JP5153339B2 - 紫外線吸収安定剤の組合せ - Google Patents
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Description
該組成物は、ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物との約4:1ないし約1:4の質量:質量比での紫外線吸収剤混合物を含む。
該組成物は、ポリマー状基材及び
該基材に配合されたか又は該基材に塗布された有効安定化量の、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールと2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノンとの約4:1ないし約1:4の質量:質量比での紫外線吸収剤混合物を含む。
2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノン、CAS番号1843−05−6は、例えば米国特許第5,629,453号明細書に記載されるように調製し得、その関連した開示は参照することによりここに組み込まれる。
ハロゲン含有ポリマーの例は、以下に与えられる。
例えば、ハロゲン含有ポリマーは、ポリ塩化ビニル又はポリビニルブチロール、塩化ビニル/塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル/酢酸ビニルのようなコポリマー、又はPVC/EVA、ASA/PVC、PVC/ABS、PVC/MBS、PVC/CPE又はPV
C/アクリレートのようなブレンドである。
特にポリマー状基材は、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチロール、塩化ビニル/塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル/酢酸ビニルのコポリマー、又はPVC/EVA、ASA/PVC、PVC/MBS、PVC/CPE又はPVC/アクリレートのブレンドである。
本発明の他の態様において、ポリマー状基材は、ポリアクリレート及びアクリレート含有コポリマー又は不飽和のポリエステルを含む。
ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール:ヒドロキシベンゾフェノンの質量:質量比は、約4:1ないし約1:4である。例えば、質量:質量比は、約3:1ないし約1:3、又は約2:1ないし約1:2である。例えば、質量:質量比は、約4:1、約3:1、約2:1、約1:1、約1:2、約1:3又は約1:4である。
紫外線吸収剤の組み合わせは、ポリマー状基材に安定化を与えることに関して相乗的である。
H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第二ブチル−5−第三ブチル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ジ−第三アミル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3,5−ビス−α−クミル−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−((−ヒドロキシ−オクタ−(エチレンオキシ)カルボニル−エチル)−,フェニル
)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−ドデシル−2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−オクチルオキシカルボニル)エチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、ドデシル化2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−5−(2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル)−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−5−(2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル)−2−ヒドロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル−2H−ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−ビス(4−第三オクチル−(6−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)フェノール)、2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3−第三オクチル−5−α−クミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−フルオロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−α−クミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−α−クミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−クロロ−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、2−(3−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール、5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、メチル3−(5−トリフルオロメチル−2H−ベンゾトリアゾリ−2−イル)−5−第三ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート、5−ブチルスルホニル−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三オクチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3−α−クミル−5−第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−トリフルオロメチル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−α−クミルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、5−ブチルスルホニル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール及び5−フェニルスルホニル−2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールである。
1. モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−1−エン、ポリ−4−メチルペンテ−1−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンの、ポリマー、ポリエチレン(所望により架橋し得る)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度高分子量ポリエチレン(HDPE−HMW)、高密度超高分子量ポリエチレン(HDPE−UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)、(VLDPE)及び(ULDPE)。
ポリオレフィン、即ち前段落において例示されたモノオレフィンのポリマー、好ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法、そして特に下記の方法により調製されることができる:
a)ラジカル重合(普通、高圧下及び高温で)。
b)普通、周期表のIVb、Vb、VIb又はVIII族の一つ以上の金属を含有する触媒を使用する触媒重合。これらの金属は通常、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又はアリールのような一つ以上の配位子を有する。これらの金属錯体は遊離形態又は、典型的には活性化された塩化マグネシウム、塩化チタン(III)、アルミナ又は酸化ケイ素のような基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用されることができ、又は典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、該金属は周期表のIa、IIa及び/又はIIIa族の元素であるさらなる活性化剤が使用され得る。該活性化剤は、さらなるエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダード・オイル・インディアナ、チグラー(−ナッタ)、TNZ(デュポン)、メタロセン又はシングルサイト触媒(SSC)と命名されている。
3. モノオレフィン及びジオレフィンの相互又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLDPE)及び低密度ポリエチレン(LDPE)とのそれらの混合物、プロピレン/ブテ−1−エンコポリマー、プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/ブテ−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、エチレン/ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン/シクロオレフィンコポリマー(例えば、COCのようなエチレン/ノルボルネン)、エチレン/1−オレフィンコポリマーであって1−オレフィンがその場で生成されるもの;プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イソプレンコポリマー、エチレン/ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレートコポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン/酢酸ビニルコポリマー又はエチレン/アクリル酸コポリマー及びそれらの塩(アイオノマー)並びにエチレンとプロピレン及び、へキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー;及びそのようなコポリマー相互及び1)において上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレンコポリマー、LDPE/エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)、LDPE/エチレン−アクリル酸コポリマー(EAA)、LLDPE/EVA、LLDPE/EAA及び交互又はランダムのポリアルキレン/一酸化炭素コポリマー及びその他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
ば粘着付与剤)を含むもの、及びポリアルキレンとデンプンの混合物。
1.)ないし4.)からのホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有することができ;アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
5. ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ(α−メチルスチレン)。
6a. 上述のビニル芳香族モノマーと、エチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、無水マレイン酸、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニルより選択されたコモノマーを含むコポリマー又はそれらのアクリル誘導体及び混合物、例えばスチレン/ブタジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/エチレン(インターポリマー)、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキルアクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキルメタクリレート、スチレン/無水マレイン酸、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート、スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマー又はエチレン/プロピレン/ジエンターポリマーとの高衝撃強度性の混合物;及びスチレン/ブタジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレン/エチレン/ブチレン/スチレン又はスチレン/エチレン/プロピレン/スチレンのようなスチレンのブロックコポリマー。
6b. 6.)で述べたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー、特にアタクチックポリスチレンを水素化することにより調製されたポリシクロヘキシルエチレン(PCHE)であって、しばしばポリビニルシクロヘキサン(PVCH)として言及されるものを含む。
6c. 6a.)で述べたポリマーの水素化から誘導された水素化芳香族ポリマー。
ホモポリマー及びコポリマーは、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミ−アイソタクチック又はアタクチックを含むあらゆる立体構造を有することができ;アタクチックポリマーが好ましい。ステレオブロックポリマーもまた含まれる。
8. ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化及び臭素化コポリマー(ハロブチルゴム)、塩素化又はスルホ塩素化ポ
リエチレン、エチレン及び塩素化エチレンのコポリマー、CPE(塩素化ポリエチレン)、エピクロロヒドリンホモ−及びコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチロール、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びに塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニル/酢酸ビニル又は塩化ビニリデン/酢酸ビニルコポリマーのようなそれらのコポリマー。
10. 9)で述べたモノマーの相互又は他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキシアルキルアクリレート又はアクリロニトリル/ビニルハライドコポリマー又はアクリロニトリル/アルキルメタクリレート/ブタジエンターポリマー。
11. 不飽和アルコールとアミンとから誘導されたポリマー又はそれらのアシル誘導体もしくはそれらのアセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラル、ポリアリルフタレート又はポリアリルメラミン、並びに1)において上述したオレフィンとのそれらのコポリマー。
12. 環式エーテルのホモポリマー及びコポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、又はビスグリシジルエーテルとのそれらのコポリマー。
14. ポリフェニレンオキシド及びスルフィド、及びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマー又はポリアミドとの混合物。
15. 一方の成分としてのヒドロキシル末端のポリエーテル、ポリエステル又はポリブタジエンと、他方の成分としての脂肪族又は芳香族ポリイソシアナートとから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
16. ジアミシとジカルボン酸とから及び/又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド4、ポリアミド6、ポリアミド6/6、6/10、6/9、6/12、4/6、12/12、ポリアミド11、ポリアミド12、m−キシレンジアミン及びアジピン酸から出発した芳香族ポリアミド;へキサメチレンジアミン及びイソフタル酸又は/及びテレフタル酸から変性剤としてのエラストマーを伴って又は伴わずに調製されたポリアミド、例えばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−m−フェニレンイソフタルアミド;及びまた上述されたポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合もしくはグラフト化したエラストマーとの、又はポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー、並びにEPDM又はABSで変性されたポリアミド又はコポリアミド、及び加工の間に縮合したポリアミド(RIMポリアミド系)。
18. ジカルボン酸とジオールとから及び/又はヒドロキシカルボン酸又は対応するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート(PAN)及びポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル末
端のポリエーテルから誘導されたブロックコポリエーテルエステル、及びまたポリカーボネート又はMBSで変性したポリエステル。
19. ポリカーボネート及びポリエステルカーボネート。
20. ポリケトン。
21. ポリスルホン、ポリエーテルスルホン及びポリエーテルケトン。
22. 一方の成分としてアルデヒドと、他方の成分としてフェノール、尿素及びメラミンから誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹脂、尿素/ホルムアルデヒド樹脂及びメラミン/ホルムアルデヒド樹脂。
23. 乾式及び非乾式アルキド樹脂。
25. 置換アクリレートから誘導された架橋可能なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレート。
26. メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネート又はエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリレート樹脂。
27.脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式又は芳香族グリシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例えば、ビスフェノールA及びビスフェノールFのジグリシジルエーテルの生成物であって、無水物又はアミンのような慣用の硬化剤と促進剤を伴って又は伴わずに架橋されたもの。
29. 上述したポリマーのブレンド(ポリブレンド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDM又はABS、PVC/EVA、PVC/ABS、ASA/PVC、PVC/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/ASA、PC/PBT、PVC/CPE、PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PUR、PC/熱可塑性PUR、POM/アクリレート、POM/MBS、PPO/HIPS、PPO/PA6.6及びコポリマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、PBT/PC/ABS又はPBT/PET/PC。
1.1.アルキル化モノフェノール、例えば、2,6−ジ第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−エチ
ルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノ−ル、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール、直鎖状または側鎖で分岐鎖状であるノニルフェノール、例えば、2,6−ジノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1−メチルウンデシ−1−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1−メチルヘプタデシ−1−イル)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1−メチルトリデシ−1−イル)フェノールおよびそれらの混合物。
1.2.アルキルチオメチルフェノール、例えば、2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェノール、2,6−ジドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール。
1.3.ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、2,6−ジ第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三アミルヒドロキノン、2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、2,6−ジ第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート。
1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(3,6−ジ第二アミルフェノール)、4,4’−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
1.6.アルキリデンビスフェノール、例えば、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール]、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、2,2’−メチレンビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ第三ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル−フェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3’−第三ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−第三
ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
1.8.ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−2−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート。
1.9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。
1.11.ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−2,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
1.12.アシルアミノフェノール、例えば、4−ヒドロキシラウリン酸アニリド、4−ヒドロキシステアリン酸アニリド、2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−s−トリアジン及びオクチル−N−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−カルバメート。
1.14.β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例:メタノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
1.16.3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールとのエステル、アルコールの例:メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
1.17.β−(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド、例えば、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミド、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミド、N,N’−ビス(3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジド、N,N’−ビス[2−(3−[3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオニルオキシ)エチル]オキサミド〔ユニロイヤル(Uniroyal)社から提供されるナウガード(登録商標:Naugard) XL−1〕。
1.18.アスコルビン酸(ビタミンC)
ルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばp,p’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドデカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(4−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ第三ブチル−4−ジメチルアミノメチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス[4−(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]アミン、第三オクチル化N−フェニル−1−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル/第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル/第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブテ−2−エン、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−イル)セバケート、2,2,6,6−テトラメチルピペリジノ−4−オン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジノ−4−オール。
2.1.置換および非置換安息香酸のエステル、例えば、4−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ第三ブチルフェニル3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
2.2.アクリレートおよびマロネート、例えば、α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル又はイソオクチルエステル、α−カルボメトキシ−桂皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−p−メトキシ−桂皮酸メチルエステル、N−(β−カルボメトキシ−β−シアノビニル)−2−メチル−インドリン、サンデュボア(登録商標:Sanduvor)PR25、ジメチルp−メトキシベンジリデンマロネート(CAS番号7443−25−6)、及びサンデュボア(登録商標:Sanduvor)PR31、ジ−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジニ−4−イル)p−メトキシベンジリデンマロネート(CAS番号147783−69−5)。
2.3.ニッケル化合物、例えば、2,2’−チオビス[4−(1,1,3,3−テトラ
メチルブチル)フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1または1:2錯体であって、n−ブチルアミン、トリエタノールアミンもしくはN−シクロヘキシルジエタノールアミンのような付加的な配位子を伴うものまたは伴わないもの、ニッケルジブチルジチオカルバメート;モノアルキルエステル、例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩;ケトキシム、例えば2−ヒドロキシ−4−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、付加的な配位子を伴うものまたは伴わないもの。
、7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ[4.5]デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、1,1−ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジルオキシカルボニル)−2−(4−メトキシフェニル)エテン、N,N’−ビスホルミル−N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミン、4−メトキシメチレンマロン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ[メチルプロピル−3−オキシ−4−(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)]シロキサン、無水マレイン酸−α−オレフィンコポリマーと2,2,6,6−テトラメチル−4−アミノピペリジンまたは1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−アミノピペリジンとの反応生成物。
立体障害性アミンは、欧州特許第782994号明細書に記載される化合物の1つ、例えばその請求項10もしくは38、又は実施例1−12もしくはD−1ないしD−5に記載されるような化合物でもあり得る。
N−[1−(2−ヒドロキシ−2−メチルプロポキシ)−2,2,6,6−テトラメチル
ピペラジニ−4−イル]−N−ブチルアミノ]−6−(2−ヒドロキシエチルアミノ)−s−トリアジンのような化合物。
2.6.オキサミド、例えば、4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ第三ブトキサニリド、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エトキサニリドおよび該化合物と2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ第三ブトキサニリドとの混合物、o−およびp−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物ならびにo−およびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
6/28431号パンフレット及び米国特許第3,843,371号明細書;米国特許第4,619,956号明細書;米国特許第4,740,542号明細書;米国特許第5,096,489号明細書;米国特許第5,106,891号明細書;米国特許第5,298,067号明細書;米国特許第5,300,414号明細書;米国特許第5,354,794号明細書;米国特許第5,461,151号明細書;米国特許第5,476,937号明細書;米国特許第5,489,503号明細書;米国特許第5,543,518号明細書;米国特許第5,556,973号明細書;米国特許第5,597,854号明細書;米国特許第5,681,955号明細書;米国特許第5,726,309号明細書;米国特許第5,736,597号明細書;米国特許第5,942,626号明細書;米国特許第5,959,008号明細書;米国特許第5,998,116号明細書;米国特許第6,013,704号明細書;米国特許第6,060,543号明細書;米国特許第6,187,919号明細書;米国特許第6,242,598号明細書及び米国特許第6,255,483号明細書において開示されるようなトリアジン、例えば4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジン、サイテック社(Cytec Corp)のシアソルブ(登録商標:Cyasorb)1164、4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−6−(4−ブロモフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス[2−ヒドロキシ−4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−6−(4−クロロフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス(4−ビフェニリル)−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシカルボニルエチリデンオキシフェニル)−s−トリアジン、2−フェニル−4−[2−ヒドロキシ−4−(3−第二ブチルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−第二アミルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−ベンジルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−n−ブチルオキシフェニル)−6−(2,4−ジ−n−ブチルオキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−ノニルオキシ*−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−5−α−クミルフェニル]−s−トリアジン(*はオクチルオキシ基、ノニルオキシ基およびデシルオキシ基の混合物を示す)、メチレンビス−{2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−[2−ヒドロキシ−4−(3−ブチルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル]−s−トリアジン}、5:4:1の比で3:5’、5:5’及び3:3’位において架橋したメチレン架橋二量体混合物、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ−5−−クミルフェニル)−s−トリアジン、2−(2,4,6−トリメチルフェニル)−4,6−ビス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブチルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−s−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−第二ブチルオキシ−2−ヒドロキシプロピルオキシ)フェニル]−s−トリアジン、4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−(3−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−フェニル)−s−トリアジンと4,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−(3−トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−フェニル)−s−トリアジンの混合物、チバスペシャルティケミカルズ社製チヌビン(登録商標:Tinuvin)400、4
,6−ビス−(2,4−ジメチルフェニル)−2−(2−ヒドロキシ−4−(3−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシプロポキシ)−フェニル)−s−トリアジンおよび4,6−ジフェニル−2−(4−ヘキシルオキシ−2−ヒドロキシフェニル)−s−トリアジン。
,3,2]−ジオキサホスフェピン(6−isooctyloxy−2,4,8,10−
tetra−tert−butyl−dibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin)、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ第三ブチル−12−メチル−ジベンゾ[d,g][1,3,2]ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット、ビス(2,4−ジ第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット、2,2’,2”−ニトリロ[トリエチルトリス(3,3’,5,5’−テトラ第三ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィット]、2−エチルヘキシル(3,3’,5,5’−テトラ第三ブチル−1,1’−ビフェニル−2,2’−ジイル)ホスフィット。
トリス(2,4−ジ第三ブチルフェニル)ホスフィット〔イルガフォス(登録商標:Irgafos) 168,チバスペシャルティケミカルズ社製〕、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、
6.ニトロン、例えば、N−ベンジル−α−フェニルニトロン、N−エチル−α−メチルニトロン、N−オクチル−α−ヘプチルニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、N−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、N−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、N−メチル−α−ヘプタデシルニトロン及び水素添加された牛脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
7.アミンオキシド、例えば、米国特許第5,844,029号明細書及び米国特許第5,880,191号明細書に記載されたアミンオキシド誘導体、ジデシルメチルアミンオキシド、トリデシルアミンオキシド、トリドデシルアミンオキシド及びトリヘキサデシルアミンオキシド。
]ベンゾフラノ−2−オン、3,3’−ビス[5,7−ジ第三ブチル−3−(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラノ−2−オン]、5,7−ジ第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラノ−2−オン、3−(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラノ−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラノ−2−オン、3−(3,4−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラノ−2−オン、イルガノックス(登録商標:Irganox)HP−136,チベスペシャルティケミカルズ社製、3−(2,3−ジメチルフェニル)−5,7−ジ第三ブチルベンゾフラノ−2−オン。
9.チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピオネート。
10.過酸化物スカベンジャー、例えば、β−チオジプロピオン酸エステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは2−メルカプトベンズイミダゾール亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオネート。
12.塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレエートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートまたは亜鉛ピロカテコレート。
13.核剤、例えば、無機物質、例えばタルク、金属酸化物、例えば、二酸化チタンまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩または硫酸塩;有機化合物、例えば、モノ−またはポリカルボン酸およびその塩、例えば、4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム;ポリマー状化合物、例えばイオン性コポリマー(イオノマー)。
15.分散剤、例えば、ポリエチレンオキシドのワックス又は鉱油。
16.その他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジー添加剤、触媒、流れ調整剤、スリップ剤、架橋剤、架橋促進剤(crosslinking boosters)、ハロゲンスカベンジャー、煙抑制剤(smoke inhibitors)、防炎加工剤、帯電防止剤、置換された及び置換されてないビスベンジリデンソルビトールのような透明剤、2,2’−p−フェニレン−ビス(3,1−ベンゾキサジノ−4−オン)のようなベンゾキサジン紫外線吸収剤、シアソルブ(登録商標:Cyasorb)3638(CAS番号18600−59−4)、および発泡剤。
本発明の紫外線吸収添加剤及び所望な更なる成分のポリマー状基材への配合は、粉末の形態におけるドライブレンディング、又は例えば不活性溶媒、水又は油における溶液、分散液又は懸濁液の形態での湿式混合のような既知の方法によって行われる。本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤は、例えば成形前後に、又は続いて起こる溶媒又は懸濁/分散
剤の蒸発を伴い又は伴わないで、溶解したもしくは分散した添加剤又は添加剤混合物を塗布することによってもポリマー状基材に配合され得る。それらは、加工機器(例えば、押出機、密閉式ミキサー等)に、例えば乾燥混合物もしくは粉末として又は溶液もしくは分散液もしくは懸濁液もしくは溶融液として直接加えられ得る。
配合は、攪拌器を備えるあらゆる加熱可能な容器で、例えばニーダー、ミキサー又は攪拌容器のような密閉機器で行われ得る。配合は、好ましくは押出機において又はニーダーにおいて行われる。加工を不活性雰囲気下で又は酸素存在下で行うかは重要でない。
ポリマー状基材への添加剤又は添加剤ブレンドの添加は、ポリマーが添加剤とともに融解及び混合される全ての慣用の混合機において行われ得る。適する機械は、当業者に知られている。それらは、主にミキサー、ニーダー及び押出機である。
特に好ましい加工機械は、一軸スクリュー押出機、反転及び共回転二軸スクリュー押出機、遊星歯車押出機、リング押出機(ring extruder)又はコニーダーである。減圧を適用し得る少なくとも1種のガス除去室が備わっている加工機械を使用することも可能である。
適する押出機及びニーダーは、例えば、Handbuch der Kunststoffextrusion,第1巻 Grundlagen,F.Hensen,W.Knappe,H.Potente編,1989、3−7頁,ISBN:3−446−14339−4(第2巻 Extrusionsanlagen 1986,ISBN 3−446−14329−7)に記載される。
例えば、スクリューの長さは、1ないし60スクリュー直径、好ましくは35ないし48スクリュー直径である。スクリューの回転速度は、好ましくは1分間あたり10ないし600回転(rpm)、極めて特に好ましいのは2ないし300rpmである。
最大処理量は、スクリュー直径、回転速度及び駆動力によって決まる。本発明の方法は、上記のパラメータを変えること又は投与量を供給する計量器を使用することによって最大処理量より低いレベルでも行われ得る。
本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤は、またポリマー状基材上に噴霧され得る。それらは他の添加剤(例えば、上記した慣用の添加剤)又はそれらの溶融物を希釈し得、そのためそれらは前記基材上に該添加剤とともに噴霧され得る。重合触媒の失活の間の噴霧による添加は、特に都合が良い;この場合、発生した蒸気が触媒の失活に使用し得る。球状に重合したポリオレフィンの場合、例えば本発明の添加剤を、所望により他の添加剤とともに、噴霧によって塗布することが有利であり得る。
本発明の添加剤及び所望な更なる添加剤はまた、ポリマーキャリアに配合された、例えば約1質量%ないし約40質量%及び好ましくは2質量%ないし約20質量%の濃度で成分を含有するマスターバッチ(“濃縮物”)の形態でポリマー状基材に添加し得る。ポリマーキャリアは、添加剤が最後に加えられるポリマー状基材と同一構造である必要はない。そのような操作において、ポリマーキャリアは、粉末、顆粒、溶液、懸濁液の形態で又はラテックスの形態で使用され得る。
配合は、造形操作の前又は間に、又は続いて起こる溶媒の蒸発を伴い又は伴わないで、ポリマー状基材に溶解又は分散された化合物を塗布することによって行われ得る。エラストマーの場合、それらはまたラテックスとして安定化され得る。ポリマー状基材への本発明の添加剤の配合に対する更なる可能性は、それらを相当するモノマーの重合前、重合中又は重合後に直接、又は架橋前に添加することである。これに関連して、本発明の添加剤はそのまま、あるいは封入形態(例えば、ワックス、油又はポリマーに)で添加され得る。
該方法は、有効安定化量の、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物とヒドロキシベンゾフェノンからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物との約4:1ないし約1:4の質量:質量比での紫外線吸収剤混合物を該基材に配合すること又は該基材に塗布することを含む。
例えば、本発明は熱、光又は酸素の有害作用に対してポリマー状基材を安定化するための方法を包含し、
該方法は、有効安定化量の、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールと2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノンとの約4:1ないし約1:4の質量:質量比での紫外線吸収剤混合物を該基材に配合すること又は該基材に塗布することを含む。
例えば、紫外線吸収剤は、ポリマー状基材に単独で又はブレンドとして配合される。
本発明の他の態様において、紫外線吸収剤はマスターバッチの形態でポリマー状基材に配合される。
下記の実施例は、本発明を更に説明する。
は安定剤を含まなかった。伸び強度保持率(Percent retention of
elongation strength)を、2500時間又は5000時間のウェザロメーター暴露後に記録した。
ウェザロメーター条件:キセノン番号E:63℃での一般的な乾燥−ブラックパネル温度=63℃Light;放射照度、W/m2=0.35Light;湿球温度降下(Wet bulb depression)=14℃Light;水=40℃Light、CAM番号7/ASTM G26/試験法Aサイクル:102分間Light、16分間Light及び水噴霧;フィルタ:ボロシリケート(Borosilicate)/ホウケイ酸塩。
本発明の安定剤混合物は、PVC試料に対し、より低い黄変も与える。すなわち、PVC試料におけるDE(デルタE)によって測定された、より低い色成形を与える。本発明の安定剤混合物で与えられる安定化は、DEによって測定された通り相乗的でもある。
Claims (4)
- ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル/酢酸ビニルのコポリマー、又はPVC/EVA、PVC/ABS、ASA/PVC、PVC/MBS、PVC/CPE又はPVC/アクリレートのブレンドから選択されるポリマー状基材及び
該基材に配合された、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールと2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノンとの2:1乃至1:2の質量:質量比での紫外線吸収剤混合物を含み、
該紫外線吸収剤混合物が、前記ポリマー状基材の質量に基づき、0.25質量%乃至1.0質量%の量で存在するポリマー組成物。 - 前記ポリマー状基材がポリ塩化ビニルであり、前記紫外線吸収剤混合物が1:1の質量:質量比にある請求項1記載のポリマー組成物。
- ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンもしくは塩化ビニル/酢酸ビニルのコポリマー、又はPVC/EVA、PVC/ABS、ASA/PVC、PVC/MBS、PVC/CPE又はPVC/アクリレートのブレンドから選択されるポリマー状基材の安定化方法であって、
2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾールと2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシベンゾフェノンとの2:1乃至1:2の質量:質量比での紫外線吸収剤混合物を、前記ポリマー状基材の質量に基づき、0.25質量%乃至1.0質量%の量で該基材に配合することを含む方法。 - 前記紫外線吸収剤が、マスターバッチの形態でポリマー状基材に配合される請求項3記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US63321904P | 2004-12-03 | 2004-12-03 | |
US60/633,219 | 2004-12-03 | ||
PCT/EP2005/056167 WO2006058856A1 (en) | 2004-12-03 | 2005-11-23 | Ultraviolet light absorber stabilizer combination |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008521987A JP2008521987A (ja) | 2008-06-26 |
JP2008521987A5 JP2008521987A5 (ja) | 2009-01-08 |
JP5153339B2 true JP5153339B2 (ja) | 2013-02-27 |
Family
ID=35536372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007543830A Expired - Fee Related JP5153339B2 (ja) | 2004-12-03 | 2005-11-23 | 紫外線吸収安定剤の組合せ |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20060122293A1 (ja) |
EP (1) | EP1817369B1 (ja) |
JP (1) | JP5153339B2 (ja) |
CN (1) | CN101068869B (ja) |
AT (1) | ATE443735T1 (ja) |
CA (1) | CA2587254A1 (ja) |
DE (1) | DE602005016834D1 (ja) |
ES (1) | ES2331197T3 (ja) |
TW (1) | TWI395779B (ja) |
WO (1) | WO2006058856A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102292831A (zh) * | 2009-01-22 | 2011-12-21 | 纳幕尔杜邦公司 | 用于太阳能电池模块的包含受阻胺的聚(乙烯醇缩丁醛)包封剂 |
CN101805458B (zh) * | 2010-04-07 | 2012-02-08 | 天津力生化工有限公司 | 乳液型复合抗氧剂的制备方法 |
CN102952348A (zh) * | 2011-08-22 | 2013-03-06 | 爱康企业集团(上海)有限公司 | Pvc-u抗紫外线雨水管 |
DE102014211276A1 (de) | 2014-06-12 | 2015-12-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verwendung von Hydroxybenzotriazol-Derivaten und/oder Hydroxy-Indazol-Derivaten als Flammschutzmittel für Kunststoffe sowie flammgeschützte Kunststoffformmasse |
CN111019494B (zh) * | 2019-12-31 | 2021-10-01 | 南京德嘉玻璃钢材料有限公司 | 一种高耐候胶衣及其制备方法 |
CN114292440B (zh) * | 2021-12-31 | 2023-11-10 | 天津利安隆新材料股份有限公司 | 复合光稳定剂、塑木复合材料组合物和塑木产品 |
Family Cites Families (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL223154A (ja) * | 1956-12-14 | |||
US3004896A (en) * | 1956-12-14 | 1961-10-17 | Geigy Ag J R | Ultra-violet light-absorbing composition of matter |
US3055896A (en) * | 1959-06-11 | 1962-09-25 | American Cyanamid Co | Aminohydroxyphenylbenzotriazoles and triazine derivatives thereof |
US3072585A (en) * | 1960-01-13 | 1963-01-08 | American Cyanamid Co | Vinylbenzyloxy phenylbenzotriazoles |
US3074910A (en) * | 1960-11-17 | 1963-01-22 | Hercules Powder Co Ltd | Stabilization of polyolefins with a nickel phenolate of a bis(p-alkyl phenol) monosulfide and an o-hydroxy phenyl benzotriazole |
BE630549A (ja) * | 1961-06-16 | |||
US3230194A (en) * | 1961-12-22 | 1966-01-18 | American Cyanamid Co | 2-(2'-hydroxy-5'-tertiary-octylphenyl)-benzotriazole and polyolefins stabilized therewith |
GB1163875A (en) * | 1967-05-10 | 1969-09-10 | Du Pont | Stabilized Polyolefins |
US4127586A (en) * | 1970-06-19 | 1978-11-28 | Ciba-Geigy Corporation | Light protection agents |
US4141903A (en) * | 1977-08-17 | 1979-02-27 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of 2-aryl-2H-benzotriazoles |
CH633003A5 (de) * | 1977-08-17 | 1982-11-15 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur herstellung von benzotriazolen. |
US4219480A (en) * | 1977-09-20 | 1980-08-26 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of 2-aryl-2H-benzotriazoles |
US4230867A (en) * | 1977-11-25 | 1980-10-28 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the production of 2-aryl-2H-benzotriazoles |
US4275004A (en) * | 1978-06-26 | 1981-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes |
US4226763A (en) * | 1978-06-26 | 1980-10-07 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(.alpha.,α-dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
US4278589A (en) * | 1978-06-26 | 1981-07-14 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
US4315848A (en) * | 1979-05-10 | 1982-02-16 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-(α,α-dimethylbenzyl)-phenyl]-2H-benzotriazole and stabilized compositions |
US4347180A (en) * | 1979-05-16 | 1982-08-31 | Ciba-Geigy Corporation | High caustic coupling process for preparing substituted 2-nitro-2'-hydroxyazobenzenes |
US4383863A (en) * | 1979-12-17 | 1983-05-17 | Ciba-Geigy Corporation | 2-[2-Hydroxy-3,5-di-tert-octylphenyl]-2H-benzotriazole in stabilized photographic compositions |
JPS57117564A (en) * | 1981-01-12 | 1982-07-22 | Sumitomo Chem Co Ltd | Stabilized synthetic resin composition |
US4853471A (en) * | 1981-01-23 | 1989-08-01 | Ciba-Geigy Corporation | 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazoles, their use as UV-absorbers and their preparation |
JPS57119941A (en) * | 1981-07-13 | 1982-07-26 | Sumitomo Chem Co Ltd | Polymeric material composition containing pigment and stabilizer |
DE3364367D1 (en) * | 1982-05-07 | 1986-08-07 | Borg Warner Chemicals Inc | Stabilized olefin polymer compositions and their use for preparing shaped articles |
DE3476752D1 (en) * | 1983-06-01 | 1989-03-23 | Ciba Geigy Ag | Process for the preparation of 2-arylbenzotriazoles |
JPS61113649A (ja) * | 1984-11-07 | 1986-05-31 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 耐光性の改善された高分子材料組成物 |
US4675352A (en) * | 1985-01-22 | 1987-06-23 | Ciba-Geigy Corporation | Liquid 2-(2-hydroxy-3-higher branched alkyl-5-methyl-phenyl)-2H-benzotriazole mixtures, stabilized compositions and processes for preparing liquid mixtures |
DE68912186D1 (de) * | 1988-05-04 | 1994-02-24 | Gen Electric | UV-stabilisierte Acryl-Grundierungszusammensetzung. |
EP0419412B1 (de) * | 1989-09-20 | 1993-11-10 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur Herstellung von Benztriazolen |
DE59107052D1 (de) * | 1990-03-30 | 1996-01-25 | Ciba Geigy Ag | Lackzusammensetzungen |
US5278314A (en) * | 1991-02-12 | 1994-01-11 | Ciba-Geigy Corporation | 5-thio-substituted benzotriazole UV-absorbers |
US5280124A (en) * | 1991-02-12 | 1994-01-18 | Ciba-Geigy Corporation | 5-sulfonyl-substituted benzotriazole UV-absorbers |
DE4229760A1 (de) * | 1992-09-05 | 1994-03-10 | Basf Ag | UV-stabilisierte Polyoxymethylenformmassen |
US5319091A (en) * | 1992-11-24 | 1994-06-07 | Phillips Petroleum Company | Process for sulfur containing derivatives of hydroxyphenyl/benzotriazoles |
US5268450A (en) * | 1992-11-24 | 1993-12-07 | Phillips Petroleum Company | Compositions comprising sulfur-containing derivatives of hydroxyphenylbenzotriazole and process therefor |
FR2729387B1 (fr) * | 1995-01-13 | 1997-03-21 | Great Lakes Chemical France | Procede pour la fabrication d'hydroxy-alcoxy-benzophenones |
US5574166A (en) * | 1995-04-19 | 1996-11-12 | Ciba-Geigy Corporation | Crystalline form of 2-(2-hydroxy-3-α-cumyl-5-tert-octylphenyl)-2H-benzotriazole |
US5519914A (en) * | 1995-08-01 | 1996-05-28 | Egan; Ronald G. | Contact type automatic roll cleaner |
US6166218A (en) * | 1996-11-07 | 2000-12-26 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
US5977219A (en) * | 1997-10-30 | 1999-11-02 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Benzotriazole UV absorbers having enhanced durability |
EP0897916A2 (de) * | 1997-08-18 | 1999-02-24 | Clariant GmbH | Neue 2-(2'-Hydroxyphenyl)benzotriazole und 2-Hydroxybenzophenone als Lichtschutzmittel für polymeres Material |
US6244707B1 (en) * | 1998-07-21 | 2001-06-12 | Wesley Jessen Corporation | UV blocking lenses and material containing benzotriazoles and benzophenones |
WO2000037551A1 (de) * | 1998-12-18 | 2000-06-29 | Bayer Aktiengesellschaft | Röntgenkontrastierbare formteile mit verbesserter langzeitstabilität |
GB2361005B (en) * | 2000-04-04 | 2002-08-14 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic mixtures of uv-absorbers in polyolefins |
IL152907A0 (en) * | 2000-05-19 | 2003-06-24 | Dow Global Technologies Inc | Carbonate polymer compositions comprising low volatile uv absorbing compounds |
US6566507B2 (en) * | 2000-08-03 | 2003-05-20 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Processes for the preparation of benzotriazole UV absorbers |
US6649770B1 (en) * | 2000-11-27 | 2003-11-18 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Substituted 5-aryl-2-(2-hydroxyphenyl)-2H-benzotriazole UV absorbers, compositions stabilized therewith and process for preparation thereof |
US6307055B1 (en) * | 2000-12-27 | 2001-10-23 | Council Of Scientific And Industrial Research | Diol-functionalized UV absorber |
ZA200301683B (en) * | 2002-03-04 | 2004-09-06 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic combinations of UV absorbers for pigmented polyolefins. |
JP2003342567A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-03 | Daicel Chem Ind Ltd | 紫外線吸収剤組成物、製造方法、紫外線吸収剤組成物含有樹脂および成形品 |
KR101114272B1 (ko) * | 2003-02-26 | 2012-03-28 | 시바 홀딩 인크 | 수 혼화성의 입체적으로 속박된 하이드록시 치환된 알콕시아민 |
-
2005
- 2005-10-31 US US11/263,444 patent/US20060122293A1/en not_active Abandoned
- 2005-11-23 WO PCT/EP2005/056167 patent/WO2006058856A1/en active Application Filing
- 2005-11-23 CA CA002587254A patent/CA2587254A1/en not_active Abandoned
- 2005-11-23 CN CN2005800410749A patent/CN101068869B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-23 DE DE602005016834T patent/DE602005016834D1/de active Active
- 2005-11-23 JP JP2007543830A patent/JP5153339B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-11-23 EP EP05804629A patent/EP1817369B1/en not_active Not-in-force
- 2005-11-23 AT AT05804629T patent/ATE443735T1/de not_active IP Right Cessation
- 2005-11-23 ES ES05804629T patent/ES2331197T3/es active Active
- 2005-12-01 TW TW094142278A patent/TWI395779B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060122293A1 (en) | 2006-06-08 |
CN101068869B (zh) | 2010-11-03 |
WO2006058856A1 (en) | 2006-06-08 |
EP1817369A1 (en) | 2007-08-15 |
CA2587254A1 (en) | 2006-06-08 |
CN101068869A (zh) | 2007-11-07 |
JP2008521987A (ja) | 2008-06-26 |
ATE443735T1 (de) | 2009-10-15 |
TW200630423A (en) | 2006-09-01 |
DE602005016834D1 (de) | 2009-11-05 |
EP1817369B1 (en) | 2009-09-23 |
ES2331197T3 (es) | 2009-12-23 |
TWI395779B (zh) | 2013-05-11 |
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WO2004000921A1 (en) | Stabilized polyamide compositions |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081113 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081113 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110921 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111216 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120613 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121012 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20121022 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121121 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121204 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151214 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |