JP5165718B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1の上面図である。この基板処理装置1は、液晶表示装置用の矩形のガラス基板9(以下、単に「基板9」という)をエッチングするフォトリソグラフィ工程において、基板9の上面にレジスト液(フォトレジスト)を塗布するための装置である。基板処理装置1は、基板9を水平姿勢に支持しつつ搬送する機構を有する。以下では、基板9が搬送される方向を「搬送方向」と称し、搬送方向に直交する水平方向を「幅方向」と称する。本願の各図には、搬送方向および幅方向が、矢印で示されている。
続いて、基板処理装置1の動作について、説明する。図7は、基板処理装置1の動作の流れを示したフローチャートである。
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。
9 基板
10 第1搬送部
11 コンベアローラ
12 回転駆動機構
20 転換部
21 昇降ローラ
22 回転駆動機構
23 昇降駆動機構
24 フリーローラ
24a 下流側フリーローラ
24b 上流側フリーローラ
25 入口浮上ステージ
25a 吐出孔
26 ガイドローラ
27 位置決め機構
28 リフトピン
30 第2搬送部
31 塗布ステージ
32 チャック機構
40 レジスト塗布機構
41 架橋部
42 スリットノズル
50 搬出部
51 出口浮上ステージ
52 搬出用ピン
60 制御部
71 ローラ支持台
72 ステージ支持台
Claims (7)
- 基板を搬送する機構を備えた基板処理装置であって、
搬送経路上の所定の位置まで基板を搬送する第1搬送部と、
前記所定の位置より搬送方向下流側において、ステージ上に基板を浮上させつつ搬送する第2搬送部と、
前記第1搬送部と前記第2搬送部との間において、基板の支持方式を転換する転換部と、
前記転換部を制御する制御手段と、
を備え、
前記転換部は、
基板を接触支持しつつ、能動的に回転し、標準位置と下降位置との間で昇降移動可能である昇降ローラと、
標準位置の前記昇降ローラの上端部と、下降位置の前記昇降ローラの上端部との間の高さ位置に基板を接触支持しつつ、基板の移動に応じて従動的に回転するフリーローラと、
前記フリーローラの搬送方向下流側に配置され、標準位置の前記昇降ローラによる基板の支持高さより低い高さに、基板を浮上させつつ支持する入口浮上ステージと、
を有し、
前記制御手段は、基板が、標準位置の前記昇降ローラと前記入口浮上ステージとにまたがって配置された後、前記昇降ローラを前記下降位置へ下降させて、基板の搬送方向上流側の一部分を、前記フリーローラへ移載させるように、前記転換部を制御する基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記転換部は、前記標準位置の前記昇降ローラと、前記入口浮上ステージとにまたがって配置された基板の前記搬送方向下流側の端縁部に当接して、当該基板の下流側の端縁部の位置を定める上下に延びる位置決めピンを備えており、
前記入口浮上ステージの前記搬送方向上流端から、前記基板の前記搬送方向下流側の端縁部に当接するときの前記位置決めピンまでの前記搬送方向の長さは、基板の搬送方向の長さより、短い基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記昇降ローラおよび前記フリーローラが配置された領域の搬送方向の長さは、基板の搬送方向の長さより、短い基板処理装置。 - 請求項1から請求項3までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記フリーローラは、
前記入口浮上ステージの搬送方向上流側の側縁部に沿って配列された、複数の下流側フリーローラと、
前記複数の下流側フリーローラより搬送方向上流側の位置に配列された、複数の上流側フリーローラと、
を含み、
前記複数の上流側フリーローラは、前記複数の下流側フリーローラより、低い密度で配置されている基板処理装置。 - 請求項1から請求項4までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記転換部は、基板が、標準位置の前記昇降ローラと、前記入口浮上ステージとにまたがって配置された状態において、基板の水平方向の位置を定める位置決め手段をさらに有する基板処理装置。 - 請求項1から請求項5までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記昇降ローラおよび前記フリーローラと、前記入口浮上ステージとは、異なる支持台に支持され、互いに非連結である基板処理装置。 - 請求項1から請求項6までのいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記フリーローラは、前記昇降ローラより小径のローラである基板処理装置。
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