まず、図４（ａ）を参照する。図４（ａ）は、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝１．５０とし、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12bと低光学濃度層１２ａの屈折率ｎ_12aとの屈折率差の絶対値Δｎが０≦Δｎ≦０．２０の範囲内にあるときの、Δｎと反射率Ｒ₁₂との関係を示すグラフである。図４（ａ）には、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aが０．５、１．０、１．５、１．８、および２．０の場合の結果を併せて示している。ここで、高光学濃度層１２ｂの光学濃度ＯＤ_12bは、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12a（ＯＤ_12a＜ＯＤ_12b）との和（ＯＤ_12a＋ＯＤ_12b）が３．０以上となるように、選択した。

図４（ａ）に示すように、ＯＤ_12aの値がいずれの場合も、反射率Ｒ₁₂はΔｎが小さい方が小さい。また、ＯＤ_12a＝０．５およびＯＤ_12a＝１．０のときの反射率Ｒ₁₂は図４（ａ）に示すΔｎの範囲内（０≦Δｎ≦０．２０）で大差はなく、ＯＤ_12a＝１．５、１．８、および２．０のときの反射率Ｒ₁₂よりも小さい。図４（ａ）に示すΔｎの範囲では、ＯＤ_12a＝１．５、１．８、２．０の順で反射率Ｒ₁₂は増大する。

ここで、図６に示す、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12bを１．５０とし、低光学濃度層１２ａの屈折率ｎ_12aを１．５５とした場合（図４（ａ）中のΔｎ＝０．０５の場合に対応する）の、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aと反射率Ｒ₁₂との関係を示すグラフを参照する。

図６に示すように、反射率Ｒ₁₂はＯＤ_12aが約０．８のときに極小値をとり、そのときの反射率Ｒ₁₂は約０．１％である。ＯＤ_12aが０．０のとき、反射率Ｒ₁₂は１％を超え、ＯＤ_12aが３．０のとき、反射率Ｒ₁₂は約０．８％となる。

図６には、Δｎ＝０．０５のときの、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aと反射率Ｒ₁₂との関係を示したが、Δｎが他の値のときも同様に、反射率Ｒ₁₂はＯＤ_12aがある値のときに極小値をとる。図４（ａ）に示した結果から、０≦Δｎ≦０．２０の範囲においては、ＯＤ_12aが０．５≦ＯＤ_12a≦１．０の範囲内またはその近傍において、反射率Ｒ₁₂が極小値をとることがわかる。

従って、反射率Ｒ₁₂をある値以下にするためのＯＤ_12aの条件は、反射率Ｒ₁₂が極小値をとるＯＤ_12aの近傍の範囲（反射率Ｒ₁₂が極小値をとるＯＤ_12aを含む範囲）として規定できる。以下に、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にするための条件を説明する。

屈折率ｎ_12b＝１．５０のときは、図４（ａ）からわかるように、ＯＤ_12aが０．５以上１．８以下のとき、Δｎを０．１５以下の適切な値に設定することによって、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。例えば、ＯＤ_12aを０．５≦ＯＤ_12a≦１．０の範囲内に設定すれば、Δｎが０以上０．１５以下の全範囲にわたって反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となり、ＯＤ_12aが１．５のときは、Δｎを約０．１１以下とすれば反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。

次に、図４（ｂ）を参照する。図４（ｂ）は、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝２．００とし、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12bと低光学濃度層１２ａの屈折率ｎ_12aとの屈折率差の絶対値Δｎが０≦Δｎ≦０．２０の範囲内にあるときの、Δｎと反射率Ｒ₁₂との関係を示すグラフである。図４（ｂ）には、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aが０．４、０．５、１．０、１．５、１．８、および２．０の場合の結果を併せて示している。ここでも、高光学濃度層１２ｂの光学濃度ＯＤ_12bは、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12a（ＯＤ_12a＜ＯＤ_12b）との和（ＯＤ_12a＋ＯＤ_12b）が３．０以上となるように選択した。

図４（ｂ）に示すように、ＯＤ_12aが１．０以上のとき、反射率Ｒ₁₂はΔｎが小さい方が小さい。ＯＤ_12aが０．５のときには、Δｎが０．０５のときに反射率Ｒ₁₂が最低値をとり、ＯＤ_12aが０．４のときには、Δｎが０．１０のときに反射率Ｒ₁₂が最低値をとる。また、反射率Ｒ₁₂は、ＯＤ_12aが１．０のときに最も低い値をとる。従って、図６を参照して説明したように、光学濃度ＯＤ_12aと反射率Ｒ₁₂との関係においては、反射率Ｒ₁₂はＯＤ_12aが約１．０のときに極小値をとる。

屈折率ｎ_12b＝２．００のときは、図４（ｂ）からわかるように、ＯＤ_12aが０．５以上１．８以下のとき、Δｎを約０．１６以下の適切な値に設定することによって、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。例えば、ＯＤ_12aが１．０のときには、Δｎが０以上で約０．１６以下の全範囲にわたって反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となり、ＯＤ_12aが１．５のときは、Δｎを約０．１１以下にすれば反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。また、ＯＤ_12aが０．５のときは、Δｎを約０．１３以下にすれば反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。

上述したように、ｎ_12b＝１．５０（図４（ａ））のとき及びｎ_12b＝２．００（図４（ｂ））のときは、いずれも、ＯＤ_12aが０．５以上１．８以下のとき、Δｎを適切な値に設定すれば、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。従って、ｎ_12bが１．５０以上２．００以下のとき、ＯＤ_12aが０．５以上１．８以下であれば、Δｎを適切な値に設定することによって、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。

次に、図５（ａ）を参照する。図５（ａ）は、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝２．５０とし、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12bと低光学濃度層１２ａの屈折率ｎ_12aとの屈折率差の絶対値Δｎが０≦Δｎ≦０．２０の範囲内にあるときの、Δｎと反射率Ｒ₁₂との関係を示すグラフである。図５（ａ）には、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aが０．５、１．０、１．５、１．８、および２．０の場合の結果を併せて示している。ここでも、高光学濃度層１２ｂの光学濃度ＯＤ_12bは、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12a（ＯＤ_12a＜ＯＤ_12b）との和（ＯＤ_12a＋ＯＤ_12b）が３．０以上となるように選択した。

図５（ａ）に示すように、ＯＤ_12aの値がいずれの場合も、反射率Ｒ₁₂はΔｎが小さい方が小さい。図５（ａ）に示したΔｎの範囲では、ＯＤ_12a＝１．０のときの反射率Ｒ₁₂が最も小さく、ＯＤ_12a＝０．５のときの反射率Ｒ₁₂が最も大きい。また、図５（ａ）に示すΔｎの範囲では、ＯＤ_12a＝１．５、１．８、２．０の順で反射率Ｒ₁₂は増大する。反射率Ｒ₁₂はＯＤ_12aが１．０のときに最も低い値をとるので、図６を参照して説明したように、光学濃度ＯＤ_12aと反射率Ｒ₁₂との関係において、反射率Ｒ₁₂はＯＤ_12aが約１．０のときに極小値をとる。

屈折率ｎ_12b＝２．５０のときは、図５（ａ）からわかるように、ＯＤ_12aが１．０以上１．８以下のとき、Δｎを約０．１３以下の適切な値に設定することによって、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。例えば、ＯＤ_12aが１．０のときには、Δｎが０以上で約０．１３以下の全範囲にわたって反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となり、ＯＤ_12aが１．５のときは、Δｎを約０．１１以下にすれば反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。

さらに、図５（ｂ）を参照する。図５（ｂ）は、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12b＝３．００とし、高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ_12bと低光学濃度層１２ａの屈折率ｎ_12aとの屈折率差の絶対値Δｎが０≦Δｎ≦０．２０の範囲内にあるときの、Δｎと反射率Ｒ₁₂との関係を示すグラフである。図５（ｂ）には、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aが０．５、１．０、１．８、および２．０の場合の結果を併せて示している。ここでも、高光学濃度層１２ｂの光学濃度ＯＤ_12bは、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12a（ＯＤ_12a＜ＯＤ_12b）との和（ＯＤ_12a＋ＯＤ_12b）が３．０以上となるように選択した。

図５（ｂ）に示すように、ＯＤ_12aが１．０以上のとき、反射率Ｒ₁₂はΔｎが小さい方が小さい。ＯＤ_12aが０．５のとき、Δｎが０．１０のときに反射率Ｒ₁₂は最低値をとるが、図５（ｂ）に示す全範囲にわたって１．０％を超える。図５（ｂ）に示したΔｎの範囲では、ＯＤ_12a＝１．０のときの反射率Ｒ₁₂が最も小さく、ＯＤ_12a＝０．５のときの反射率Ｒ₁₂が最も大きく、ＯＤ_12a＝１．８、２．０の順で反射率Ｒ₁₂は増大する。反射率Ｒ₁₂はＯＤ_12aが１．０のときに最も低い値をとるので、図６を参照して説明したように、光学濃度ＯＤ_12aと反射率Ｒ₁₂との関係において、反射率Ｒ₁₂はＯＤ_12aが約１．０のときに極小値をとる。

屈折率ｎ_12b＝３．００のときは、図５（ｂ）からわかるように、ＯＤ_12aが１．０以上１．８以下のとき、Δｎを約０．１２以下の適切な値に設定することによって、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。例えば、ＯＤ_12aが１．０のときには、Δｎが０以上で約０．１２以下の全範囲にわたって反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となる。

上述したように、ｎ_12b＝２．５０（図５（ａ））のとき及びｎ_12b＝３．００のときは、いずれも、ＯＤ_12aが１．０以上１．８以下のとき、Δｎを適切な値に設定すれば、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。一方、ｎ_12b＝２．００（図４（ｂ））のときは、ＯＤ_12aが０．５以上１．８以下のとき、Δｎを適切な値に設定すれば、Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。すなわち、ｎ_12b＝２．００のときに、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできるＯＤ_12aの範囲の下限値（０．５）は、ｎ_12b＝２．５０のときの下限値（１．０）よりも小さい。従って、ｎ_12bが２．００超３．００以下のとき、ＯＤ_12aが１．０以上１．８以下であれば、Δｎを適切な値に設定することによって反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にできる。

なお、高光学濃度層１２ｂの光学濃度ＯＤ_12bは、低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aとの和（ＯＤ_12a＋ＯＤ_12b）が３．０以上となる値であればよい。但し、ＯＤ_12bは４．６以下、および／またはＯＤ_12aとの差が３．４以下であることが好ましく、ＯＤ_12aとの差が３．１以下であることがさらに好ましい（表１参照）。ＯＤ_12bが大きすぎると、すなわちｋ_12bが大きすぎると、反射率Ｒ₂（式（１２））が大きくなってしまうからである。なお、ＯＤ_12b＞ＯＤ_12aなので、ＯＤ_12bは１．５よりも大きい。

上述のように、図４および図５に示したシミュレーション結果に基づいて低光学濃度層１２ａの光学濃度の値を設定すれば、遮光層１２における反射率をカラーフィルタ基板１０の表面反射率（Ｒ₀）と同程度以下にできる。表示パネルのカラーフィルタ基板として用いる場合に、遮光層１２における反射率（Ｒ₁₂）が、低反射膜６０が設けられた表示パネルの表面の反射率と同程度以下となるように、低光学濃度層１２ａの光学濃度を設定すれば、内部反射を表面反射と同程度以下に抑制することができる。

液晶表示パネル１００のように、モスアイ構造を有する低反射膜６０によって、表面反射率を０．３％程度以下まで低下させた表示パネルにおいて、上記条件を満たす低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂを有する遮光層１２を備えるカラーフィルタ基板１０を用いれば、内部反射率を表面反射率と同程度以下に低下させることができる。その結果、液晶表示パネル１００からの反射が全体として低減され、表示品位が改善される。

もちろん、本実施形態のカラーフィルタ基板は、上記の例に限られない。例えば、表面反射率が１．０％程度以下、あるいは０．５％程度以下である低反射膜を備える表示パネルに、図４および図５に基づいて、反射率が１．０％程度以下あるいは０．５％程度以下となる条件を満たすカラーフィルタ基板を用いれば、表示パネルからの反射が全体として抑制され、表示品位を改善させることができる。

反射率Ｒ₁₂を１．０％以下または０．５％以下にするための条件は、反射率Ｒ₁₂を０．３％以下にする条件について上述したのと同様に、図４および図５に示したシミュレーション結果から、以下のように見積もることができる。

図４（ａ）、図４（ｂ）、図５（ａ）からわかるように、ｎ_12b＝１．５０、２．００、２．５０で、ＯＤ_12aが０．５以上２．０以下の全ての場合において、Δｎが０以上で０．２以下の全範囲にわたって、反射率Ｒ₁₂を１．０％以下にできる。また、図５（ｂ）からわかるように、ｎ_12b＝３．００のとき、ＯＤ_12aが０．５の場合においてのみ、反射率Ｒ₁₂が１．０％を僅かに超える。従って、屈折率ｎ_12bを３．００未満にし、ＯＤ_12aを０．５以上にすれば、Δｎが０以上で０．２０以下の全範囲にわたって反射率Ｒ₁₂をほぼ１．０％以下にできる。

また、図４（ａ）からわかるように、ｎ_12b＝１．５０のときは、ＯＤ_12aが０．５以上２．０以下の全ての場合において、Δｎを適切な値に設定すれば、反射率Ｒ₁₂を０．５％以下にできる。また、図４（ｂ）からわかるように、ｎ_12b＝２．００のときは、ＯＤ_12aが０．４以上２．０以下の全ての場合において、Δｎを適切な値に設定すれば、反射率Ｒ₁₂を０．５％以下にできる。すなわち、ｎ_12bが１．５０以上２．００以下の場合において、ＯＤ_12aを０．４以上２．０以下にし、Δｎを適切な値に設定すれば、反射率Ｒ₁₂を０．５％以下にできる。

また、図５（ａ）からわかるように、ｎ_12b＝２．５０のときは、ＯＤ_12aが１．０以上２．０以下の全ての場合において、Δｎを適切な値に設定すれば、反射率Ｒ₁₂を０．５％以下にできる。また、図５（ｂ）からわかるように、ｎ_12b＝３．００のときも、ＯＤ_12aが１．０以上２．０以下の全ての場合において、Δｎを適切な値に設定すれば、Ｒ₁₂を０．５％以下にすることができる。

このように、ｎ_12b＝２．００のときに反射率Ｒ₁₂を０．５％以下にできるＯＤ_12aの範囲の下限値（０．４）は、ｎ_12b＝２．５０のときの下限値（１．０）よりも小さい。従って、ｎ_12bが２．００超３．００以下のとき、ＯＤ_12aが１．０以上２．０以下であれば、Δｎを適切な値に設定することによって反射率Ｒ₁₂を０．５％以下にできる。

ここでは、透明基板１１の屈折率ｎ₁₁として、一般的なガラス基板の屈折率である１．５０を採用した。上記の式（１１）から分かるように、低光学濃度層１２ａと透明基板１１との屈折率差が大きいと、低光学濃度層１２ａと透明基板１１との界面Ｓ₁における反射率Ｒ₁が大きくなるので、遮光層１２における反射率Ｒ₁₂が大きくなってしまう。したがって、低光学濃度層１２ａと基板１１との屈折率差は小さいことが好ましい。例えば、０．１７以下であることが好ましい。ガラス基板１１と低光学濃度層１２ａとの屈折率差が０．１７超を超えると、低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂに拘らず、反射率を０．３％以下にすることが困難である。

式（１５）に示したように、光学濃度は層の厚さｘに依存する。上述したシミュレーションは、低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂの厚さを、いずれも１．０μｍとしたものであるが、実施例を示して後述するように、各層の厚さが１．０μｍでない場合であっても、消光係数ｋを調整し光学濃度を適宜設定することにより、反射率Ｒ₁₂を低下させることができる。

次に、高光学濃度層１２ｂの消光係数ｋ_12bの好ましい範囲について説明する。高光学濃度層１２ｂの厚さは、生産性の観点から、１．０μｍ程度とすることが好ましい。一方、十分な遮光性を得るには、ＯＤ_12bは２．５以上であることが好ましい。上記のように、高光学濃度層１２ｂの厚さが１．０μｍであるとき、ＯＤ_12b≒１０ｋ_12bである（式（１６））。従って、ｋ_12bは０．２５以上であることが好ましい。

上述したように、透明基板１１と高光学濃度層１２ｂとの間に設けた低光学濃度層１２ａの光学濃度（消光係数）および屈折率を調整することによって、遮光層１２による内部反射を低減できる。もちろん、本発明による実施形態の基板は、表面反射率が０．３％程度以下に低下させられた表示パネルにおいて特にその効果を発揮するが、これに限られない。透明基板１１と高光学濃度層１２ｂとの間に低光学濃度層１２ａを設ければ、透明基板１１に直接高光学濃度層１２ｂが形成されている場合（後述の比較例）に比べて、遮光層１２による内部反射を抑制することができる。このことは、上記反射率Ｒ₁₂と、高光学濃度層１２ｂを透明基板１１上に直接設けた場合の遮光層における反射率（式（１１）においてｎ_12aをｎ_12bに置き換え、ｋ_12aをｋ_12bに置き換えて得られるＲ₁）とを比較することによって容易に理解される。

次に、高光学濃度層１２ｂの好ましい材料について説明する。高光学濃度層１２ｂの材料として、カーボンブラックと樹脂とを含む樹脂組成物、特に感光性樹脂を含むものを用いることが好ましい。このようなカーボンブラックを含む樹脂組成物は、現在、ブラックマトリクスの材料として広く用いられている。感光性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型のアクリル樹脂を用いることができる。カーボンブラックを含む樹脂組成物を用いると、１μｍ程度の厚さで、ＯＤ＝３．０〜４．０の層を得ることができる。また、カーボンブラックを含む樹脂組成物の屈折率は１．５０程度であるので、低光学濃度層１２ａの屈折率と整合させ易い。したがって、内部反射率を低減するのに好適に用いることができる。低光学濃度層１２ａの材料としては、後述するように、顔料と樹脂とを含む樹脂組成物、特に感光性を有するものが好ましい。

高光学濃度層１２ｂおよび低光学濃度層１２ａの材料として、感光性を有する樹脂組成物を用いると、フォトリソグラフィプロセスを用いて、高光学濃度層１２ｂおよび低光学濃度層１２ａを形成できるという利点が得られる。特に、高光学濃度層１２ｂが紫外線を十分に透過することができる場合には、低光学濃度層１２ａと高光学濃度層１２ｂとを同時にパターニングすることができ、工程を簡略化することができるという利点が得られる。具体的には、高光学濃度層１２ｂの紫外線感度が、低光学濃度層１２ａの紫外線感度の２０％以上であると、低光学濃度層１２ａと高光学濃度層１２ｂとを同時にパターニングすることができる。特に、高光学濃度層１２ｂの材料が、上記フォトリソグラフィプロセスで用いられる紫外線を十分に透過することが好ましい。そうすれば、低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂを同時にパターニングすることができるので、製造プロセスを簡単にできるという利点が得られる。

紫外線を透過することができる材料として、チタンブラックと感光性樹脂とを含む樹脂組成物を好適に用いることができる。チタンブラックを含む樹脂組成物は１μｍの厚さでＯＤ＝４．０〜４．６を得ることができる。また、チタンブラックを含む樹脂組成物の紫外線透過率は高いので、高光学濃度層１２ｂを低光学濃度層１２ａと同時にパターニングすることができる。紫外線の透過率の観点からは、カーボンブラックよりもチタンブラックの方が好ましい。

低光学濃度層１２ａの材料としては、顔料と樹脂とを含む樹脂組成物が好ましい。特に、低光学濃度層１２ａの材料としてカラーフィルタ層１３と同じ材料を用いると、低光学濃度層１２ａをカラーフィルタ層１３と同時に形成することができるので、製造工程を簡略化することができるという利点が得られる。低光学濃度層１２ａの材料として、例えば、アクリル樹脂に顔料を分散させた樹脂組成物を用いることができる。

カラーフィルタの材料として用いられる顔料の屈折率を示す。赤色顔料には、例えばカドミウムレッドや硫化水銀がある。カドミウムレッドの屈折率は２．６０、硫化水銀の屈折率は２．９５である。従って、赤色顔料の屈折率は３．００に近い。緑色顔料には、例えばコバルト緑やエメラルドがある。コバルト緑の屈折率は１．９７、エメラルドの屈折率は１．９７である。従って、緑色顔料の屈折率は２．００に近い。青色顔料には、例えばコバルト群青やラピスラズリがある。コバルト群青の屈折率は１．５２、ラピスラズリの屈折率は１．５０である。従って、青色顔料の屈折率は１．５０に近い。青色顔料としては、上記の他、銅フタロシアニン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料およびジオキサジニン系顔料を用いることもできる。

カラーフィルタの材料として、有機顔料を用いることもできる。このときの赤色顔料は、例えば、Ｃ.Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ（カラーインデックス番号） Ｒｅｄ ７、１４、４１、４８：２、４８：３、４８：４、８１：１、８１：２、８１：３、８１：４、１４６、１６８、１７７、１７８、１７９、１８４、１８５、１８７、２００、２０２、２０８、２１０、２４６、２５４、２５５、２６４、２７０、２７２、および２７９である。

また、黄色顔料を併用することもできる。このときの黄色顔料は、例えば、Ｃ.Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １、２、３、４、５、６、１０、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４２、４３、５３、５５、６０、６１、６２、６３、６５、７３、７４、７７、８１、８３、９３、９４、９５、９７、９８、１００、１０１、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１３、１１４、１１５、１１６、１１７、１１８、１１９、１２０、１２３、１２６、１２７、１２８、１２９、１３８、１４７、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１５５、１５６、１６１、１６２、１６４、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７１、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７９、１８０、１８１、１８２、１８５、１８７、１８８、１９３、１９４、１９８、１９９、２１３、および２１４である。

また、青色顔料は、例えば、Ｃ.Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、６０、および６４である。紫色顔料を併用することもできる。紫色顔料は、例えば、Ｃ.Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ １、１９、２３、２７、２９、３０、３２、３７、４０、４２、および５０である。

上記式（１１）からわかるように、低光学濃度層１２ａの屈折率が透明基板１１の屈折率に近いほど反射率Ｒ₁が低い。従って、低光学濃度層１２ａの屈折率は透明基板１１の屈折率に近いことが好ましい。従って、透明基板１１としてガラス基板（屈折率が約１．５）を用いる場合には、低光学濃度層１２ａの材料として青色顔料を用いることが好ましい。なお、最近開発が進められているプラスチック基板の屈折率も、約１．５〜約１．６程度であるので、透明基板１１としてプラスチック基板を用いる場合にも、低光学濃度層１２ａの材料としては青色顔料が好ましい。

次に、図１に示したカラーフィルタ基板１０の製造方法の例を説明する。ここでは、透明基板１１としてガラス基板を用い、低光学濃度層１２ａの材料として青のカラーフィルタ材料を用い、高光学濃度層１２ｂの材料としてカーボンブラックを含む感光性樹脂組成物を用いる。

まず、ガラス基板１１を用意する。ガラス基板１１上に赤（Ｒ）および緑（Ｇ）のカラーレジストを用いて、フォトリソグラフィプロセスで、カラーフィルタ１３ａおよび１３ｂを形成する。その後、カラーフィルタ１３ａおよび１３ｂを覆うように青（Ｂ）のカラーレジスト層を形成した後、ＲおよびＧのカラーフィルタ１３ａおよび１３ｂに対応する部分の青のカラーレジスト層を除去することによって、Ｂのカラーフィルタ１３ｃと低光学濃度層１２ａとが得られる。次に、これらを覆うようにカーボンブラックを含むレジスト層を形成する。その後、Ｒ、ＧおよびＢのカラーフィルタ１３ａ、１３ｂおよび１３ｃに対応する部分のカーボンブラックを含むレジスト層を除去することによって、高光学濃度層１２ｂが得られる。このようにして、青のカラーフィルタと同じ材料で形成された低光学濃度層１２ａと、カーボンブラックを含む高光学濃度層１２ｂを有する遮光層１２を備えるカラーフィルタ基板が得られる。

低光学濃度層１２ａや高光学濃度層１２ｂの屈折率ｎ、消光係数ｋは、反射率を測定し、反射率から計算によって求めることができる。

図７（ａ）および（ｂ）を参照して、透明基板１１と低光学濃度層１２ａの界面Ｓ₁の反射率（Ｒ₁）の測定方法および低光学濃度層１２ａの屈折率ｎと消光係数ｋの求め方を説明する。

まず、透明基板１１上に低光学濃度層１２ａを形成した基板を用意する。図７（ａ）に示すように、透明基板１１側から光を入射させ、透明基板１１と低光学濃度層１２ａとの界面Ｓ₁における反射率Ｒ_aを測定する。顕微鏡反射率測定器（オリンパス社製のＯＳＰ−２０００）を用いて、焦点を界面Ｓ₁に合わせることによって、反射率Ｒ_aを測定する。

次に、図７（ｂ）に示すように、低光学濃度層１２ａ側から光を入射させて、低光学濃度層１２ａの表面における反射率Ｒ_bを測定する。上記と同様に、顕微鏡反射率測定器（オリンパス社製のＯＳＰ−２０００）を用いて、焦点を低光学濃度層１２ａの表面に合わせることによって、反射率Ｒ_bを測定する。

測定した反射率Ｒ_aおよびＲ_bから、低光学濃度層１２ａの屈折率ｎと消光係数ｋとを以下のように求めることができる。ここで、透明基板１１はガラス基板（屈折率１．５０、消光係数ｋ＝０．００）とする。

透明基板１１と低光学濃度層１２ａとの界面Ｓ₁における反射率Ｒ_aは、式（１１）を用いて下記式（１７）で表される。
Ｒ_a(%)＝((1.50-n_12a)²+(0-k_12a)²)/((1.50+n_12a)²+(0+k_12a)²)*100 （１７）

低光学濃度層１２ａの表面における反射率Ｒ_bは、式（９）を用いて、以下の式（１８）で表される。
Ｒ_b(%)＝((1.00-n_12a)²+(0-k_12a)²)/((1.00+n_12a)²+(0+k_12a)²)*100 （１８）

ここで、空気の屈折率を１．００とした。

測定した反射率Ｒ_a、Ｒ_bと、上記式（１７）、（１８）とから、ｎ_12aおよびｋ_12aを求めることができる。このことにより、低光学濃度層１２ａの複素屈折率Ｎ_12a＝ｎ_12a＋ｉ＊ｋ_12aを求めることができる。また、得られたｋ_12aから低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aを求めることができる（式（１５）参照）。

高光学濃度層１２ｂについても同様に、測定により求めた反射率から、複素屈折率および光学濃度を求めることができる。

以下に、実施例および比較例により本発明を詳細に説明する。

（実施例１）
実施例１の基板は、図１に示したカラーフィルタ基板１０におけるカラーフィルタ１３ａ、１３ｂおよび１３ｃを省略したものである。低光学濃度層１２ａの材料として、青色顔料（フタロシアン青）と感光性樹脂（アクリル樹脂）とを含む樹脂組成物を用い、高光学濃度層１２ｂの材料としてカーボンブラックと感光性樹脂（アクリル樹脂）とを含む樹脂組成物を用いた。

厚さが０．７ｍｍのガラス基板１１に青色顔料を含む樹脂組成物をスピンコータで塗布した。このとき、焼成後に得られる低光学濃度層１２ａのＯＤ_12aが１．４９となるように、厚さを調整した。

次いでフォトマスクを介して、超高圧水銀灯で露光した後、現像液で露光部を除去し、低光学濃度層１２ａを形成した。

続いて、カーボンブラックと感光性樹脂とを含む樹脂組成物をスピンコータで低光学濃度層１２ａ上に塗布した。このとき、焼成後のＯＤ_12bが４．３となるように、厚さを調整した。

上記のフォトマスクと同じフォトマスクを上記と同じ位置に合わせて、超高圧水銀灯で露光した後、現像液で、露光部を除去し、乾燥して高光学濃度層１２ｂを形成した。

顕微鏡反射率測定器（ＯＳＰ−２０００：オリンパス社製）を用いて遮光層における反射率を測定したところ、０．２４％であった。遮光層における反射率は、顕微鏡反射率測定器を用いて、測定対象物の反射スペクトル、および反射率が既知のミラー（反射率が９０％のミラーを用いた。）の反射スペクトルを測定し、測定対象物の反射スペクトルをミラーの反射スペクトルで割り算し、視感度補正をして求めた。以下の実施例および比較例においても同様の方法により反射率を求めた。なお、低光学濃度層１２ａの厚さは２μｍであり、高光学濃度層１２ｂの厚さは１μｍであった。

実施例１〜４および比較例の光学特性を下記の表１に示す。

（実施例２）
実施例２の基板は、図１に示したカラーフィルタ基板１０と同じ構造を有している。低光学濃度層１２ａの材料として、青色顔料（フタロシアン青）と感光性樹脂とを含む樹脂組成物を用い、高光学濃度層１２ｂの材料としてチタンブラック（株式会社ＪＥＭＣＯ製）と感光性樹脂とを含む樹脂組成物を用いた。感光性樹脂としてアクリル樹脂を用いた。

図８〜図１０を参照して実施例２の基板の製造工程を説明する。

図８（ａ）〜（ｄ）は、遮光層１２を形成する製造工程を説明するための断面図である。

まず、厚さが０．７ｍｍのガラス基板１１を用意する（図８（ａ））。

次に、青色顔料を含む樹脂組成物をスピンコータでガラス基板１１上に塗布し、第１層１２ａ’を形成する。続いて、チタンブラックを含む樹脂組成物をスピンコータで第１層１２ａ’上に塗布し、第２層１２ｂ’を形成する（図８（ｂ））。

次に、フォトマスク４０を介して、超高圧水銀灯で紫外線を照射する（図８（ｃ））。

その後、現像液で未露光部を除去し、熱硬化して、低光学濃度層１２ａと高光学濃度層１２ｂを有する遮光層１２を得る（図８（ｄ））。

次に、カラーフィルタ層１３を形成する。図９（ａ）〜（ｇ）は、カラーフィルタ層１３を形成する製造工程を説明するための断面図である。

赤レジスト１３ａ’をスピンコータでガラス基板１１上に塗布し、フォトマスク４０ａを介して、紫外線を露光した後、未露光部を現像液で除去し、赤のカラーフィルタ１３ａを得る（図９（ａ）、（ｂ）、および（ｃ））。

次いで、緑レジスト１３ｂ’をスピンコータでガラス基板１１上に塗布し、フォトマスク４０ｂを介して、紫外線を露光した後、未露光部を現像液で除去して緑のカラーフィルタ１３ｂを得る（図９（ｄ）、および（ｅ））。

続いて、青レジスト１３ｃ’をスピンコータでガラス基板１１上に塗布し、フォトマスク４０ｃを介して紫外線を露光した後、未露光部を現像液で除去し、青のカラーフィルタ１３ｃを得る（図９（ｆ）および（ｇ））。

このようにして、カラーフィルタ層１３を有するカラーフィルタ基板１０を得ることができる。図１０に得られたカラーフィルタ基板１０の模式的な上面図を示す。

顕微鏡反射率測定器（ＯＳＰ−２０００：オリンパス社製）を用いて、遮光層１２における反射率を測定したところ、０．２４％であった。なお、低光学濃度層１２ａの厚さは２μｍ、高光学濃度層１２ｂの厚さは１μｍであった。

（実施例３）
実施例３の基板は、図１に示したカラーフィルタ基板１０におけるカラーフィルタ１３ａ、１３ｂおよび１３ｃを省略したものである。低光学濃度層１２ａの材料として、青色顔料（Ｃ.Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５：６）と感光性樹脂とを含む樹脂組成物を用い、高光学濃度層１２ｂがクロム膜で形成されている。感光性樹脂としてアクリル樹脂を用いた。

ガラス基板１１を用意し、ガラス基板１１上に青色顔料を含む樹脂組成物をスピンコータで塗布した。このとき、焼成後に得られる低光学濃度層１２ａのＯＤ_12aが１．４９となるように厚さを調整した。

次いでフォトマスクを介して、超高圧水銀灯で露光した後、現像液で露光部を除去し、低光学濃度層１２ａを得る。

続いて、低光学濃度層１２ａの上に厚さ１００ｎｍのクロム膜をスパッタで形成し高光学濃度層１２ｂを得る。このとき、クロム膜のＯＤ_12bは４．４となった。

顕微鏡反射率測定器（ＯＳＰ−２０００：オリンパス社製）を用いて、遮光層における反射率を測定したところ、０．２０％であった。なお、低光学濃度層１２ａの厚さは２μｍであった。

（実施例４）
実施例４の基板は、図１に示したカラーフィルタ基板１０におけるカラーフィルタ１３ａ、１３ｂおよび１３ｃを省略したものである。低光学濃度層１２ａの材料として、赤色顔料（Ｃ.Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ２５４）と感光性樹脂とを含む樹脂組成物を用い、高光学濃度層１２ｂの材料としてカーボンブラックと感光性樹脂とを含む樹脂組成物を用いた。感光性樹脂としてアクリル樹脂を用いた。

上記と同様の製造工程によって、ガラス基板１１上に低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂを形成し、基板１０を得る。

顕微鏡反射率測定器（ＯＳＰ−２０００：オリンパス社製）を用いて、遮光層１２における反射率を測定したところ、０．４８％であった。なお、低光学濃度層１２ａの厚さは２μｍ、高光学濃度層１２ｂの厚さは１μｍであった。

（比較例）
次に、比較例の基板１０’を説明する。比較例の基板１０’は、透明基板１１’と遮光層１２’を有する。遮光層１２’の材料としてカーボンブラックと感光性樹脂とを含む樹脂組成物を用いた。比較例の基板１０’は、厚さが０．７ｍｍのガラス基板１１’上にカーボンブラックと感光性樹脂とを含む樹脂組成物をスピンコータで塗布し、フォトマスクを介して超高圧水銀灯で露光した後、現像液で、露光部を除去し、熱硬化して遮光層１２’を形成して得られる。

顕微鏡反射率測定器（ＯＳＰ−２０００：オリンパス社製）を用いて、遮光層１２’における反射率を測定したところ、２．０３％であった。なお、遮光層１２’の厚さは１μｍであった。

実施例１〜４の基板１０および比較例の基板１０’を比較した表を表１に示す。表１では、低光学濃度層１２ａの屈折率（ｎ_12a）、消光係数（ｋ_12a）および光学濃度（ＯＤ_12a）、高光学濃度層１２ｂの屈折率（ｎ_12b）、消光係数（ｋ_12b）および光学濃度（ＯＤ_12b）と、実施例１〜４および比較例の遮光層における反射率を示す。比較例１０’の遮光層１２’の屈折率、消光係数および光学濃度は、それぞれ、ｎ_12b、ｋ_12bおよびＯＤ_12bの欄に示す。

表１に示すように、実施例１〜４は、いずれも、ＯＤ_12a＜ＯＤ_12bであり、ＯＤ_12a＋ＯＤ_12b≧３．０であり、この２つの条件を満たせば遮光層における反射率Ｒ₁₂を低減できることが確認できる。実施例１および実施例２は、いずれも１．５０≦ｎ_12b≦２．００であり、０．５≦ＯＤ_12a≦１．８であり、上述した反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となる条件を満たしていることが確認される。一方、実施例４の低光学濃度層１２ａの光学濃度ＯＤ_12aは、上述した反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となる条件（０．５≦ＯＤ_12a≦１．８）を満たしているが、遮光層における反射率は０．３％以上であった。このことは、実施例４の基板の低光学濃度層１２ａとガラス基板１１との屈折率差が大きく（０．２０）、ガラス基板１１と低光学濃度層１２ａとの界面における反射光の強度が大きかったことに起因すると考えられる。なお、実施例４は１．５０≦ｎ_12b≦２．００であり、０．４≦ＯＤ_12a≦２．０であり、上述した反射率Ｒ₁₂が０．５％以下となる条件を満たしていた。

実施例１、２および４の低光学濃度層１２ａの厚さはいずれも２μｍであった。上述のシミュレーションは低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂの厚さを、いずれも１μｍとしたものであるが、低光学濃度層１２ａの厚さを２μｍとした実施例１、２および４の結果から、各層の厚さが１μｍでない場合でも、シミュレーション結果（図４および図５）を参照して説明した反射率を低減するための条件を適用できることが確認できた。すなわち、各層の厚さが１μｍでない場合であっても、光学濃度を適宜設定することにより、反射率Ｒ₁₂を低下させることができることが確認できた。

また、上述のシミュレーションは、樹脂にカーボンブラックやチタンブラックを分散させた高光学濃度層１２ｂを用いた構成（ｎ_12b≦３．００）について示したが、実施例３のように、ｎ_12bが３．００超であっても、反射率を０．３％以下にできる。上述のシミュレーション（ｎ_12b＝１．５０、２．００、２．５０および３．００）以外に、ｎ_12b＝３．５０とし、ＯＤ_12aを１．０、１．５、２．０および３．０として同様のシミュレーションを行ったところ、ＯＤ_12aが１．５であり、Δｎが１．９６以上２．００以下のときに、遮光層における反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となることがわかった。実施例３の基板のｎ_12a、ＯＤ_12aおよびｎ_12bの値（表１）は、ｎ_12b＝３．５０としたシミュレーション結果における、反射率Ｒ₁₂が０．３％以下となるｎ_12a、ＯＤ_12aおよびｎ_12bの値に近いものであった。ｎ_12bが３．００超であっても、シミュレーション結果に基づく条件を満たせば、反射率を０．３％以下とできることを確認できた。

以上、遮光層１２は、低光学濃度層１２ａおよび高光学濃度層１２ｂのみから形成されている場合を例に説明したが、遮光層はこれに限られず、透明基板と高光学濃度層との間に、複数の低光学濃度層が設けられていてもよい。遮光層が、低光学濃度層および高光学濃度層のみから構成されている場合と同様の原理により、遮光層における反射率を低減することができる。

次に、カラーフィルタ基板１０を備える液晶表示パネル１００を説明する。ここで説明する液晶表示パネル１００は、図１を参照して説明した液晶表示パネル１００と同様の構成を有する。

液晶表示パネル１００は、カラーフィルタ基板１０と反射防止膜６０と、を備える。液晶表示パネル１００において、カラーフィルタ基板１０として本実施形態による基板１０が用いられている。液晶表示パネル１００は、反射防止膜６０を備えているので、表面反射率を低下させることができる。また、液晶表示パネル１００は、表示パネルの内部反射率を表面反射率と同程度以下に低下させることができる。その結果、液晶表示パネル１００からの反射が全体として抑制され、表示品位が改善される。

表示パネルの低反射構造として用いられるモスアイ構造について説明する。モスアイ構造として、平均高さが１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である複数の円錐状の突起を有し、隣り合う突起の間隔が３０ｎｍ以上６００ｎｍ以下であるものが用いられる。表示パネルの観察者側に上記複数の円錐状の突起が並んでいると、表面における屈折率は空気層から表示パネル内部に向かって連続的に変化する。従って、光学的な界面が形成されにくい。また、突起が光の波長より小さな構造であるので、光は屈折率の平均を感じて進行する。従って、入射する光は界面が存在しないように振舞い、表面反射が抑制される。その結果、表面反射率を０．３％程度以下に低下させることができる。

なお、複数の円錐状の突起の平均高さが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であるとさらに好ましい。平均高さが２００ｎｍを超えると、突起表面側から入射した光が反射散乱して白っぽく見える。また、反射率が上がってしまうことがある。平均高さが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である複数の円錐状の突起を用いると、散乱が非常に少なくなり、反射率が抑えられる。

上述したように、本発明によると、表示パネル用の基板の遮光層における反射率を低下させることができる。表面に低反射膜を有する表示パネルのカラーフィルタ基板として本発明による基板を用いることにより、表示パネルの内部反射率を表面反射率と同程度以下に低下させることができる。その結果、表示パネルからの反射が全体として抑制され、表示品位が改善される。

本発明による基板は、種々の表示パネルに用いることができる。

１０、２０、８０ 基板
１１、２１、８１ 透明基板
１２、８２ 遮光層
１２ａ 低光学濃度層
１２ｂ 高光学濃度層
１３ カラーフィルタ層
１３ａ、１３ｂ、１３ｃ カラーフィルタ
１３ａ’、１３ｂ’、１３ｃ’ カラーレジスト
２２ 配線
３０ 液晶層
４０、４０ａ、４０ｂ、４０ｃ フォトマスク
５１、５２ 偏光層
６０ 低反射膜
８４ 反射防止層
１００ 液晶表示パネル

Claims (9)

1. 透明基板と、互いに光学濃度が異なる２つの層を有する遮光層とを備え、
   前記光学濃度が異なる２つの層のうち光学濃度が低い層である低光学濃度層は、前記光学濃度が異なる２つの層のうち光学濃度が高い層である高光学濃度層と前記透明基板との間に設けられており、
   前記低光学濃度層の光学濃度と前記高光学濃度層の光学濃度の和が３．０以上であり、
   前記高光学濃度層の屈折率が３．００未満であり、前記低光学濃度層の光学濃度が０．５以上である、表示パネル用の基板。
2. 複素屈折率をｎ＋ｋ＊ｉと表すと、前記高光学濃度層の消光係数ｋは、０．２５以上である、請求項１に記載の基板。
3. 前記高光学濃度層はカーボンブラックと感光性樹脂とを含む、請求項１または２に記載の基板。
4. 前記高光学濃度層はチタンブラックと感光性樹脂とを含む、請求項１または２に記載の基板。
5. 前記低光学濃度層はカラーフィルタと同じ材料から形成されている、請求項１から４のいずれかに記載の基板。
6. 前記低光学濃度層は青色顔料を含む、請求項５に記載の基板。
7. 前記低光学濃度層は赤色顔料を含む、請求項５に記載の基板。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の基板と、反射防止膜とを備える表示パネル。
9. 前記反射防止膜はモスアイ構造を有する、請求項８に記載の表示パネル。

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