JP5056840B2 - 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法 - Google Patents
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(式(3)中、R1、R2、R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を示し、R5及びR6は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子又はアルキル基を示す。)
以下に示す材料を用いて感光性樹脂組成物を調製した。
ウレタン結合含有モノマ−(UA−11、新中村化学工業株式会社製):30重量部(固形分)
光重合開始剤(イルガキュア651、チバガイギー株式会社製):5重量部
フェノキシフォスファゼン化合物(SPB−100、大塚化学株式会社製):50重量部
メチルエチルケトン:20重量部。
光重合開始剤として、実施例1で用いたイルガキュア651)の代わりに、アミン系化合物である4,4−ビスジエチルアミノベンゾフェノン(EAB、保土ヶ谷化学株式会社製)0.2重量部を用いたこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
光重合開始剤として、実施例1で用いたイルガキュア651の代わりに、チオキサントン系化合物である2,4−ジエチルチオキサントン(DETX、日本化薬株式会社製)0.5重量部を用いたこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
(A)成分として側鎖に二重結合を有するポリマーを合成した。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート120重量部を1L四つ口フラスコに入れ、窒素封入しながら75℃に昇温した。一方、メチルメタクリレート80重量部、アクリル酸50重量部、ベンジルメタクリレート80重量部、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート120重量部及びアゾビスイソブチロニトリル1.5重量部の混合液をあらかじめ27〜30℃にして相溶させておき、四つ口フラスコ内のエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートの温度が安定した後、四つ口フラスコ内を攪拌しながら3時間かけて滴下した。さらに攪拌を75℃で7時間続けた後、重合禁止剤としてメチルヒドロキノン2重量部混入し、窒素封入を止め、重合を完結した。
実施例1と同様にして感光性樹脂組成物を調製し、その感光性樹脂組成物をPETフィルム上に塗布し、80℃で20分乾燥して感光性フィルムを作製した。
実施例1におけるフェノキシフォスファゼン化合物(SPB−100)を用いなかったこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1におけるフェノキシフォスファゼン化合物(SPB−100)の配合量を15重量部としたこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1におけるフェノキシフォスファゼン化合物(SPB−100)の代わりにリン酸エステル(レオフェスTPP、味の素株式会社製)50重量部を用いたこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1におけるフェノキシフォスファゼン化合物(SPB−100)の代わりにリン酸エステル(PX−200、大八化学株式会社製)50重量部を用いたこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1におけるフェノキシフォスファゼン化合物(SPB−100)の代わりにポリリン酸メラミン(PMP−100、日産化学株式会社製)50重量部を用いたこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1におけるフェノキシフォスファゼン化合物の代わりにAl(OH)3(ハイジライトH−42M、昭和電工株式会社製)50重量部を用いたこと以外は実施例1と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。
実施例1〜4及び比較例1〜6においては、先ず、両面粗化箔を両面に有するガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、日立化成工業株式会社製MCL−BE−67G(商品名))に感光性のドライフィルムを用いてエッチングを施し、片面にライン幅/スペース幅(40μm/40μm)寸法の櫛形形状の回路(回路層)を有するプリント配線板(以下、回路板という)を作製した。このようにして得られた回路板の回路層側の面上に、感光性樹脂組成物を塗布し、80℃で20分間乾燥して膜厚30μmの感光性樹脂組成物層を形成した。
難燃性の評価に際し、実施例1〜4及び比較例1〜6の感光性樹脂組成物をPETフィルム上に塗工し、80℃で20分乾燥して感光性フィルムとした。実施例5の感光性フィルムはそのまま用いた。
両面粗化箔を両面に有するガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、日立化成工業株式会社製MCL−BE−67G(商品名))にエッチングを施し、片面にライン幅/スペース幅(40μm/40μm)寸法の櫛形形状の回路(回路層)を有するプリント配線板(回路板)を作製した。
Claims (7)
- (A)カルボキシル基を有するポリマーと、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、(D)フェノキシフォスファゼン化合物と、を含有し、前記(D)成分の含有量が前記(A)成分及び前記(B)成分の合計量100重量部に対して30〜70重量部であり、前記(A)成分が、(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸アルキルエステルと(メタ)アクリル酸及び/又は(メタ)アクリル酸アルキルエステル以外の共重合ビニルモノマ−との共重合体、あるいは、該共重合体の側鎖及び/又は末端にエチレン性不飽和結合を導入した共重合体を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
- 前記(A)成分の酸価は、90〜200mgKOH/gであることを特徴とする、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 支持体と、該支持体上に形成された、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、を備えることを特徴とする感光性フィルム。
- 回路形成用基板上に、請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層を積層し、該感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化せしめ、次いで、該露光部以外の部分を除去することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
- 回路形成用基板上に、請求項3に記載の感光性フィルムにおける前記感光性樹脂組成物層を積層し、該感光性樹脂組成物層の所定部分に活性光線を照射して露光部を光硬化せしめ、次いで、該露光部以外の部分を除去することを特徴とするレジストパターンの形成方法。
- 請求項4又は5に記載のレジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された回路形成用基板を、エッチング又はめっきすることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
- 請求項6に記載のプリント配線板の製造方法により得られ、エッチング又はめっき後の前記レジストパターンをレジスト層として備えることを特徴とするプリント配線板。
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