JP5082537B2 - 光造形方法及び光造形装置 - Google Patents
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当該DMD2は、光源1から出射されたレーザ光線を個々のマイクロミラーによって反射させ、制御部7によって所定の角度に制御されたマイクロミラーによって反射されたレーザ光のみ集光レンズ3を介して造形テーブル4上に供給した光硬化性組成物9に照射する。DMD2によって反射されたレーザ光線が集光レンズ3を介して一度に照射される光硬化性組成物9の領域を、投影領域という。一つの投影領域の露光を行った後、造形テーブル4を移動させ、隣接する投影領域に対して露光を行う。この繰り返しにより、投影領域を単位とする一括露光を繰り返し実行する。
リコータ6は、例えば、ブレード機構と移動機構を備え、光硬化性組成物9を均一に塗布する。
2 DMD
3 集光レンズ
4 造形テーブル
5 ディスペンサ
6 リコータ
7 制御部
8 記憶部
9 光硬化性組成物
10 光硬化樹脂
100 光造形装置
Claims (1)
- 光硬化性組成液に選択的に光を照射して硬化層を形成し、該硬化層を順次積層して立体モデルを形成する光造形方法であって、
立体モデルをスライスした断面に対応する一つの硬化層を形成する光の照射時間を、複数の時間間隔に分割し、
一つの硬化層を更に分割した断面群の露光データ(露光細部データ)と、前記複数の時間間隔とを対応づけて、一つの硬化層内で光の照射量が異なる領域を設定し、
各時間間隔において、対応づけた前記断面群の露光データ(露光細部データ)に基づいて光を照射するディジタルミラーデバイスの反射方向を調整する光造形方法。
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