JP5075393B2 - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Description
以上が本実施例の走査電子顕微鏡の基本的な構成である。
まず、row barを試料ホルダ上に配置する手順について、図4を用いて説明する。図4には、試料ホルダ47上に、複数の磁気ヘッドrow bar42を、走査電子顕微鏡による観察面30が上になるように載置した上面図を示す。複数の磁気ヘッドrow bar42は、各々がおおよそ平行になるように載置される。このとき、載置する磁気ヘッドrow barは一本であっても良い。また、磁気ヘッドrow barを載置するため、図4に示す試料ホルダ47は、トレー型の試料ホルダを想定している。あるいは、磁気ヘッドrow barの長さと幅と高さに合わせた複数の溝をトレーの表面に形成して、磁気ヘッドrow barを溝の上に寝かせるような形で載置しても良い。このとき、試料の上面と、試料ホルダの面の高さが同じになるため、試料台にリターディング電位を印加したとき、試料面上で均一なリターディング電位を供給できる。
第一段階のアライメントでは、光学顕微鏡の倍率を最低倍率である20倍にしてアライメントを行う。まず、装置の使用者が装置の動作をアライメント調整モードに切り替える。この切替動作は、例えば画像出力端末22に表示されるボタンやアイコンのクリック、あるいは図示されてはいないが、画像出力端末22に接続された操作卓から操作することにより実行される。
Claims (12)
- 試料ホルダ上に載置された試料に対して電子線を照射し、発生する二次粒子を検出する電子光学鏡筒と、
前記試料に対して光を照射して、反射光を検出することにより前記試料の光学像を取得する光学顕微鏡ユニットと、
前記試料ホルダを移動する手段とを備え、
前記光学顕微鏡ユニットの照射光の照射位置が属する前記試料上の面が、前記電子線の照射位置が属する面に接する側面であることを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
前記電子線の照射位置を、前記光学顕微鏡ユニットから得られる前記光学像を用いて推定する情報処理手段を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
前記試料ホルダの位置制御のための座標系上における任意の位置と、該任意位置の前記光学像上における位置との位置ずれ量を計算する情報処理手段を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項2または3に記載の走査電子顕微鏡において、
前記情報処理手段は、前記光学顕微鏡ユニットの照射光の照射位置が属する面の座標系から前記電子線の照射位置が属する面の座標系へ座標変換を行って、前記電子線の照射位置を算出することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項2に記載の走査電子顕微鏡において、
前記情報処理装置は、設計データから計算される前記電子線の照射位置を、前記光学顕微鏡画像に対してテンプレートマッチングを実行することにより計算することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項3に記載の走査電子顕微鏡において、
前記情報処理装置は、前記位置ずれ量を、前記光学像に対してテンプレートマッチングを実行することにより計算することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項5または6に記載の走査電子顕微鏡において、
前記テンプレートマッチングに使用される画像データが格納された記憶手段を備えたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項5または6に記載の走査電子顕微鏡において、
前記情報処理手段は、前記テンプレートマッチングの条件を満たす領域の数を、テンプレートマッチングの開始領域からカウントし、前記電子線照射位置ないし前記位置ずれ量を、カウントされた数と対応付けて記憶することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項1に記載の走査電子顕微鏡において、
前記電子光学鏡筒は対物レンズを備え、
前記光学顕微鏡ユニットは、当該電子光学鏡筒の外側から真空ポートを介して該対物レンズ内に挿入され、
更に、前記光学顕微鏡ユニットの光路と前記対物レンズの構成部材の交差する位置に、光を透過する部材が設けられたことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 試料の所定領域に電子線を照射して得られる二次粒子の二次元分布情報を元に、前記所定領域内の特定部位の寸法を計測する測長システムにおいて、
前記試料に対して電子線を照射し、前記二次粒子を検出する電子光学鏡筒と、
前記試料が載置される試料ホルダと、
前記試料に対して光を照射し反射光を検出することにより前記試料の光学像を取得する光学顕微鏡ユニットと、
前記二次粒子により得られる画像の視野を変更する手段と、
前記二次粒子の検出信号を元に前記二次元分布情報を算出し、前記寸法計測を実行する情報処理手段とを備え、
前記光学顕微鏡ユニットが、前記電子線照射領域が属する前記試料上の面に接する側面に光が照射されるように配置されたことを特徴とする測長システム。 - 請求項10に記載の測長システムにおいて、
前記試料の設計データを格納するサーバを備えたことを特徴とする測長システム。 - 試料の所定領域に電子線を照射して得られる二次粒子の二次元分布情報を元に、前記所定領域内の特定部位の寸法を計測する測長方法であって、
前記試料上で、前記電子線の照射領域が属する面に接する側面に光を照射して光学像を取得し、
当該光学像を元に、前記所定領域の位置を推定し、
該推定位置に電子線を照射して前記二次元分布情報を取得し、
得られた二次元分布情報を用いて前記特定部位の寸法計測を行うことを特徴とする測長方法。
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