JP5054112B2 - ガス処理された液体のための装置。 - Google Patents
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Description
カバーの取り外し後、スロットル部9はアクセスすることができ、かつガスランス3は、簡単に洗浄することが可能である。洗浄も開口部7を通じて可能である。
その圧力クッションは、割り当てられたガスランス3での圧力状況を決定している。しかし、小さな流量で、液体1がガスランス3を通って、ガス流と共に上昇する。本発明による装置の排気効果は図10で示され、装置によって運ばれる液体1の量が、ガス流の流量の関数として示されている。
Claims (15)
- ガス処理される液体(1)のための、かつ浸水動作で使用される薄膜設備のための装置であって、
ガス供給路(2)と、
ガス処理動作でガス流を排出する少なくとも1つのガスランス(3)とを備え、
ガスランス(3)は、ガスランス(3)の側面にある第1のマウス領域(8)と、ガス供給路(2)の側面にある第2のマウス領域(8’)とを備えた少なくとも1つの接続路(5)によって、ガス供給路(2)に接続され、かつ、前記接続路(5)は、スロットルとして、ガスランス(3)に入り込むガス流の流れ圧力損失を生成し、
第1のマウス領域(8)の下方に延長部(6)を備え、
この延長部(6)は、ガスランス(3)に隣接し、かつ、第1のマウス領域の下方に、液体(1)を排出する開口部(7)を備えることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置において、
接続路(5)は、スロットル部(9)を備えるか、又は、ガスランス(3)の断面より小さい断面を、その全長にわたって備えることを特徴とする装置。 - 請求項1又は2に記載の装置において、
第2のマウス領域(8’)は、ガス供給路(2)の底に配置されていることを特徴とする装置。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載の装置において、
接続路(5)は、ガス供給路(2)に取り付けられた接続部(10)によって供給され、
ガスランス(3)は、接続部(10)の受液室(12)に伸び、かつ、
カバー(11)は、接続部(10)下端を覆うとともに、底で開口し、かつ、延長部(6)を形成することを特徴とする装置。 - 請求項4に記載の装置において、
接続路(5)はスロットル部(9)を備え、このスロットル部(9)は、受液室(12)に挿入しているガスランス(3)の下方端部(13)部分とカバーによって形成されることを特徴とする装置。 - 請求項5に記載の装置において、
カバー(11)は、内部表面(17)を備え、
この内部表面(17)は、環状ギャップ(18)を備えたガスランス(3)の端部(13)を取り囲み、
この環状ギャップ(18)がスロットル部(9)を形成することを特徴とする装置。 - 請求項4乃至6のいずれかに記載の装置において、
カバー(11)は、ガスランス(3)の端部(13)に対向し、かつ、延長部(6)の流れを静める部屋(19)を形成するくぼみを備え、
カバー側開口部(7)は、流れを静める部屋(19)につながっていることを特徴とする装置。 - 請求項4に記載の装置において、
スロットルバルブ(22)は、接続部(10)とガスランス(3)によって区分された環状部屋に位置する2つのバルブ部(20、21)を備え、
この2つのバルブ部が組み合わされてスロットル部(9)を形成し、
第1のバルブ部(20)は、ガスランス(3)の下方端部(13)部分に位置し、かつ、ガス通路開口部(23)を持つのと同様に、ガスランス(3)と接続部(10)の間の環状部屋を橋渡し、かつ、
第2のバルブ部(21)は、ガス通路開口部(23)と共に機能するバルブ座部(24)を備え、かつ、カバー(11)と第1のバルブ部(20)の間の部屋に位置していることを特徴とする装置。 - 請求項8に記載の装置において、
第2のバルブ部(21)は、通路を備え、
この通路は、スロットル部(9)の背後に、延長部(6)の流れを静める部屋(19)を形成し、かつ、カバー(11)の開口部(7)と一直線につながっていることを特徴とする装置。 - 請求項1乃至9のいずれかに記載の装置において、
ガスランス(3)は、ガス供給路(2)の中を貫通し、ガス供給路(2)の上部に突出することを特徴とする装置。 - 請求項10に記載の装置において、
ガスランス(3)は、ガス供給路(2)から突出するガスランス(3)の上端部で、拡散器タイプの拡張部(26)を備えることを特徴とする装置。 - 請求項1乃至11のいずれかに記載の装置において、
ガスランス(3)は、中空繊維膜の束(27)によって取り囲まれ、
この中空繊維膜の束(27)は、ヘッド部(28)の一端部で埋め込まれ、かつ、ガス供給路(2)から隔てられた浸透収集室(29)に向かっていることを特徴とする装置。 - 請求項1乃至12のいずれかに記載の装置において、
延長部(6)は、ガスランス(3)の真下に設けられ、延長部(6)及びガスランス(3)は、同一の断面を備えていることを特徴とする装置。 - 請求項1乃至12のいずれかに記載の装置において、
ガスランス(3)、及び/又は、延長部(6)は、少なくともある部分で、円錐状の経路を備えていることを特徴とする装置。 - 請求項1乃至14のいずれかに記載の装置において、
複数のガスランス(3)は、ガス供給路(2)に接続され、
このガス供給路(2)から、ガス流がガス処理時と同時に排出し、ガスランス(3)はそれぞれ、少なくとも1つの分離した接続部(5)を介して、ガス供給路(2)に接続され、
接続路(5)は、スロットルのように、ガスランス(3)に入り込むガス流の流れ圧力損失を生成し、かつ、延長部(6)は、それぞれの接続路(5)の下方に備えられ、
この延長部(6)は、割り当てられた接続路(5)の下方に開口部(7)を備え、かつ、割り当てられたガスランス(3)と隣接することを特徴とする装置。
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