JP5158854B2 - Multilayer printed circuit board and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、多層プリント基板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a multilayer printed circuit board and a method for manufacturing the same.
従来、多層プリント基板の製造方法として、例えば特許文献1、特許文献2等に開示された多層基板の製造方法がある。
Conventionally, as a method for manufacturing a multilayer printed board, for example, there are methods for manufacturing a multilayer board disclosed in
特許文献1には、層間接続をした複数の両面基板を製造し、この複数の両面基板を層間接続可能な処理をしたフィルム状絶縁体を介して積層することで、基板の両面に電極を有する多層基板を製造する方法が開示されている。
In
特許文献2には、樹脂フィルムの片面にのみ導体パターンが形成された片面導体パターンフィルムを積層し、電極が露出するように樹脂フィルムを除去することで、両面に電極を有する多層基板を製造する方法が開示されている。また、特許文献2には、多層基板表面をなす片面導体パターンフィルムを除いて、片面導体パターンフィルムには、導体パターンを底面とする有底ビアホールが形成され、その有底ビアホール内に導電ペーストを充填することにより、この導電ペーストを介して隣接する片面導体パターンフィルム同士の導体パターンを導通させる技術が開示されている。これによると、多層基板の各導体パターン層間をビアホール内の導電ペーストにより導通させることができる。
ところで、上記特許文献1及び2に開示された従来技術では、いずれの従来技術でも、ビアホール内の導電ペーストのみを各導体パターン層間の層間接続に用いる構成であるため、電気的に全ての層間接続をとるのが難しく、層間接続信頼性が低い。
By the way, in the prior arts disclosed in
導電ペーストのみを層間接続に用いる場合、熱融着プレスの温度、圧力の制御が難しく、電気的に全ての層間接続をとることは困難であった。特に熱可塑性樹脂を用いると、融着プレス時にフィルムが変形しやすく、多層基板としての厚さにバラツキが発生する不具合が顕著であった。 When only the conductive paste is used for interlayer connection, it is difficult to control the temperature and pressure of the heat fusion press, and it is difficult to electrically connect all interlayer connections. In particular, when a thermoplastic resin is used, the film is likely to be deformed at the time of fusion press, and there is a remarkable problem that the thickness of the multilayer substrate varies.
本発明は、このような従来の問題点に鑑みて為されたもので、その目的は、層間接続信頼性が高い多層プリント基板およびその製造方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such conventional problems, and an object thereof is to provide a multilayer printed board having high interlayer connection reliability and a method for manufacturing the same.
上記課題を解決するために、請求項1に記載の発明に係る多層プリント基板は、スルーホールと、両面に形成された導体パターンと、前記スルーホールに前記導体パターンと一体に導体が充填形成された充填スルーホールとをそれぞれ有する複数の第1の樹脂フィルムと、スルーホールの内壁に導体が形成され内部が導体で充填されていない導電スルーホールを有して両面に導体パターンを有さない第2の樹脂フィルムと、が交互に重ね合わされており、前記導体パターンと前記導電スルーホールの両ランド部との間にそれぞれ設けた導電体が、前記導体パターンおよび前記導電スルーホールと金属間結合していることを特徴とする。
In order to solve the above-described problem, a multilayer printed board according to the invention described in
この構成によれば、充填スルーホールにより各第1の樹脂フィルム両面の導体パターンが電気的に接続されると共に、複数の第1の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンが導電体および導電スルーホールを介して電気的に接続される。 According to this configuration, the conductive patterns on both sides of each first resin film are electrically connected by the filled through holes, and between two adjacent first resin films among the plurality of first resin films. Two opposing conductor patterns are electrically connected via a conductor and a conductive through hole.
このように、第1の樹脂フィルムの充填スルーホールと、隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと金属間結合した導電体および導電スルーホールとを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、第1の樹脂フィルム両面の導体パターンと充填スルーホールは一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。また、層間接続をとる充填スルーホールと、導電体および導電スルーホールとが交互に積層するため、熱融着プレス時に、導電体への圧力が均一になりやすく、層間接続信頼性が高い。さらに、第1の樹脂フィルムおよび第2の樹脂フィルムは熱融着プレスなどにより重ね合わされるが、この際に、各第1の樹脂フィルムの充填スルーホールが厚さ方向の柱として支えになるため、熱融着プレス時の厚さばらつきを無くすことができる。 As described above, the filled through hole of the first resin film, the two conductor patterns facing each other between the two adjacent first resin films, and the conductor and the conductive through hole bonded between the metals are used for the interlayer connection. Due to the configuration, the interlayer connection reliability is high. In addition, since the conductor pattern on both sides of the first resin film and the filled through hole are integrally formed, the interlayer connection reliability is high. In addition, since the filled through-holes that take the interlayer connection, the conductors, and the conductive through-holes are alternately stacked, the pressure on the conductor is likely to be uniform during the heat fusion press, and the interlayer connection reliability is high. Furthermore, the first resin film and the second resin film are overlaid by a heat fusion press or the like, but at this time, the filled through holes of each first resin film serve as pillars in the thickness direction. The thickness variation during the heat fusion press can be eliminated.
請求項2に記載の発明に係る多層プリント基板は、前記導体パターンと前記充填スルーホールは、下地金属層と、該下地金属層上に形成された導体層とを有していることを特徴とする。 Multilayer printed circuit board according to the invention of claim 2, wherein the filled through hole and the conductive pattern, and characterized in that it has an underlying metal layer, and a conductor layer formed on the lower ground metal layer To do.
この構成によれば、導体パターンと充填スルーホールとを、下地金属層と導体層を有する2層構造にすることで、導体層の第1の樹脂フィルムとの密着性が良くなるので、層間接続信頼性がさらに向上する。 According to this configuration, since the conductive pattern and the filled through hole have a two-layer structure having a base metal layer and a conductive layer, the adhesion of the conductive layer to the first resin film is improved. Reliability is further improved.
請求項3に記載の発明に係る多層プリント基板は、前記下地金属層は、Pが2〜6%で厚さが0.05〜0.5ミクロンのNi−P合金で形成され、前記導体層は、Cuで形成されていることを特徴とする。 According to a third aspect of the present invention, in the multilayer printed circuit board, the base metal layer is formed of a Ni-P alloy having P of 2 to 6% and a thickness of 0.05 to 0.5 microns, and the conductor layer Is made of Cu.
請求項4に記載の発明に係る多層プリント基板は、前記導電体がSnを含む金属であることを特徴とする。 The multilayer printed board according to the invention described in claim 4 is characterized in that the conductor is a metal containing Sn.
請求項5に記載の発明に係る多層プリント基板は、前記第1の樹脂フィルムは、ガラス転移点および融点が150℃以上350℃以下である熱可塑性樹脂であることを特徴とする。 The multilayer printed board according to the invention described in claim 5 is characterized in that the first resin film is a thermoplastic resin having a glass transition point and a melting point of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower.
請求項6に記載の発明に係る多層プリント基板は、前記第1の樹脂フィルムは、液晶ポリマーフィルムであることを特徴とする。 The multilayer printed circuit board according to the invention of claim 6 is characterized in that the first resin film is a liquid crystal polymer film.
請求項7に記載の発明に係る多層プリント基板は、前記第1の樹脂フィルムは、PEEK/PEI、PES、PPE、PTFEのいずれか1つ、または熱可塑性ポリイミドからなることを特徴とする。
The multilayer printed circuit board according to the invention described in
上記課題を解決するために、請求項8に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、スルーホールと、両面に形成された導体パターンと、前記スルーホールに前記導体パターンと一体に導体が充填形成された充填スルーホールとを有する第1の樹脂フィルムを作製する工程と、スルーホールの内壁に導体が形成され内部が導体で充填されていない導電スルーホールを有して両面に導体パターンを有さない第2の樹脂フィルムを作製し、前記導電スルーホールの両ランド部表面と前記導電スルーホールの内壁とのうち少なくとも前記両ランド部表面にSnを含むめっきを施す工程と、
前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとを交互に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、を備えることを特徴とする。
In order to solve the above-described problem, a manufacturing method of a multilayer printed circuit board according to an eighth aspect of the present invention includes a through hole, a conductor pattern formed on both sides, and a conductor integrated with the conductor pattern in the through hole. A step of producing a first resin film having a filled through hole formed by filling, and a conductive pattern formed on the inner wall of the through hole and having a conductive through hole not filled with a conductor, and having a conductor pattern on both sides Producing a second resin film that does not have, and plating at least both of the land portions of the conductive through holes and the inner walls of the conductive through holes with Sn-containing plating;
A step of alternately stacking the first resin film and the second resin film, and stacking these laminates by a heat fusion press.
この構成によれば、導電スルーホールの両ランド部表面と導電スルーホールの内壁とのうち少なくとも両ランド部表面に施したSnを含むめっきのSnが、熱融着プレスにより溶融し導電体となり、この導電体が、隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと導電スルーホールとに金属間結合する。これにより、充填スルーホールにより各第1の樹脂フィルム両面の導体パターンが電気的に接続されると共に、複数の第1の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンが、導電体および導電スルーホールを介して電気的に接続される。 According to this configuration, the Sn of the plating containing Sn applied to at least the surfaces of both the land portions of the surfaces of both the land portions of the conductive through holes and the inner walls of the conductive through holes is melted by the heat fusion press to become a conductor, This conductor is metal-to-metal bonded to two conductive patterns and conductive through-holes facing each other between two adjacent first resin films. Thereby, while the conductor pattern of both surfaces of each 1st resin film is electrically connected by the filling through-hole, two conductor patterns which oppose between two adjacent resin films among several 1st resin films Are electrically connected through a conductor and a conductive through hole.
このように、第1の樹脂フィルムの充填スルーホールと、隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと金属間結合した導電体および導電スルーホールとを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、第1の樹脂フィルム両面の導体パターンと充填スルーホールは一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。また、層間接続をとる充填スルーホールと、導電体および導電スルーホールとが交互に積層するため、熱融着プレス時に、導電体への圧力が均一になりやすく、層間接続信頼性が高い。さらに、第1の樹脂フィルムおよび第2の樹脂フィルムは熱融着プレスにより重ね合わされるが、この際に、各第1の樹脂フィルムの充填スルーホールが厚さ方向の柱として支えになるため、熱融着プレス時の厚さばらつきを無くすことができる。 As described above, the filled through hole of the first resin film, the two conductor patterns facing each other between the two adjacent first resin films, and the conductor and the conductive through hole bonded between the metals are used for the interlayer connection. Due to the configuration, the interlayer connection reliability is high. In addition, since the conductor pattern on both sides of the first resin film and the filled through hole are integrally formed, the interlayer connection reliability is high. In addition, since the filled through-holes that take the interlayer connection, the conductors, and the conductive through-holes are alternately stacked, the pressure on the conductor is likely to be uniform during the heat fusion press, and the interlayer connection reliability is high. Furthermore, the first resin film and the second resin film are overlapped by a heat fusion press, but at this time, the filled through hole of each first resin film serves as a pillar in the thickness direction, It is possible to eliminate thickness variations during the heat fusion press.
請求項9に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、前記Snを含むめっきは、Snのほか、Ag、Cu、Zn、Biのいずれかを複数含むことを特徴とする。 According to a ninth aspect of the present invention, there is provided the multilayer printed circuit board manufacturing method, wherein the plating containing Sn includes a plurality of any one of Ag, Cu, Zn, and Bi in addition to Sn.
請求項10に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、前記Snを含むめっきは、電気めっき、または、置換めっきであることを特徴とする。 According to a tenth aspect of the present invention, there is provided the multilayer printed circuit board manufacturing method, wherein the plating containing Sn is electroplating or displacement plating.
請求項11に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、前記第2の樹脂フィルムを作製する際に、穴あけ加工された樹脂フィルムの両面、および前記スルーホール内壁に無電解めっきによって下地金属層を形成し、該下地金属層上に電気めっきによって導体を形成したのち、前記導電スルーホール、および、前記ランド部以外をエッチングして両面の前記導体及び前記下地金属層を除去することを特徴とする。
The manufacturing method of the multilayer printed circuit board according to the invention of
上記課題を解決するために、請求項12に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、スルーホールと、両面に形成された導体パターンと、前記スルーホールに前記導体パターンと一体に導体が充填形成された充填スルーホールとを有する第1の樹脂フィルムを作製する工程と、スルーホールの内壁に導体が形成され内部が導体で充填されていない導電スルーホールを有して両面に導体パターンを有さない第2の樹脂フィルムを作製する工程と、導電ペースト或いは金属粉を、前記導体パターンと前記導電スルーホールの両ランド部との間にそれぞれ介在させて、前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとを交互に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、を備えることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a method for manufacturing a multilayer printed circuit board according to
この構成によれば、導体パターンと導電スルーホールの両ランド部との間に介在させた導電ペースト或いは金属粉が熱融着プレスにより硬化して導電体となり、この導電体が、隣接する2つの樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと導電スルーホールとに金属間結合する。これにより、充填スルーホールにより各第1の樹脂フィルム両面の導体パターンが電気的に接続されると共に、複数の第1の樹脂フィルムのうちの隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンが、導電体および導電スルーホールを介して電気的に接続される。 According to this configuration, the conductive paste or metal powder interposed between the conductor pattern and the land portions of the conductive through hole is hardened by the heat fusion press to form a conductor, and the conductor is formed by two adjacent conductors. The metal is bonded to the two conductive patterns and the conductive through-holes facing each other between the resin films. Accordingly, the conductive patterns on both sides of each first resin film are electrically connected by the filled through hole, and two adjacent first resin films among the plurality of first resin films are opposed to each other. Two conductor patterns are electrically connected through a conductor and a conductive through hole.
このように、第1の樹脂フィルムの充填スルーホールと、隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターンと金属間結合した導電体および導電スルーホールとを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、第1の樹脂フィルム両面の導体パターンと充填スルーホールは一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。また、層間接続をとる充填スルーホールと、導電体および導電スルーホールとが交互に積層するため、熱融着プレス時に、導電体への圧力が均一になりやすく、層間接続信頼性が高い。 As described above, the filled through hole of the first resin film, the two conductor patterns facing each other between the two adjacent first resin films, and the conductor and the conductive through hole bonded between the metals are used for the interlayer connection. Due to the configuration, the interlayer connection reliability is high. In addition, since the conductor pattern on both sides of the first resin film and the filled through hole are integrally formed, the interlayer connection reliability is high. In addition, since the filled through-holes that take the interlayer connection, the conductors, and the conductive through-holes are alternately stacked, the pressure on the conductor is likely to be uniform during the heat fusion press, and the interlayer connection reliability is high.
さらに、請求項13に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、前記第1の樹脂フィルムを作製する工程において、前記第1の樹脂フィルムの両面および前記スルーホール内壁に無電解めっきによって下地金属層を形成し、該下地金属層上に電気めっきによって導体層を形成した後、該導体層及び前記下地金属層を一体として前記第1の樹脂フィルムの両面に前記導体パターンを形成することを特徴とする。
Furthermore, in the method for producing a multilayer printed board according to the invention of
この構成によれば、導体パターンの導体と充填スルーホールとを、下地金属層と導体層を有する2層構造にすることで、導体層の密着性が良くなる。これにより、層間接続信頼性がさらに向上する。また、下地金属層は無電解めっきにより形成するので、導体パターンと充填スルーホールの導体厚を薄くすることができる。これにより、微細な導体パターンを形成することができる。これに対して、上記特許文献1,2に開示された従来技術では、銅箔をフィルムに融着プレスしてから導体パターンを形成するため、銅箔の厚さに制限があり、微細加工に向かない。さらに、導体パターンと充填スルーホールは同時に形成するため、接続信頼性が高く、かつ、導体パターンと充填スルーホールの導体厚が均一になる。
According to this configuration, the conductor of the conductor pattern and the filled through hole have a two-layer structure having the base metal layer and the conductor layer, thereby improving the adhesion of the conductor layer. Thereby, the interlayer connection reliability is further improved. Moreover, since the base metal layer is formed by electroless plating, the conductor pattern and the conductor thickness of the filled through hole can be reduced. Thereby, a fine conductor pattern can be formed. On the other hand, in the prior art disclosed in
請求項14に記載の発明に係る多層プリント基板の製造方法は、前記導電ペーストが少なくともSn,Cu,Agを含む金属粉からなることを特徴とする。 According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided the multilayer printed circuit board manufacturing method, wherein the conductive paste is made of metal powder containing at least Sn, Cu, and Ag.
本発明によれば、層間接続信頼性が高い多層プリント基板を得ることができる。 According to the present invention, a multilayer printed board having high interlayer connection reliability can be obtained.
次に、本発明を具体化した各実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各実施形態の説明において同様の部位には同一の符号を付して重複した説明を省略する。 Next, embodiments embodying the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of each embodiment, similar parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(第1実施形態)
本発明の第1実施形態に係る多層プリント基板を図1乃至図5に基づいて説明する。
(First embodiment)
A multilayer printed circuit board according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図1は本発明の第1実施形態に係る多層プリント基板の一部の概略構成を示す断面図、図2は図1の一部を拡大した部分断面図である。図3乃至図5は多層プリント基板の製造方法を説明するための工程図である。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a part of a multilayer printed board according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial cross-sectional view enlarging a part of FIG. 3 to 5 are process diagrams for explaining a method of manufacturing a multilayer printed board.
図1に示す多層プリント基板10は、一例として6層の多層プリント基板に形成されている。この多層プリント基板10は、スルーホール11と、両面に形成された導体パターン12と、スルーホール11に導体パターン12と一体に導体13が充填形成された充填スルーホール14とを有する第1の樹脂フィルム15と、スルーホール21を有し、スルーホール21の内壁に導電スルーホール25が形成された両面に導体パターンの無い第2の樹脂フィルム22と、が交互に重ね合わされている。
A multilayer printed
各導電スルーホール25は、充填スルーホール14と同軸になる位置に形成されている。また、各導電スルーホール25の両ランド部25aは、図1および図4(D)に示すように、第1の樹脂フィルム15の導体パターン12と対向する位置まで延びている。
Each conductive through
また、多層プリント基板10では、導体パターン12と導電スルーホール25の両ランド部25aとの間にそれぞれ設けた導電体23が、導体パターン12および導電スルーホール25のランド部25aと金属間結合している。この導電体23は、導電スルーホール25の両ランド部25aにSnを含むめっき(Snめっき)をおこなってSnめっき層23A(図4(E)参照)を形成し、熱融着プレス時、もしくは、プレス後にSnめっき層23AのSnを溶融させたものである。これにより、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15,15間で対向する2つの導体パターン12,12が、導電体23および導電スルーホール25を介して電気的に接続されると共に機械的に結合されている。
In the multilayer printed
さらに、多層プリント基板10は、その両側にある樹脂フィルム15,15の一方の導体パターン12全体を覆うレジスト膜41と、その他方の導体パターン12全体を覆うレジスト膜42とを備えている。レジスト膜41,42には、導体パターン12の一部(電極となる箇所)を露出させるための貫通孔41a,42aがそれぞれ形成されている。
Further, the multilayer printed
第1の樹脂フィルム15、第2の樹脂フィルム22、およびレジスト膜41,42は、例えば同じフィルム基材で構成されている。フィルム基材は、一般的なガラス布基材エポキシ樹脂やBTレジンなどを用いてもよいが、融着プレスで複数枚接合させる観点からは、フィルム基材に熱可塑性樹脂を用いた方が好都合である。熱可塑性フィルムのなかでは、液晶ポリマーフィルム,PEEK(Polyetheretherketone),PES(Polyethersulfone),PPE(Polyphenyeneether),PTFE(Polytetrafluoroethylene)などがあげられる。また、熱可塑性ポリイミドを用いてもよい。
The
各第1の樹脂フィルム15の導体パターン12と充填スルーホール14は、一つの導体13に形成されている。この導体13は、図2に示すように、下地金属層13aと、下地金属層13a上に形成された導体層13bとを有する。導体パターン12は、各第1の樹脂フィルム15の両面にある導体13の導体層13bに形成されている。
The
以上の構成を有する多層プリント基板10は、3つの第1の樹脂フィルム15と2つの第2の樹脂フィルム22を図1に示すように交互に重ね合わせ、さらに、両側にレジスト膜41,42を配置した状態で、熱融着プレスによって作製される。この熱融着プレスにより、各第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12が充填スルーホール14を介して電気的に接続されると共に、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12が、導電体23および第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25を介して電気的に接続されかつ機械的に結合される。
In the multilayer printed
このように、多層プリント基板10では、スルーホール11に導体パターン12と一体に導体13が充填形成された第1の樹脂フィルム15の充填スルーホール14と、導電体23および第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25とを、層間接続に用いている。
As described above, in the multilayer printed
次に、上記構成を有する多層プリント基板10の製造方法を、図3乃至図5に基づいて説明する。
(1)まず、スルーホール11と、両面に形成された導体パターン12と、スルーホール11に導体パターン12と一体に導体13が充填形成された充填スルーホール14とを有する第1の樹脂フィルム15を作製する工程を実施する。
Next, a method for manufacturing the multilayer printed
(1) First, a
この工程では、まず、図3(A)に示す第1の樹脂フィルム15に、スルーホール11を穴あけ加工により形成する(図3(B)参照)。
In this step, first, a through
次に、図3(C)に示すように、第1の樹脂フィルム15の両面およびスルーホール11に、下地金属層13aとこの下地金属層13a上に形成された導体層13bとを有する導体13(図2参照)を形成する。ここで、導体13は、スルーホール11内に充填形成されている。図2に示す下地金属層13aは無電解めっき処理により形成する。また、導体層13bは電気めっき処理により形成する。
Next, as shown in FIG. 3C, the
次に、導体13のうち、第1の樹脂フィルム15の両面にある導体13の導体層13b(図2参照)に、導体パターン12を、フォトエッチングなどにより形成する(図3(D)参照)。
Next, the
(2)次に、スルーホール21を有し、スルーホール21の内壁に導電スルーホール25が形成された両面に導体パターンの無い第2の樹脂フィルム22を作製する工程を実施する。
(2) Next, the process of producing the
この工程では、図4(A)に示す第2の樹脂フィルム22に、スルーホール21を穴あけ加工により形成する(図4(B)参照)。
In this step, a through
次に、図4(C)に示すように、第2の樹脂フィルム22のスルーホール21の内壁に、導体24を形成する。この導体24は、図2に示す上記導体13と同様に、下地金属層13aとこの下地金属層13a上に形成された導体層13bとを有する構成が好ましい。
Next, as shown in FIG. 4C, the
次に、導体24にフォトエッチングなどを実施して導電スルーホール25を形成する(図4(D)参照)。
Next, photoconductive etching or the like is performed on the
(3)次に、第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25の内壁面の一部および両ランド部25a表面にSnめっき(Sn電気めっき)をおこなってSnめっき層23Aを形成する。(図4(E)参照)
Sn電気めっきは、メルテックス製ロナスタンEC−Jを添加剤に用いた。
(3) Next, Sn plating (Sn electroplating) is performed on a part of the inner wall surface of the conductive through
For Sn electroplating, Meltex Ronastan EC-J was used as an additive.
Sn電気めっき液
硫酸第一すず 40g/L
硫酸 100mL/L
添加剤 ロナスタンEC−J
温度 20℃
電流密度 2A/dm2
また、Snのみに限らず、Sn−Cu合金めっき(めっき浴:奥野製薬工業株式会社製トップフリードBRなど)でも構わない。Sn−Ag合金めっきでも構わない。
Sn electroplating solution
First tin sulfate 40g / L
Sulfuric acid 100mL / L
Additives Lonastan EC-J
Temperature 20 ° C
Current density 2A / dm 2
Moreover, not only Sn but Sn-Cu alloy plating (plating bath: Top Freed BR etc. by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) may be used. Sn-Ag alloy plating may be used.
また、Snめっきの方法は電気めっきに限らず、置換めっきでも構わない。その場合、両面の導体24をエッチング除去した後、下記のめっき液(3種類のいずれでも可)に浸し、銅表面を置換してSnを2ミクロン形成した。
置換めっき:
塩化第一すず 18.8g/L
シアン化ナトリウム 188 g/L
水酸化ナトリウム 22.5g/L
温度 常温
すず酸ナトリウム 60g/L
シアン化ナトリウム 120g/L
水酸化ナトリウム 7.5g/L
温度 21〜65℃
塩化第一すず 6g/L
チオ尿素 55g/L
酒石酸 39g/L
温度 12〜14℃
Further, the Sn plating method is not limited to electroplating, and displacement plating may be used. In that case, the
Displacement plating:
1st tin chloride 18.8g / L
Sodium cyanide 188 g / L
Sodium hydroxide 22.5g / L
Temperature
Sodium stannate 60g / L
Sodium cyanide 120g / L
Sodium hydroxide 7.5g / L
Temperature 21-65 ° C
1 st tin chloride 6g / L
Thiourea 55g / L
Tartaric acid 39g / L
Temperature 12-14 ° C
(4)次に、第1の樹脂フィルム15と第2の樹脂フィルム22とを交互に積み重ねる工程を実施する。
この工程では、レジスト膜42、第1の樹脂フィルム15、第2の樹脂フィルム22、およびレジスト膜41を、図5に示す順番に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる。これにより、図1に示す多層プリント基板10が完成する。熱融着プレスにより、各導体パターン12と導電スルーホール25の両ランド部25aとの間(第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25の内壁面の一部および両ランド部25a表面)にそれぞれ設けたSnめっき層23Aが溶融し、導体パターン12および導電スルーホール25と金属間結合した導電体(Snを含む金属)23となる。
(4) Next, a step of alternately stacking the
In this step, the resist
なお、Sn融点より低い温度で熱融着プレスをおこなった後、再度Sn融点以上に熱をかけてSnを溶融させ、金属間結合した導体を形成してもよい。 In addition, after performing the heat-fusing press at a temperature lower than the Sn melting point, heat may be applied again to the Sn melting point or higher to melt the Sn to form a metal-bonded conductor.
また、前述の工程では、第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25が、第1の樹脂フィルム15の充填スルーホール14と同軸上に形成した場合の例を示したが、必ずしも充填スルーホール14と導電スルーホール25が同軸上にある必要はない。第1の樹脂フィルム15の導体パターン12と第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25のランド部25aが任意の場所で導電体23によって金属間結合すれば良い。
Further, in the above-described process, an example in which the conductive through
以上のように構成された第1実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
○充填スルーホール14により第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12が電気的に接続されると共に、3つの第1の樹脂フィルム15のうちの隣接する2つの第1の樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12が導電体23および導電スルーホール25を介して電気的に接続される。このように、第1の樹脂フィルム15の充填スルーホール14と、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15、15間で対向する2つの導体パターン12,12と金属間結合した導電体23および導電スルーホール25とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12と充填スルーホール14は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。
According to 1st Embodiment comprised as mentioned above, there exist the following effects.
The
また、第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12と充填スルーホール14は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。従って、層間接続信頼性が高い多層プリント基板10を得ることができる。
Moreover, since the
○導体パターン12と充填スルーホール14とが形成される一つの導体13を、下地金属層13aと導体層13bを有する2層構造にすることで、導体層13bの第1の樹脂フィルム15との密着性が良くなるので、層間接続信頼性がさらに向上する。
A
○下地金属層13aは無電解めっきにより形成するので、導体パターン12と充填スルーホール14の導体厚を薄くすることができる。これにより、微細な導体パターン12を形成することができる。
Since the
○導体パターン12と充填スルーホール14は同時に形成するため、接続信頼性が高く、かつ、導体パターン12と充填スルーホール14の導体厚が均一になる。
○ Since the
○第1の樹脂フィルム15および第2の樹脂フィルム22は熱融着プレスなどにより重ね合わされるが、この際に、各第1の樹脂フィルム15の充填スルーホール14が厚さ方向(図1で上下方向)の柱として支えになるため、熱融着プレス時の厚さばらつきを無くすことができる。
The
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る多層プリント基板10Aを図6乃至図8に基づいて説明する。
(Second Embodiment)
Next, a multilayer printed
上記第1実施形態の多層プリント基板10では、導体パターン12および導電スルーホール25と金属間結合している導電体23が、Snめっき層23AのSnを溶融させたものである。
In the multilayer printed
これに対して、第2実施形態に係る多層プリント基板10Aでは、導体パターン12および導電スルーホール25と金属間結合している導電体33(図6参照)は、導電ペースト33A(図7(E)参照)が硬化されたものである。これにより、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12が、導電体33および導電スルーホール25を介して電気的に接続されると共に機械的に結合されている。つまり、この多層プリント基板10Aでは、第1の樹脂フィルム15におけるスルーホール11に導体パターン12と一体に充填形成された充填スルーホール14と、導電体33および第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25とを、層間接続に用いている。多層プリント基板10Aのその他の構成は、第1実施形態の多層プリント基板10と同様である。
On the other hand, in the multilayer printed
次に、多層プリント基板10Aの製造方法を、図7および図8に基づいて説明する。
この場合の工程は、図4(A)乃至(D)に示す上記(1)、(2)の工程を実施した後(図7(A)乃至(D)参照)、上記(3),(4)の工程を以下の工程(3A),(4A)で置き換えたものとなる。
Next, a method for manufacturing the multilayer printed
In this case, the steps (1) and (2) shown in FIGS. 4A to 4D are performed (see FIGS. 7A to 7D), and then the steps (3) and (D) are performed. The step 4) is replaced with the following steps (3A) and (4A).
(3A)導電ペースト33Aを、導体パターン12と導電スルーホール25の両ランド部25aとの間にそれぞれ介在させる(図7(E)参照)。本例では、各第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25の両ランド部25a表面上に導電ペースト33Aを塗布させる。
(3A) The
(4A)次に、第1の樹脂フィルム15と第2の樹脂フィルム22とを交互に積み重ねる工程を実施する。
(4A) Next, a step of alternately stacking the
この工程では、レジスト膜42、第1の樹脂フィルム15、第2の樹脂フィルム22、およびレジスト膜41を、図8に示す順番に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる。これにより、図1に示す多層プリント基板10Aが完成する。熱融着プレスにより、各導体パターン12と導電スルーホール25の両ランド部25aとの間にそれぞれ設けた導電ペースト33Aが硬化して導電体33となり、この導電体33が、導体パターン12および導電スルーホール25の両ランド部25aと金属間結合する。
In this step, the resist
このようにして作製された多層プリント基板10Aでは、各第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12が充填スルーホール14を介して電気的に接続されると共に、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12が、導電体33および第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25を介して電気的に接続されかつ機械的に結合される。
In the multilayer printed
以上の構成を有する第2実施形態によれば、以下の作用効果を奏する。
○充填スルーホール14により第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12が電気的に接続されると共に、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12が導電体23および導電スルーホール25を介して電気的かつ機械的に接続される。このように、第1の樹脂フィルム15の充填スルーホール14と、隣接する2つの第1の樹脂フィルム15間で対向する2つの導体パターン12と金属間結合した導電体23および導電スルーホール25とを、層間接続に用いる構成であるため、層間接続信頼性が高い。また、第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12と充填スルーホール14は一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。
According to 2nd Embodiment which has the above structure, there exist the following effects.
The
また、第1の樹脂フィルム15両面の導体パターン12と充填スルーホール14とは一体に形成されているので、層間接続信頼性が高い。従って、層間接続信頼性が高い多層プリント基板10Aを得ることができる。
Moreover, since the
○導体パターン12と充填スルーホール14とが形成される一つの導体13を、下地金属層13aと導体層13bを有する2層構造にすることで、導体層13bの樹脂フィルムとの密着性が良くなるので、層間接続信頼性がさらに向上する。
○ Adhesiveness of the
○下地金属層13aは無電解めっきにより形成するので、導体パターン12と充填スルーホール14の導体厚を薄くすることができる。これにより、微細な導体パターン12を形成することができる。
Since the
○導体パターン12と充填スルーホール14は同時に形成するため、接続信頼性が高く、かつ、導体パターン12と充填スルーホール14の導体厚が均一になる。
○ Since the
○第1の樹脂フィルム15および第2の樹脂フィルム22は熱融着プレスなどにより重ね合わされるが、この際に、各第1の樹脂フィルム15の充填スルーホール14が厚さ方向の柱として支えになるため、熱融着プレス時の厚さばらつきを無くすことができる。
(実施例)
<多層プリント基板の製造方法>
下記の表1に示す実施例1〜3は、上記第1実施形態に係る多層プリント基板10の実施例である。実施例4〜6は、上記第2実施形態に係る多層プリント基板10Aにおいて、導電ペースト33Aとして、Agペーストを用いた実施例である。また、実施例7〜9は、上記第2実施形態に係る多層プリント基板10Aにおいて、導電ペースト33Aとして、AgSnペーストを用いた実施例である。
The
(Example)
<Manufacturing method of multilayer printed circuit board>
Examples 1 to 3 shown in Table 1 below are examples of the multilayer printed
次に、レジスト膜42、第1の樹脂フィルム15、第2の樹脂フィルム22、およびレジスト膜41を、図5に示す順番に積み重ね、一括熱融着プレスを行った。
Next, the resist
プレス温度は150〜350℃の範囲、プレス圧力0.5〜10MPaの範囲で行った。上記の表1に示す実施例1では280℃にて1MPaのプレスにより、ランド部25a上にめっきされたSnを溶融させて導電体33とし、この導電体33を隣接する2つの第1の樹脂フィルム間で対向する2つの導体パターン12と導電スルーホール25とに金属間結合させ、電気的な接続をとった。
The pressing temperature was in the range of 150 to 350 ° C. and the pressing pressure in the range of 0.5 to 10 MPa. In Example 1 shown in Table 1 above, Sn plated on the
実施例2では、フィルム基材として、厚さ50μmの液晶ポリマーフィルム(ジャパンゴアテックス株式会社製のBIAC(登録商標) BC)を用いた。 In Example 2, a liquid crystal polymer film (BIAC (registered trademark) BC manufactured by Japan Gore-Tex Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used as the film substrate.
実施例3では、フィルム基材として、厚さ50μmのPEEK/PEI(三菱樹脂株式会社製IBUKI(登録商標))を用いた。プレス圧力、プレス温度は表1に示す条件で熱融着をおこなった。 In Example 3, PEEK / PEI (IBUKI (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 50 μm was used as the film substrate. The press pressure and the press temperature were heat-sealed under the conditions shown in Table 1.
実施例4〜6は、表1に示すフィルム基材、プレス条件で多層プリント基板10Aを作製した。第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25と第1の樹脂フィルム15の導体パターン12との電気的接続には、導電ペースト33AとしてAgペーストを用いた。導電ペースト33Aを、スクリーン印刷にて塗布し、熱融着プレスにより、導電ペースト33Aを硬化させ、各導電ペースト33Aが硬化した導電体33(図6参照)を、導体パターン12および導電スルーホール25と金属間結合させた。導電ペースト33AはAgペーストとして、藤倉化成のドータイトXA−824を用いた。プレス条件は表1に示す。
In Examples 4 to 6, a multilayer printed
実施例7〜9は、表1に示すフィルム基材、プレス条件で多層プリント基板10Aを作製した。第2の樹脂フィルム22の導電スルーホール25と第1の樹脂フィルム15の導体パターン12との電気的接続には、導電ペースト33AとしてAgSnペーストを用いた。ペーストの詳細は、特許第3473601号公報の段落0075に記載のものを用いた。実施例4〜6と同様にして多層プリント基板10Aを作製した。
各実施例1〜9では、炭酸ガスレーザによりスルーホール11を形成した。
In Examples 7 to 9, a multilayer printed
In each Example 1-9, the through
スルーホール11は、炭酸ガスレーザだけでなく、小径ではUV-YAGレーザを用いてもよく、エキシマレーザを用いても良い。また、機械ドリルでスルーホール11を加工してもよい。
フィルム粗面化・デスミア:
穴あけ加工した第1の樹脂フィルム15を強アルカリに浸して表面を溶解し粗面化した。
The through-
Film roughening / desmear:
The drilled
10規定の水酸化カリウム溶液に80℃で15〜30分間浸して、表面に凹凸を形成した。同時に、スルーホール11形成時に発生した樹脂スミアを溶解除去し、スルーホール11内壁表面も粗面化した。
Irregularities were formed on the surface by dipping in a 10 N potassium hydroxide solution at 80 ° C. for 15 to 30 minutes. At the same time, the resin smear generated during the formation of the through
無電解めっきにより、第1の樹脂フィルム15表面に下地めっき(下地金属層13a)としてNi−Pをめっきした。
Ni-P was plated on the surface of the
コンディショナー処理、ニッケルリン合金の無電解めっき処理、熱処理、銅の電気めっき処理の各処理を順に施してフィルム金属張積層体を製造した。
無電解めっき:
コンディショナー処理は、奥野製薬工業株式会社製のOPC−350コンディショナーにより、高分子フィルムの表面を洗浄した。ここで、パラジウムを含む触媒付与液として奥野製薬工業株式会社製のOPC−80キャタリスト、活性化剤としてOPC−500アクセラレーターを用いた。
A film metal-clad laminate was manufactured by sequentially performing a conditioner treatment, a nickel-phosphorous alloy electroless plating treatment, a heat treatment, and a copper electroplating treatment.
Electroless plating:
In the conditioner treatment, the surface of the polymer film was washed with an OPC-350 conditioner manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. Here, an OPC-80 catalyst manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd. was used as a catalyst-providing liquid containing palladium, and an OPC-500 accelerator was used as an activator.
ニッケル合金の無電解めっき処理は、第1の樹脂フィルム15両面にニッケル(Ni)−リン(P)めっきを行った。リン濃度5%以下のものとして、市販のニッケル−リンめっき液から選定した。奥野製薬工業株式会社の化学ニッケルEXCを用い、Niめっき厚を0.2ミクロン厚形成した。
In the electroless plating treatment of the nickel alloy, nickel (Ni) -phosphorus (P) plating was performed on both surfaces of the
めっき液はこれに限定するものではなく、株式会社メルデックスのエンプレートNI−426、奥野製薬工業株式会社のトップニコロンLPH−LFなどを用いても良い。 The plating solution is not limited to this, and Enplate NI-426 manufactured by Meldex Co., Ltd., Top Nicolo LPH-LF manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd., or the like may be used.
銅めっき前に密着性を向上させるため、熱処理を行っても良い。230〜250℃の温度にて、30秒〜30分の加熱を行った。本実施例では、240℃、3分の加熱を施した。
銅電気めっき:
さらに銅電気めっきを行い、導体13の導体層13bを1〜10ミクロン厚に形成した。銅(Cu)の電気めっき処理は、導体層13bの導体厚が5ミクロンになるように銅を形成した。銅電気めっき液は下記を用いた。尚、スルーホールフィリング用添加剤として、荏原ユージライト株式会社製のキューブライトTFIIを使用した。
硫酸銅 120 g/L
硫酸 150 g/L
濃塩酸 0.125mL/L(塩素イオンとして)
In order to improve adhesion before copper plating, heat treatment may be performed. Heating was performed at a temperature of 230 to 250 ° C. for 30 seconds to 30 minutes. In this example, heating was performed at 240 ° C. for 3 minutes.
Copper electroplating:
Further, copper electroplating was performed to form a
Copper sulfate 120 g / L
Sulfuric acid 150 g / L
Concentrated hydrochloric acid 0.125mL / L (as chloride ion)
導体パターン12の作製:
各実施例1〜9では、導体パターン12は、サブトラクティブ法で第1の樹脂フィルム15の両面(導体13の導体層13b)に回路を形成した。感光レジストを塗布し、紫外線にて露光し、現像を行った。次に、エッチング工程を行い、導体パターンを形成した後、レジストを剥離した。なお、さらに微細な回路形成には、電気銅めっき厚(導体厚)を2〜3ミクロン厚にして、めっきレジストを形成してから導体パターン部に電気銅めっきを行うセミアディティブ法を用いても構わない。
Production of conductor pattern 12:
In each Example 1-9, the
上記実施例4〜9では、各導電スルーホール25の両ランド部25a上に導電ペースト33Aを、スクリーン印刷にて塗布した。
In the above Examples 4 to 9, the
次に、レジスト膜42、第1の樹脂フィルム15、第2の樹脂フィルム22、およびレジスト膜41を、図5に示す順番に積み重ね、一括熱融着プレスを行った。
Next, the resist
プレス温度は150〜350℃の範囲、プレス圧力0.5〜10MPaの範囲で行った。このプレスにより、各導電ペースト33Aを硬化させ、各導電ペースト33Aが硬化した導電体33が、導体パターンおよび導電スルーホールと金属間結合している。
The pressing temperature was in the range of 150 to 350 ° C. and the pressing pressure in the range of 0.5 to 10 MPa. By this pressing, the respective
この導電体33と樹脂フィルム15の導体パターン12とを電気的に接続させた。導電ペースト33AはAgペーストとして、藤倉化成のドータイトXA−824を用いた。また、導電ペースト33AはAgSnペーストを用いた。ペーストの詳細は、特許第3473601号公報の段落0075に記載のものを用いた。
This
実施例2では、フィルム基材として、厚さ50μmの液晶ポリマーフィルム(株式会社クラレ製のVecstar(登録商標)CT−50N)を用いた。 In Example 2, a liquid crystal polymer film (Vecstar (registered trademark) CT-50N manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a thickness of 50 μm was used as a film substrate.
実施例3では、フィルム基材として、厚さ50μmのPEEK/PEI(三菱樹脂株式会社製IBUKI(登録商標))を用いた。 In Example 3, PEEK / PEI (IBUKI (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) having a thickness of 50 μm was used as the film substrate.
実施例4,5,7および8では、実施例2と同様のフィルム基材を用いた。
実施例6,9では、実施例3と同様のフィルム基材を用いた。
In Examples 4, 5, 7 and 8, the same film substrate as in Example 2 was used.
In Examples 6 and 9, the same film substrate as in Example 3 was used.
なお、実施例2〜9では、多層プリント基板は実施例1と同様にして作製し、プレス圧力、温度は表1による条件でおこなった。
(比較例)
比較例1〜6として、銅箔とフィルムを張り合わせた片面積層板、および、両面積層板を用い、層間接続には、フィルムに形成したブラインドビアホールに導電ペーストを充填したものを熱融着プレスして多層基板を作製した。条件を下記の表2に示す。
In Examples 2 to 9, multilayer printed circuit boards were produced in the same manner as in Example 1, and the press pressure and temperature were performed under the conditions shown in Table 1.
(Comparative example)
As Comparative Examples 1-6, a single-area layer plate laminated with a copper foil and a film and a double-sided laminated plate were used. For interlayer connection, a blind via hole formed in a film was filled with a conductive paste by heat fusion pressing. A multilayer substrate was prepared. The conditions are shown in Table 2 below.
導電ペーストをフィルムのビアホールにスクリーン印刷法にて塗布した。
導電ペーストを埋め込んだフィルムを融着したものを複数枚重ね合わせ、一括熱融着プレスをおこなった。プレス温度は230〜350℃の範囲、プレス圧力0.5〜10MPaの範囲でおこなった。このプレスにおいて、フィルム同士を融着することと、フィルムのビアホールに充填した導電ペーストを硬化させ、導電ペーストとフィルムの導体パターンとを電気的に接続させた。導電ペーストはAgペーストとして、藤倉化成のドータイトXA−824を用いた。また、導電ペーストはAgSnペーストを用いた。ペーストの詳細は、特許3473601号公報の段落0075に記載のものを用いた。
The conductive paste was applied to the via hole of the film by a screen printing method.
A plurality of films fused with conductive paste embedded were superposed and batch heat fusion press was performed. The press temperature was in the range of 230 to 350 ° C. and the press pressure in the range of 0.5 to 10 MPa. In this press, the films were fused together, the conductive paste filled in the via holes of the film was cured, and the conductive paste and the conductive pattern of the film were electrically connected. As the conductive paste, Dokuratite XA-824 made by Fujikura Kasei was used as the Ag paste. Moreover, AgSn paste was used as the conductive paste. For the details of the paste, the one described in paragraph 0075 of Japanese Patent No. 3473601 was used.
接続信頼性の比較:
JIS C 5012の付図2.1のLに準じる導体パターンの6層基板を作製した。ただし層間接続部の穴径100ミクロンとし、ランド径は0.5mm、配線幅は0.3mmとし、スルーホールの間隔は7.62mmとした。比較例では、本発明と同じスルーホールの位置に100ミクロン径のビアホールを作製し導電ペーストを充填した。本発明では、JIS C 5012の9.1.3記載条件1に該当する温度サイクル試験を実施し、層間接続信頼性について調査した。初期抵抗に対し20%以上抵抗値が増加した時点で接続不良とみなした。
Connection reliability comparison:
A six-layer substrate having a conductor pattern according to L in Fig. 2.1 of JIS C 5012 was produced. However, the hole diameter of the interlayer connection portion was 100 microns, the land diameter was 0.5 mm, the wiring width was 0.3 mm, and the interval between the through holes was 7.62 mm. In the comparative example, a via hole having a diameter of 100 microns was formed at the same position of the through hole as in the present invention and filled with a conductive paste. In the present invention, a temperature cycle test corresponding to 9.1.3
上記各実施例によれば、次のような効果が得られた。
融着プレス後のプレス厚さ変形量が小さい。
スルーホールの接続信頼性が高い。
なお、この発明は以下のように変更して具体化することもできる。
According to each of the above embodiments, the following effects were obtained.
The deformation amount of the press thickness after the fusion press is small.
Through hole connection reliability is high.
In addition, this invention can also be changed and embodied as follows.
・上記各実施形態において、樹脂フィルム15の積層数は「3」に限らず、本発明は、樹脂フィルム15を複数枚重ね合わせた多層プリント基板に広く適用可能である。
In each of the above embodiments, the number of
・上記各実施形態において、複数の樹脂フィルム15のうちの隣接する2つの樹脂フィルム間にそれぞれ設けられ、対向する2つの導体パターン12,12を電気的に接続しかつ機械的に結合する第2の導体である導電ペーストに代えて、金属粉を用いてもよい。
In each of the above-described embodiments, the second is provided between two adjacent resin films of the plurality of
10,10A:多層プリント基板
11:スルーホール
12:導体パターン
13:導体
13a:下地金属層
13b:導体層
14:充填スルーホール
15:第1の樹脂フィルム
21:スルーホール
22:第2の樹脂フィルム
23,33:導電体
23A:Snめっき層
33A:導電ペースト
25:導電スルーホール
25a:導電スルーホールのランド部
41,42:レジスト膜
41a,42a:貫通孔
10, 10A: Multilayer printed circuit board 11: Through hole 12: Conductor pattern 13:
Claims (14)
スルーホールの内壁に導体が形成され内部が導体で充填されていない導電スルーホールを有して両面に導体パターンを有さない第2の樹脂フィルムと、が交互に重ね合わされており、
前記導体パターンと前記導電スルーホールの両ランド部との間にそれぞれ設けた導電体が、前記導体パターンおよび前記導電スルーホールと金属間結合していることを特徴とする多層プリント基板。 A plurality of first resin films each having a through hole, a conductor pattern formed on both sides, and a filled through hole in which the conductor is integrally filled with the conductor pattern in the through hole;
A second resin film having a conductive through hole not formed with a conductor formed on the inner wall of the through hole and not filled with a conductor and having no conductor pattern on both sides is alternately stacked.
A multilayer printed circuit board, wherein conductors provided between the conductor pattern and both land portions of the conductive through hole are metal-coupled to the conductive pattern and the conductive through hole.
スルーホールの内壁に導体が形成され内部が導体で充填されていない導電スルーホールを有して両面に導体パターンを有さない第2の樹脂フィルムを作製し、前記導電スルーホールの両ランド部表面と前記導電スルーホールの内壁とのうち少なくとも前記両ランド部表面にSnを含むめっきを施す工程と、
前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとを交互に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、
を備えることを特徴とする多層プリント基板の製造方法。 Producing a first resin film having a through hole, a conductor pattern formed on both surfaces, and a filled through hole in which the conductor is integrally filled with the conductor pattern in the through hole;
A second resin film having a conductive through hole in which a conductor is formed on the inner wall of the through hole and the inside is not filled with a conductor and no conductive pattern on both sides is produced, and the surfaces of both land portions of the conductive through hole And a step of performing plating containing Sn on the surfaces of both land portions of the inner wall of the conductive through hole, and
Alternately stacking the first resin film and the second resin film, and stacking these laminates by a heat fusion press;
A method for producing a multilayer printed circuit board, comprising:
スルーホールの内壁に導体が形成され内部が導体で充填されていない導電スルーホールを有して両面に導体パターンを有さない第2の樹脂フィルムを作製する工程と、
導電ペースト或いは金属粉を、前記導体パターンと前記導電スルーホールの両ランド部との間にそれぞれ介在させて、前記第1の樹脂フィルムと前記第2の樹脂フィルムとを交互に積み重ね、これらの積層体を熱融着プレスにより重ね合わせる工程と、
を備えることを特徴とする多層プリント基板の製造方法。 Producing a first resin film having a through hole, a conductor pattern formed on both surfaces, and a filled through hole in which the conductor is integrally filled with the conductor pattern in the through hole;
Producing a second resin film having a conductive through hole in which a conductor is formed on the inner wall of the through hole and the inside is not filled with a conductor and having no conductor pattern on both sides;
Conductive paste or metal powder is interposed between the conductor pattern and the land portions of the conductive through hole, respectively, and the first resin film and the second resin film are alternately stacked, and these layers are stacked. A process of superimposing the bodies by a heat fusion press;
A method for producing a multilayer printed circuit board, comprising:
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