JP5170634B2 - 光学積層体、それを用いた偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Description

発明の背景

関連出願
本願は、日本国特許出願２００５−４４２３１号、同特許出願２００５−９９２６９号、同特許出願２００５−９５８３１号、及び同特許出願２００５−９９３５１号を基礎とするパリ条約の優先権を伴うものである。従って、本願はこれら特許出願の出願内容の全てを包含するものである。

発明の分野
本発明は、ＣＲＴ、液晶パネル等のディスプレイに用いられる光学積層体に関する。

背景技術
陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、または液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射または像の写り込みによるコントラストの低下、視認性の低下を防止することが要求される。このため、光の散乱原理または光学干渉の原理を用いて像の写り込みまたは反射率を低減する目的で画像表示装置の最表面に、反射防止積層体が設けられることが一般的である。

従来、画像表示装置、例えば、液晶ディスプレイにあっては、光学特性を調整し優れた画像表示を実現するために、反射防止積層体の一つとして防眩性積層体を使用することが知られている。防眩性積層体は、画像表示装置内における外光の反射または像の写り込みによる視認性の低下を防止することを目的として利用されるものである。防眩性積層体は、その防眩層の表面に様々な粒子を添加した防眩層、または、エンボス賦型処理を施すことにより凹凸形状を有した防眩層を備えたものとして調整される（特許公開２００４−３４１０７０）。

近年、パネル解像度の高精細化の要求に伴い、防眩層の凹凸形状は微細なものとなってきている。従って、このような構成を採用する防眩性積層体は、ブロードで大きいカーブを描く凹凸形状のものは高精細化に不向きとされ採用されることはなかった。他方、パネル解像度の高精細化に伴い形成される凹凸形状の微細化は、パネル解像度の高精細化の要求に対応することができるものの、ディスプレイ表面への外光の反射光に対し、画像表示面が白くみえたり（白化）、コントラストが低下する等の指摘がしばしばなされていた。また、このような防眩性積層体が、ノートパソコン等の画像表示表面に使用された場合、ある程度十分な光学特性を発揮することが可能となるが、ディスプレイ内部におけるバックライト背面からの透過光が、パネル最表面に形成された防眩性積層体の凹凸形状面を透過するとき、その凹凸形状が微細なレンズの役割をして、表示される画素等を乱してしまう状態「ギラツキ」が生じ易く、防眩性積層体自体の効果を発揮し難くなっていることがあった。特に、パネル解像度の高精細化に伴い、この「ギラツキ」が生じ易く、これを有効に防止することが必要とされている。

この「ギラツキ」を解消する方法として、鮮明度を高める目的で表面凹凸を緻密にし、かつ、防眩層を形成する樹脂と屈折率差のある散乱粒子を添加することにより防眩性積層体に内部散乱効果を付与する等の手法が用いられていた。しかしながら、いずれの手段も「ギラツキ」に対して良好な解決がなされたものの、全体の画像視認性が低下することがあった。他方、防眩層積層体において、高精細化パネルのギラツキを良化させる手法は、表面の白化または内部散乱効果による白濁等のコントラストを低下させる主要因であるとされ、「ギラツキ防止」と「コントラスト向上」とはトレードオフの関係にあり、両者を満足させることは困難であるとされていた。例えば、画面表示における艶黒感（濡れたような艶のある黒色）を含む黒色再現性、コントラスト等において劣ることがあった。つまり、明室における黒色の階調表現、特に低階調において、黒色のグラデーションの差が認識し難く、感度が低いことがあった。具体的には、黒と灰色の色認識に於いて、色ぼけ、および同一の色調の黒との認識しかできないことがあった。とりわけ、ギラツキ防止の性能を有する防眩層積層体ほど、これらの視認性は著しく低下していたといえる。

従って、現在、画像表面のギラツキを有効に防止することができ、黒色再現性、とりわけ艶黒感を達成しうる光学積層体の開発が望まれており、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のみならず、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの他用途においても使用できる光学積層体が切望されている。

発明の概要

本発明の第一の態様
本発明者等は、本発明時において、防眩性を付与しつつ、かつ、ギラツキ防止性とコントラスト改善性、とりわけ黒色再現性を向上させていわゆる艶黒感を達成することができる光学積層体が得られるとの知見を得た。本発明の第一の態様はかかる知見によるものである。従って、本発明の第一の態様は防眩性機能と優れたギラツキ防止性を持ち、視認性の高い画像表示を同時に実現することができる光学積層体の提供を目的とする。

よって、本発明の第一の態様による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材上に防眩層をこれらの順に備えてなるものであって、
前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角をθａ（度）とし、凹凸の平均粗さをＲｚ（μｍ）とした場合に、
Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
θａが０．１度以上１．２度以下であり、
Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であるものである。

本発明による光学積層体によれば、優れた防眩性と、艶黒感のある黒色再現性を実現することができ、かつ、高い鮮明度と、優れたギラツキ防止性、コントラスト、文字ボケ防止が実現することができ、かつ、様々なディスプレイにおいて使用可能な光学積層体を提供することが可能となる。とりわけ、本発明による光学積層体によれば、従来の防眩性積層体では実現することが困難であった黒の階調表現（光沢性のある黒色再現性）を顕著に改善することができる。具体的には、動画表示を行った際における画像が従来の凹凸形状のないクリアーハードコート層、さらにその上に反射防止層を有する積層体を配置したディスプレイとほぼ同様の階調を表現することが可能となり、かつ、文字の輪郭のシャープ感、面ギラを防止した画像が得られることを実現することが光学積層体を提供することが可能となる。また、本発明の好ましい態様によれば、防眩層の上に、滑性層又は低屈折率層等の任意の層を付与する場合、防眩層を形成する凹凸形状の表面を目止めすることとなり、大きく滑らかな所望の凹凸形状を達成することが可能となり、かつ、帯電防止、屈折率の調整、汚染防止等の様々な機能を光学積層体に付与することが可能となる。防眩層の上に滑性層又は低屈折率層等の任意の層が付与される場合、表面調整層又は低屈折率層等の任意の層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値とに一致するものである。つまり、本発明における光学積層体は、その最表面の凹凸形状が、本発明において規定した防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と一致するものである。

本発明の第二の態様
本発明者等は、本発明時において、防眩性を付与しつつ、かつ、ギラツキ防止性とコントラスト改善性、とりわけ黒色再現性を向上させていわゆる艶黒感を達成し、かつ、最表面の光学特性を向上させることができる光学積層体を得られるとの知見を得た。本発明の第二の態様はかかる知見によるものである。

従って、本発明の第二の態様は防眩性機能と優れたギラツキ防止性を持ち、視認性の高い画像表示を同時に実現することができる光学積層体の提供を目的とする。

よって、本発明の第二の態様による光学積層体は、
光透過性基材と、該光透過性基材上に防眩層と、表面調整層とをこれらの順で備えてなるものであって、
前記防眩層の最表面が凹凸形状を有してなり、
前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
θａが０．１度以上１．２度以下であり、
Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であるものである。

本発明の第二の態様による光学積層体によれば、防眩層の上に、表面調整層を有することから、防眩層の凹凸形状の表面を平滑にし、かつ、帯電防止、屈折率の調整、汚染防止等の様々な光学機能を光学積層体に付与することが可能となる。この結果、本発明の第一の態様と同様の効果を得ることが可能となる。より具体的には、防眩層の上に、表面調整層（必要に応じて低屈折率層等の任意の層）を付与することにより、防眩層を形成する凹凸形状の表面を目止めすることとなり、大きく滑らかな所望の凹凸形状を達成することが可能となり、かつ、帯電防止、屈折率の調整、汚染防止等の様々な機能を光学積層体に付与することが可能となる。防眩層の上に表面調整層、必要に応じて低屈折率層等の任意の層が形成された場合、表面調整層、低屈折率層等の任意の層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値とに一致するものである。つまり、本発明の第二の態様による光学積層体は、その最表面の凹凸形状が、本発明において規定した防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と一致するものである。

本発明の第三の態様
本発明者等は、本発明時において、防眩性を付与しつつ、かつ、ギラツキ防止性とコントラスト改善性、とりわけ黒色再現性を向上させていわゆる艶黒感を達成することができる光学積層体を得られるとの知見を得た。本発明の第三の態様はかかる知見によるものである。

従って、本発明の第三の態様は防眩性機能と優れたギラツキ防止性を持ち、視認性の高い画像表示を同時に実現することができる光学積層体の提供を目的とする。

よって、本発明の第三の態様による光学積層体は、光透過性基材と、該光透過性基材上に光拡散層を備えてなるものであって、
前記光拡散層の最表面が凹凸形状を有してなり、
前記光拡散層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
θａが０．１度以上１．２度以下であり、
Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下とされてなるものである。

本発明の第三の態様による光学積層体によれば、一般に、画像表示装置のバックライト側に使用される光拡散層（拡散フィルム）であっても、画像表示装置のユニット側に使用される防眩層と同様に、本発明の第一の態様と同様の効果を得ることができる。この結果、本発明の第一の態様と同様の効果を得ることが可能となる。また、本発明の好ましい態様によれば、光拡散層の上に、表面調整層、必要に応じて低屈折率層等の任意の層を付与することにより、光拡散層を形成する凹凸形状の表面を目止めすることとなり、大きく滑らかな所望の凹凸形状を達成することが可能となり、かつ、帯電防止、屈折率の調整、汚染防止等の様々な機能を光学積層体に付与することが可能となる。光拡散層の上に表面調整層、必要に応じて低屈折率層等の任意の層が形成された場合、表面調整層、低屈折率層等の任意の層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値とに一致するものである。つまり、本発明の第二の態様による光学積層体は、その最表面の凹凸形状が、本発明において規定した光拡散層の表面凹凸形状の光学特性値と一致するものである。

図１は、光学積層体の反射Ｙ値と表面ヘイズ値の関係を表すものである。 図２は、光学積層体のθａとＳｍとの関係を表すものである。 図３は、本発明による光学積層体の概略断面図である。 図４は、本発明の光学積層体と従来の防眩性光学積層体との表面形状を光学顕微撮影した写真である。 図５は、本発明の光学積層体をＡＦＭにより三次元測定し撮影した写真である。 図６は、従来の光学積層体をＡＦＭにより三次元測定し撮影した写真である。

発明の具体的な説明

定義
本明細書、実施例において使用する用語は下記の通り定義される。

１）１０点平均粗さ（Ｒｚ）
平均粗さの測定方法は、表面形状を２次元または３次元のプロファイルとして測定する。実際には、走査型プローブ顕微鏡または原子間力顕微鏡を用いて測定する。曲線そのものを客観的に比較するのは一般には困難なため、そのプロファイル曲線データから色々な粗さ指数を計算する。従って、本発明にあっては、上記測定結果を用いて、１０点平均粗さ（Ｒｚ）を算出する。よって、１０点平均粗さ（Ｒｚ）とは、平均値からもとめた偏差の値のうち、最大のものから上位５つの偏差の値の平均と、最小のものから下位５つの偏差の値の絶対値の平均の値の和として表される。

２）凹凸の平均間隔をＳｍ（μｍ）および平均傾斜角をθａ
本発明による光学積層体を構成する防眩層は凹凸形状を有する。Ｓｍ（μｍ）とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θａ（度）は凹凸部の平均傾斜角を表す。これらは、表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）の取り扱い説明書（１９９５，０７，２０改訂）に記載されたものとして定義することができる。θａ（度）は角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、θａ（度）＝tan ^−１ Δa＝tan ^−１ （各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和/基準長さ）で求められる。ここで、「基準長さ」とは、下記の測定条件１と同じである。

本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター（Ｓｍ、θａ、Ｒｚ）を測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。
測定条件
１）表面粗さ検出部の触針：
型番／SE2555N（２μ標準）（株）小坂研究所製
（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
２）表面粗さ測定器の測定条件：
基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：２．５ｍｍ
評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：１２．５ｍｍ
触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
ψ≡Ｒｚ／Ｓｍ
凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍとの比率ψは、ψ≡Ｒｚ／Ｓｍで定義し、凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾きを示す指標として用いることができる。凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍとの比率ψは、ψ≡Ｒｚ／Ｓｍで定義し、凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾き角を示す指標として用いることができる。

３）反射Ｙ値
反射Ｙ値は、島津製作所製 MPC3100分光光度計にて、5°正反射率を380〜780ｎｍまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト（ＭＰＣ３１００内蔵）で算出される、視感反射率を示す値である。なお、５°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）を貼って測定する。

４）ヘイズ値、全光線透過率、６０度グロスおよびと透過鮮明度
ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定することができる。測定に使用する機器としては、反射・透過率計ＨＲ−１００（村上色彩技術研究所）が挙げられる。防眩性積層体の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ−７３６１に従って、ヘイズ値と同じ測定器で測定できる。なお、ヘイズ、全光線透過率は、塗工面を光源に向けて測定する。６０度グロスは、ＪＩＳ Ｚ８７４１により、精密光沢計（（株）村上色彩研究所製 ＧＭ−２６Ｄ）を用いて測定可能である。測定は、サンプルの裏面反射の影響を除去するため、サンプルの裏面と測定器の黒蓋を両面テープ（寺岡製作所製）で貼り付けた状態で行う。透過鮮明度は、写像性測定器（スガ試験機（株）、品番；「ＩＣＭ−１ＤＰ」）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠し、４種類の光学櫛（０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、および２ｍｍ）で測定した数値の合計をもって表す。

５）表面ヘイズの定義
本発明で使用している「表面ヘイズ」は、以下のように求められる。防眩層の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂（モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布する。これによって、防眩層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この防眩層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌ のＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液 ５５度 ３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。

６）防眩層の層厚
防眩層の層厚は、基材の表示面側界面から空気と接する防眩性凹凸最表面までをいう。基材界面から最表面までには、防眩層が一層である場合と、表面調整層、その他光学機能層などが積層され、多層になっている場合がある。
層厚の測定方法
共焦点レーザー顕微鏡（LeicaTCS-NT：ライカ社製：倍率「１００〜３００倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。
測定手順
１：レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
２：測定条件は、上記の通りであった。
３：１画面につき 凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの膜厚を１点ずつ計２点測定し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出した。

７）鉛筆硬度
鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従って測定することができる。測定に使用する機器としては、鉛筆硬度試験機（東洋精機社製）が挙げられる。本発明における「光学積層体の鉛筆硬度」とは、透明基材上に形成された光学積層体の膜をＪＩＳ Ｋ−５４００に準じた鉛筆硬度試験によって測定した鉛筆硬度である。該鉛筆硬度試験は、５回の鉛筆硬度試験の内、1回以上の傷等の外観異常が認められなかった場合に使用した鉛筆についての硬度を求めるものである。例えば、３Ｈの鉛筆を用いて、５回の試験を行い、１回でも外観異常が生じなければ、その光学積層体の鉛筆硬度は少なくとも３Ｈである。

８）接触角
接触角は、協和界面化学社ＣＡ−Ｘを用いて、光学積層体の純水の接触角を測定を行うことが可能である。

９）塗膜密着性方法
ＪＩＳ Ｋ ５６００に準拠。１ｍｍの碁盤目を１００目いれ、ニチバン製工業用セロテープ（ニチバン株式会社の登録商標。以下同じである。）を用いて５回剥離試験を実施し、残っているマス目が、１００％であれば、良好、１００％に不足であれば、不良とした。

本発明の第一の態様
光学積層体
本発明による光学積層体は、防眩性特性と優れた黒色再現性、コントラストとを兼ね備えたものである。本発明では、この光学積層体をハーフグレア光学積層体（ＨＧ）と称する。ＨＧは、従来の優れた防眩性を有するアンチグレア光学積層体（ＡＧ）と優れた黒色再現性、コントラストを有するクリアーハードコート（グレア）層に低反射率層を備えた光学積層体（ＡＲ）の両特性を兼ね備えたものということができる。具体的には、ハーフグレア光学積層体（ＨＧ）の形成方法の一つとして考えられる表面調整層をアンチグレア光学積層体（ＡＧ）上に形成させることにより、防眩層の凹凸形状は滑らかになり、更に、アンチグレア（ＡＧ）と同等の表面粗さパラメーターを持たせることで、充分な防眩性を付与しつつ、極めて艶黒感の高い防眩性積層体を作製することが可能となる。そこで、
本発明による光学積層体（ＨＧ）の内容について、従来のＡＲとＡＧとの対比において説明する。

図１は、光学積層体における表面ヘイズ値（％）と反射Ｙ値（％）との関係を表す図である。図１によれば、従来のＡＲは、その表面ヘイズ値が０．３％程度未満の領域、具体的には、符号１の罫線より左側領域に属するものである。また、従来のＡＧはその表面ヘイズ値が４．０％〜２５．０％程度（一般的には１０．０％以上）であり、反射Ｙ値が１．０〜４．５程度の領域に属するものであり、具体的には符号５で囲まれた領域（一般的には、符号５で囲まれた右側領域）のものが利用されている。他方、本発明による光学積層体（ＨＧ）は、その表面ヘイズ値が０．２％以上３．５％以下（好ましくは３．０以下）程度であり、反射Ｙ値が０．５以上４．５以下程度の領域に属するものであり、具体的には符号３で囲まれた領域のものをいう。

図２は、光学積層体における防眩層の凹凸部の平均傾斜角θａ（deg.「度」）と、この凹凸の平均間隔Ｓｍ（μｍ）との関係を表す図である。図２によれば、従来のＡＧは、具体的には、θａ値が１．５度以上２．５度以下であり、Ｓｍ値が３０μｍ超過２００μｍ以下程度（符号９の領域）となっており、符号１１の領域に含まれるものが好ましいものとして利用されていた。他方、本発明による光学積層体（ＨＧ）は、そのθａ値が０．１度超過１．２度以下であり、好ましくは下限値が０．３度以上であり、上限値が０．６度以下であり、Ｓｍ値が１００μｍ以上６００μｍ以下程度であり、好ましくは下限値が１２０μｍ以上であり、上限値が４００μｍ以下であり、具体的には符号７の領域に属するものが利用される。また、本発明による光学積層体のＲｚの値は、０．２μｍ超過（好ましくは０．３５μｍ以上）であり１．２μｍ以下（１μｍ以下、好ましくは０．９μｍ以下）である。

層構成
本発明による光学積層体（ＨＧ）について図３を用いて説明する。図３は本発明による光学積層体の断面図を示す。光透過性基材２の上面に防眩層４が形成されてなり、この防眩層４は樹脂と微粒子とを含んでなるものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層４の上部には滑性層６が形成されてなるものが好ましい。本発明のより好ましい態様によれば、滑性層６の表面に、防眩層４または滑性層６の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層８が形成されてなる光学積層体が好ましい。

１．防眩層
本発明にあっては、光透過性基材の上に、防眩層を形成する。本発明にあっては、光学積層体の表面に、予め調製した防眩層を形成させてよい。また、これ以外に、光学積層体の表面に、１）樹脂に微粒子を添加した防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、２）微粒子を添加しないで、樹脂等のみを含んだ防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する方法、３）凹凸形状を付与する処理を用いて防眩層を形成する方法等が挙げられる。本発明にあっては、予め防眩層を調製する場合、上記１）〜３）の方法によって別途調製された防眩層であってよい。防眩層の厚さは、０．５μｍ以上２７μｍ以下（好ましくは１２μｍ以下）であり、好ましくは下限が１μｍ以上であり、上限が２３μｍ以下（好ましくは７μｍ以下）である。

防眩層用組成物を付与して防眩層を形成する場合には、防眩層用組成物をゲル分率で３０％以上８０％以下、好ましくは下限が３５％以上であり、より好ましくは４０％以上であり、好ましくは下限が７０％以下であり、より好ましくは６０％以下で硬化させることが好ましい。

１）樹脂に微粒子を添加して防眩層用組成物を用いて形成される防眩層
微粒子
微粒子は球状、例えば真球状、楕円状等のものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。本発明にあっては、微粒子の平均粒子径Ｒ（μｍ）が１.０μｍ以上２０μｍ以下であり、好ましくは上限が１５．０μｍであり下限が、３．５μｍであるものが好ましい。

本発明では、前記微粒子の全体の８０％以上（好ましくは９０％以上）が、前記微粒子の粒径平均分布がＲ±１.０（好ましくは０．３）μｍの範囲内にあるものが好ましい。微粒子の粒径平均分布が上記の範囲とされてなることにより、防眩性積層体の凹凸形状の均一性を良好なものとし、かつ、メンギラ等を有効に防止することが可能となる。また、微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子、第三微粒子、複数微粒子をさらに含んでなるものを有するものであってもよく、例えば、微粒子の平均粒子径Ｒ（μｍ）が下限の３．５μｍ程度の小粒子径については、単分散微粒子ではなく、平均粒子径が３．５μｍの粒度分布をもつ微粒子で効率良く凹凸層を形成させることが可能となる。

（凝集型）微粒子
本発明の好ましい態様によれば、第一の微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子をさらに含んでなるものが好ましくは挙げられる。また、本発明の好ましい態様によれば、微粒子の中でも凝集型微粒子を用いることが好ましい。凝集型微粒子は、同一の微粒子であっても、または平均粒径が異なる複数の微粒子で構成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、凝集型微粒子は、第一微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子を含んでなるものが好ましくは挙げられる。さらに、本発明のより好ましい態様によれば、第二微粒子の単体自体またはその凝集部自体のみでは、前記防眩層において防眩性を発揮しないものが好ましい。

本発明にあっては、微粒子の平均粒子径をＲ（μｍ）とし、第二微粒子の平均粒子径をｒ（μｍ）とした場合に、下記式(Ｉ)：
０.２５Ｒ（好ましくは０．５０）≦ｒ≦１．０Ｒ（好ましくは０．７０）(Ｉ)
を満たすものが好ましい。

ｒが０.２５Ｒ以上であることにより、塗布液の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。また、ｒが０．８５Ｒ以下であることにより、微粒子と第一粒子との役割を明確に区別することが可能となるので好ましい。

また、本発明の別の態様によれば、樹脂と、（第一）微粒子と、第二微粒子との単位面積当りの総重量比が、（第一）微粒子の単位面積当りの総重量をＭ_１、第二微粒子の単位面積当りの総重量をＭ_２、樹脂の単位面積当りの総重量をＭとした場合に、下記の式（ＩＩ）および（III）：
０.０８≦(Ｍ_１＋Ｍ_２)／Ｍ≦０．３６ （ＩＩ）
０≦Ｍ_２≦４.０Ｍ_１ （III）
を満たすものが好ましい。

また、本発明の別の好ましい態様によれば、（第一）微粒子と、第二微粒子と、および樹脂の屈折率をそれぞれ、ｎ_１、ｎ_２、ｎ_３とした場合に、下記の式（IV）：
Δｎ＝|ｎ₁−ｎ₃|＜０．１５および/またはΔｎ＝|ｎ₂−ｎ₃|＜０．１８（IV）
を満たすものが好ましい。

微粒子（第二の微粒子）は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは、透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。本発明の好ましい態様によればその表面に疎水性基を有したプラスチックビーズが好ましくは使用され、例えばスチレンビーズが好ましくは挙げられる。

樹脂
本発明による防眩層は（硬化型）樹脂により形成することができる。本発明において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する概念である。硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げら、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「ＴＡＣ」等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いことにより、光透過性基材と帯電防止層（必要に応じて）との密着性と透明性とを向上させることができる。さらに、上記したアセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

防眩層の形成
防眩層は、微粒子または凝集型微粒子（好ましくは第一微粒子と第二微粒子）と樹脂とを適切な溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物に混合して得た液体組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。

本発明の好ましい態様によれば、上記の液体組成物に、フッ素系またはシリコーン系などのレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した液体組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロース）に好ましくは利用される。

液体組成物を光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。液体組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。樹脂が硬化し、樹脂中の微粒子が固定されて、防眩層の最表面に所望の凹凸形状が形成される。

２）微粒子を含まず、樹脂等を含んだ防眩性用組成物で形成される防眩層
防眩層は、少なくとも一つのポリマーと少なくとも一つの硬化性樹脂前駆体とを、適切な溶媒を用いて混合した防眩層用組成物を光透過性基材上に付与して形成することができる。

ポリマー
ポリマーは、スピノーダル分解により相分離可能な複数のポリマー、例えば、セルロース誘導体と、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂等、またはこれらの組合せが挙げられる。硬化性樹脂前駆体は、複数のポリマーのうち、少なくとも一種のポリマーと相溶性を有していてもよい。複数のポリマーのうち、少なくとも１つのポリマーが、硬化性樹脂前駆体の硬化反応に関与する官能基、例えば、（メタ）アクリロイル基等の重合性基を有していてもよい。ポリマー成分としては、通常、熱可塑性樹脂が使用される。

熱可塑性樹脂の具体例としては、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂（脂環式オレフィン系樹脂を含む）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂（例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（例えば、２，６−キシレノールの重合体）、セルロース誘導体（例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類）、シリコーン樹脂（例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン）、ゴム又はエラストマー（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン等のジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム）等が挙げられ、これらの単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

スチレン系樹脂の具体例としては、スチレン系単量体の単独又は共重合体（例えば、ポリスチレン、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、スチレン−ビニルトルエン共重合体）、スチレン系単量体と他の重合性単量体［例えば、（メタ）アクリル系単量体、無水マレイン酸、マレイミド系単量体、ジエン類］との共重合体等が含まれる。スチレン系共重合体としては、例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体（ＡＳ樹脂）、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体［例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体等］、スチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。好ましいスチレン系樹脂としては、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル系単量体との共重合体［例えば、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体等のスチレンとメタクリル酸メチルを主成分とする共重合体］、ＡＳ樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体等が含まれる。

（メタ）アクリル系樹脂としては、（メタ）アクリル系単量体の単独又は共重合体、（メタ）アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体等が使用できる。（メタ）アクリル系単量体の具体例としては、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル等の（メタ）アクリル酸Ｃ_１−１０アルキル；（メタ）アクリル酸フェニル等の（メタ）アクリル酸アリール；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリロニトリル；トリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート等が例示できる。共重合性単量体の具体例としては、前記スチレン系単量体、ビニルエステル系単量体、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸等が例示でき、これらの単量体は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

（メタ）アクリル系樹脂の具体例としては、ポリメタクリル酸メチル等のポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸エステル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂等）等が挙げられる。好ましい（メタ）アクリル系樹脂の具体例としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等のポリ（メタ）アクリル酸Ｃ_１−６アルキル、特にメタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％程度）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。

有機酸ビニルエステル系樹脂の具体例としては、ビニルエステル系単量体の単独又は共重合体（ポリ酢酸ビニル、ポリプロピオン酸ビニル等）、ビニルエステル系単量体と共重合性単量体との共重合体（エチレン−酢酸ビニル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、酢酸ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等）又はそれらの誘導体が挙げられる。ビニルエステル系樹脂の誘導体の具体例としては、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルアセタール樹脂等が含まれる。

ビニルエーテル系樹脂の具体例としては、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルプロピルエーテル、ビニルｔ−ブチルエーテル等のビニルＣ_１−１０アルキルエーテルの単独又は共重合体、ビニルＣ_１−１０アルキルエーテルと共重合性単量体との共重合体（ビニルアルキルエーテル−無水マレイン酸共重合体等）が挙げられる。ハロゲン含有樹脂の具体例としては、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニリデン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。

オレフィン系樹脂の具体例としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィンの単独重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等の共重合体が挙げられる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、環状オレフィン（例えば、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン）の単独又は共重合体（例えば、立体的に剛直なトリシクロデカン等の脂環式炭化水素基を有する重合体）、前記環状オレフィンと共重合性単量体との共重合体（例えば、エチレン−ノルボルネン共重合体、プロピレン−ノルボルネン共重合体）等が例示できる。脂環式オレフィン系樹脂の具体例としては、商品名「アートン（ＡＲＴＯＮ）」、商品名「ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）」等として入手できる。

ポリカーボネート系樹脂の具体例としては、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が含まれる。

ポリエステル系樹脂の具体例としては、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸を用いた芳香族ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリＣ_２−４アルキレンテレフタレートやポリＣ_２−４アルキレンナフタレート等のホモポリエステル、Ｃ_２−４アルキレンアリレート単位（Ｃ_２−４アルキレンテレフタレート及び／又はＣ_２−４アルキレンナフタレート単位）を主成分（例えば、５０重量％以上）として含むコポリエステル等、が例示できる。コポリエステルの具体例としては、ポリＣ_２−４アルキレンアリレートの構成単位のうち、Ｃ_２−４アルキレングリコールの一部を、ポリオキシＣ_２−４アルキレングリコール、Ｃ_６−１０アルキレングリコール、脂環式ジオール（シクロヘキサンジメタノール、水添ビスフェノールＡ等）、芳香環を有するジオール（フルオレノン側鎖を有する９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ−アルキレンオキサイド付加体等）等で置換したコポリエステル、芳香族ジカルボン酸の一部を、フタル酸、イソフタル酸等の非対称芳香族ジカルボン酸、アジピン酸等の脂肪族Ｃ_６−１２ジカルボン酸等で置換したコポリエステルが含まれる。ポリエステル系樹脂の具体例としては、ポリアリレート系樹脂、アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸を用いた脂肪族ポリエステル、ε−カプロラクトン等のラクトンの単独又は共重合体も含まれる。好ましいポリエステル系樹脂は、通常、非結晶性コポリエステル（例えば、Ｃ_２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等のように非結晶性である。

ポリアミド系樹脂の具体例としては、ナイロン４６、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２等の脂肪族ポリアミド、ジカルボン酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸等）とジアミン（例えば、ヘキサメチレンジアミン、メタキシリレンジアミン）とから得られるポリアミド等が挙げられる。ポリアミド系樹脂の具体例としては、ε−カプロラクタム等のラクタムの単独又は共重合体であってもよく、ホモポリアミドに限らずコポリアミドであってもよい。

セルロース誘導体のうちセルロースエステル類の具体例としては、例えば、脂肪族有機酸エステル、例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート等のセルロースアセテート；セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のＣ_１−６有機酸エステル等が挙げられ、芳香族有機酸エステル（セルロースフタレート、セルロースベンゾエート等のＣ_７−１２芳香族カルボン酸エステル）、無機酸エステル類、例えば、リン酸セルロース、硫酸セルロース等）が例示でき、酢酸・硝酸セルロースエステル等の混合酸エステルであってもよい。セルロース誘導体の具体例としては、セルロースカーバメート類（例えば、セルロースフェニルカーバメート等が挙げられ、セルロースエーテル類、例えば、シアノエチルセルロース；ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等のヒドロキシＣ_２−４アルキルセルロース；メチルセルロース、エチルセルロース等のＣ_１−６アルキルセルロース；カルボキシメチルセルロース又はその塩、ベンジルセルロース、アセチルアルキルセルロース等が挙げられる。

好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

ポリマー成分としては、硬化反応に関与する官能基（又は硬化性化合物と反応可能な官能基）を有するポリマーを用いることもできる。このポリマーは、官能基を主鎖に有していてもよく、側鎖に有していてもよい。前記官能基は、共重合や共縮合等により主鎖に導入されてもよいが、通常、側鎖に導入される。このような官能基の具体例としては、縮合性基や反応性基（例えば、ヒドロキシル基、酸無水物基、カルボキシル基、アミノ基又はイミノ基、エポキシ基、グリシジル基、イソシアネート基）、重合性基（例えば、ビニル、プロペニル、イソプロペニル基、ブテニル、アリル等のＣ_２−６アルケニル基、エチニル、プロピニル、ブチニル等のＣ_２−６アルキニル基、ビニリデン等のＣ_２−６アルケニリデン基、又はこれらの重合性基を有する基（例えば、（メタ）アクリロイル基）等が挙げられる。これらの官能基のうち、重合性基が好ましい。

重合性基を側鎖に導入する方法としては、例えば、反応性基や縮合性基等の官能基を有する熱可塑性樹脂と、前記官能基との反応性基を有する重合性化合物とを反応させる方法を用いることができる。

官能基を有する熱可塑性樹脂としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂（例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂）、ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂（例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアミド系樹脂）、アミノ基を有する熱可塑性樹脂（例えば、ポリアミド系樹脂）、エポキシ基を有する熱可塑性樹脂（例えば、エポキシ基を有する（メタ）アクリル系樹脂やポリエステル系樹脂）等が例示できる。また、スチレン系樹脂やオレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂に、前記官能基を共重合やグラフト重合で導入した樹脂であってもよい。

重合性化合物としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂の場合は、エポキシ基やヒドロキシル基、アミノ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等を用いることができる。ヒドロキシル基を有する熱可塑性樹脂の場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やイソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。アミノ基を有する熱可塑性樹脂の場合は、カルボキシル又はその酸無水物基やエポキシ基、イソシアネート基等を有する重合性化合物等が挙げられる。エポキシ基を有する熱可塑性樹脂の場合は、カルボキシル基又はその酸無水物基やアミノ基等を有する重合性化合物等が挙げられる。

前記重合性化合物のうち、エポキシ基を有する重合性化合物としては、例えば、エポキシシクロヘキセニル（メタ）アクリレート等のエポキシシクロＣ_５−８アルケニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が例示できる。ヒドロキシル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシＣ_１−４アルキル（メタ）アクリレート、エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のＣ_２−６アルキレングリコール（メタ）アクリレート等が例示できる。アミノ基を有する重合性化合物としては、例えば、アミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノＣ_１−４アルキル（メタ）アクリレート、アリルアミン等のＣ_３−６アルケニルアミン、４−アミノスチレン、ジアミノスチレン等のアミノスチレン類等が例示できる。イソシアネート基を有する重合性化合物としては、例えば、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレートやビニルイソシアネート等が例示できる。カルボキシル基又はその酸無水物基を有する重合性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸や無水マレイン酸等の不飽和カルボン酸又はその無水物等が例示できる。

代表的な例としては、カルボキシル基又はその酸無水物基を有する熱可塑性樹脂とエポキシ基含有化合物、特に（メタ）アクリル系樹脂（（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等）とエポキシ基含有（メタ）アクリレート（エポキシシクロアルケニル（メタ）アクリレートやグリシジル（メタ）アクリレート等）の組み合わせが挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル系樹脂のカルボキシル基の一部に重合性不飽和基を導入したポリマー、例えば、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル共重合体のカルボキシル基の一部に、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチルアクリレートのエポキシ基を反応させて、側鎖に光重合性不飽和基を導入した（メタ）アクリル系ポリマー（サイクロマーＰ、ダイセル化学工業（株）製）等が使用できる。

熱可塑性樹脂に対する硬化反応に関与する官能基（特に重合性基）の導入量は、熱可塑性樹脂１ｋｇに対して、０．００１〜１０モル、好ましくは０．０１〜５モル、さらに好ましくは０．０２〜３モル程度である。

これらのポリマーは適当に組み合わせて使用できる。すなわち、ポリマーは複数のポリマーで構成されていてもよい。複数のポリマーは、液相スピノーダル分解により、相分離可能であってもよい。また、複数のポリマーは、互いに非相溶であってもよい。複数のポリマーを組み合わせる場合、第１の樹脂と第２の樹脂との組み合わせは特に制限されないが、加工温度付近で互いに非相溶な複数のポリマー、例えば、互いに非相溶な２つのポリマーとして適当に組み合わせて使用できる。例えば、第１の樹脂がスチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体等）である場合、第２の樹脂は、セルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類）、（メタ）アクリル系樹脂（ポリメタクリル酸メチル等）、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（前記ポリＣ_２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等であってもよい。また、例えば、第１のポリマーがセルロース誘導体（例えば、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類）である場合、第２のポリマーは、スチレン系樹脂（ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体等）、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂（ノルボルネンを単量体とする重合体等）、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂（前記ポリＣ_２−４アルキレンアリレート系コポリエステル等）等であってもよい。複数の樹脂の組合せにおいて、少なくともセルロースエステル類（例えば、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等のセルロースＣ_２−４アルキルカルボン酸エステル類）を用いてもよい。

スピノーダル分解により生成された相分離構造は、活性光線（紫外線、電子線等）や熱等により最終的に硬化し、硬化樹脂を形成する。そのため、防眩層に耐擦傷性を付与でき、耐久性を向上できる。

硬化後の耐擦傷性の観点から、複数のポリマーのうち、少なくとも一つのポリマー、例えば、互いに非相溶なポリマーのうち一方のポリマー（第１の樹脂と第２の樹脂とを組み合わせる場合、特に両方のポリマー）が硬化性樹脂前駆体と反応可能な官能基を側鎖に有するポリマーであるのが好ましい。

第１のポリマーと第２のポリマーとの割合（重量比）は、例えば、第１のポリマー／第２のポリマーが、１／９９〜９９／１、好ましくは５／９５〜９５／５、さらに好ましくは１０／９０〜９０／１０程度の範囲から選択でき、通常、２０／８０〜８０／２０程度、特に３０／７０〜７０／３０程度である。

相分離構造を形成するためのポリマーとしては、前記非相溶な２つのポリマー以外にも、前記熱可塑性樹脂や他のポリマーが含まれていてもよい。

ポリマーのガラス転移温度は、例えば、−１００℃〜２５０℃、好ましくは−５０℃〜２３０℃、さらに好ましくは０〜２００℃程度（例えば、５０〜１８０℃程度）の範囲から選択できる。なお、表面硬度の観点から、ガラス転移温度は、５０℃以上（例えば、７０〜２００℃程度）、好ましくは１００℃以上（例えば、１００〜１７０℃程度）であるのが有利である。ポリマーの重量平均分子量は、例えば、１，０００，０００以下、好ましくは１，０００〜５００，０００程度の範囲から選択できる。

硬化性樹脂前駆体
硬化性樹脂前駆体としては、熱や活性エネルギー線（紫外線や電子線等）等により反応する官能基を有する化合物であり、熱や活性エネルギー線等により硬化又は架橋して樹脂（特に硬化又は架橋樹脂）を形成可能な種々の硬化性化合物が使用できる。前記樹脂前駆体としては、例えば、熱硬化性化合物又は樹脂［エポキシ基、重合性基、イソシアネート基、アルコキシシリル基、シラノール基等を有する低分子量化合物（例えば、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂）］、活性光線（紫外線等）により硬化可能な光硬化性化合物（例えば、光硬化性モノマー、オリゴマーの紫外線硬化性化合物）等が例示でき、光硬化性化合物は、ＥＢ（電子線）硬化性化合物等であってもよい。なお、光硬化性モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい光硬化性樹脂等の光硬化性化合物を、単に「光硬化性樹脂」という場合がある。

光硬化性化合物には、例えば、単量体、オリゴマー（又は樹脂、特に低分子量樹脂）が含まれ、単量体としては、例えば、単官能性単量体［（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル系単量体、ビニルピロリドン等のビニル系単量体、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等の橋架環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート等］、少なくとも２つの重合性不飽和結合を有する多官能性単量体［エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリオキシテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の（ポリ）オキシアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アダマンタンジ（メタ）アクリレート等の橋架環式炭化水素基を有するジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の３〜６程度の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体］が例示できる。

オリゴマー又は樹脂としては、ビスフェノールＡ−アルキレンオキサイド付加体の（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート（ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等）、ポリエステル（メタ）アクリレート（例えば、脂肪族ポリエステル型（メタ）アクリレート、芳香族ポリエステル型（メタ）アクリレート等）、（ポリ）ウレタン（メタ）アクリレート（例えば、ポリエステル型ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル型ウレタン（メタ）アクリレート）、シリコーン（メタ）アクリレート等が例示できる。これらの光硬化性化合物は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。

好ましい硬化性樹脂前駆体は、短時間で硬化できる光硬化性化合物、例えば、紫外線硬化性化合物（モノマー、オリゴマーや低分子量であってもよい樹脂等）、ＥＢ硬化性化合物である。特に、実用的に有利な樹脂前駆体は、紫外線硬化性樹脂である。さらに、耐擦傷性等の耐性を向上させるため、光硬化性樹脂は、分子中に２以上（好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４程度）の重合性不飽和結合を有する化合物であるのが好ましい。硬化性樹脂前駆体の分子量としては、ポリマーとの相溶性を考慮して５０００以下、好ましくは２０００以下、さらに好ましくは１０００以下程度である。

硬化性樹脂前駆体は、その種類に応じて、硬化剤を含んでいてもよい。例えば、熱硬化性樹脂では、アミン類、多価カルボン酸類等の硬化剤を含んでいてもよく、光硬化性樹脂では光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としては、慣用の成分、例えば、アセトフェノン類又はプロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキシド類等が例示できる。光硬化剤等の硬化剤の含有量は、硬化性樹脂前駆体１００重量部に対して０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部、さらに好ましくは１〜８重量部（特に１〜５重量部）程度であり、３〜８重量部程度であってもよい。

硬化性樹脂前駆体は硬化促進剤を含んでいてもよい。例えば、光硬化性樹脂は、光硬化促進剤、例えば、第三級アミン類（例えば、ジアルキルアミノ安息香酸エステル）、ホスフィン系光重合促進剤等を含んでいてもよい。

ポリマーと硬化性樹脂前駆体との具体的な組合せ
少なくとも１つのポリマー及び少なくとも１つの硬化性樹脂前駆体のうち、少なくとも２つの成分が、加工温度付近で互いに相分離する組み合わせで使用される。相分離する組み合わせとしては、例えば、（ａ）複数のポリマー同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ、（ｂ）ポリマーと硬化性樹脂前駆体とが非相溶で相分離する組み合わせや、（ｃ）複数の硬化性樹脂前駆体同士が互いに非相溶で相分離する組み合わせ等が挙げられる。これらの組み合わせのうち、通常、（ａ）複数のポリマー同士の組み合わせや、（ｂ）ポリマーと硬化性樹脂前駆体との組み合わせであり、特に（ａ）複数のポリマー同士の組み合わせが好ましい。相分離させる両者の相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程で両者が有効に相分離し、防眩層としての機能が向上する。

熱可塑性樹脂と硬化性樹脂前駆体（又は硬化樹脂）とは、通常、互いに非相溶である。ポリマーと硬化性樹脂前駆体とが非相溶で相分離する場合に、ポリマーとして複数のポリマーを用いてもよい。複数のポリマーを用いる場合、少なくとも１つのポリマーが樹脂前駆体（又は硬化樹脂）に対して非相溶であればよく、他のポリマーは前記樹脂前駆体と相溶してもよい。

互いに非相溶な２つの熱可塑性樹脂と、硬化性化合物（特に複数の硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマー）との組み合わせであってもよい。さらに、硬化後の耐擦傷性の観点から、前記非相溶な熱可塑性樹脂のうち一方のポリマー（特に両方のポリマー）が硬化反応に関与する官能基（前記硬化性樹脂前駆体の硬化に関与する官能基）を有する熱可塑性樹脂であってもよい。

ポリマーを互いに非相溶な複数のポリマーで構成して相分離する場合、硬化性樹脂前駆体は、非相溶な複数のポリマーのうち、少なくとも１つのポリマーと加工温度付近で互いに相溶する組合せで使用される。すなわち、互いに非相溶な複数のポリマーを、例えば、第１の樹脂と第２の樹脂とで構成する場合、硬化性樹脂前駆体は少なくとも第１の樹脂又は第２の樹脂のどちらかと相溶すればよく、好ましくは両方のポリマー成分と相溶してもよい。両方のポリマー成分に相溶する場合、第１の樹脂及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物と、第２の樹脂及び硬化性樹脂前駆体を主成分とした混合物との少なくとも二相に相分離する。

選択した複数のポリマーの相溶性が低い場合、溶媒を蒸発させるための乾燥過程でポリマー同士が有効に相分離し、防眩層としての機能が向上する。複数のポリマー相分離性は、双方の成分に対する良溶媒を用いて均一溶液を調製し、溶媒を徐々に蒸発させる過程で、残存固形分が白濁するか否かを目視にて確認することにより簡便に判定できる。

通常、ポリマーと、樹脂前駆体の硬化により生成した硬化又は架橋樹脂とは互いに屈折率が異なる。また、複数のポリマー（第１の樹脂と第２の樹脂）の屈折率も互いに異なる。ポリマーと硬化又は架橋樹脂との屈折率の差、複数のポリマー（第１の樹脂と第２の樹脂）との屈折率の差は、例えば、０．００１〜０．２、好ましくは０．０５〜０．１５程度であってもよい。

ポリマーと硬化性樹脂前駆体との割合（重量比）は、特に制限されず、例えば、ポリマー／硬化性樹脂前駆体が、５／９５〜９５／５程度の範囲から選択でき、表面硬度の観点から、好ましくは５／９５〜６０／４０程度であり、さらに好ましくは１０／９０〜５０／５０、特に１０／９０〜４０／６０程度である。

溶媒
溶媒は、前記ポリマー及び硬化性樹脂前駆体の種類及び溶解性に応じて選択し使用することができ、少なくとも固形分（複数のポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）を均一に溶解できる溶媒であればよく、湿式スピノーダル分解において使用することができる。そのような溶媒としては、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。

防眩層用組成物中の溶質（ポリマー及び硬化性樹脂前駆体、反応開始剤、その他添加剤）の濃度は、相分離が生じる範囲及び流延性やコーティング性等を損なわない範囲で選択でき、例えば、１〜８０重量％、好ましくは５〜６０重量％、さらに好ましくは１５〜４０重量％（特に２０〜４０重量％）程度である。

防眩層の形成法
防眩層は、少なくとも１つのポリマーと少なくとも１つの硬化性樹脂前駆体とを含む防眩層用組成物を用いて形成することができる。そして、少なくとも１つのポリマーと少なくとも１つの硬化性樹脂前駆体とを、適切な溶媒と共に混合した防眩層組成物を用いることにより、液相からのスピノーダル分解により、相分離構造を形成し、硬化性樹脂前駆体を硬化させ、少なくとも防眩層を形成することにより製造できる。

液相からのスピノーダル分解は、溶媒を蒸発させることにより行うことができる。相分離構造を形成する組み合わせは、例えば、複数のポリマー同士、ポリマーと硬化性樹脂前駆体、複数の硬化性樹脂前駆体同士等であってもよい。この方法において、熱可塑性樹脂と、光硬化性化合物（光重合性モノマーやオリゴマー等）と、光重合開始剤と、熱可塑性樹脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒（共通溶媒）とを含む組成物からのスピノーダル分解により相分離構造を形成し、光照射することにより防眩層を形成してもよい。また、熱可塑性樹脂と、この熱可塑性樹脂に非相溶で且つ光硬化性基を有する樹脂と、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、樹脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒とを含む組成物からのスピノーダル分解により相分離構造を形成し、光照射することにより防眩層を形成してもよい。これらの方法において、光透過性基材上に少なくとも一層の防眩層を形成することが可能となる。

具体的な形成方法
防眩層は、少なくとも一つのポリマーと少なくとも一つの硬化性樹脂前駆体とを、適切な溶媒を用いて混合した防眩層用組成物を光透過性基材に付与し、その後、溶媒の蒸発に伴うスピノーダル分解により、相分離構造を形成する工程と、硬化性樹脂前駆体を硬化させ、少なくとも防眩層を形成する工程とを経ることによりを得ることができる。相分離工程は、通常、ポリマーと硬化性樹脂前駆体と溶媒とを含む混合液（特に均一溶液等の液状組成物）を光透過性基材の表面に塗布又は流延する工程と、塗布層又は流延層から溶媒を蒸発させて規則的又は周期的な平均相間距離を有する相分離構造を形成する工程とで構成されており、硬化性樹脂前駆体を硬化させることにより防眩層を得ることができる。

本発明の好ましい態様によれば、混合液として、熱可塑性樹脂と、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、熱可塑性樹脂および光硬化性化合物を可溶な溶媒とを含む防眩層用組成物が使用でき、スピノーダル分解により形成された相分離構造の光硬化成分を光照射により硬化することにより防眩層が形成される。また、他の好ましい態様では、混合液として、互いに非相溶な複数のポリマーと、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶媒とを含む防眩層用組成物が使用でき、スピノーダル分解により形成された相分離構造の光硬化成分を光照射により硬化することにより防眩層が形成される。

このような溶媒の蒸発を伴うスピノーダル分解により、相分離構造のドメイン間の平均距離に規則性又は周期性を付与できる。そして、スピノーダル分解により形成された相分離構造は、硬化性樹脂前駆体を硬化させることにより直ちに固定化できる。硬化性樹脂前駆体の硬化は、硬化性樹脂前駆体の種類に応じて、加熱、光照射等、あるいはこれらの方法の組合せにより行うことができる。加熱温度は、相分離構造を有する限り、適当な範囲、例えば、５０〜１５０℃程度から選択でき、層分離工程と同様の温度範囲から選択してもよい。

光学積層体の一部を構成する防眩層は、その防眩層の相分離構造、液相からのスピノーダル分解（湿式スピノーダル分解）により形成されている。すなわち、ポリマーと硬化性樹脂前駆体と溶媒とで構成された本発明による防眩層用組成物を用い、この防眩層用組成物の液相（又は均一溶液やその塗布層）から、溶媒を乾燥等により蒸発又は除去する過程で、濃度の濃縮に伴って、スピノーダル分解による相分離が生じ、相間距離が比較的規則的な相分離構造を形成できる。より具体的には、前記湿式スピノーダル分解は、通常、少なくとも１つのポリマーと少なくとも１つの硬化性樹脂前駆体と溶媒とを含んでなる防眩層用組成物（好ましくは均一溶液）を支持体に塗布し、塗布層から溶媒を蒸発させることにより行うことができる。

本発明にあっては、このスピノーダル分解において、相分離の進行に伴って共連続相構造を形成し、さらに相分離が進行すると、連続相が自らの表面張力により非連続化し、液滴相構造（球状、真球状、円盤状や楕円体状等の独立相の海島構造）となる。従って、相分離の程度によって、共連続相構造と液滴相構造との中間的構造（上記共連続相から液滴相に移行する過程の相構造）も形成できる。本発明の防眩層の相分離構造は、海島構造（液滴相構造、又は一方の相が独立または孤立した相構造）、共連続相構造（又は網目構造）であってもよく、共連続相構造と液滴相構造とが混在した中間的構造であってもよい。これらの相分離構造により溶媒乾燥後には防眩層の表面に微細な凹凸を形成できる。

相分離構造において、防眩層の表面に凹凸形状が形成され、かつ表面硬度を高める点からは、少なくとも島状ドメインを有する液滴相構造であるのが有利である。なお、ポリマーと前記前駆体（又は硬化樹脂）とで構成された相分離構造が海島構造である場合、ポリマー成分が海相を形成してもよいが、表面硬度の観点から、ポリマー成分が島状ドメインを形成するのが好ましい。なお、島状ドメインの形成により、乾燥後には防眩層の表面に所望の光学特性を発揮する凹凸形状が形成される。

前記相分離構造のドメイン間の平均距離は、通常、実質的に規則性又は周期性を有している。例えば、ドメインの平均相間距離は、例えば、１〜７０μｍ（例えば、１〜４０μｍ）、好ましくは２〜５０μｍ（例えば、３〜３０μｍ）、さらに好ましくは５〜２０μｍ（例えば、１０〜２０μｍ）程度であってもよい。

３）凹凸形状を付与する処理を用いて形成される防眩層
３−１）本発明による防眩層は、防眩層を形成し、その後に、防眩層の表面に対して、凹凸形状を付与する賦型処理を行って凹凸形状を有する防眩層を形成してよい。例えば、光透過性基材上に、防眩層を形成し、該防眩層の表面に凹凸形状を形成することが挙げられる。本発明の好ましい態様によれば、防眩層が有する凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型を用いた賦型処理で行われることが好ましい。逆の凹凸形状を有する型はエンボス版、エンボスロール等が挙げられ、これらの内容は後記する３−２）と同じであってよい。

３−２）本発明による防眩層は、光透過性基材を、防眩層の表面に形成される凹凸形状と逆の凹凸形状を有する型に、防眩層用組成物を付与し、所望の凹凸形状を有してなる防眩層として形成されてよい。この形成法によれば、微粒子を配合せずに、所望の凹凸形状を有する防眩層を形成した光学積層体を得ることができるとの利点を有する。所望の凹凸形状と逆の形状を型面に形成した凹凸型を使用し、硬化性の優れた防眩層用組成物を光透過性基材上に付与した後に、硬化処理し、光透過性基材と凹凸形状を有する防眩層を一体化させ、光学積層体として製造することができる。本発明にあっては、防眩層用組成物を付与してから凹凸型で賦型してもよいし、防眩層用組成物を光透過性基材と凹凸型の界面に供給し、防眩層用組成物を凹凸型と光透過性基材の間に介在させて、凹凸形状の形成と防眩層の形成とを同時に行なってもよい。本発明の好ましい態様によれば、エンボスローラ以外に、平板状のエンボス板を用いることもできる。

エンボスローラーまたは平板状のエンボス板等に形成されている凹凸型面は、種々の方法により、具体的には、サンドブラスト法またはビーズショット法によって形成することができる。サンドブラスト法によるエンボス版（エンボスローラー）を用いて形成された防眩層は、その上側に凹形状（他方、下側に凸な断面形状）が多数分布した形状となる。ビーズショット法によるエンボス版（エンボスローラー）を用いて形成された防眩層は、上側に凸形状（他方、上側に凸な断面形状）が多数分布した形状となる。

防眩層の表面に形成された凹凸形状の平均粗さが同じ場合に、上側に凸部が多数分布した形状を有している防眩層は、上側に凹部が多数分布した形状を有しているものと比較して、室内の照明装置等の写り込みが少ないとされている。このことから、本発明の好ましい態様によれば、ビーズショット法により防眩層の凹凸形状と同一形状に形成された凹凸型を利用して防眩層の凹凸形状を形成することが好ましく、この凹凸型により形成された凹凸形状は、上側に凸な断面形状の部分が、下面に凸な断面形状の部分がより多いものとして形成される。また、本発明の別の好ましい態様によれば、ビーズショット法により防眩層の凹凸形状と逆形状に形成された凹凸型を利用して防眩層の凹凸形状を形成することが好ましく、この凹凸型により形成された凹凸形状は、下側に凸な断面形状（即ち凹部）の部分が、上側に凸な断面形状（即ち凸部）の部分よりも多いものとして形成される。

凹凸型面を形成するための型材としては、金属、プラスチック、木またはこれらの複合体を使用することができる。本発明の好ましい型材としては、強度、繰返使用による耐摩耗性の観点から、金属としてのクロムが好ましく、経済性等の観点から、鉄製エンボス版（エンボスローラー）の表面にクロムをメッキしたものが好ましくは例示される。

サンドブラスト法またはビーズショット法により凹凸型を形成する際に、吹き付ける粒子（ビーズ）の具体例としては、金属粒子、シリカ、アルミナ、またはガラス等の無機質粒子が挙げられる。これらの粒子の粒径（直径）としては、１００μｍ〜３００μｍ程度であることが好ましい。これらの粒子を型材に吹き付ける際には、これら粒子を高速の気体と共に吹き付ける方法が挙げられる。この際、適切な液体、例えば、水等を併用してよい。また、本発明にあっては、凹凸形状を形成した凹凸型には、使用時の耐久性を向上させる目的で、クロムメッキ等を施してから使用することが好ましく、硬膜化、および腐食防止の上で好ましい。

２．滑性層
本発明にあっては、防眩層の凹凸表面を調整するために、滑性層を形成してもよい。この場合、滑性層は防眩層と一体となって防眩性機能を発揮するものである。従って、滑性層を形成する場合、表面の凹凸形状の値であるＳｍ、θa、Ｒｚ等の光学特性値は本願発明の範囲内にある。付言すれば、防眩層の上に滑性層が付与される場合、滑性層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致する。以上のことは、滑性層の下記内容及び実施例からも理解される。

滑性層は、防眩層の凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール（凹凸の山高さと山間隔）の１／１０以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させること、または、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整することが可能となる。また、滑性層は、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性、等を付与することを目的として形成されるものである。滑性層の膜厚（硬化時）は０．５μｍ以上２０μｍ以下（１２μｍ以下が好ましい）であり、好ましくは下限が３μｍ以上であり上限が８μｍ以下である。

樹脂
樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

重合開始剤
滑性層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げられる。

帯電防止剤（導電剤）
本発明にあっては、滑性層中に、帯電防止剤を含んでなるものが好ましい。この様な場合、滑性層を表面調整層と呼ぶことがある。

帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基などのアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系などの両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系などのノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ_２（１．９５）、Ｓｂ_２Ｏ_２（１．７１）、ＳｎＯ_２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．００）、Ａｌ_２Ｏ_３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。

また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。

本発明の好ましい態様によれば、滑性層に含まれる樹脂と帯電防止剤との添加比が５以上２５以下であり、好ましくは上限が２０以下であり下限が５以上である。添加量を上記数値範囲に調整することにより、黒輝度、全光線透過率を本発明の数値範囲に調整することができるので好ましい。

溶剤
滑性層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合した帯電防止層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。

滑性層の形成
滑性層は、上記した樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）と溶剤と任意成分とを混合して得た組成物を防眩層に塗布することにより形成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、上記の液体組成物に、フッ素系またはシリコーン系などのレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した液体組成物は、塗工面を良好にし、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。

組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。液体組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

３．低屈折率層
本発明の好ましい態様によれば、防眩層または滑性層の表面に低屈折率層を形成したものが好ましい。低屈折率層は、防眩層または滑性層の表面に形成されてなり、低屈折率層は、その屈折率が防眩層または滑性層のものより低いものである。低屈折率層は、それが形成された本発明による光学積層体の最表面の凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致することは先に述べた通りである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率層の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。

低屈折率層剤の具体例としては、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が挙げられ、その例としてはフッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０重量部とからなる樹脂組成物が挙げられる。

このフッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体が挙げられる。このモノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、またはヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。

このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、必要に応じて、他の共重合体成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。この共重合体の具体例としては、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモー３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモー３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。

このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体のフッ素含有割合は６０〜７０重量％であることが好ましく、より好ましくは６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。添加割合がこのような範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。または、フッ素含有共重合体を成分として含有することにより、優れた密着性と、高い透明性と、低い屈折率とを有し、優れた機械的強度を有する薄膜を形成することが可能となる。

フッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。

フッ素含有共重合体自体の屈折率は１．４５以下、好ましくは１．４２以下、より好ましくは１．４０以下であるものが好ましい。屈折率がこの範囲にあることにより、形成される薄膜の反射防止効果が好ましいものとなる。

低屈折率層の形成
フッ素含有共重合体と樹脂とを、必要に応じて光重合開始剤の存在下で活性エネルギー線を照射することにより、または熱重合開始剤の存在下で加熱されることにより重合して塗膜を形成することができる。使用する樹脂は、防眩層で説明したのと同様であってよい。

樹脂の添加量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。また、フッ素含有共重合体と樹脂とを含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、好ましくは３５〜５０重量％であることが好ましい。

添加量またはフッ素含有割合が、上記した範囲内にあることにより、低屈折率層は、基材に対する密着性が良好であり、また、屈折率が低く良好な反射防止効果を得ることが可能となる。

低屈折率層の形成に当たっては、必要に応じて適宜な溶剤を用い、粘度を、樹脂組成物として好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｃｐｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｃｐｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。

樹脂の硬化手段は、防眩層の項で説明したのと同様であってよい。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。

低屈折率層の膜厚（ｎｍ）ｄ_Ａは、下記式（Ｖ）：
ｄ_Ａ＝ｍλ／（４ｎ_Ａ） （Ｖ）
（上記式中、
ｎ_Ａは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式（VI）：
１２０＜ｎ_Ａｄ_Ａ＜１４５ （VI）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。

本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は表面調整層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を１．３０〜１．４５に調節することが可能である。

空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して表面調整層表面調整層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、表面調整層に優れた透明性を付与することが可能となる。

４．任意の層
本発明の別の態様によれば、本発明による光学積層体（ＨＧ）の各層間に、任意の層として、帯電防止層（導電層）を形成してもよい。
帯電防止層の形成の具体例としては、光学積層体の各層の上面に導電性金属もしくは導電性金属酸化物等を蒸着またはスパッタリングすることにより蒸着膜を形成する方法または樹脂中に導電性微粒子を分散した樹脂組成物を塗布するにより塗膜を形成する方法が挙げられる。

帯電防止剤
帯電防止層を蒸着膜で形成する場合、帯電防止剤として導電性金属もしくは導電性金属酸化物、例えばアンチモンドープのインジウム・錫酸化物（以下、「ＡＴＯ」という）、インジウム・錫酸化物（以下、「ＩＴＯ」という）が挙げられる。帯電防止層としての蒸着膜の厚さは、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、好ましくは上限が１００ｎｍ以下であり、下限が５０ｎｍ以下である。
帯電防止層は帯電防止剤を含む塗液により形成されてもよい。帯電防止剤は先の滑性層において説明したのと同様であってよい。

硬化型樹脂
本発明にあっては、導電性微粒子を用いて塗膜する場合、好ましくは硬化型樹脂を用いる。硬化型樹脂としては、防眩層を形成するものと同様であってよい。

帯電防止層の形成
帯電防止層として塗膜を形成するには、導電性微粒子に硬化型樹脂に含ませた塗液を、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法により塗布する。塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。
電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法としては、電子線または紫外線の照射によって硬化する。電子線硬化の場合には、１００ＫｅＶ〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等を使用する。紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等を使用する。

５．光透過性基材
光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。

その他に、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）フィルムもあり、これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂などが用いられる基材で、例えば、日本ゼオン(株)製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト(株)製 スミライトFS-1700、JSR(株)製 アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学(株)製 アペル（環状オレフィン共重合体）、Ticona社製の Topas（環状オレフィン共重合体）、日立化成(株)製 オプトレッツOZ-1000シリーズ（脂環式アクリル樹脂）などが挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。

本発明にあっては、これらの熱可塑性樹脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板またはガラス板の板状体のものも使用することも可能である。

光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。基材は、その上に防眩層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。

本発明の第二の態様
本発明の第二の態様は、本発明の第一の態様における防眩層の凹凸形状の上に表面調整層が形成されてなるものである。よって、下記する内容以外は、本発明の第二の態様における、防眩層、低屈折率層、任意の層、光透過性基材は、本発明の第一の態様と同様であってよい。

光学積層体及びその層構成
本発明の第二の態様は、本発明の第一の態様と同様に図１乃至図３を用いて説明することができる。この際、本発明の第一の態様で説明した「滑性層６」が、本発明の第二の態様における「表面調整層６」に置き換わるのみであり、それ以外の構成及び内容は同様である。本発明にあっては、防眩層用組成物を付与して防眩層を形成する場合には、防眩層用組成物をゲル分率で３０％以上８０％以下、好ましくは下限が３５％以上であり、より好ましくは４０％以上であり、好ましくは下限が７０％以下であり、より好ましくは６０％以下で硬化させることが好ましい。

２．表面調整層
本発明にあっては、防眩層の凹凸表面を調整するために、表面調整層が形成されてなる。この場合、表面調整層は防眩層と一体となって防眩性機能を発揮するものである。従って、表面調整層の表面の凹凸形状の値であるＳｍ、θa、Ｒｚ等の光学特性値は本願発明の範囲内にある。付言すれば、表面調整層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致する。以上のことは、表面調整層の下記内容及び実施例からも理解される。

本発明にあっては、防眩層の凹凸表面に表面調整層を形成する。表面調整層は、防眩層の凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール（凹凸の山高さと山間隔）の１／１０以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させること、または、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整することを可能としる。さらには、表面調整層は、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性等を付与することを目的として形成されるものである。このため、（防眩性）光学積層体において帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等の複数の層を構成する必要がなく、一の層（表面調整層）によりこれらの層が果たす効果を達成することが可能となる。表面調整層の膜厚（硬化時）は０．５μｍ以上（好ましくは１．０μｍ以上）２０μｍ以下（好ましくは１２μｍ以下）であり、より好ましくは下限が３μｍ以上であり上限が８μｍ以下である。

表面調整剤
表面調整剤としては、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤および硬度調整剤（緩衝性付与剤）からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられる。

帯電防止剤（導電剤）
表面調整層中に、帯電防止剤を含んでなることにより、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。

また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ_２（１．９５）、Ｓｂ_２Ｏ_２（１．７１）、ＳｎＯ_２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ_２Ｏ_３（２．００）、Ａｌ_２Ｏ_３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。

また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。

本発明の好ましい態様によれば、表面調整層に含まれる樹脂と帯電防止剤との添加比が５以上２５以下であり、好ましくは上限が２０以下であり下限が５以上である。

屈折率調整剤
表面調整層に、屈折率調整剤を添加し、光学積層体の光学特性を調整することが可能となる。屈折率調整剤には、低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等が挙げられる。

１）低屈折率剤
低屈折率剤は、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率剤の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。

低屈折率剤の具体例としては、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が挙げられ、その例としてはフッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０重量部とからなる組成物が挙げられる。

このフッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体が挙げられる。このモノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、またはヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。

このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、必要に応じて、他の共重合体成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。この共重合体の具体例としては、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモー３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモー３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。

このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体のフッ素含有割合は６０〜７０重量％であることが好ましく、より好ましくは６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。添加割合がこのような範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。または、フッ素含有共重合体を成分として含有することにより、優れた密着性と、高い透明性と、低い屈折率とを有し、優れた機械的強度を有する光学積層体を形成することが可能となる。

フッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。

フッ素含有共重合体自体の屈折率は１．４５以下、好ましくは１．４２以下、より好ましくは１．４０以下であるものが好ましい。屈折率がこの範囲にあることにより、形成される光学積層体の反射防止効果が好ましいものとなる。

樹脂の添加量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。また、フッ素含有共重合体と樹脂とを含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、好ましくは３５〜５０重量％であることが好ましい。

添加量またはフッ素含有割合が、上記した範囲内にあることにより、表面調整層の基材に対する密着性が良好となり、また、屈折率が低く良好な反射防止効果を得ることが可能となる。

本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は表面調整層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。

空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して表面調整層表面調整層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。

塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。

「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、表面調整層に優れた透明性を付与することが可能となる。

２）高屈折率剤／中屈折率剤
高屈折率剤、中屈折率剤は、反射防止性をさらに向上させるために表面調整層に添加されてよい。高屈折率剤、中屈折率剤の屈折率は１．４６〜２．００の範囲内で設定されてよく、中屈折率剤は、その屈折率が１．４６〜１．８０の範囲内のものを意味し、高屈折率剤は、その屈折率が１．６５〜２．００の範囲内のものを意味する。

これら屈折率剤は、微粒子が挙げられ、その具体例（かっこ内は屈折率を示す）としては、酸化亜鉛（１．９０）、チタニア（２．３〜２．７）、セリア（１．９５）、スズドープ酸化インジウム（１．９５）、アンチモンドープ酸化スズ（１．８０）、イットリア（１．８７）、ジルコニア（２．０）が挙げられる。

レベリング剤
表面調整層は、レベリング剤を添加することができる。レベリング剤の好ましいものとしては、フッ素系またはシリコーン系等が挙げられる。レベリング剤を添加した表面調整層は、塗工面を良好にし、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。

防汚染剤
表面調整層は防汚染剤を添加することができる。防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を発現するような添加剤が有効である。より具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、２−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等のフロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。

樹脂
表面調整層は、表面調整剤と、樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）とにより少なくとも調整されてよい。表面調整剤を含まない場合には、この樹脂が高効果剤として、または防眩層の凹凸を滑面とする役割を担う。

樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。

また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。

電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。

本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。

熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。

重合開始剤
表面調整層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げられる。

溶剤
表面調整層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合した表面調整層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。

表面調整層の形成法
表面調整層は、表面調整層用組成物を防眩層に付与することにより形成されてよい。表面調整層用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。表面調整層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。

任意の層
本発明による光学積層体は、光透過性基材と、防眩層と、表面調整層とにより構成されてなるが、さらに任意の層として帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等を備えてなるものであってよい。任意の層は、それが形成された本発明による光学積層体の最表面の凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致することは先に述べた通りである。低屈折率層は、防眩層または表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものが好ましい。帯電防止層、低屈折率層、防汚染層は表面調整層において説明した、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤等に、樹脂等を添加した組成物を調整し、それぞれの層を形成してよい。従って、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤、樹脂等も同様であってよい。

本発明の第三の態様
光学積層体
本発明による（防眩性）光学積層体は、光透過性基材の上に、光拡散層を形成してなるものである。防眩性光学積層体にあっては、光透過性基材の上に、防眩層を形成することが一般的であるが、本発明にあっては、光拡散層を形成してなるものである。本発明による「光拡散層」とは、光拡散板または光拡散フィルムに使用されるものであり、防眩性光学積層体（反射防止積層体）に使用される防眩層とは相違するものである。光拡散板または光拡散フィルムは、一般的に各種ディスプレイあるいは照明器具において、光源の光を均一に広げ、視認性を高めるために用いられている。これらの光拡散板あるいは光拡散フィルムは、通常、光源とディスプレイの間に設置され、点光源ないしは線光源を均一な面光源に変換することを目的として用いられるものである。液晶表示のバックライト用の光拡散板または光拡散フィルムとしては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の光透過性樹脂の表面に凹凸を形成したりものが挙げられる。また、ポリメチルメタアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂等の光透過性樹脂に光拡散剤を分散したり、さらには光拡散剤を光透過性樹脂中に配合分散させた組成物をフィルム基材上に塗布したりして作製される。従って、本発明にあっては、光拡散層を備えてなるが、光拡散層が形成された光拡散板または光拡散フィルムを備えてなるものであってよい。

また、本発明の第三の態様による光拡散層は、画像表示装置のユニット側に使用される防眩層として機能するものであるが、本発明の別の態様によれば、本発明の第三の態様による光拡散層を備えた光学積層体は、一般に、画像表示装置のバックライト側に使用される光拡散板（拡散フィルム）とされてもよいものである。

光学物性及び層構成
本発明による光学積層体は、防眩層の代わりに光拡散層を用いるものであるが、防眩性特性と優れたコントラストとを兼ね備えたものとして利用されるものである。従って、本発明の第三の態様における光学物性及び層構成は、本発明の第一の態様と同様に図１乃至図３を用いて説明することができる。この際、本発明の第一の態様で説明した「防眩層４」及び「滑性層６」が、本発明の第三の態様における「光拡散層４」及び「表面調整層６」にそれぞれ置き換わるのみであり、それ以外の構成及び内容は同様である。

また、本発明の第三の態様は、下記する内容以外は、表面調整層、低屈折率層、任意の層、光透過性基材に関する事項は、本発明の第一又は二の態様におけるものと同様であってよい。

１．光拡散層
光拡散剤
光拡散剤としては、炭酸カルシウム、アクリル系粒子等が挙げられる。光拡散剤に使用されるアクリル系粒子の具体例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート等のメタクリレート重合体；メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ-プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート等のアクリレート重合体；スチレン、ビニルトルエン、α-メチルスチレン、ハロゲン化スチレン等の芳香族ビニルモノマー；アリルメタクリレート、トリアリルシアヌレート等の架橋性モノマー等を重合させることによって得られるものである。アクリル系粒子は単独または二種以上を組み合わせて用いることができる。アクリル系粒子の平均粒子径は１μｍ以上５０μｍ以下であり、好ましくは下限が６μｍ以上であり、上限が２０μｍ以下である。

樹脂
光拡散層の形成に使用される樹脂の具体例としては、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、セルローズ系樹脂、オルガノシロキサン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂等が挙げられる。この中でも、光拡散剤との屈折率差の制御性、濡れ性や透明基材との接着性あるいは樹脂自体の耐擦傷性、耐光性、透明性などの点から、ポリエステル系樹脂が好ましい。

任意の添加剤
光安定剤、熱安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、その他の添加剤を別に添加してもよい。レベリング剤としては、フッ素系またはシリコーン系等のレベリング剤が挙げられる。レベリング剤を添加した光拡散層用組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロース）に好ましくは利用される。

光拡散層（板又はフィルム形態）
本発明による「光拡散層」は、光透過性基材に形成された板またはフィルムとして使用されてもよい。この場合、光透過性基材の具体例としては、一般的なものを使用することができるが、透明性、耐光性、コーティング適性等の理由から、ポリカーボネートまたはポリエチレンテレフタレートが好ましくは挙げられる。光透過性基材の厚みは５０μｍ以上２００μｍ以下程度である。

好ましい光拡散層
本発明にあっては、光拡散層が、光透過性基材に対して浸透性溶剤を有する光拡散層用組成物を用いて形成されることにより、光透過性基材と光拡散層との界面が存在しないものとされてなるものが提案される。また、光透過性基材と前記光拡散層との間に、薄層を備えてなり、これにより、光透過性基材と光拡散層との界面が存在しないものとされてなるものが提案される。本発明の第一の態様及び本発明の第二の態様における、光透過性基材と防眩層との界面についても、同様のことを行うことができる。

界面の実質的な消滅
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材と光拡散層の界面が存在しない光学積層体が提案される。本発明による光学積層体は、光透過性基材と光拡散層との界面が実質的に存在しないものとされてなるものである。本発明において、「界面が（実質的に）存在しない」とは、二つの層面が重なり合ってはいるが実際に界面が存在しないこと、および屈折率からみて両者の面に界面が存在していないと判断される場合をも含むものをいう。「界面が（実質的に）存在しない」との具体的な基準としては、例えば、光学積層体の断面を、レーザー顕微鏡により観察し、干渉縞が目視される積層体断面には界面が存在し、干渉縞が目視されない積層体断面には界面が存在しないことを測定することにより行うことができる。レーザー顕微鏡は屈折率に違いのあるものを非破壊にて断面観察できるものであることから、屈折率に大きな違いのない素材同士において界面が存在しないとの測定結果が生じる。このことから、屈折率からみても基材と光拡散層の間に界面が存在しないと判断しうる。

浸透性溶剤
本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材と光拡散層との界面が存在しないものとするために、光拡散層が光透過性基材に対して浸透性を有する光拡散層用組成物を用いて形成されてなることが好ましい。光拡散層用組成物に浸透性を付与するために用いられる浸透性溶剤は、光透過性基材に対して浸透性のあるものである。よって、本発明にあっては、浸透性溶剤の「浸透性」とは、光透過性基材に対して浸透性、膨潤性、湿潤性等のすべての概念を包含する意である。浸透性溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；クロロホルム、塩化メチレン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、エステル類が挙げられる。

浸透性溶剤の具体的な例としては、アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、クロロホルム、塩化メチレン、トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ニトロメタン、１，４―ジオキサン、ジオキソラン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、ジイソプロピルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブが挙げられ、好ましくは酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトンなどが挙げられる。

薄層
本発明の好ましい態様によれば、透過性基材と光拡散層との間に、薄層を備えてなり、この薄層の存在により、光透過性基材と光拡散層の界面が存在しないものとされてなる光学積層体が提案される。この薄層は、重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ、一または二つの官能基を有する樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる組成物により形成されてなるものである。本発明にあっては、この「薄層」は薄膜、薄い塗膜等の概念を包含するものである。本発明の好ましい態様によれば、薄層の層厚は、０．００１μｍ以上、５０μｍ以下であり、好ましくは下限が０．０１μｍ以上であり、上限が２０μｍ以下である。

１）樹脂
薄層形成に使用する樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）は、その重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、好ましくは下限が２２０以上であり、上限が９００以下のものである。このような樹脂の具体例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコール（メタ）アクリレート、およびペンタエリスリトール（メタ）アクリレートモノステアレート等の（メタ）アクリレート樹脂からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられ、好ましくは、ウレタン樹脂が挙げられる。

これらに属する樹脂の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合物、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＦＥＯ変性ジアクリレート、ビスフェノールＡＥＯ変性ジアクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ１，２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールビスβ−アクリロイルオキシプロピネート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、エチルアクリレート、プロピルアクリレート等のアクリル酸エステル類、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ノニルフェニルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、テトラフルフリルメタクリレート、およびそのカプロラクトン変性物などの誘導体、スチレン、α−メチルスチレン、アクリル酸等およびこれらの混合物が挙げられる。

樹脂は一または二つの官能基を有するものであるが、このような「官能基」の具体例としては、（メタ）アクリレート系の官能基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ビニル基、アルコキシル基等およびこれらの混合物が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリレート系の官能基が挙げられる。

２）浸透性溶剤
薄層を形成する際に、樹脂は浸透性溶剤と混合して使用することができる。本発明にあって、浸透性溶剤とは、光透過性基材に対して浸透性を有する溶剤を主として意味するが、この浸透性溶剤はハードコート層に対して浸透性を有するものであってもよい。浸透性溶剤は、光学積層体の干渉縞を有効に防止する効果を有する。

浸透性溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、イソブチルアルコール、メチルグリコール、メチルグリコールアセテート、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ニトロメタン、Ｎ―メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン等のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン等のその他の物；またはこれらの混合物が挙げられる。より好ましい浸透性溶剤としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。

２．光学特性層
本発明の光学積層体は、光透過性基材と、光拡散層と、必要に応じて薄層とを備えてなるものとして形成されてなるが、光学積層体の光学特性を向上させる目的で下記の層を形成させてなるものであってよい。

１）表面調整層
本発明にあっては、光拡散層の凹凸表面を調整するために、表面調整層を形成してもよい。表面調整層は、構成及び効果等、本発明の第二の態様で説明したのと同様であって良い。

２）任意の層
本発明による光学積層体は、光透過性基材と光拡散層と、必要に応じて表面調整層とにより構成されてなるが、さらに任意の層として帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等を備えてなるものであってよい。任意の層は、それが形成された本発明による光学積層体の最表面の凹凸形状が、本発明における光拡散層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致することは先に述べた通りである。低屈折率層は光拡散層または表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものが好ましい。帯電防止層、低屈折率層、防汚染層は表面調整層において説明した、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤等に、樹脂等を添加した組成物を調整し、それぞれの層を形成してよい。従って、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤、樹脂等の内容もまた、表面調整層（本発明の第二の態様）において説明したの同様であってよい。

光学積層体の利用
本発明の第一の態様乃至第三の態様による光学積層体は下記のものとして利用されてよい。

偏光板
本発明の別の態様によれば、偏光素子と、本発明による光学積層体とを備えてなる偏光板を提供することができる。具体的には、偏光素子の表面に、本発明による光学積層体を該光学積層体における防眩層（又は光拡散層）が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板を提供することができる。

偏光素子は、例えば、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。ラミネート処理にあたって、接着性の増加のため、または電防止のために、光透過性基材（好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム）にケン化処理を行うことが好ましい。

画像表示装置
本発明のさらに別の態様によれば、画像表示装置を提供することができ、この画像表示装置は、透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなり、この透過性表示体の表面に、本発明による光学積層体または本発明による偏光板が形成されてなるものである。本発明による画像表示装置は、基本的には光源装置（バックライト）と表示素子と本発明による光学積層体とにより構成されてよい。画像表示装置は、透過型表示装置に利用され、特に、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサなどのディスプレイ表示に使用される。とりわけ、ＣＲＴ、液晶パネルなどの高精細画像用ディスプレイの表面に用いられる。

本発明による画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明による光学積層体の下側から照射される。なお、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。

本発明の内容を下記の実施態様により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

本発明の第１の態様
光学積層体を構成する各層の組成物を下記組成に従い調製した。

防眩層用組成物Ａの調製
防眩層用組成物Ａ１
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２０．２８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを８．６２質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．０３質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．８６質量部（チバガイギー（株）製）、光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３１質量部（チバガイギー（株）製）、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを６．３９質量部（（株）日本触媒製、粒径５．０μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０１３質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ａ１を調製した。

防眩層用組成物Ａ２
透光性微粒子として粒子径が９．５μｍの単分散アクリルビーズ（（株）日本触媒製、屈折率１．５３）に変えた以外は、防眩層用組成物Ａ１と全く同じく調製したものを防眩層用組成物Ａ２とした。

防眩層用組成物Ａ３
透光性微粒子として粒子径が１３．５μｍの単分散アクリルビーズ（（株）日本触媒製、屈折率１．５３）に変えた以外は、防眩層用組成物Ａ１と全く同じく調製したものを防眩層用組成物Ａ３とした。

防眩層用組成物Ａ４
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２１．０８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを１０．３３質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．２４質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．０２質量部（チバガイギー（株）製）、光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３４質量部（チバガイギー（株）製）、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを３．４７質量部（（株）日本触媒製、粒径１３．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０１４質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ａ４を調製した。

防眩層用組成物Ａ５
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２１．８８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを１２．０３質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．４６質量部、、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１９質量部（チバガイギー（株）製）、光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３７質量部（チバガイギー（株）製）、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを６．３９質量部（（株）日本触媒製、粒径９．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０１５質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ａ５を調製した。

防眩層用組成物Ａ６
透光性微粒子として粒子径が５．０μｍの粒度分布を持つアクリルビーズ（（（株）日本触媒製、屈折率１．５３）に変えた以外は、防眩層用組成物Ａ１と全く同じく調製したものを防眩層用組成物Ａ６とした。

防眩層用組成物Ａ７
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２０．２８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを８．６２質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．０３質量部、、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．８６質量部（チバガイギー（株）製）、光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３１質量部（チバガイギー（株）製）、第１透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを４．８０質量部（（株）日本触媒製、粒径９．５μｍ、屈折率１．５３）第２透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを１．５９質量部（（株）日本触媒製、粒径９．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０１３質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ａ７を調製した。

防眩層用組成物Ａ８
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２１．２８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを８．６３質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．１８質量部、、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．９６質量部（チバガイギー（株）製）、光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３３質量部（チバガイギー（株）製）、第１の透光性微粒子としてのアクリルビーズを４．９６質量部（（株）日本触媒製、粒径４．６μｍ、屈折率１．５３）、第２の透光性微粒子としてのアクリルビーズを１．６５質量部（（株）日本触媒製、粒径３．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０１３質量部、トルエンを４６．４０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．６０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ａ８を調製した。

防眩層用組成物Ａ９
不定形シリカの防眩層用マット剤インキとして、ＥＸＧ４０−７７（Ｖ−１５Ｍ）（不定形シリカインキ、シリカの平均粒径２．５μｍ、固形分濃度６０％ 大日精化（株）製）１．７７ｇ、および紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２．９３ｇ（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を０．３７ｇ、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を０．１７ｇ（チバガイギー（株）製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．お６ｇ（チバガイギー（株）製）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０４３ｇ、トルエンを７．８ｇ、及び、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）を１．０ｇを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径８０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ａ９を調製した。

滑性層用組成物Ａの調製
滑性層用組成物Ａ１
紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを３９．３０質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を３．１３質量部、、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１２質量部（チバガイギー（株）製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．４３質量部（チバガイギー（株）製）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．１９質量部、トルエンを４９．３５質量部、及び、シクロヘキサノンを５．４８質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して滑性層用組成物Ａ１を調製した。

滑性層用組成物Ａ２
帯電防止層の材料であるC-４４５６ Ｓ-７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％ 日本ペルノックス（株）製）２１．６ｇ、および紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを２８．６９ｇ（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．５６ｇ（チバガイギー（株）製）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）を３３．７ｇ及び、シクロヘキサノンを１４．４ｇを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して滑性層用組成物Ａ２を調製した。

滑性層用組成物Ａ３
ジルコニア含有塗料組成物Ａ（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＫＺ７９７３」、屈折率：１．６９の樹脂マトリックス、固形分５０％）を用い、樹脂マトリックスの屈折率が、１．６０となるように、下記の組成の滑性層用組成物Ａ３を作製した。

紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を１８．５９質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂に含有させて樹脂マトリックスを発現させるためのジルコニア１７．１８質量部（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＫＺ７９７３」に含有されているジルコニア、平均粒子径４０〜６０ｎｍ、屈折率２．０）、ジルコニア分散剤１．２２質量部（同じくＪＳＲ（株）製、商品名；「ＫＺ７９７３」に含有されているジルコニア分散安定剤）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を０．９４質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．５６質量部（チバガイギー（株）製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．２６質量部（チバガイギー（株）製）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０３９質量部、トルエンを１４．３４質量部、及び、シクロヘキサノンを１５．７６質量部、ＭＥＫを２．８０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して滑性層用組成物Ａ３を調製した。

低屈折率層用組成物Ａの調製
低屈折率層用組成物Ａ１
フッ素樹脂系低反射層形成用塗料組成物Ａ３４．１４ｇ（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＴＭ０８６」）に対し、光重合開始剤（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＪＵＡ７０１」）０．８５ｇ、ＭＩＢＫ６５ｇを添加、攪拌の後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用組成物Ａを調製した。

低屈折率層用組成物Ａ２
下記組成表の成分を攪拌した後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用組成物Ａ２を調製した。
表面処理シリカゾル（空隙を有する微粒子） １４．３重量部
（２０％メチルイソブチルケトン溶液使用）
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（ＰＥＴＡ 日本化薬（株）製、屈折率１．５１） １．９５重量部
イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ社製） ０．１重量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル ＴＳＦ４４６０ ０．１５重量部
（商品名、ＧＥ東芝シリコーン社製）
メチルイソブチルケトン ８３．５重量部

帯電防止層用組成物Ａの調製
帯電防止層の材料はC-４４５６ Ｓ-７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％ 日本ペルノックス（株）製）２．０ｇ、およびメチルイソブチルケトン２．８４ｇ、シクロヘキサノン１．２２ｇを添加、攪拌の後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過し、帯電防止層用組成物Ａを調製した。

実施例Ａ１
本発明による光学積層体を下記の通りにして調製し、ＨＧ１光学積層体とした。
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層用組成物Ａ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が５μｍの防眩性ハードコート層を形成した。尚、透光性微粒子は、粒子径が、５．０μの単分散アクリルビーズを使用した。

滑性層の形成
形成した防眩層を透明基材として用い、滑性層用組成物Ａ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの滑性層を形成し、光学積層体（ＨＧ１）を製造した。

実施例Ａ２
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ２を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を塗布し、更に、同様に滑性層を塗布して、光学積層体（ＨＧ２）を得た。防眩層形成用塗料組成物Ａ中の透光性微粒子には、９．５μの単分散アクリルビーズを使用し、滑性層の膜厚は、４．０μｍとなるようにした。

実施例Ａ３
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ３を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を塗布し、更に、同様に滑性層を塗布して、光学積層体（ＨＧ３）を得た。防眩層形成用塗料組成物Ａ中の透光性微粒子には、１３．５μの単分散アクリルビーズを使用した。

実施例Ａ４
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ４を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を塗布し、更に、同様に滑性層を塗布して、光学積層体を得た。防眩層形成用塗料組成物Ａ中の透光性微粒子には、１３．５μの単分散アクリルビーズを使用し、固形分の総重量における透光性微粒子の比率が、実施例Ａ３の１／２となるようにした。

実施例Ａ５
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ５を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を塗布し、更に、同様に滑性層を塗布して、光学積層体を得た。防眩層形成用塗料組成物Ａ中の透光性微粒子には、９．５μの単分散アクリルビーズを使用し、固形分の総重量における透光性微粒子の比率が、実施例Ａ２の７５／１０００となるようにした。

実施例Ａ６
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ６を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を塗布し、更に、同様に滑性層を塗布して、光学積層体を得た。防眩層形成用塗料組成物Ａ中の透光性微粒子には、５．０μの粒度分布を持つアクリルビーズを使用した。

実施例Ａ７
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ７を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を塗布し、更に、同様に滑性層を塗布して、光学積層体を得た。防眩層形成用塗料組成物Ａ中の第１透光性微粒子には、９．５μの単分散アクリルビーズを使用し、第２透光性微粒子には、５．０μの単分散アクリルビーズを使用した。

実施例Ａ８
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ４を用いて、滑性層を形成する際に滑性層組成物Ａ２を使用した以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を塗布し、更に、同様に滑性層を塗布して、光学積層体を得た。滑性層形成用塗料には、導電性を持つ滑性層を形成する為に、ＡＴＯ含有した組成物Ａを使用した。

実施例Ａ９
本発明による光学積層体を下記の通りにして調製し、光学積層体とした。
帯電防止層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、帯電防止用組成物Ａを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、５０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が１μｍの帯電防止層を形成した。

防眩層の形成
形成した帯電防止層を透明基材として用い、防眩層用組成物Ａ４を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアで照射して塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの防眩層を形成した。

滑性層の形成
形成した防眩層を透明基材として用い、滑性層用組成物Ａ１を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの滑性層を形成して、光学積層体を得た。

実施例Ａ１０
防眩層を形成する時に、防眩層用組成物Ａ４を用いた以外は、実施例Ａ１と同様にして、防眩層を形成した。更に、滑性層は、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させた以外は、実施例Ａ１と同様形成した。

低屈折率層の形成
形成した防眩層を透明基材として用い、低屈折率層用組成物Ａを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、５０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１５０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が９８ｎｍの低屈折率層を形成して、光学積層体を得た。低屈折率層用組成物Ａ１を低屈折率層用組成物Ａ２に変更してもよく、その場合、反射Ｙ値は１．８％となる。

実施例Ａ１１
滑性層を形成する際に、滑性層組成物Ａ３を使用した以外は、実施例Ａ１０と同様に形成して、ＨＧ１１光学積層体を得た。実施例Ａ１１では、滑性層として、ジルコニア含有の樹脂マトリックスを用い、滑性層の屈折率が１．６０となるように調製した。

比較例Ａ１
従来の防眩性光学積層体（ＡＧ）を下記の通りにして調製し、ＡＧ１光学積層体とした。８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層用組成物Ａ８を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるように照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が６μｍの防眩性ハードコート層を形成した。ＡＧ１は、第１の透光性微粒子としてのアクリルビーズを４．９６質量部（（株）日本触媒製、粒径４．６μｍ、屈折率１．５３）、第２の透光性微粒子としてのアクリルビーズを１．６５質量部（（株）日本触媒製、粒径３．５μｍ、屈折率１．５３）の混合粒子系の防眩性光学積層体（ＡＧ）である。

比較例Ａ２
従来の防眩性光学積層体（ＡＧ）を下記の通りにして調製し、ＡＧ２光学積層体とした。防眩層用組成物Ａ９を用いて、膜厚を３μｍとした以外は、比較例Ａ１と同様に、形成した。比較例Ａ２は、不定形シリカを用いた防眩性光学積層体（ＡＧ）である。

評価試験Ａ
下記の評価試験を行いその結果を表１に記載した。

評価１：平面形状評価試験
実施例Ａと比較例Ａの光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状を光学顕微鏡（商品名ＯＬＹＭＰＵＳ製ＢＸ６０−Ｆ３；２００倍）にて写真撮影した。その結果は図４に表された通りであった。図４によれば、本発明の光学積層体であるＨＧ１〜ＨＧ３のものは、凹凸形状のうねりが滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなく、表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、従来の防眩性光学積層体であるＡＧ１は、その表面が人間の皮膚を拡大した写真のように粗さが存在し、凹凸形状鋭利であることが理解される。

評価２：凹凸形状の三次元評価試験
実施例Ａと比較例Ａの光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状をＡＦＭ（商品名：走査型プローブ顕微鏡）にて写真撮影した。その結果は図５と図６に記載した通りであった。図５によれば、本発明の光学積層体であるＨＧ１〜ＨＧ３のものは、凹凸形状のうねりが非常に滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなく、表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、図６によれば、従来の防眩性光学積層体であるＡＧ１は、その表面が多数の鋭利な凹凸形状で形成されていることが理解される。

評価３：光学特性試験
実施例Ａと比較例Ａの光学積層体について、本明細書に定義に従って、ヘイズ値（％）、６０度グロス、Ｓｍ、θａ、Ｒｚ、反射Ｙ値（５度反射）、表面抵抗を測定し、その結果を表１に記載した。

評価４：艶黒感試験
実施例Ａと比較例Ａの光学積層体のフィルム面と反対側にクロスニコルの偏光板に張り合わせた後、三波長蛍光下で官能評価を行って、艶黒感を下記基準によって詳細に評価した。
評価基準
評価○：艶のある黒色を再現することができた。
評価△：艶のある黒色を若干再現できたが、製品としては十分ではなかった。
評価×：艶のある黒色を再現することができなかった。

評価５：ギラツキ試験
HAKUBA製ビュアー（ライトビュアー7000PRO）上に、0.7mm厚みのガラスに形成されたブラックマトリクスパターン板（105ppi）を、パターン面を下にして置き、その上に得られた光学積層体フィルムを凹凸面を空気側にして載せて、フィルムが浮かないようにフィルムの縁を指で軽く押さえながら、暗室にてギラツキを目視観察し、評価した。
評価基準
評価○：１０５ｐｐｉでギラツキがなく良好であった。
評価×：１０５ｐｐｉでギラツキがみえ不良であった。
結果
実施例Ａ１からＡ１１、及び比較例Ａ２は、全て○で良好であったが、比較例Ａ１は、ギラツキがあり、×であった。

評価６：防眩性評価試験
得られた光学積層体の裏面に、黒のアクリル板を、光学性粘着剤ではり、水平な机にサンプルをおいて、机より２．５ｍ上方にある白色蛍光灯管（３２ワット×２本）のエッジ部分の映りこみを目視観察し、評価した。
評価基準
評価○：エッジが映りこまず、良好な防眩性を有した。
評価×：エッジが映りこみ、防眩性に劣った。
結果
実施例Ａ１からＡ１１、及び比較例Ａ１は、全て映り込みがなく○で防眩性良好であったが、比較例Ａ２は、蛍光灯のエッジが映り込み、防眩性×であった。

本発明の第二の態様
光学積層体を構成する各層の組成物を下記組成に従い調製した。

防眩層用組成物Ｂの調製
防眩層用組成物Ｂ１
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２０．２８質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを８．６２質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．０３質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．８６質量部（チバガイギー（株）製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３１質量部（チバガイギー（株）製）、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを６．３９質量部（（株）日本触媒製、粒径５．０μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．０１３質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物Ｂとして調製した。この組成物Ｂを孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｂ１を調製した。

防眩層用組成物Ｂ２
透光性微粒子として粒子径が９．５μｍの単分散アクリルビーズ（日本触媒社製、屈折率１．５３）に変えた以外は、防眩層用組成物Ｂ１と同様にして防眩層用組成物Ｂ２を調製した。

防眩層用組成物Ｂ３
透光性微粒子として粒子径が１３．５μｍの単分散アクリルビーズ（日本触媒製、屈折率１．５３）に変えた以外は、防眩層用組成物Ｂ１と同様にして防眩層用組成物Ｂ３を調製した。

防眩層用組成物Ｂ４
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２１．０８質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを１０．３３質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．２４質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．０２質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３４質量部（チバガイギー製）、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを３．４７質量部（日本触媒製、粒径１３．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．０１４質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｂ４を調製した。

防眩層用組成物Ｂ５
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２１．８８質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを１２．０３質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．４６質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１９質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３７質量部（チバガイギー製）、透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを６．３９質量部（日本触媒製、粒径９．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．０１５質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｂ５を調製した。

防眩層用組成物Ｂ６
透光性微粒子として粒子径が５．０μｍの粒度分布を持つアクリルビーズ（日本触媒製、屈折率１．５３）に変えた以外は、防眩層用組成物Ｂ１と同様にして防眩層用組成物Ｂ６を調製した。

防眩層用組成物Ｂ７
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２０．２８質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを８．６２質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．０３質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．８６質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３１質量部（チバガイギー製）、第１透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを４．８０質量部（日本触媒製、粒径９．５μｍ、屈折率１．５３）第２透光性微粒子としての単分散アクリルビーズを１．５９質量部（日本触媒製、粒径９．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．０１３質量部、トルエンを４７．６０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．９０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｂ７を調製した。

防眩層用組成物Ｂ８
紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２１．２８質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを８．６３質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量７５,０００）を３．１８質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．９６質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．３３質量部（チバガイギー製）、第１の透光性微粒子としてのアクリルビーズを４．９６質量部（日本触媒製、粒径４．６μｍ、屈折率１．５３）、第２の透光性微粒子としてのアクリルビーズを１．６５質量部（日本触媒製、粒径３．５μｍ、屈折率１．５３）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．０１３質量部、トルエンを４６．４０質量部、及び、シクロヘキサノンを１１．６０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｂ８を調製した。

防眩層用組成物Ｂ９
不定形シリカの防眩層用マット剤インキとして、ＥＸＧ４０−７７（Ｖ−１５Ｍ）（不定形シリカインキ、シリカの平均粒径２．５μｍ、固形分濃度６０％ 大日精化製）１．７７ｇ、および紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を２．９３ｇ（日本化薬製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を０．３７ｇ、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を０．１７ｇ（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．お６ｇ（チバガイギー製）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．０４３ｇ、トルエンを７．８ｇ、及び、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）を１．０ｇを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径８０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｂ９を調製した。

表面調整層用組成物Ｂの調製
表面調整層用組成物Ｂ１
紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを３９．３０質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を３．１３質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１２質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．４３質量部（チバガイギー製）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．１９質量部、トルエンを４９．３５質量部、及び、シクロヘキサノンを５．４８質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物Ｂ１を調製した。

表面調整層用組成物Ｂ２
帯電防止層の材料であるC-４４５６ Ｓ-７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％ 日本ペルノックス製）２１．６ｇ、および紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを２８．６９ｇ（日本化薬製、屈折率１．５１）、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．５６ｇ（チバガイギー製）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）を３３．７ｇ及び、シクロヘキサノンを１４．４ｇを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調製層用組成物Ｂ２を調製した。

表面調整層用組成物Ｂ３
ジルコニア含有塗料組成物Ｂ（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＫＺ７９７３」、屈折率：１．６９の樹脂マトリックス、固形分５０％）を用い、樹脂マトリックスの屈折率が、１．６０となるように、下記組成の表面調整層用組成物Ｂ３を調製した。

紫外線硬化型樹脂であるペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を１８．５９質量部（日本化薬製、屈折率１．５１）、紫外線硬化型樹脂に含有させて樹脂マトリックスを発現させるためのジルコニア１７．１８質量部（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＫＺ７９７３」に含有されているジルコニア、平均粒子径４０〜６０ｎｍ、屈折率２．０）、ジルコニア分散剤１．２２質量部（同じくＪＳＲ（株）製、商品名；「ＫＺ７９７３」に含有されているジルコニア分散安定剤）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を０．９４質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を１．５６質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．２６質量部（チバガイギー製）、、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．０３９質量部、トルエンを１４．３４質量部、及び、シクロヘキサノンを１５．７６質量部、ＭＥＫを２．８０質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物Ｂ３を調製した。

表面調整層用組成物Ｂ４
紫外線硬化型樹脂である紫光UV1700Bを２７．５１質量部（日本合成化学製、屈折率１．５１）、アロニックスM315を１１．７９質量部（東亞合成製、屈折率１．５１）アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を３．１３質量部、、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１２質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．４３質量部（チバガイギー製）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック製）を０．１９質量部、トルエンを４９．３５質量部、及び、シクロヘキサノンを５．４８質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物Ｂ４を調製した。

表面調整層用組成物Ｂ５
紫外線硬化型樹脂である紫光UV1700Bを２７．５１質量部（日本合成化学製、屈折率１．５１）、アロニックスM315を１１．７９質量部（東亞合成製、屈折率１．５１）アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を３．１３質量部、、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１２質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．４３質量部（チバガイギー製）、フッ素反応性添加剤F3001（大日本インキ製）を２．５質量部、トルエンを４９．３５質量部、及び、シクロヘキサノンを５．４８質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物Ｂ５を調製した。

表面調整層用組成物Ｂ６
紫外線硬化型樹脂である紫光UV1700Bを２７．５１質量部（日本合成化学製、屈折率１．５１）、アロニックスM315を１１．７９質量部（東亞合成製、屈折率１．５１）アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を３．１３質量部、、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１２質量部（チバガイギー製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．４３質量部（チバガイギー製）、フッ素反応性添加剤F3001（大日本インキ製）を２．５質量部、フッ素系レべリング剤F445（大日本インキ製）を０．８質量部、トルエンを４９．３５質量部、及び、シクロヘキサノンを５．４８質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物Ｂ６を調製した。

低屈折率層用組成物Ｂの調製
低屈折率層用組成物Ｂ１
フッ素樹脂系低反射層形成用塗料組成物Ｂ３４．１４ｇ（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＴＭ０８６」）に対し、光重合開始剤（ＪＳＲ（株）製、商品名；「ＪＵＡ７０１」）０．８５ｇ、ＭＩＢＫ６５ｇを添加、攪拌の後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用組成物Ｂ１を調製した。

低屈折率層用組成物Ｂ２の調製
下記組成表の成分を攪拌した後、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用組成物Ｂ２を調製した。
表面処理シリカゾル（空隙を有する微粒子） １４．３重量部
（２０％メチルイソブチルケトン溶液使用）
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（ＰＥＴＡ 日本化薬（株）製、屈折率１．５１） １．９５重量部
イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ社製） ０．１重量部
ポリエーテル変性シリコーンオイル ＴＳＦ４４６０ ０．１５重量部
（商品名、ＧＥ東芝シリコーン社製）
メチルイソブチルケトン ８３．５重量部

帯電防止層用組成物Ｂの調製
帯電防止層の材料はＣ−４４５６ Ｓ−７（ＡＴＯ含有導電インキ、ＡＴＯの平均粒径３００〜４００ｎｍ、固形分濃度４５％ 日本ペルノックス製）２．０ｇ、およびメチルイソブチルケトン２．８４ｇ、シクロヘキサノン１．２２ｇを添加、攪拌の後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、帯電防止層用組成物Ｂを調製した。

光学積層体の調製
下記のようにして光学積層体を作成した。

実施例Ｂ１
防眩層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を光透過性基材として用い、防眩層用組成物Ｂ１を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が５μｍの防眩層を形成した。尚、透光性微粒子は、粒子径が、５．０μの単分散アクリルビーズを使用した。

表面調整層の形成
防眩層の上に、表面調整層用組成物Ｂ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの表面調整層を形成し、光学積層体（ＨＧ１）を得た。

実施例Ｂ２
防眩層用組成物Ｂ２を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学積層体（ＨＧ２）を得た。防眩層用組成物Ｂ２中の透光性微粒子には、９．５μの単分散アクリルビーズを使用し、表面調整層の膜厚は、４．０μｍとなるようにした。

実施例Ｂ３
防眩層用組成物Ｂ３を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学積層体（ＨＧ３）を得た。防眩層用組成物Ｂ３中の透光性微粒子には、１３．５μの単分散アクリルビーズを使用した。

実施例Ｂ４
防眩層用組成物Ｂ４を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学積層体を得た。防眩層用組成物Ｂ４中の透光性微粒子には、１３．５μの単分散アクリルビーズを使用し、固形分の総重量における透光性微粒子の比率が、実施例Ｂ３の１／２となるようにした。

実施例Ｂ５
防眩層用組成物Ｂ５を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学積層体を得た。防眩層用組成物Ｂ５中の透光性微粒子には、９．５μの単分散アクリルビーズを使用し、固形分の総重量における透光性微粒子の比率が、実施例Ｂ２の７５／１０００となるようにした。

実施例Ｂ６
防眩層用組成物Ｂ６を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学積層体を得た。防眩層用組成物Ｂ６中の透光性微粒子には、５．０μの粒度分布を持つアクリルビーズを使用した。

実施例Ｂ７
防眩層用組成物Ｂ７を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学積層体を得た。

防眩層用組成物Ｂ７中の第１透光性微粒子には、９．５μの単分散アクリルビーズを使用し、第２透光性微粒子には、５．０μの単分散アクリルビーズを使用した。

実施例Ｂ８
防眩層用組成物Ｂ４、表面調整層組成物Ｂ２を使用した以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学積層体を得た。表面調整層用組成物Ｂ２には、導電性を持つ表面調整層を形成する為に、ＡＴＯ含有した組成物Ｂを使用した。

実施例Ｂ９
帯電防止層の形成
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を光透過性基材として用い、帯電防止用組成物Ｂを、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、５０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が１μｍの帯電防止層を形成した。

防眩層の形成
帯電防止層の上に、防眩層用組成物Ｂ４を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアで照射して塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの防眩層を形成した。

表面調整層の形成
防眩層の上に、表面調整層用組成物Ｂ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの表面調整層を形成して、光学積層体を得た。

実施例Ｂ１０
防眩層用組成物Ｂ４を用いた以外は、実施例Ｂ１と同様にして、防眩層を作製した。更に、表面調整層は、紫外線を照射線量が３０ｍＪになるようハーフキュアでの照射をして塗膜を硬化させた以外は、実施例Ｂ１と同様形成し、光学積層体を得た。

低屈折率層の形成
表面調整層の上に、低屈折率層用組成物Ｂ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、５０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１５０ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が９８ｎｍの低屈折率層を形成して、光学積層体を得た。低屈折率層用組成物Ｂ１を低屈折率層用組成物Ｂ２に変更してもよく、その場合、反射Ｙ値は１．８％となる。

実施例Ｂ１１
表面調整層用組成物Ｂ３を使用した以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学積層体を得た。表面調整層用組成物Ｂ３として、ジルコニア含有の樹脂マトリックスを用い、表面調整層の屈折率が１．６０となるように作成した。

実施例Ｂ１２
表面調整層組成物Ｂ４を使用した以外は、実施例Ｂ１と同様に作製して、光学積層体を得た。表面調整層組成物Ｂ４として、高硬度化を実現するための多官能ウレタンアクリレートと、カールを緩和させるための低収縮樹脂の混合樹脂系を添加した。

実施例Ｂ１３
表面調整層用組成物Ｂ５を使用した以外は、実施例Ｂ１と同様にして、光学積層体を得た。表面調整層用組成物Ｂ５として、高硬度化を実現するために、多官能ウレタンアクリレートとカールを緩和させるための低収縮樹脂の混合樹脂系を用い、更に、防汚染性（マジック拭き取り性、指紋付着防止性）を向上させるために、反応型のフッ素系添加剤を２．０％添加した。

実施例Ｂ１４
表面調整層組成物Ｂ６を使用した以外は、実施例Ｂ１と同様にして光学積層体を得た。表面調整層組成物Ｂ６として、高硬度化を実現するための多官能ウレタンアクリレートと、カールを緩和させるための低収縮樹脂の混合樹脂系を添加し、防汚染性を向上させるために、反応型のフッ素系添加剤を２．０％添加し、更に、撥水性と表面の滑り性を付与するためにフッ素系レべリング剤を０．２％添加した。

比較例Ｂ１
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）を透明基材として用い、防眩層用組成物Ｂ８を、フィルム上にコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるように照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が６μｍの防眩性光学積層体（ＡＧ１）を形成した。

この防眩性光学積層体は、第１の透光性微粒子としてのアクリルビーズを４．９６質量部（日本触媒製、粒径４．６μｍ、屈折率１．５３）、第２の透光性微粒子としてのアクリルビーズを１．６５質量部（日本触媒製、粒径３．５μｍ、屈折率１．５３）の混合粒子系を用いて形成した。

比較例Ｂ２
防眩層用組成物Ｂ９を用いて、膜厚を３μｍとした以外は、比較例Ｂ１と同様にして従来の防眩性光学積層体を作成した。この防眩性光学積層体（ＡＧ）は、不定形シリカを用いて形成した。

評価試験Ｂ
下記の評価試験を行いその結果を表２に記載した。

評価１：平面形状評価試験
実施例Ｂと比較例Ｂの光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状を光学顕微鏡（商品名ＯＬＹＭＰＵＳ製ＢＸ６０−Ｆ３；２００倍）にて写真撮影した。その結果は図４に表された通りであった。図４によれば、本発明の光学積層体であるＨＧ１〜ＨＧ３のものは、凹凸形状のうねりが滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなく、表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、従来の防眩性光学積層体であるＡＧ１は、その表面が人間の皮膚を拡大した写真のように粗さが存在し、凹凸形状鋭利であることが理解される。

評価２：凹凸形状の三次元評価試験
実施例Ｂと比較例Ｂの光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状をＡＦＭ（商品名：走査型プローブ顕微鏡）にて写真撮影した。その結果は図５と図６に記載した通りであった。図５によれば、本発明の光学積層体であるＨＧ１〜ＨＧ３のものは、凹凸形状のうねりが非常に滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなく、表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、図６によれば、従来の防眩性光学積層体であるＡＧ１は、その表面が多数の鋭利な凹凸形状で形成されていることが理解される。

評価３：光学特性試験
実施例Ｂと比較例Ｂの光学積層体について、本明細書に定義に従って、ヘイズ値（％）、６０度グロス、Ｓｍ、θａ、Ｒｚ、反射Ｙ値（５度反射）、表面抵抗、鉛筆硬度、水の接触角を測定した。

評価４：艶黒感試験
実施例Ｂと比較例Ｂの光学積層体のフィルム面と反対側にクロスニコルの偏光板に張り合わせた後、三波長蛍光下で官能評価を行って、艶黒感を下記基準によって評価した。

評価基準
評価○：艶のある黒色を再現することができた。
評価△：艶のある黒色を若干再現できたが、製品としては十分ではなかった。
評価×：艶のある黒色を再現することができなかった。

評価５：防汚染性評価試験
実施例Ｂと比較例Ｂの光学積層体の表面に油性マジック（ゼブラ製商品名「マッキーケア」）を用いて文字を書き、その文字を布で拭き取った時の繰り返し拭き取り性を下記の基準で評価した。
評価基準
評価○：１０回繰り返し、文字を完全に拭き取ることができた。
評価△：１０回繰り返し、一部の文字を拭き取れない部分が残存したが、２０回繰り返しでは文字を完全に拭き取ることができた。
評価×：２０回繰り返し、文字を完全に拭き取ることができなかった。

評価６：表面の滑り性試験
実施例Ｂと比較例Ｂの光学積層体のフィルム表面を布で擦ったときの滑り性を下記の基準で評価した。
評価基準
評価○：布は抵抗なく滑らかに滑った。
評価△：布は若干抵抗を感じるが、概ね滑らかに滑った。
評価×：布は強く抵抗を感じて、滑らかに滑らなかった。

評価７：ギラツキ試験
HAKUBA製ビュアー（ライトビュアー7000PRO）上に、0.7mm厚みのガラスに形成されたブラックマトリクスパターン板（105ppi）を、パターン面を下にして置き、その上に得られた光学積層体フィルムを凹凸面を空気側にして載せて、フィルムが浮かないようにフィルムの縁を指で軽く押さえながら、暗室にてギラツキを目視観察し、評価した。

評価基準
評価○：１０５ｐｐｉでギラツキがなく良好であった。
評価×：１０５ｐｐｉでギラツキがみえ不良であった。
結果
実施例Ｂ１からＢ１４、及び比較例Ｂ２は、全て○で良好であったが、比較例Ｂ１は、ギラツキがあり、×であった。

評価８：防眩性評価試験
得られた光学積層体の裏面に、黒のアクリル板を、光学性粘着剤ではり、水平な机にサンプルをおいて、机より２．５ｍ上方にある白色蛍光灯管（３２ワット×２本）のエッジ部分の映りこみを目視観察し、評価した。
評価基準
評価○：エッジが映りこまず、良好な防眩性を有した。
評価×：エッジが映りこみ、防眩性に劣った。
結果
実施例Ｂ１からＢ１４、及び比較例Ｂ１は、全て映り込みがなく○で防眩性良好であったが、比較例Ｂ２は、蛍光灯のエッジが映り込み、防眩性×であった。

ゲル分率／塗膜密着性等評価
ゲル分率
本発明において、「ゲル分率」は以下の通りに求めることができる。

サンプル：５０μmＰＥＴ基材（ＴＡＣ基材では直接ゲル分率を求められないため）防眩層用組成物のモノマー、オリゴマー、ポリマー、その他添加剤など微粒子以外のバインダー部分のインキを作製し、５μｍの膜厚に塗工する。
１）UV照射条件：５、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０ｍｊで照射したサンプルを作製し、
２）１０ｃｍ角に切り、ｎ数を三点をとり、
３）重さ：Ａを測定した。
４）モノマーが溶解すると考えられる溶剤に１２ｈ以上漬け込み、
５）溶剤から各サンプルを取り出して、オーフ゛ンで十分乾燥（60℃×2分）し、
６）乾燥したサンプルの重さ：Ｂを測定した。
７）溶剤に漬け込む前の重さ：Ａとの差をとり、この値をＣとした。
８）最後に、「ゲル分率％」＝１００−Ｃ／Ａとして算出した。

上記から、各UV照射条件でのゲル分率は、５ｍｊ＝１０％、１０ｍｊ＝２１％、２０ｍｊ＝３３％、３０ｍｊ＝４７％、４０ｍｊ＝５９％、５０ｍｊ＝６５％、６０ｍｊ＝７７％、７０ｍｊ＝８８％、８０ｍｊ＝９６％であった。

各防眩層用組成物を、上記UV照射条件で硬化し、その上に表面調整層を設けた場合、鉛筆硬度評価と塗膜密着性評価を実施した。

ゲル分率が、１０％、２１％のときには、密着性は１００％と優れるが、鉛筆硬度が２Hと硬度が出ない。一方、ゲル分率が、８８％、９６％のときには、鉛筆硬度が３H〜４Hと良好であったが、密着性が８０〜９５％と低下した。よって、表面調整層を設ける場合の防眩層の硬化するのに最適なゲル分率は、３０〜８０％とし、各実施例では、ゲル分率がほぼ５０％程度の３０ｍｊを適用した。

本発明の第三の態様
光学積層体を構成する各層の組成物を下記組成に従い調製した。

実施例Ｃ１
光拡散層用組成物Ｃ１の調製
下記組成で混合し、ザーンカップ♯３で２０秒に調製し光拡散層用組成物Ｃ１とした。
樹脂（東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル） １００重量部
光拡散剤 １２０重量部
（積水化成品工業（株）製ＭＢＸ-８：平均粒子径１０μｍ）
希釈溶剤：トルエン １３０重量部
：メチルエチルケトン １００重量部
（固形分５０％）
表面調整層用組成物Ｃ１の調製
紫外線硬化型樹脂であるＤＰＨＡを３９．３０質量部（日本化薬（株）製、屈折率１．５１）、アクリル系ポリマー（三菱レイヨン製、分子量４０,０００）を３．１３質量部、光硬化開始剤であるイルガキュア１８４を２．１２質量部（チバガイギー（株）製）、同じく光硬化開始剤であるイルガキュア９０７を０．４３質量部（チバガイギー（株）製）、シリコン系レベリング剤１０−２８（ザ・インクテック（株）製）を０．１９質量部、トルエンを４９．３５質量部、及び、シクロヘキサノンを５．４８質量部を十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して表面調整層用組成物Ｃ１を調製した。

光学積層体の製造
光拡散層の形成
基材は１００μｍ厚の帝人（株）製ＨＳタイプポリエチレンテレフタレートフィルムに、光拡散層用組成物Ｃ１をコーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて基材の片面に塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させて塗膜を熱硬化させた。この時乾燥時の塗工量は、１１ｇ／ｍ^２ 、膜厚は２０μｍの光拡散層を形成した。

表面調整層の形成
光拡散層の上に、表面調整層用組成物Ｃ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が４μｍの表面調整層を形成し、光学積層体を得た。

実施例Ｃ２
光拡散層用組成物Ｃ２の調製
下記組成で混合し、ザーンカップ♯３で２０秒に調製し光拡散層用組成物Ｃ２とした。
樹脂（東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル） １００重量部
光拡散剤
（積水化成品工業（株）製ＭＢＸ-８：平均粒子径１０μｍ） ２４０重量部
希釈溶剤：トルエン １３０重量部
：メチルエチルケトン １００重量部
（固形分５０％）
光学積層体の製造
光拡散層用組成物Ｃ２を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様にして膜厚が４μｍの表面調整層を形成し、光学積層体を得た。

実施例Ｃ３
光拡散層用組成物Ｃ３の調製
下記組成で混合し、ザーンカップ♯３で調整し光拡散層用組成物Ｃ３とした。
樹脂（東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル） １００重量部
光拡散剤 ２４０重量部
（積水化成品工業（株）製ＭＢＸ-１２：平均粒子径１４μｍ）
希釈溶剤：トルエン １３０重量部
：メチルエチルケトン １００重量部
（固形分５０％）
光学積層体の製造
光拡散層用組成物Ｃ３を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様にして膜厚が４μｍの表面調整層を形成し、光学積層体を得た。

実施例Ｃ４
光拡散層用組成物Ｃ４の調製
下記組成で混合し、ザーンカップ♯３で調整し光拡散層用組成物Ｃ４とした。
樹脂（東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル） １００重量部
光拡散剤 １２０重量部
（積水化成品工業（株）製ＭＢＸ-８：平均粒子径１０μｍ）
耐電防止剤（日本油脂（株）製エレガンＴＯＦ-１１００） １０重量部
希釈溶剤：トルエン １３０重量部
：メチルエチルケトン １００重量部
（固形分５０％）
光学積層体の製造
光拡散層用組成物Ｃ４を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様にして膜厚が４μｍの表面調整層を形成し、光学積層体を得た。表面抵抗は、１０^１２Ω／□（測定条件２５℃、５５％ＲＨ）であった。

実施例Ｃ５
光拡散層用組成物Ｃ５の調製
下記組成で混合し、ザーンカップ♯３で調整し光拡散層用組成物Ｃ５とした。
樹脂（東洋紡（株）製バイロン２００ポリエステル） １００重量部
光拡散剤 １２０重量部
（総研化学（株）製ＭＲ-７ＨＧ（平均粒子径６．０μｍ）
希釈溶剤：トルエン １３０重量部
：メチルエチルケトン １００重量部
（固形分５０％）
光学積層体の製造
光拡散層用組成物Ｃ５を用いた以外は、実施例Ｃ１と同様にして膜厚が４μｍの表面調整層を形成し、光学積層体を得た。

実施例Ｃ６
光学積層体の製造
１２０μｍ厚の（株）ツジデン製光拡散フィルム「商品名：Ｄ１２２」を使用した。この光拡散フィルムの光透過性基材は、ポリエチレンテレフタレートフィルムであった。この光拡散フィルムの上に、表面調整層用組成物Ｃ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるよう照射して塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの表面調整層を形成し、光学積層体を得た。

比較例Ｃ１
防眩層用組成物Ｃ１の調製
不定形シリカ含有塗料組成物（大日精化（株）製、商品名；「ＥＸＧ４０−７７（Ｚ−１５Ｍ）」（不定形シリカの平均粒子径：２．５μｍ））を３．３ｇ、紫外線硬化樹脂組成物（大日精化（株）製、商品名；「ＥＸＧ４０−７７（Ｓ−２）」）を１．５ｇ、シリコン系レベリング剤１０−２８を０．０３ｇ（ザ・インクテック社製）、トルエンを３．３ｇ、及び、ＭＩＢＫを１．１ｇを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径８０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｃ１を調製した。

光学積層体の製造
８０μｍの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム（A4300、東洋紡（株）製）を透明基材として用い、防眩層用組成物Ｃ１を、コーティング用巻線ロッド（メイヤーズバー）を用いて塗布し、７０℃のオーブン中で１分間加熱乾燥し、溶剤分を蒸発させた後、窒素パージ下（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）で、紫外線を照射線量が１００ｍＪになるように照射をして塗膜を硬化させ、膜厚が３μｍの防眩性ハードコート層を形成し、光学積層体を得た。透光性微粒子として平均粒子径が、２．５μｍの不定形シリカを用いた防眩性光学積層体（ＡＧ１）である。

比較例Ｃ２
防眩層用組成物Ｃ２の調製
不定形シリカ含有塗料組成物（大日精化（株）製、商品名；「ＥＸＧ４０−７７（Ｄ−３０Ｍ）」（不定形シリカの平均粒子径：１．５μｍ））を３．５ｇ、紫外線硬化樹脂組成物（大日精化（株）製、商品名；「ＥＸＧ４０−７７（Ｓ−２）」）を１．６ｇ、シリコン系レベリング剤１０−２８を０．０３ｇ（ザ・インクテック社製）、トルエンを３．３ｇ、及び、ＭＩＢＫを１．２ｇを十分混合して組成物として調製した。この組成物を孔径８０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用組成物Ｃ２を調製した。

光学積層体の製造
防眩層用組成物Ｃ２、平均粒子径が１．５μｍの不定形シリカを使用した以外は、比較例Ｃ１と同様にして、防眩性光学積層体（ＡＧ）を調製した。比較例Ｃ２の防眩性光学積層体もまた不定形シリカを用いたものであった。

評価試験Ｃ
下記の評価試験を行いその結果を表３に記載した。

評価１：平面形状評価試験
実施例Ｃと比較例Ｃの光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状を光学顕微鏡（商品名ＯＬＹＭＰＵＳ製ＢＸ６０−Ｆ３；２００倍）にて写真撮影した。その結果は図４に表された通りであった。図４によれば、本発明の光学積層体であるＨＧ１〜ＨＧ３のものは、凹凸形状のうねりが滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなく、表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、従来の防眩性光学積層体であるＡＧ１は、その表面が人間の皮膚を拡大した写真のように粗さが存在し、凹凸形状鋭利であることが理解される。

評価２：凹凸形状の三次元評価試験
実施例Ｃと比較例Ｃの光学積層体を画像表示装置のパネルに実装し、その表面形状をＡＦＭ（商品名：走査型プローブ顕微鏡）にて写真撮影した。その結果は図５と図６に記載した通りであった。図５によれば、本発明の光学積層体であるＨＧ１〜ＨＧ３のものは、凹凸形状のうねりが非常に滑らかであり、また凹凸形状が鋭利ではなく、表面全体に亘り、非常に緩やかな複数の丘状形状を有していることが理解される。他方、図６によれば、従来の防眩性光学積層体であるＡＧ１は、その表面が多数の鋭利な凹凸形状で形成されていることが理解される。

評価３：光学特性試験
実施例Ｃと比較例Ｃの光学積層体について、本明細書に定義に従って、ヘイズ値（％）、６０度グロス、Ｓｍ、θａ、Ｒｚを測定し、その結果を表１に記載した。

評価４：艶黒感試験
実施例Ｃと比較例Ｃの光学積層体のフィルム面と反対側にクロスニコルの偏光板に張り合わせた後、三波長蛍光下で官能評価を行って、艶黒感を下記基準によって詳細に評価した。
評価基準
評価○：艶のある黒色が再現することができた。
評価△：艶のある黒色が若干再現できたが、製品としては十分ではなかった。
評価×：艶のある黒色が再現することができなかった。

評価５：ギラツキ試験
ＨＡＫＵＢＡ製ビュアー（ライトビュアー７０００ＰＲＯ）上に、０．７ｍｍ厚みのガラスに形成されたブラックマトリクスパターン板（１０５ｐｐｉ）を、パターン面を下にして置き、その上に得られた光学積層体フィルムを凹凸面を空気側にして載せて、フィルムが浮かないようにフィルムの縁を指で軽く押さえながら、暗室にてギラツキを目視観察し、評価した。
評価基準
評価○：１０５ｐｐｉでギラツキがなく良好であった。
評価×：１０５ｐｐｉでギラツキがみえ不良であった。
結果
実施例Ｃ１からＣ６、及び比較例Ｃ１は、全て○で良好であったが、比較例Ｃ２は、ギラツキがあり、×であった。

評価６：防眩性評価試験
得られた光学積層体の裏面に、黒のアクリル板を、光学性粘着剤ではり、水平な机にサンプルをおいて、机より２．５ｍ上方にある白色蛍光灯管（３２ワット×２本）のエッジ部分の映りこみを目視観察し、評価した。
評価基準
評価○：エッジが映りこまず、良好な防眩性を有した。
評価×：エッジが映りこみ、防眩性に劣った。
結果
実施例Ｃ１からＣ６、及び比較例Ｃ２は、全て映り込みがなく○で防眩性良好であったが、比較例Ｃ１は、蛍光灯のエッジが映り込み、防眩性×であった。

Claims (22)

1. 光透過性基材と、該光透過性基材上に防眩層を備えてなる光学積層体であって、
   前記防眩層の最表面が凹凸形状を有してなり、
   前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとし、基準長さを２．５ｍｍとしてＳｍ、θａおよびＲｚを測定した場合に、
   Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
   θａが０．１度以上１．２度以下であり、
   Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であり、
   ただし、Ｓｍが１３１μｍ、θａが０．９４度、かつＲｚが０．３８μｍである場合を除く、
   前記光学積層体の表面ヘイズが０．２％以上３．５％以下である、光学積層体。
2. Ｓｍが１００μｍ以上４００μｍ以下であり、
   θａが０．１度以上０．６度以下であり、
   Ｒｚが０．２μｍ超過０．９μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記防眩層の表面に、前記防眩層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層をさらに備えてなる、請求項１または２に記載の光学積層体。
4. 光透過性基材と、該光透過性基材上に、防眩層と、表面調整層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
   前記表面調整層の最表面が凹凸形状を有してなり、
   前記表面調整層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとし、基準長さを２．５ｍｍとしてＳｍ、θａおよびＲｚを測定した場合に、
   Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
   θａが０．１度以上１．２度以下であり、
   Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であり、
   前記光学積層体の表面ヘイズが０．２％以上３．５％以下である、光学積層体。
5. θａが０．１度以上０．９１２度以下である、請求項４に記載の光学積層体。
6. Ｓｍが１００μｍ以上４００μｍ以下であり、
   θａが０．１度以上０．６度以下であり、
   Ｒｚが０．２μｍ超過０．９μｍ以下である、請求項４に記載の光学積層体。
7. Ｒｚが０．３５μｍ以上１μｍ以下である、請求項４に記載の光学積層体。
8. 前記表面調整層の厚みが、０．５μｍ以上２０μｍ以下である、請求項４ないし７のいずれか一項に記載の光学積層体。
9. 前記表面調整層が、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤および硬度調整剤からなる群から選択される一種または二種以上の混合物を含んでなる組成物により形成されてなる、請求項４ないし８のいずれか一項に記載の光学積層体。
10. 前記防眩層が、防眩層用組成物をゲル分率で３０〜８０％で硬化して形成されてなる、請求項４ないし８のいずれか一項に記載の光学積層体。
11. 前記防眩層の層厚が、０．５μｍ以上１２μｍ以下である、請求項４ないし８のいずれか一項に記載の光学積層体。
12. 前記表面調整層の表面に、前記表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層をさらに備えてなる、請求項４ないし８のいずれか一項に記載の光学積層体。
13. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の光学積層体と、前記光学積層体における前記防眩層が存在する面と反対の面に設けられた偏光素子とを備える、偏光板。
14. 透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
    前記透過性表示体の表面に、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の光学積層体、または請求項１３に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。
15. 光透過性基材と、該光透過性基材上に光拡散層を備えてなる光学積層体であって、
    前記光拡散層の最表面が凹凸形状を有してなり、
    前記光拡散層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとし、基準長さを２．５ｍｍとしてＳｍ、θａおよびＲｚを測定した場合に、
    Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
    θａが０．１度以上１．２度以下であり、
    Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であり、
    ただし、Ｓｍが１３１μｍ、θａが０．９４度、かつＲｚが０．３８μｍである場合を除く、
    前記光学積層体の表面ヘイズが０．２％以上３．５％以下である、光学積層体。
16. Ｓｍが１００μｍ以上４００μｍ以下であり、
    θａが０．１度以上０．６度以下であり、
    Ｒｚが０．２μｍ超過０．９μｍ以下である、請求項１５に記載の光学積層体。
17. 光透過性基材と、該光透過性基材上に、光拡散層と、表面調整層とをこれらの順で備えてなる光学積層体であって、
    前記表面調整層の最表面が凹凸形状を有してなり、
    前記表面調整層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとし、基準長さを２．５ｍｍとしてＳｍ、θａおよびＲｚを測定した場合に、
    Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
    θａが０．１度以上１．２度以下であり、
    Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であり、
    前記光学積層体の表面ヘイズが０．２％以上３．５％以下である、光学積層体。
18. θａが０．１度以上０．６０４度以下である、請求項１７に記載の光学積層体。
19. Ｓｍが１００μｍ以上４００μｍ以下であり、
    θａが０．１度以上０．６度以下であり、
    Ｒｚが０．２μｍ超過０．９μｍ以下である、請求項１７に記載の光学積層体。
20. 前記表面調整層の厚みが、０．５μｍ以上２０μｍ以下である、請求項１７ないし１９のいずれか一項に記載の光学積層体。
21. 請求項１５ないし２０のいずれか一項に記載の光学積層体と、前記光学積層体における前記光拡散層が存在する面と反対の面に設けられた偏光素子とを備える、偏光板。
22. 透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
    前記透過性表示体の表面に、請求項１５ないし２０のいずれか一項に記載の光学積層体、または請求項２１に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。