JP5178732B2 - 粘着剤、粘着シート、多層粘着シート及び電子部品の製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、粘着剤、粘着剤を用いた粘着シート、粘着シートを用いた多層粘着シート、及び多層粘着シートを用いた電子部品の製造方法に関する。
IC等の電子部品の製造方法として、半導体ウエハや絶縁物基板を母材としてチップを製造し、チップをピックアップし、リードフレーム等に接着剤等で固定し、樹脂等で封止して電子部品とする方法が知られている。電子部品の製造方法としては、シリコン、ガリウム−ヒ素等の半導体ウエハや絶縁物基板上に回路パターンを形成して電子部品集合体とし、電子部品集合体を粘着シートに貼付け、更にリングフレームに固定してから個々のチップに切断分離(ダイシング)し、必要に応じてフィルムを引き延ばし(エキスパンド)、チップをピックアップし、チップを接着剤でリードフレーム等に固定する方法が広く行われている(非特許文献1等参照)。
ダイシング用の粘着シートと、チップをリードフレーム等に固定する接着剤の機能を兼ね備えた多層粘着シート(ダイアタッチフィルム一体型シート)を用いる方法が提案されている。ダイアタッチフィルム一体型シートは、粘着シートとダイアタッチフィルムを一体化した多層粘着シートである。ダイアタッチフィルム一体型シートを電子部品の製造に用いることにより、接着剤の塗布工程を省略できる。
ダイアタッチフィルム一体型シートは、接着剤を用いる方法に比べ、接着剤部分の厚み制御やはみ出し抑制ができるという利点がある。ダイアタッチフィルム一体型シートは、チップサイズパッケージ、スタックパッケージ、及びシステムインパッケージ等の半導体パッケージの製造に使用されている(特許文献1〜3等参照)。
電子部品集合体をダイシングする際に用いられる粘着シートの粘着剤として、(メタ)アクリル酸エステルとヒドロキシル基含有重合性単量体の共重合体に、不飽和結合を2個以上有する放射線重合性化合物を使用する方法が知られている(特許文献4参照)。
アクリル粘着剤として、重量平均分子量が20万以上、Tg(ガラス転移温度)が−60〜−30℃の各種官能基を有するアクリル化合物及びウレタンアクリレートオリゴマ等を含有するものが知られている(特許文献5参照)。
特開平02−248064号公報 特開平08−053655号公報 特開2004−186429号公報 特許第3410202号公報 特開平11−293201号公報 小澤他、"古河電工時報"、第106号、P31、古河電工株式会社(2000年7月)
しかしながら、半導体部品の高集積化に伴い、チップサイズは大きく薄くなっており、ダイシング後のチップのピックアップ作業が困難となるケースが増加していた。更に、粘着シートと半導体ウエハ間の親和性と比較して、粘着シートとダイアタッチフィルム間の親和性が高いため、電子線/紫外線の照射後でも粘着力の低減が十分に図れず、ピックアップ時の剥離容易性に劣り、ピックアップ不良を引き起こす場合があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ピックアップ時における粘着シートとダイアタッチフィルムとの間の剥離が容易であり、かくして、ダイシング後のチップのピックアップ作業を容易に行うことができる、粘着剤、粘着剤を用いた粘着シート、粘着シートを用いた多層粘着シート、及び多層粘着シートを用いた電子部品の製造方法を提供することである。
本発明によれば、(メタ)アクリル酸エステル重合体と、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマと、シリコーングラフト重合体と、を含有する粘着剤が提供される。
この粘着剤によれば、ダイシング後にチップをピックアップする際に、ダイアタッチフィルムと粘着シートの粘着剤層との剥離を容易なものとすることができるため、チップのピックアップ不良を抑制することができる。さらに、ダイシング時のチップ保持性に優れるとともに、微少な糊残りによるダイアタッチフィルムに対する汚染性も低い。このため、この粘着剤は、ダイアタッチフィルム一体型シートの粘着剤層に好適に用いることができる。
なお、上記の粘着剤は本発明の一態様であり、本発明の粘着剤を用いた粘着シート、粘着シートを用いた多層粘着シート、及び多層粘着シートを用いた電子部品の製造方法なども、同様の技術的特徴を有し、同様の作用効果を奏する。
本発明によれば、特定の組成からなる粘着剤を用いるため、ピックアップ作業時におけるチップの剥離が容易となる一方、ダイシング時におけるチップ保持性が良好である。さらに、ダイシング後にダイアタッチフィルムが汚染されていないため、ダイアタッチフィルムが付着したチップとリードフレームとの接着不良の発生を抑制することができる。
本発明の一実施形態の多層粘着シートの構成を説明する断面図である。 チップ保持性について説明するための写真である。 ピックアップ性について説明するための概念図である。
符号の説明
100 多層粘着シート
101 シリコンウエハ
102 リングフレーム
103 粘着剤層
104 ダイシングブレード
105 ダイアタッチフィルム
106 基材フィルム
107 切り込み
108 ダイチップ
110 粘着シート
111 リードフレーム
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
<用語の説明>
本明細書において、単量体とは、いわゆる単量体そのもの、または単量体に由来する構造を意味する。本明細書の部及び%は、特に記載がない限り質量基準とする。本明細書において(メタ)アクリロイル基とはアクリロイル基及びメタアクリロイル基の総称である。(メタ)アクリル酸等の(メタ)を含む化合物等も同様に、名称中に「メタ」を有する化合物と「メタ」を有さない化合物の総称である。ウレタンアクリレートオリゴマの官能基数とは、ウレタンアクリレートオリゴマ分子1個あたりのビニル基数をいう。
<実施形態の概要>
図1は、本実施形態の多層粘着シートの構成を説明する断面図である。
本実施形態の多層粘着シート(ダイアタッチフィルム一体型シート)100は、図1(1)に示すように、基材フィルム106と、その基材フィルム106に後述する粘着剤を塗布してなる粘着剤層103と、その粘着剤層103上に積層されてなるダイアタッチフィルム105と、を備える。
ここで、上記の基材フィルム106と、基材フィルム106に後述する粘着剤を塗布してなる粘着剤層103と、を併せて、粘着シート110と呼ぶこととする。すなわち、多層粘着シート100は、粘着シート110と、その粘着シート110の粘着剤層103側に積層されてなるダイアタッチフィルム105と、を備える。
そして、上記の粘着剤層103は、(メタ)アクリル酸エステル重合体と、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマと、シリコーングラフト重合体と、を含有する粘着剤を基剤フィルム106に塗布することによって形成されている。
上記の組成からなる粘着剤を用いる多層粘着シート100は、ダイチップ108のピックアップ作業時にダイアタッチフィルム105と粘着シート110の粘着剤層103との剥離が容易である。また、係る多層粘着シート100は、チップ保持性にも優れているため、ダイシング時にダイチップ108が剥離してしまうこと(いわゆる「チップ飛び」)を抑制できる。
そして、この多層粘着シート100を用いた電子部品の製造方法では、シリコンウエハ101のダイシング後にダイチップ108の裏面にダイアタッチフィルム105を付けた状態でダイチップ108をピックアップし、そのままリードフレーム111等にダイチップ108をマウントして接着させることができる。その際、微少な糊残りによるダイアタッチフィルム105の汚染性が低いことから、接着不良の発生を抑制することができる。
<粘着剤層>
粘着剤層103は、(メタ)アクリル酸エステル重合体と、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマと、シリコーングラフト重合体と、を含有する粘着剤から構成される。かかる粘着剤からなる粘着剤層103は、ダイチップ108のピックアップ作業時にダイアタッチフィルム105と粘着剤層103との剥離を容易なものとすることができる。また、ダイシング時のチップ保持性が良好であり、ダイアタッチフィルム105に対する汚染性も低い。
(メタ)アクリル酸エステル重合体は、(メタ)アクリル酸エステル単量体を重合した重合体である。また、(メタ)アクリル酸エステル重合体は、(メタ)アクリル酸エステル単量体以外のビニル化合物単量体を含んでもよい。
(メタ)アクリル酸エステルの単量体としては、例えばブチル(メタ)アクリレート、2−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシメチル(メタ)アクリレート、及びエトキシ−n−プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及び2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ビニル化合物単量体としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基、及び(亜)リン酸エステル基からなる官能基群の1種以上を有するものを好適に用いることができる。
ヒドロキシル基を有するビニル化合物単量体としては、例えばビニルアルコール等が挙げられる。
カルボキシル基を有するビニル化合物単量体としては、例えば(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、アクリルアミドN−グリコール酸、及びケイ皮酸等が挙げられる。
エポキシ基を有するビニル化合物単量体としては、例えばアリルグリシジルエーテル、及び(メタ)アクリル酸グリシジルエーテル等が挙げられる。
アミド基を有するビニル化合物単量体としては、例えば(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
アミノ基を有するビニル化合物単量体としては、例えばN,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
メチロール基を有するビニル化合物単量体としては、例えばN−メチロールアクリルアミド等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸エステル重合体の製造方法は、乳化重合、溶液重合等が使用できる。放射線照射後に粘着シート110とダイアタッチフィルム105とが容易に剥離できるように、乳化重合により製造できるアクリルゴムが好ましい。
ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ(以下、単に「ウレタンアクリレートオリゴマ」ともいう。)とは、ビニル基を4個以上有し、分子内にウレタン結合を有する(メタ)アクリレートオリゴマであれば特に限定されない。
ウレタンアクリレートオリゴマの製造方法は特に限定されないが、例えばヒドロキシル基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物と、複数のイソシアネート基を有する化合物(例えばジイソシアネート化合物)を反応させてウレタンアクリレートオリゴマとする方法が挙げられる。また、複数のヒドロキシル基末端を有するポリオールオリゴマに、複数のイソシアネート基を有する化合物(例えばジイソシアネート化合物)を過剰に添加して反応させて複数のイソシアネート末端を有するオリゴマとし、更にヒドロキシル基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物と反応させてウレタンアクリレートオリゴマとしてもよい。
ヒドロキシル基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトール−ジドロキシ−ペンタアクリレート、ビス(ペンタエリスリトール)−テトラアクリレート、テトラメチロールメタン−トリアクリレート、グリシドール−ジアクリレートや、これらのアクリレート基の一部又は全部をメタアクリレート基とした化合物等が挙げられる。
複数のイソシアネート基を有するイソシアネートとしては、例えば芳香族イソシアネート、脂環族イソシアネート、及び脂肪族イソシアネート等が挙げられる。複数のイソシアネート基を有するイソシアネートのうち、芳香族イソシアネート又は脂環族イソシアネートが好適に用いられる。イソシアネート化合物の形態としては単量体、二量体、及び三量体があり、三量体が好適に用いられる。
芳香族ジイソシアネートとしては、例えばトリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、及びキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。
脂環族ジイソシアネートとしては、例えばイソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)などが挙げられる。
脂肪族ジイソシアネートとしては、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
複数のヒドロキシル基末端を有するポリオールオリゴマとしては、例えばポリ(プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(プロピレンオキサイド)トリオール、コポリ(エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド)ジオール、ポリ(テトラメチレンオキサイド)ジオール、エトキシ化ビスフェノールA、エトキシ化ビスフェノールSスピログリコール、カプロラクトン変性ジオール、及びカーボネートジオール等が挙げられる。
ウレタンアクリレートオリゴマのビニル基の数が4個より少ないと、放射線照射後にダイアタッチフィルム105と粘着剤層103とが容易に剥離せず、ダイチップ108のピックアップ性が低下することがある。一方、ウレタンアクリレートオリゴマにおけるビニル基の数の上限については特に限定するものではないが、入手容易性や製造コスト等を考慮すると、15個程度までとするのが好ましい。
ウレタンアクリレートオリゴマの配合量は特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部に対して20質量部以上200質量部以下とすることが好ましい。ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマの配合量が20質量部より少ないと紫外線及び/又は放射線照射後に粘着シート110とダイアタッチフィルム105とが容易に剥離せず、ダイチップ108のピックアップ性に問題が発生する場合がある。また、200質量部より過剰に配合するとダイシング時に糊の掻き上げによりピックアップ不良を引き起こす場合があるとともに、反応残渣による微小な糊残りが生じ、ダイアタッチフィルム105が付着したダイチップ108をリードフレーム111上に搭載した際の加温時に接着不良が生じる場合がある。
シリコーングラフト重合体は、シリコーン分子鎖の末端にビニル基を有する単量体(以下、「シリコーンマクロモノマ」という)を重合したものである点以外は特に限定されず、例えばシリコーンマクロモノマのホモポリマーや、シリコーンマクロモノマと他のビニル化合物とのコポリマーが挙げられる。シリコーンマクロモノマは、シリコーン分子鎖の末端が(メタ)アクリロイル基またはスチリル基等のビニル基となっている化合物が好適に用いられる(特許文献6参照)。
前記他のビニル化合物としては、粘着剤に配合される他の重合体との相溶性が高い(メタ)アクリル単量体が好ましい。相溶性の高いものを用いると、粘着剤全体が均質になるためである。
(メタ)アクリル単量体は特に限定されないが、例えばアルキル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート、及び(メタ)アクリル酸等が挙げられるが、パーティクルと呼ばれる微小な糊残りを防止するために、反応性を有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、又は変性ヒドロキシ(メタ)アクリレートが好適に用いられる。
アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、及びイソボルニル(メタ)アクリレート、及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、及びヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
変性ヒドロキシ(メタ)アクリレートとしては、例えばエチレンオキシド変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート、及びラクトン変性ヒドロキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
シリコーングラフト重合体中のシリコーンマクロモノマ単位の割合は特に限定されないが、シリコーングラフト重合体100質量部中、シリコーンマクロモノマ単位を15質量部以上50質量部以下とすることが好ましい。シリコーンマクロモノマ単位の含有量が15質量部より少ないと、放射線照射後の粘着シート110とダイアタッチフィルム105とが容易に剥離せず、ダイチップ108のピックアップ性が低下する場合がある。また、50質量部より過剰であると、粘着剤層103の表面にブリードアウトし、ダイアタッチフィルム105を汚染し、ダイアタッチフィルム105が付着したダイチップ108をリードフレーム111上に搭載した際の加温時に接着不良が生じる場合がある。
シリコーングラフト重合体の配合量は特に限定されないが、(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部に対して0.1質量部以上10質量部以下とすることが好ましい。シリコーングラフト重合体の配合量が0.1質量部より少ないと紫外線及び/又は放射線照射後に粘着シート110とダイアタッチフィルム105とが容易に剥離せず、ダイチップ108のピックアップ性に問題が発生する場合がある。また、10質量部より過剰に配合すると、初期の粘着力が低化し、ダイシング時にリングフレーム102から剥離する場合がある。
粘着剤には、粘着強度を調整するために粘着付与樹脂を添加してもよい。粘着付与樹脂は特に限定されず、例えばロジン樹脂、ロジンエステル樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、フェノール樹脂、キシレン樹脂、クマロン樹脂、クマロンインデン樹脂、スチレン樹脂、脂肪族石油樹脂、芳香族石油樹脂、脂肪族芳香族共重合石油樹脂、脂環族炭化水素樹脂、及びこれらの変性品、誘導体、水素添加品等が挙げられる。
粘着付与樹脂の配合量は特に限定されず、(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部に対して200質量部以下、好ましくは30質量部以下とすることが好ましい。
粘着剤には、例えば、硬化剤、重合開始剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤、紫外線吸収剤、及び光安定剤等の各種添加剤を添加してもよい。
粘着剤層103の厚さは、1μm以上であることが好ましく、特に2μm以上であればより好ましい。また、粘着剤層103の厚さは、100μm以下であることが好ましく、特に40μm以下であればより好ましい。粘着剤層103の厚みが1μmより薄いと、粘着力が低下し、ダイシング時のチップ保持性が低下するとともに、リングフレーム102と多層粘着シート100との間の剥離を生じる場合がある。また、粘着剤層103の厚みが100μmより厚いと、粘着力が高くなり過ぎ、ピックアップ不良が発生する場合がある。
<粘着シート>
粘着シート110は、粘着剤を基材フィルム106上に塗布することによって製造され、基材フィルム106と、その基材フィルム106上に積層されてなる粘着剤層103とからなる。基材フィルム106の厚さは30μm以上とすることが好ましく、60μm以上とすることがさらに好ましい。また、基材フィルム106の厚さは、300μm以下とすることが好ましく、200μm以下とすることがさらに好ましい。
基材フィルム106の素材は特に限定されず、例えばポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸−アクリル酸エステルフィルム、エチレン−エチルアクリレート共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−アクリル酸共重合体、及び、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体やエチレン−(メタ)アクリル酸−(メタ)アクリル酸エステル共重合体等を金属イオンで架橋してなるアイオノマ樹脂が挙げられる。基材フィルム106にはこれらの樹脂の混合物、共重合体、及び多層フィルム等を使用できる。
基材フィルム106の素材はアイオノマ樹脂を用いることが好ましい。アイオノマ樹脂の中でも、エチレン単位、(メタ)アクリル酸単位、及び(メタ)アクリル酸アルキルエステル単位を有する共重合体をNa、K、Zn2+等の金属イオンで架橋したアイオノマ樹脂を用いると、ヒゲ状の切削屑発生を抑制できるため、好適に用いられる。
基材フィルム106の成型方法は特に限定されず、例えばカレンダー成形法、Tダイ押出し法、インフレーション法、及びキャスティング法等が挙げられる。
基材フィルム106には、ダイアタッチフィルム105剥離時における帯電を防止するために、基材フィルム106のダイアタッチフィルム105接触面及び/又は非接触に帯電防止処理を施してもよい。帯電防止剤は樹脂中に練り込んでもよい。帯電防止処理には、四級アミン塩単量体等の帯電防止剤を用いることができる。
四級アミン塩単量体としては、例えば、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート四級塩化物、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート四級塩化物、メチルエチルアミノエチル(メタ)アクリレート四級塩化物、p−ジメチルアミノスチレン四級塩化物、及びp−ジエチルアミノスチレン四級塩化物等が挙げられ、ジメチルアミノエチルメタクリレート四級塩化物が好適に用いられる。
滑剤及び帯電防止剤の使用方法は特に限定されないが、例えば基材フィルム106の片面に粘着剤を塗布し、その裏面に滑剤及び/又は帯電防止剤を塗布してもよく、滑剤及び/又は帯電防止剤を基材フィルムの樹脂に練り込んでシート化しても良い。
基材フィルム106の片面側の粘着剤層103にダイアタッチフィルム105を積層し、他方の面は平均表面粗さ(Ra)が0.3μm以上1.5μm以下のエンボス面とすることが可能である。エキスパンド装置(不図示)の機械テーブル側にエンボス面を設置することにより、ダイシング後のエキスパンド工程で基材フィルム106を容易に拡張することができる。
ダイシング後のエキスパンド性を向上させるために、基材フィルム106のダイアタッチフィルム105非接触面に滑剤を施したり、基材フィルム106に滑剤を練り込んだりすることができる。
滑剤は、粘着シート110とエキスパンド装置(不図示)の摩擦係数を低下させる物質であれば特に限定されず、例えばシリコーン樹脂や(変性)シリコーン油等のシリコーン化合物、フッ素樹脂、六方晶ボロンナイトライド、カーボンブラック、及び二硫化モリブデン等が挙げられる。これらの摩擦低減剤は複数の成分を混合してもよい。電子部品の製造はクリーンルームで行われるため、シリコーン化合物又はフッ素樹脂を用いることが好ましい。シリコーン化合物の中でも特にシリコーンマクロモノマ単位を有する共重合体は帯電防止層との相溶性が良く、帯電防止性とエキスパンド性のバランスが図れるため、好適に用いられる。
粘着シート110とダイアタッチフィルム105との間の剥離性を向上させるために、基材フィルム106のダイアタッチフィルム105接触面の算術平均Raは0.5μm以上1.5μm以下であることが好ましい。
粘着シート110とダイアタッチフィルム105との間の剥離を容易にするために、基材フィルム106のダイアタッチフィルム105接触面に離型処理を施してよい。離型処理には、例えばアルキド樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、及びワックス等の離型剤が用いられる。
基材フィルム106上に粘着剤層103を形成して粘着シート110とする方法は特に限定されず、例えばグラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、又はロールコーター等のコーターで基材フィルム106上に粘着剤を直接塗布する方法が挙げられる。凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、又はスクリーン印刷等で基材フィルム106上に粘着剤を印刷してもよい。
粘着シート110はダイシング時やバックグラインディング時に用いる電子部品固定用にも使用可能であるが、ダイアタッチフィルム105と粘着シート110を積層し、ダイシング工程の電子部品固定と、リードフレーム111への固定工程の両方に使用可能な多層粘着シート100として用いることが好ましい。
<ダイアタッチフィルム>
ダイアタッチフィルム105は、粘着剤や接着剤をフィルム状に成形した粘着性のシートである。ダイアタッチフィルム105は、PET樹脂等からなる剥離用フィルム等に接着剤や粘着剤を積層した状態で市販されており、接着剤や粘着剤を被着体に転写することができる。
ダイアタッチフィルム105の材質は、一般的に使用される粘着剤や接着剤の成分であれば良い。粘着剤としては、例えばエポキシ、ポリアミド、アクリル、及びポリイミド等が挙げられる。接着剤としては、例えばアクリル、酢酸ビニル、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、ポリアミド、ポリエチレン、ポリスルホン、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド酸、シリコーン、フェノール、ゴムポリマー、フッ素ゴムポリマー、及びフッ素樹脂等が挙げられ、ポリイミドが好適に用いられる。
ダイアタッチフィルム105にはこれらの粘着剤や接着剤の成分の混合物、共重合体、及び積層体を用いることができる。ダイアタッチフィルム105には、必要に応じて例えば光重合開始剤、帯電防止剤、架橋促進剤等の添加物を混合してもよい。
<電子部品の製造方法>
電子部品の製造には、粘着シート110の粘着剤塗布面にダイアタッチフィルム105を積層してなる多層粘着シート100を使用する方法が好適に用いられる。本実施形態の多層粘着シート100を使用した電子部品の製造方法は特に限定されないが、例えば図1に示す下記の手順が挙げられる。
(1)シリコンウエハ101を多層粘着シート100に貼付けて固定し、さらに多層粘着シート100をリングフレーム102に固定する。
(2)ダイシングブレード104でシリコンウエハ101をダイシングする。
(3)多層粘着シート100の基材フィルム106側から紫外線及び/又は放射線(不図示)を照射し、次いで、多層粘着シート100を放射状に拡大してダイチップ108間隔を広げた後、ダイチップ108をニードル等(不図示)で突き上げる。そして、真空コレット又はエアピンセット等(不図示)でダイチップ108を吸着し、粘着シート110とダイアタッチフィルム105との間で剥離し、ダイアタッチフィルム105が付着したダイチップ108をピックアップする。
(4)ダイアタッチフィルム105が付着したダイチップ108をリードフレーム111又は回路基板上に搭載(マウント)する。そして、ダイアタッチフィルム105を加熱し、ダイチップ108とリードフレーム111又は回路基板とを加熱接着する。最後に、リードフレーム111又は回路基板に搭載したダイチップ108を樹脂(不図示)でモールドする。
この製造方法では、リードフレーム111の代わりに回路パターンを形成した回路基板等を用いることができる。
紫外線及び/又は放射線の光源は特に限定されず、公知のものが使用できる。紫外線源として、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。放射線は電子線、α線、β線、γ線が好適に用いられる。
紫外線及び/又は放射線を照射することにより、粘着剤層103を構成する化合物分子内のビニル基を三次元網状化させて、粘着剤層103の粘着力を低下させることができる。これにより、紫外線及び/又は放射線を照射する前においては、粘着剤層103が初期の高い粘着力を有するため、優れたチップ保持性を示すことができ、紫外線及び/又は放射線を照射した後は、粘着剤層103の粘着力が低下するため、ダイアタッチフィルム105と粘着剤層103との間の剥離が容易となり、ダイチップ108のピックアップ性を向上させることができる。
上記実施形態では、シリコンウエハ101と粘着シート110との間にダイアタッチフィルム105が介在する形態について説明したが、ダイアタッチフィルム105に代えてペースト状接着剤を使用することもできる。
ペースト状接着剤を用いる場合、典型的には、シリコンウエハ101の裏面、すなわちリードフレーム111又は回路基板と接着させるための回路非形成面に、ペースト状接着剤を全面塗布し、これを加熱してシート状に半硬化させ、接着剤半硬化層を形成する。ここで形成された接着剤半硬化層は、上述したダイアタッチフィルム105と同様の機能を有する。従って、接着剤半硬化層が形成されたシリコンウエハ101と、粘着剤層103および基材フィルム106からなる粘着シート110とを、接着剤半硬化層と粘着剤層103とが接触するように貼り合わせると、図1(1)と同様の構成となる。以後は、ダイアタッチフィルム105を用いた場合と同様に、ダイシングブレード104を用いてダイシングし、接着剤半硬化層が付着したダイチップをピックアップし、リードフレーム111又は回路基板にマウントさせ、加熱接着することができる。
ペースト状接着剤としては、熱硬化性である点以外は特に限定されず、例えばアクリル、酢酸ビニル、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、ポリアミド、ポリエチレン、ポリスルホン、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド酸、シリコーン、フェノール、ゴムポリマー、フッ素ゴムポリマー、及びフッ素樹脂等の一種又は複数種の混合体が挙げられる。
<作用効果>
以下、本実施形態の多層粘着シート100の作用効果について図1を参照しながら説明する。
本実施形態の多層粘着シート100は、図1(1)に示すように、基材フィルム106と、その基材フィルム106に塗布された粘着剤からなる粘着剤層103と、その粘着剤層103上に積層されてなるダイアタッチフィルム105と、を備える。
そして、上記の粘着剤層103は、(メタ)アクリル酸エステル重合体と、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマと、シリコーングラフト重合体と、を含有する粘着剤からなる。
係る粘着剤によれば、紫外線及び/又は放射線照射後に、粘着剤層103とダイアタッチフィルム105との剥離が容易となるため、図1(3)に示すダイチップ108のピックアップ作業を良好に行うことができる。また、係る粘着剤によれば、紫外線及び/又は放射線照射前のチップ保持性にも優れているため、図1(2)に示すダイシング時に、ダイチップ108が剥離してしまうこと(チップ飛び)を抑制できる。さらに、係る粘着剤によれば、ダイアタッチフィルム105に対する微少な糊残りによる汚染性が低いため、図1(4)に示すようにダイアタッチフィルム105が付着したダイチップ108をリードフレーム111上にマウントさせ加温することによって接着する際に、汚染による接着不良の発生を抑制することができる。
また、上記の粘着剤では、(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部と、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ20質量部以上200質量部以下と、シリコーングラフト重合体0.1質量部以上10質量部以下と、を含有することが好ましい。
これは、紫外線及び/又は放射線照射後に粘着シート110とダイアタッチフィルム105との剥離を容易にするだけでなく、より好適に、ダイシング時の糊の掻き上げや反応残渣による微小な糊残りの発生を抑制できるとともに、ダイシング時に多層粘着シート100がリングフレーム102から剥離することを抑制できるからである。
また、上記の粘着剤では、シリコーングラフト重合体が(メタ)アクリル酸エステル単量体を構成モノマーの一つとして重合したものであることが好ましい。
この場合には、粘着剤を均質にすることができるからである。
また、上記の粘着剤では、(メタ)アクリル酸エステル単量体を構成モノマの一つとして採用したとき、この(メタ)アクリル酸エステル単量体にはヒドロキシル基を有するものが好ましい。
これは、粘着剤を均質化できることに加えて、ヒドロキシル基が、少なくともウレタンアクリレートオリゴマの反応残渣にあるイソシアネート基やイソシアネート硬化剤にあるイソシアネート基と反応することにより、シリコングラフト重合体による汚染発生を抑制できるからである。
また、上記粘着剤を塗布してなる粘着剤層103を備える粘着シート110が好ましく、当該粘着シート110は電子部品固定用であることがさらに好ましい。また、当該粘着シート110と、当該粘着シート110の粘着剤層103側に積層されてなるダイアタッチフィルム105と、を備える多層粘着シート100とすることが好ましい。
これは、係る粘着シート110または多層粘着シート100によれば、紫外線及び/又は放射線照射後に、ダイアタッチフィルム105との剥離が容易となるため、ダイチップ108のピックアップ作業を良好に行うことができるからである。また、係る粘着シート110または多層粘着シート100によれば、紫外線及び/又は放射線照射前のチップ保持性にも優れているため、ダイシング時に、ダイチップ108が剥離してしまうことを抑制できる。さらに、ダイアタッチフィルム105に対する汚染性が低い(粘着剤層103がダイアタッチフィルム105を汚染することが低減される)ため、ダイアタッチフィルム105が付着したダイチップ108をリードフレーム111上にマウントさせ加温することによって接着する際に、汚染による接着不良の発生を抑制することができる。
また、上記多層粘着シート100のダイアタッチフィルム105表面にシリコンウエハ101を貼り合わせる工程と、該多層粘着シート100に貼り合わされた状態で、シリコンウエハ101のダイシングを行う工程と、ダイシング後に、ダイアタッチフィルム105および粘着剤層103とを剥離することによって、シリコンウエハ101および当該シリコンウエハ101の裏面に付着しているダイアタッチフィルム105を併せてピックアップする工程と、を含む、電子部品の製造方法を好適に用いることができる。
なぜなら、この場合には、シリコンウエハ101のダイシング後に、多層粘着シート100の基材フィルム106側から紫外線及び/又は放射線(不図示)を照射することにより、ダイチップ108の裏面にダイアタッチフィルム105を付けた状態でダイチップ108を容易にピックアップすることができ、更にそのままリードフレーム111等にダイチップ108をマウントして接着させることができるからである。また、係る電子部品の製造方法によれば、紫外線及び/又は放射線照射前のチップ保持性にも優れているため、ダイシング時に、ダイチップ108が剥離してしまうこと(チップ飛び)を抑制できる。さらに、係る電子部品の製造方法によれば、ダイアタッチフィルム105に対する微少な糊残りによる汚染性が低いため、ダイアタッチフィルム105が付着したダイチップ108をリードフレーム111上にマウントさせ加温することによって接着する際に、汚染による接着不良の発生を抑制することができる。
また、図1のDAF使用工程の図を引用して説明すれば、シリコンウエハ101の裏面にペースト状接着剤105を全面塗布する工程(不図示)と、該ペースト状接着剤105を加熱してシート状に半硬化させて接着剤半硬化層105を形成する工程(不図示)と、該シリコンウエハ101の接着剤半硬化層105と上記粘着シート110の粘着剤層103とを貼り合わせる工程(図1(1))と、該粘着シート110に貼り合わされた状態で、シリコンウエハ101のダイシングを行う工程(図1(2))と、ダイシング後に、接着剤半硬化層105および粘着剤層103とを剥離することによって、シリコンウエハ101および当該シリコンウエハ101の裏面に付着している接着剤半硬化層105を併せてピックアップする工程(図1(3))と、を含む、電子部品の製造方法を好適に用いることができる。
なぜなら、この場合には、シリコンウエハ101のダイシング後に、粘着シート110の基材フィルム106側から紫外線及び/又は放射線(不図示)を照射することにより、ダイチップ108の裏面に接着剤半硬化層105を付けた状態でダイチップ108を容易にピックアップすることができ、更にそのままリードフレーム111等にダイチップ108をマウントして接着させることができるからである。さらに、この電子部品の製造方法によれば、粘着剤層103が接着剤半硬化層105を汚染することが低減されるため、接着剤半硬化層105が付着したダイチップ108をリードフレーム111上にマウントさせ加温することによって接着する際に、汚染による接着不良の発生を抑制することができる。
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
例えば、上記実施の形態ではウエハの種類をシリコンウエハ101としたが、特に限定する趣旨ではなく、どのような種類のウエハ(例えばGANウエハなど)を用いてもよい。どのような種類のウエハであっても、そのウエハを切断するために適したダイシングブレード104は存在するため、そのダイシングブレード104を用いて上記実施形態と同様のウエハの加工方法を実行可能であり、その場合にも同様の作用効果が得られる。
以下、本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<実験材料の調製>
実施例に係る粘着剤、粘着シート、及び多層粘着シートなどの各種実験材料は下記の処方で製造した。
1.多層粘着シートの材料として、以下のものを揃えた。
・(メタ)アクリル酸エステル重合体A:エチルアクリレート54%、ブチルアクリレート22%、メトキシエチルアクリレート24%の共重合体であって懸濁重合により得られたもの(当社重合品)。
・(メタ)アクリル酸エステル重合体B:2−エチルヘキシルアクリレート95%、2−ヒドロキシエチルアクリレート5%の共重合体であって溶液重合により得られたもの(当社重合品)。
・ウレタンアクリレートオリゴマA:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネート(脂肪族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペンタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が3,700でアクリレート官能基数15個(15官能)のウレタンアクリレートオリゴマ(当社重合品)。
・ウレタンアクリレートオリゴマB:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にトリレンジイソシアネート(芳香族ジイソシアネート)を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペンタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。Mnが3,800でアクリレート官能基数10個(10官能)(当社重合品)。
・ウレタンアクリレートオリゴマC:ポリ(エチレンオキサイド)ジオールの末端にイソホロンジイソシアネート(脂環族ジイソシアネート)の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペンタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。Mnが2,800で、1分子あたりのアクリレート官能基数10個(10官能)(当社重合品)。
・ウレタンアクリレートオリゴマD:ポリ(プロピレンオキサイド)ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネートを反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更に2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。数平均分子量(Mn)が3,400、ビニル基数は1分子あたり2個(2官能)(当社重合品)。
・シリコーングラフト重合体A:シリコーングラフトオリゴマ30質量部、ブチルアクリレート20質量部、メチルメタアクリレート30質量部、及び2−ヒドロキシメチルアクリレート20質量部を重合してなるシリコーングラフト重合体(当社重合品)。シリコーングラフトオリゴマはシリコーン分子鎖の末端にメタアクリロイル基を有するシリコーングラフトオリゴマ(当社重合品)を使用した。
・シリコーングラフト重合体B:シリコーングラフトオリゴマ30質量部、ブチルアクリレート20質量部、メチルメタアクリレート20質量部、2−ヒドロキシメチルアクリレート20質量部、メタクリル酸10質量部を重合し、更にグリシジルメタクリレートを付加重合してなるシリコーングラフト重合体(当社重合品)。シリコーングラフトオリゴマはシリコーン分子鎖の末端にメタアクリロイル基を有するシリコーングラフトオリゴマ(当社重合品)を使用した。
・シリコーン化合物A:シリコーン油(信越化学社製、製品名KF−96)。
・光重合開始剤:ベンジルジメチルケタール(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、製品名イルガキュア651)。
・硬化剤:1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体(日本ポリウレタン社製、製品名コロネートHL)。
各実験番号に対応する粘着剤の主な成分とその配合量は、表1および表2に示すとおりであり、各粘着剤の調製にあたっては、これらの表に示した成分に加えて、光重合開始剤を3質量部及び硬化剤を3質量部配合した。なお、表1および表2においては、配合した化合物の種類とその配合量を簡潔に表すべく、例えば(メタ)アクリル酸エステル重合体Aを100質量部配合した場合には、該当する欄に単に「A100」と表示した。従って、例えば、実験番号1に係る粘着剤は、(メタ)アクリル酸エステル重合体Aを100質量部、ウレタンアクリレートオリゴマAを100質量部、シリコーングラフト重合体Aを1質量部含み、さらに、光重合開始剤を3質量部、硬化剤を3質量部含む。
次いで、粘着剤をPETセパレーターフィルム上に塗布し、乾燥後の粘着剤層の厚みが10μmとなるように塗工し、PE100μmの基材フィルムに積層し粘着シートを得た。30μm厚さのダイアタッチフィルムを、粘着シートの粘着剤層上にラミネートして多層粘着シートとした。
基剤フィルムとしては、エチレン−メタアクリル酸−メタアクリル酸アルキルエステル共重合体のZn塩を主体とするアイオノマ樹脂からなり、メルトフローレート(MFR)が1.5g/10分(JIS K7210、210℃)、融点が96℃、Zn2+イオンを含有するフィルム(三井・デュポンポリケミカル社製、製品名ハイミラン1650)を用いた。
2.ダイアタッチフィルムとして、以下のものを揃えた。
ダイアタッチフィルム:厚さ30μmのフィルムであり、その組成は、ポリイミド接着剤及びエポキシ接着剤の混合物である。
3.電子部品集合体として、以下のものを揃えた。
電子部品の製造には、ダミーの回路パターンを形成した直径6インチ×厚さ0.4mmのシリコンウエハを用いた。
<ダイシング工程>
粘着シートへの切り込み量は30μmとした。ダイシングは10mm×10mmのチップサイズで行った。
ダイシング装置はDISCO社製 DAD341を用いた。ダイシングブレードはDISCO社製NBC−ZH205O−27HEEEを用いた。
ダイシングブレード形状:外径55.56mm、刃幅35μm、内径19.05mm。
ダイシングブレード回転数:40,000rpm。
ダイシングブレード送り速度:80mm/秒。
切削水温度:25℃。
切削水量 :1.0L/分。
<エキスパンド工程>
多層粘着シートを用いてシリコンウエハをダイシングした後、エキスパンド装置を用いてエキスパンドを行った。
エキスパンド装置:HUGLE社製ELECTRONICS HS−1800型。
引き落とし量:20mm。
引き落とし速度:20mm/秒。
加温条件:40℃×1分。
<実験結果の評価>
1.多層粘着シートの粘着力:多層粘着シートを予め80℃に加温したシリコンウエハ上に貼り合せ、2kgロ−ラの1往復で圧着し、圧着1日後に、紫外線を300mJ/cm照射した前後の試料を用いて粘着シートとダイアタッチフィルムとの界面を剥離した。結果を表1、表2に示す。
剥離方法:180°ピ−ル。
引張り速度:300mm/分。
2.チップ保持性:シリコンウエハを前記条件にてダイシングした際に、図2に示すように、チップが多層粘着シートに保持されている数を評価した。結果を表1、表2に示す。
◎(優):多層粘着シートに保持されているチップが95%以上。
○(良):多層粘着シートに保持されているチップが90%以上95%未満。
×(不可):多層粘着シートに保持されているチップが90%未満。
3.ピックアップ性:シリコンウエハを前記条件にてダイシング、エキスパンドした後、図3に示すように、ダイアタッチフィルムが付着した状態でチップをピックアップできた数を評価した。結果を表1、表2に示す。
◎(優):95%以上のチップがピックアップできた。
○(良):80%以上95%未満のチップがピックアップできた。
×(不可):80%未満のチップがピックアップできた。
4.汚染性:粘着シートをシリコン製ミラーウエハに貼り付けて、20分後に高圧水銀灯で紫外線を300mJ/cm照射した後、粘着シートを剥離した。シリコン製ミラーウエハ(5インチ)の貼り付け面上に残留した0.28μm以上の粒子数をパーティクルカウンターにて測定した。結果を表1、表2に示す。
◎(優):パーティクルが500個未満。
○(良):パーティクルが2000個未満。
×(不可):パーティクルが2000個以上。
Figure 0005178732
Figure 0005178732
<実験の考察>
表1および表2に示した実験結果からわかるように、本発明に係る粘着剤を用いた多層粘着シートは、ダイシング時のチップ保持性に優れ、ピックアップ作業時にダイアタッチフィルムと粘着剤層との剥離が容易であり、かつ、微少な糊残りによる汚染性も低い。
以上、本発明を実施例に基づいて説明した。この実施例はあくまで例示であり、種々の変形例が可能なこと、またそうした変形例も本発明の範囲にあることは当業者に理解されるところである。
本発明に用いる多層粘着シートは、ダイシング時のチップ保持に優れ、ピックアップ作業時にチップの剥離が容易であり、微少な糊残りによる汚染性も低いという効果を奏するため、ダイシング後にチップ裏面にダイアタッチフィルム層を付けた状態でピックアップし、リードフレーム等にマウントして接着させる電子部品の製造方法に好適に用いられる。

Claims (9)

  1. エチルアクリレートとブチルアクリレートとメトキシエチルアクリレートとを含む(メタ)アクリル酸エステル重合体と、
    ヒドロキシル基と複数の(メタ)アクリレート基を含有する(メタ)アクリレート化合物をイソシアネート三量体と反応させることによって形成される、ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマと、
    シリコーングラフト重合体と、
    を含有し、
    前記(メタ)アクリル酸エステル重合体100質量部に対して、前記ビニル基を4個以上有するウレタンアクリレートオリゴマ20質量部以上200質量部以下を含有し、前記シリコーングラフト重合体0.05質量部以上20質量部以下を含有する、粘着剤。
  2. 前記シリコーングラフト重合体が、重合前の配合物の一つを(メタ)アクリル酸エステル単量体とする、請求項1に記載の粘着剤。
  3. 前記(メタ)アクリル酸エステル単量体がヒドロキシル基を有する、請求項記載の粘着剤。
  4. 前記ウレタンアクリレートオリゴマが、10又は15のビニル基を有する、請求項1に記載の粘着剤。
  5. 基材フィルムと、該基材フィルムに請求項1乃至4のいずれか一項に記載の粘着剤を塗布してなる粘着剤層と、を備える、粘着シート。
  6. 電子部品固定用である、請求項5に記載の粘着シート。
  7. 請求項6に記載の粘着シートと、該粘着シートの前記粘着剤層側に積層されてなるダイアタッチフィルムと、を備える、多層粘着シート。
  8. ウエハをダイシングして得られる電子部品の製造方法であって、請求項7に記載の多層粘着シートの前記ダイアタッチフィルム表面にウエハを貼り合わせる工程と、該多層粘着シートに貼り合わされた状態で、該ウエハのダイシングを行う工程と、該ダイシング後に、該ダイアタッチフィルムおよび前記粘着剤層とを剥離することによって、該ウエハおよび該ウエハの裏面に付着しているダイアタッチフィルムを併せてピックアップする工程と、を含む、電子部品の製造方法。
  9. ウエハをダイシングして得られる電子部品の製造方法であって、ウエハの裏面にペースト状接着剤を全面塗布する工程と、該ペースト状接着剤を加熱してシート状に半硬化させて接着剤半硬化層を形成する工程と、該ウエハの接着剤半硬化層と請求項6に記載の粘着シートの粘着剤層とを貼り合わせる工程と、該粘着シートに貼り合わされた状態で、該ウエハのダイシングを行う工程と、該ダイシング後に、該接着剤半硬化層および前記粘着剤層とを剥離することによって、該ウエハおよび該ウエハの裏面に付着している接着剤半硬化層を併せてピックアップする工程と、を含む、電子部品の製造方法。
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Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4107417B2 (ja) * 2002-10-15 2008-06-25 日東電工株式会社 チップ状ワークの固定方法
SG175933A1 (en) * 2009-05-12 2011-12-29 Denki Kagaku Kogyo Kk Adhesive, adhesive sheet, and process for producing electronic components
JP2011089073A (ja) * 2009-10-26 2011-05-06 Denki Kagaku Kogyo Kk 粘着剤、粘着シート、多層粘着シート及び電子部品の製造方法
CN102640277A (zh) * 2009-11-30 2012-08-15 电气化学工业株式会社 粘合片及电子部件
JPWO2011077835A1 (ja) * 2009-12-21 2013-05-02 電気化学工業株式会社 粘着シート及び電子部品の製造方法
JP2011221006A (ja) * 2010-03-23 2011-11-04 Tokyo Electron Ltd ウェハ型温度検知センサおよびその製造方法
JP5859193B2 (ja) * 2010-07-14 2016-02-10 デンカ株式会社 多層粘着シート及び電子部品の製造方法
JP2012052038A (ja) * 2010-09-01 2012-03-15 Nitto Denko Corp 電子部品製造工程用仮固定シート
JP2012052036A (ja) * 2010-09-01 2012-03-15 Nitto Denko Corp 仮固定シート
KR101679657B1 (ko) * 2010-09-29 2016-11-25 삼성전자주식회사 유리섬유를 이용한 웨이퍼 레벨 몰드 형성방법 및 그 방법에 의한 웨이퍼 구조
JP5161284B2 (ja) * 2010-10-14 2013-03-13 電気化学工業株式会社 電子部品の製造方法
JP5161283B2 (ja) * 2010-10-14 2013-03-13 電気化学工業株式会社 電子部品の製造方法
US9064879B2 (en) * 2010-10-14 2015-06-23 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Packaging methods and structures using a die attach film
US8936966B2 (en) 2012-02-08 2015-01-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Packaging methods for semiconductor devices
TWI461501B (zh) * 2010-12-20 2014-11-21 Henkel IP & Holding GmbH 光可固化切割黏晶膠帶
WO2012115701A2 (en) * 2011-02-22 2012-08-30 Henkel Corporation Multilayered adhesive film
JP2013079304A (ja) * 2011-10-03 2013-05-02 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物の製造方法
JP2013079303A (ja) * 2011-10-03 2013-05-02 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物および粘着テープ
KR101209552B1 (ko) * 2011-10-07 2012-12-06 도레이첨단소재 주식회사 몰드 언더필 공정의 마스킹 테이프용 점착제 조성물 및 그를 이용한 마스킹 테이프
KR101400558B1 (ko) * 2011-12-07 2014-05-29 (주)엘지하우시스 폼 테이프 기재 조성물, 이를 이용한 폼 테이프 및 이의 제조 방법
WO2013141251A1 (ja) * 2012-03-23 2013-09-26 リンテック株式会社 フィルム、ワーク加工用シート基材およびワーク加工用シート
KR101447775B1 (ko) 2012-05-08 2014-10-06 (주)엘지하우시스 감촉 특성이 우수한 코팅 조성물, 그 제조방법 및 이를 이용한 전사시트
JP5589045B2 (ja) * 2012-10-23 2014-09-10 日東電工株式会社 半導体ウエハのマウント方法および半導体ウエハのマウント装置
JP6129629B2 (ja) * 2012-12-10 2017-05-17 日東電工株式会社 ダイシングテープ一体型接着シート、及び、ダイシングテープ一体型接着シートを用いた半導体装置の製造方法
JP6297786B2 (ja) * 2012-12-10 2018-03-20 日東電工株式会社 接着シート、ダイシングテープ一体型接着シート、半導体装置の製造方法、及び、半導体装置
US20150147850A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 Infineon Technologies Ag Methods for processing a semiconductor workpiece
KR101709689B1 (ko) 2013-12-19 2017-02-23 주식회사 엘지화학 다이싱 필름 점착층 형성용 조성물 및 다이싱 필름
US20180010015A1 (en) * 2015-01-27 2018-01-11 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming easy-to-detach thin resin film, and easy-to-detach thin resin film
JP6509156B2 (ja) * 2016-04-05 2019-05-08 太陽誘電株式会社 拡張装置及び電子部品の製造方法
CN109134801B (zh) * 2017-06-15 2021-01-12 狄超 一种用生产二甲氨基乙基丙烯酸酯的精馏残渣制备聚氨酯催化剂的方法
JP7348838B2 (ja) * 2018-06-05 2023-09-21 積水化学工業株式会社 粘着テープ
JP7410645B2 (ja) * 2019-03-08 2024-01-10 積水化学工業株式会社 粘着テープ
JP7255373B2 (ja) * 2019-06-10 2023-04-11 三菱ケミカル株式会社 活性エネルギー線硬化性剥離型粘着剤組成物および剥離型粘着シート

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02123182A (ja) * 1988-11-01 1990-05-10 Nitto Denko Corp 再剥離型粘着剤
JPH0745557A (ja) * 1993-07-27 1995-02-14 Lintec Corp ウェハ貼着用粘着シート
JPH11293201A (ja) * 1998-04-10 1999-10-26 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 再剥離型粘着剤
JP2001162732A (ja) * 1999-12-08 2001-06-19 Nippon Kayaku Co Ltd 放射線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜を有するフィルム
JP2002158276A (ja) * 2000-11-20 2002-05-31 Hitachi Chem Co Ltd ウエハ貼着用粘着シートおよび半導体装置
JP2002226796A (ja) * 2001-01-29 2002-08-14 Hitachi Chem Co Ltd ウェハ貼着用粘着シート及び半導体装置
JP2003073629A (ja) * 2001-09-03 2003-03-12 Somar Corp 粘着組成物及び粘着シート
JP2004221336A (ja) * 2003-01-15 2004-08-05 Hitachi Chem Co Ltd ダイボンドダイシング一体型フィルム
JP2005268552A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2006137816A (ja) * 2004-11-11 2006-06-01 Denki Kagaku Kogyo Kk 半導体部材用粘着シート

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2678655B2 (ja) 1989-03-20 1997-11-17 日東電工株式会社 半導体チップ固着キャリヤの製造方法及びウエハ固定部材
JP3483161B2 (ja) 1994-08-11 2004-01-06 リンテック株式会社 粘接着テープおよびその使用方法
JP3966808B2 (ja) 2002-12-03 2007-08-29 古河電気工業株式会社 粘接着テープ
US7495344B2 (en) * 2004-03-18 2009-02-24 Sanyo Electric Co., Ltd. Semiconductor apparatus

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02123182A (ja) * 1988-11-01 1990-05-10 Nitto Denko Corp 再剥離型粘着剤
JPH0745557A (ja) * 1993-07-27 1995-02-14 Lintec Corp ウェハ貼着用粘着シート
JPH11293201A (ja) * 1998-04-10 1999-10-26 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 再剥離型粘着剤
JP2001162732A (ja) * 1999-12-08 2001-06-19 Nippon Kayaku Co Ltd 放射線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜を有するフィルム
JP2002158276A (ja) * 2000-11-20 2002-05-31 Hitachi Chem Co Ltd ウエハ貼着用粘着シートおよび半導体装置
JP2002226796A (ja) * 2001-01-29 2002-08-14 Hitachi Chem Co Ltd ウェハ貼着用粘着シート及び半導体装置
JP2003073629A (ja) * 2001-09-03 2003-03-12 Somar Corp 粘着組成物及び粘着シート
JP2004221336A (ja) * 2003-01-15 2004-08-05 Hitachi Chem Co Ltd ダイボンドダイシング一体型フィルム
JP2005268552A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2006137816A (ja) * 2004-11-11 2006-06-01 Denki Kagaku Kogyo Kk 半導体部材用粘着シート

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