JP5173874B2 - 塗布装置及びノズルの待機方法 - Google Patents
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
- B05B15/55—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter using cleaning fluids
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- Coating Apparatus (AREA)
Description
(実施の形態)
始めに、図1及び図2を参照し、本実施の形態に係る塗布装置を説明する。
(実施の形態の第1の変形例)
次に、図8を参照し、本発明の実施の形態の第1の変形例に係る塗布装置を説明する。
(実施の形態の第2の変形例)
次に、図9を参照し、本発明の実施の形態の第2の変形例に係る塗布装置を説明する。
3 スピンチャック機構
4 容器
5 薬液吐出ノズル
5a ノズルチップ
6 溶剤吐出ノズル
7 メインアーム機構
9 スピンチャック
10 モータ
11 真空チャック溝
12 バキューム装置
14 突起
15 中央制御装置
16 溶剤噴射ノズル
17 排液管
18 制御弁
19 溶剤供給源
32 アーム
33 ホルダ
35 供給管
36 薬液供給タンク
37 バルブ
38 ポンプ
39 エア源
44 Y駆動機構
45 Yレール
50 ノズル待機部(ソルベントバス)
51 ノズル収容室
52 溶剤供給管
53 第1の溶剤溜部
54 第2の溶剤溜部
54a 貯留溝
54b 空間
54c 開口部
55 開口部
56、56a 排出管
57、57a 不活性ガス供給管
58 トラップ管
59 溶剤トラップ
W ウェハ
P1、P2 位置
Claims (4)
- 基板に塗布する薬液を供給するノズルと、
前記ノズルを前記薬液の溶剤の蒸気を含む雰囲気中に待機させるノズル待機部と
を有する塗布装置であって、
前記ノズル待機部から前記溶剤を排出する排出管を有し、
前記ノズル待機部の雰囲気中に、前記排出管を介して、不活性ガスを供給することを特徴とする塗布装置。 - 前記排出管はトラップ管を有し、
前記トラップ管を介して、不活性ガスを供給する、ことを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 - 前記薬液の溶剤に不活性ガスをバブリングすることにより、前記不活性ガスを前記溶剤の蒸気と混合し、前記溶剤の蒸気と混合した前記不活性ガスを供給する、ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の塗布装置。
- 基板に塗布する薬液を供給するノズルと、該ノズルを前記薬液の溶剤の蒸気を含む雰囲気中に待機させるノズル待機部と、該ノズル待機部から前記溶剤を排出する排出管とを有する塗布装置におけるノズルの待機方法であって、
前記ノズル待機部の雰囲気中に、前記排出管を介して、不活性ガスを供給することを特徴とするノズルの待機方法。
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