JP5053948B2 - 結晶化ガラス - Google Patents
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Description
特に本発明は、人体及び環境に対して悪影響をおよぼす砒素成分やアンチモン成分を使用しなくとも、情報記録媒体基板用途としての物性を備えた結晶化ガラスを提供するものである。
また、SnO2成分、またはCeO2成分を多量に含有すると、情報記録媒体用途として求められる特性を阻害する結晶相が析出する可能性がある。
酸化物基準において、SiO2成分、Li2O成分、Al2O3成分を含有し、
結晶相として二ケイ酸リチウムを含有し、
Sn、Ce、Mn、W、Ta、Bi、Nb、S、Cl、およびFから選ばれる1種以上の元素を含有することを特徴とする結晶化ガラス。
(構成2)
結晶相としてモノケイ酸リチウム、α−石英、α−石英固溶体、β−石英固溶体の中から選ばれる少なくとも1種以上を含有することを特徴とする構成1に記載の結晶化ガラス。
(構成3)
Sn、Ceから選ばれる1種以上の元素を含有し、
それらの含有量は酸化物基準の質量%で、
SnO2成分:0〜2.5%、
CeO2成分:0〜2.5%、
但し、SnO2成分とCeO2成分の合計量 0.01〜5.0%、
である構成1または2に記載の結晶化ガラス。
(構成4)
原料として、硫酸塩、塩化物、およびフッ化物から選ばれる1種以上を用いることによって、S、Cl、およびFから選ばれる1種以上の元素を含有し、
前記原料における前記硫酸塩、塩化物、及びフッ化物の含有量は、
硫酸塩、塩化物、およびフッ化物以外のガラス原料の酸化物基準の合計質量に対して、
硫酸塩:SO3換算で0〜1.5質量%、
塩化物:Cl2換算で0〜1.5質量%、
フッ化物:F2換算で0〜1.5質量%、
但し、SO3+Cl2+F2:0.01〜1.5質量%
である構成1〜3のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成5)
Mn、W、Ta、BiおよびNbから選ばれる1種以上の元素を含有し、それらの含有量は酸化物基準の質量%で、MnO2成分、WO3成分、Ta2O5成分、Bi2O3成分およびNb2O5成分から選ばれる1種以上の合計の含有量が0.01〜2.5%である構成1〜4のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成6)
酸化物基準の質量%で
SiO2:60〜78%、および
Li2O:5〜12%、および
Al2O3:4〜10%、および
P2O5:1.5〜3.0%、および
ZrO2:1〜10%
の各成分を含有する構成1〜5のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成7)
酸化物基準の質量%で
BaO:0〜15%、および/または
SrO:0〜15%、および/または
MgO:0〜2%、および/または
CaO:0〜2%、および/または
ZnO:0〜3%、および/または
K2O:0〜3%、および/または
Na2O:0〜3%,および/または
Cs2O:0〜3%,および/または
Gd2O3成分、La2O3成分、Y2O3成分、Ga2O3成分から選ばれる1種以上の合計の含有量:0〜15%、および/または
Sb2O3成分:0.1%未満
の各成分を含有する構成1〜6のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成8)
酸化物基準の質量%で、Li2O成分、Na2O成分、K2O成分、およびCs2O成分の1種以上の合計量が5%〜14%である構成1〜7のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成9)
As2O3成分およびSb2O3成分を実質的に含有しない構成1〜8のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成10)
25℃〜100℃の温度範囲における平均線膨張係数が50〜120[10−7℃−1]であることを特徴とする構成1〜9のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成11)
前記結晶相の平均粒子径が100nm以下である構成1〜10のいずれかに記載の結晶化ガラス。
(構成12)
構成1〜11のいずれかに記載の結晶化ガラスを用いた情報記録媒体用基板。
(構成13)
ヤング率が85GPa以上であることを特徴とする、構成12に記載の情報記録媒体用基板。
(構成14)
構成12または13に記載の基板の表面に圧縮応力層を設けた情報記録媒体用基板。
(構成15)
前記圧縮応力層は表面層に存在するアルカリ成分よりもイオン半径の大きなアルカリ成分で置換することにより形成されてなる構成14に記載の情報記録媒体用基板。
(構成16)
前記圧縮応力層は基板の加熱、その後急冷によって形成されたことを特徴とする構成14または15に記載の情報記録媒体用基板。
(構成17)
表面粗度Ra(算術平均粗さ)が2Å以下であることを特徴とする構成12〜16のいずれかに記載の情報記録媒体用基板。
(構成18)
構成12〜17のいずれかに記載の情報記録媒体用基板を用いた情報記録媒体。
(構成19)
原料を溶融して溶融ガラスとし、前記溶融ガラス成形した後、熱処理により結晶化ガラスを得る結晶化ガラスの製造方法において、
前記原料の組成は酸化物基準の質量%で、
SiO2:60〜78%、および
Li2O:5〜12%、および
Al2O3:4〜10%、および
P2O5:1.5〜3.0%、および
ZrO2:1〜10%
SnO2:0〜2.5%、
CeO2:0〜2.5%、
MnO2+WO3+Ta2O5+Bi2O3+Nb2O5:0〜2.5%
の各成分を含有し、さらに上記原料の合計質量に対して、
硫酸塩:SO3換算で0〜2.5質量%、
塩化物:Cl2換算で0〜2.5質量%、
フッ化物:F2換算で0〜2.5質量%
を含有する結晶化ガラスの製造方法。
(構成20)
前記原料の組成は酸化物基準でSnO2成分、CeO2成分から選ばれる1種以上を含有し、酸化物基準の質量%で、
SnO2+CeO2:0.01〜5.0%
である構成18に記載の結晶化ガラスの製造方法。
(構成21)
前記原料の組成は硫酸塩、塩化物、フッ化物から選ばれる1種以上を含有し、
硫酸塩をSO3と、塩化物をCl2と、フッ化物をF2とそれぞれ換算した場合、
硫酸塩、塩化物、フッ化物以外の原料の合計質量に対し、
SO3+Cl2+F2:0.01〜1.5質量%である構成19または20に記載の結晶化ガラスの製造方法。
(構成22)
前記原料の組成は酸化物基準でMnO2成分、WO3成分、Ta2O5成分、Bi2O3成分およびNb2O5成分から選ばれる1種以上を含有し、酸化物基準の質量%で、
MnO2成分、WO3成分、Ta2O5成分、Bi2O3成分およびNb2O5成分から選ばれる1種以上の合計の含有量が0.01〜2.5%である構成19〜21のいずれかに記載の結晶化ガラスの製造方法。
酸化物基準において、SiO2成分、Li2O成分、Al2O3成分を含有し、
Sn、Ce、Mn、W、Ta、Bi、Nb、S、Cl、およびFから選ばれる1種以上の元素を含有することを特徴とするガラス。
(構成24)
Sn、Ceから選ばれる1種以上の元素を含有し、
それらの含有量は酸化物基準の質量%で、
SnO2成分:0〜2.5%、
CeO2成分:0〜2.5%、
但し、SnO2成分とCeO2成分の合計量 0.01〜5.0%、
である構成23に記載のガラス。
(構成25)
原料として、硫酸塩、塩化物、およびフッ化物から選ばれる1種以上を用いることによって、S、Cl、およびFから選ばれる1種以上の元素を含有し、
前記原料における前記硫酸塩、塩化物、及びフッ化物の含有量は、
硫酸塩、塩化物、およびフッ化物以外のガラス原料の酸化物基準の合計質量に対して、
硫酸塩:SO3換算で0〜1.5質量%、
塩化物:Cl2換算で0〜1.5質量%、
フッ化物:F2換算で0〜1.5質量%、
但し、SO3+Cl2+F2:0.01〜1.5質量%
である構成23または24のいずれかに記載のガラス。
(構成26)
Mn、W、Ta、BiおよびNbから選ばれる1種以上の元素を含有し、それらの含有量は酸化物基準の質量%で、MnO2成分、WO3成分、Ta2O5成分、Bi2O3成分およびNb2O5成分から選ばれる1種以上の合計の含有量が0.01〜2.5%である構成23〜25のいずれかに記載のガラス。
(構成27)
酸化物基準の質量%で
SiO2:60〜78%、および
Li2O:5〜12%、および
Al2O3:4〜10%、および
P2O5:1.5〜3.0%、および
ZrO2:1〜10%
の各成分を含有する構成23〜27のいずれかに記載のガラス。
(構成28)
酸化物基準の質量%で
BaO:0〜15%、および/または
SrO:0〜15%、および/または
MgO:0〜2%、および/または
CaO:0〜2%、および/または
ZnO:0〜3%、および/または
K2O:0〜3%、および/または
Na2O:0〜3%,および/または
Cs2O:0〜3%,および/または
Gd2O3成分、La2O3成分、Y2O3成分、Ga2O3成分から選ばれる1種以上の合計の含有量:0〜15%、および/または
Sb2O3成分:0.1%未満
の各成分を含有する構成23〜27のいずれかに記載のガラス。
(構成29)
酸化物基準の質量%で、Li2O成分、Na2O成分、K2O成分、およびCs2O成分の1種以上の合計量が5%〜14%である構成23〜28のいずれかに記載のガラス。
(構成30)
As2O3成分およびSb2O3成分を実質的に含有しない構成23〜28のいずれかに記載のガラス。
(構成31)
構成23〜30のいずれかに記載のガラスを用いた情報記録媒体用基板。
(構成32)
構成23〜30のいずれかに記載のガラスを熱処理し分相させたものを用いた情報記録媒体用基板。
(構成33)
構成31または32に記載の基板の表面に圧縮応力層を設けた情報記録媒体用基板。
(構成34)
前記圧縮応力層は表面層に存在するアルカリ成分よりもイオン半径の大きなアルカリ成分で置換することにより形成されてなる構成33に記載の情報記録媒体用基板。
(構成35)
前記圧縮応力層は基板の加熱、その後急冷によって形成されたことを特徴とする構成33または34のいずれかに記載の情報記録媒体用基板。
(構成36)
表面粗度Ra(算術平均粗さ)が1Å以下であることを特徴とする構成31〜35のいずれかに記載の情報記録媒体用基板。
(構成37)
構成31〜36のいずれかに記載の情報記録媒体用基板を用いた情報記録媒体。
上記本発明のガラスは本発明の結晶化ガラスに比べ、機械的強度の点で若干劣るが、研磨加工後に得られる表面粗さについてはより平滑な面が得られるという特徴がある。
本発明の結晶化ガラスは、二ケイ酸リチウムを主結晶相として含有する。この結晶相を含有することにより優れた耐熱性、機械的強度、高速回転化や落下衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や化学的耐久性を実現することができる。
一方、機械的強度を維持しつつ、比重を低くし、所望の結晶相を析出させ、かつ高い清澄効果を得るためには、SnO2成分とCeO2成分の合計の含有量の上限は、5.0%であることが好ましく、より好ましくは4.0%であり、最も好ましくは3.0%である。また、同様の効果を得るためにSnO2成分及びCeO2成分の各々の含有量の上限は2.5%が好ましく、2.0%がより好ましく、1.5%が最も好ましい。
さらに、前記の特徴を維持しつつ、より高い清澄効果を得るためには、SnO2成分及びCeO2成分の両成分を含有することがより好ましい。
これらの成分による清澄効果を得る場合には、これらの成分以外の酸化物基準で表わされた原料の質量の合計に対し、F2に換算したフッ化物成分、SO3に換算した硫酸塩成分、Cl2に換算した塩化物成分の1種以上の合計の質量の割合の下限が0.01質量%であることが好ましく、0.03質量%であることがより好ましく、0.05質量%であることが最も好ましい。但し、硫酸塩、塩化物、およびフッ化物以外の他の清澄剤を含有させる場合には前記合計の質量の割合は0%でも良い。
また、同様の効果を得るために、これらの成分以外の酸化物基準で表わされた原料の質量の合計に対し、F2に換算したフッ化物成分、SO3に換算した硫酸塩成分、Cl2に換算した塩化物成分各々の含有量の下限は0.01質量%がより好ましく、0.02質量%が最も好ましい。但し、S、Cl、およびF成分以外の清澄剤を含有させる場合は上記成分の各々の含有量は0%でも良い。
また、所望の結晶相を析出し、情報記録媒体用基板用途として要求される物性を維持しつつ清澄効果を得るためには、これらの成分以外の酸化物基準で表わされた原料の質量の合計に対し、F2に換算したフッ化物成分、SO3に換算した硫酸塩成分、Cl2に換算した塩化物成分の1種以上の合計の質量の割合の上限としては1.5質量%で十分であり、1.2質量%がより好ましく、1.0質量%が最も好ましい。
また、同様の効果を得つつ、リボイルを抑制するために、これらの成分以外の酸化物基準で表わされた原料の質量の合計に対し、F2に換算したフッ化物成分、SO3に換算した硫酸塩成分、Cl2に換算した塩化物成分各々の含有量の上限は1.5質量%が好ましく、1.0質量%が好ましく、特にダイレクトプレス時のリボイル抑制の点からは実質的に含まないことが最も好ましい。ここで実質的に含まないとは、人為的に含有させないことを言い、不純物としてごく微量含有することを許容するものである。
また、所望の結晶相を析出し、情報記録媒体用基板用途として要求される物性を維持しつつ清澄効果を得るためには、これらの成分の合計の含有量の上限としては2.5%で十分であり、2%がより好ましく、特にダイレクトプレス時のリボイル抑制の点からは実質的に含まないことが最も好ましい。
また、SrO成分の含有量の上限は比重を適切な値とするために15%以下が好ましく、14%以下がより好ましく、13%以下が最も好ましい。
また、SrO成分およびBaO成分はガラス成分中に多量に含有させても析出結晶の肥大化や結晶相への固溶が発生しにくい成分である反面、比重が増加する傾向にあるため、比重を適切な値とし、前記知見による効果を得るためには、SrO成分およびBaO成分から選ばれる1種以上の合計量が15%以下であることが好ましく、14%以下がより好ましく、13%以下が最も好ましい。
従来レベルの平滑性では、磁気記録媒体への高密度な入出力を行おうとしても、ヘッドと媒体間の距離が大きくならざるをえないため、磁気信号の入出力を行うことができない。またこの距離を小さくしようとすると、媒体(ディスク基板)の突起とヘッドが衝突し、ヘッド破損や媒体破損を引き起こしてしまう。したがって、この著しく低い浮上高さもしくは接触状態でもヘッド破損やディスク基板破損を引き起こさず、且つヘッドと媒体の吸着を生じない様にするため、表面粗度Ra(算術平均粗さ)の上限は2Åである。
そして、このような平滑な研磨面を得やすくするためには、結晶化ガラスの結晶粒子の平均粒子径の上限が100nm以下であることが好ましく、より好ましくは70nm以下、最も好ましくは50nm以下である。また、機械的強度および耐熱性を良好なものとするために、結晶化ガラスの結晶粒子の平均粒子径の下限は1nmが好ましい。
本発明の結晶化ガラスは上記の平均線膨張係数を有するので、熱的な寸法安定性が求められる各種精密部材等の用途としても好ましく使用することができる。
また、平均線膨張係数はJOGIS(日本光学硝子工業会規格)16−2003「光学ガラスの常温付近の平均線膨張係数の測定方法」に則り、温度範囲を25℃から100℃に換えて測定した値をいう。
比重はアルキメデス法、ヤング率は超音波法を用いて測定した。
結晶相の同定はX線回折装置(パナリティカル社製、商品名:X’pert−MPD)で得たX線回折図形から求めた。
酸化物基準の質量%において、清澄剤を用いず、SiO2成分を75.5%とした以外は実施例1と同様の組成で、同様の条件で結晶化ガラスを作製した。ガラス1cm3中に含まれる残存泡数を観察したところ、残存泡数は70個であった。
また、実施例1の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)を400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=1:3)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が圧縮応力層形成前(500MPa)の3倍に向上していることが確認された。
また、実施例10の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)を400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=1:3)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が圧縮応力層形成前(500MPa)の5倍に向上していることが確認された。
また、実施例1の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)を300℃〜600℃に加熱した後に空冷法で急速冷却を実施し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が向上していることが確認された。
また、実施例32の2.5インチHDD用研磨基板(65φ×0.635mmt)を400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=3:1)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が圧縮応力層形成前(500MPa)の8倍に向上していることが確認された。また、0.16時間浸漬した場合のリング曲げ強度は、圧縮応力層形成前の3倍に向上しており、0.32時間浸漬した場合のリング曲げ強度は、圧縮応力層形成前の5倍に向上していることが確認された。
また、上記の実施例により得られた基板に、DCスパッタ法により、クロム合金下地層、コバルト合金磁性層を成膜し、さらにダイヤモンドライクカーボン層を形成し、次いでパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を塗布して、情報磁気記録媒体を得た。
実施例32の結晶化前のガラスを600℃、6時間で熱処理し、65φ×0.635mmtとなるように加工を施し内孔を有する円板状の基板を得た。TEM(透過電子顕微鏡)で観察したところ、分相状態となっていることが観察された。加工条件は基板表面を平均粒径5〜30μmの砥粒にて約10分〜60分のラッピングし、内外径加工の後、基板表面を平均粒径0.5μm〜2μmの酸化セリウムにて約30分〜60分間研磨した。研磨後の時の表面粗さRaは0.45Åと良好であった。
また、得られた基板に400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=3:1)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が2000MPaであり、結晶化ガラスを基板とする場合に比べ若干劣るが、情報記録媒体用基板として十分な強度を有していた。
実施例32の結晶化前のガラスを490℃、2時間で熱処理し、65φ×0.635mmtとなるように加工を施し内孔を有する円板状の基板を得た。加工条件は基板表面を平均粒径5〜30μmの砥粒にて約10分〜60分のラッピングし、内外径加工の後、基板表面を平均粒径0.5μm〜2μmの酸化セリウムにて約30分〜60分間研磨した。研磨後の時の表面粗さRaは0.48Åと良好であった。
また、得られた基板に400℃の硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合塩(KNO3:NaNO3=3:1)に0.5時間浸漬し、表面に圧縮応力層を形成した。この基板はリング曲げ強度が1800MPaであり、結晶化ガラスを基板とする場合に比べ若干劣るが、情報記録媒体用基板として十分な強度を有していた。
また、量産レベルでのプレス成形性に対応しうる低粘度特性、磁気ヘッドの低浮上化に対応可能な極めて平滑な基板表面を有し、高速回転に対応した高ヤング率と低比重特性を備え、優れた機械的特性も兼ね揃えた結晶化ガラスを提供するものである。これにより、情報記録媒体用基板、とりわけ、HDD向け垂直磁気記録媒体用基板として有用である。
さらに、本発明の結晶化ガラスは清澄剤として砒素、アンチモンを実質的に非含有またはアンチモン成分が0.1%未満の含有量なので、直接通電による電気溶解において一般的に使用されるモリブデン電極の浸食を低減することができる。
Claims (15)
- 結晶相として二ケイ酸リチウムを含有し、
Sn、Ce、Mn、W、Ta、Bi、Nb、S、Cl、およびFから選ばれる1種以上の元素を含有し、
但しS、Cl、およびFの含有量は0%であり、
酸化物基準の質量%で、
SiO 2 :60〜78%、および
Li 2 O:5〜9.9%、および
Al 2 O 3 :4〜10%、および
P 2 O 5 :1.5〜3.0%、および
ZrO 2 :1〜10%、および
SnO2成分:0〜2.5%、および
CeO2成分:0.01〜2.5%、および
但し、SnO2成分とCeO2成分の合計量 0.01〜5.0%
の各成分を含有し、
As 2 O 3 成分およびSb 2 O 3 成分を実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。 - 結晶相としてモノケイ酸リチウム、α−石英、α−石英固溶体、β−石英固溶体の中から選ばれる少なくとも1種以上を含有することを特徴とする請求項1に記載の結晶化ガラス。
- Mn、W、Ta、BiおよびNbから選ばれる1種以上の元素を含有し、それらの含有量は酸化物基準の質量%で、MnO2成分、WO3成分、Ta2O5成分、Bi2O3成分およびNb2O5成分から選ばれる1種以上の合計の含有量が0.01〜2.5%である請求項1又は2に記載の結晶化ガラス。
- 酸化物基準の質量%で
BaO:0〜15%、および/または
SrO:0〜15%、および/または
MgO:0〜2%、および/または
CaO:0〜2%、および/または
ZnO:0〜3%、および/または
K2O:0〜3%、および/または
Na2O:0〜3%,および/または
Cs2O:0〜3%,および/または
Gd2O3成分、La2O3成分、Y2O3成分、Ga2O3成分から選ばれる1種以上
の合計の含有量:0〜15%
の各成分を含有する請求項1〜3のいずれかに記載の結晶化ガラス。 - 酸化物基準の質量%で、Li2O成分、Na2O成分、K2O成分、およびCs2O成分の1種以上の合計量が5%〜14%である請求項1〜4のいずれかに記載の結晶化ガラス。
- 25℃〜100℃の温度範囲における平均線膨張係数が50〜120[10−7℃−1]であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の結晶化ガラス。
- 前記結晶相の平均粒子径が100nm以下である請求項1〜6のいずれかに記載の結晶化ガラス。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の結晶化ガラスを用いた情報記録媒体用基板。
- ヤング率が85GPa以上であることを特徴とする、請求項8に記載の情報記録媒体用基板。
- 請求項8または9に記載の基板の表面に圧縮応力層を設けた情報記録媒体用基板。
- 前記圧縮応力層は表面層に存在するアルカリ成分よりもイオン半径の大きなアルカリ成分で置換することにより形成されてなる請求項10に記載の情報記録媒体用基板。
- 前記圧縮応力層は基板の加熱、その後急冷によって形成されたことを特徴とする請求項10または11に記載の情報記録媒体用基板。
- 表面粗度Ra(算術平均粗さ)が2Å以下であることを特徴とする請求項8〜12のいずれかに記載の情報記録媒体用基板。
- 請求項8〜13のいずれかに記載の情報記録媒体用基板を用いた情報記録媒体。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の結晶化ガラスを製造する方法であって、原料を溶融して溶融ガラスとし、前記溶融ガラス成形した後、熱処理により結晶化ガラスを得ることを特徴とする結晶化ガラスの製造方法。
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DE102010002188B4 (de) * | 2010-02-22 | 2018-11-08 | Schott Ag | Transparente LAS-Glaskeramik hergestellt mit alternativen umweltfreundlichen Läutermitteln |
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EP2377830B1 (de) * | 2010-04-16 | 2016-04-13 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-Glaskeramik und -Glas mit Übergangsmetalloxid |
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EP2650264B1 (en) | 2010-05-31 | 2018-06-27 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Production method for a li2o-al2o3-sio2 based crystallised glass |
JP5619515B2 (ja) * | 2010-08-03 | 2014-11-05 | 昭和電工株式会社 | 酸化セリウム系研磨剤及びガラス製ハードディスク基板の製造方法 |
DE102010050275A1 (de) * | 2010-11-02 | 2012-05-03 | Degudent Gmbh | Lithiumsilikat-Gläser oder -Glaskeramiken, Verfahren zu deren Herstellung sowie deren Verwendung |
US8883663B2 (en) * | 2010-11-30 | 2014-11-11 | Corning Incorporated | Fusion formed and ion exchanged glass-ceramics |
WO2013001841A1 (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用ガラス基板及びその製造方法 |
ES2563739T3 (es) * | 2011-10-14 | 2016-03-16 | Ivoclar Vivadent Ag | Vitrocerámica y vidrio de silicato de litio con óxido metálico pentavalente |
WO2013053863A2 (de) * | 2011-10-14 | 2013-04-18 | Ivoclar Vivadent Ag | Lithiumsilikat-glaskeramik und -glas mit einwertigem metalloxid |
KR101933748B1 (ko) * | 2011-10-31 | 2018-12-28 | 도아고세이가부시키가이샤 | 아크릴산계 중합체의 제조 방법 및 그의 용도 |
JP2013194177A (ja) * | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 連続重合の停止方法 |
CN104254501B (zh) * | 2012-04-27 | 2016-09-28 | 旭硝子株式会社 | 化学强化玻璃的制造方法 |
FR2990690B1 (fr) * | 2012-05-15 | 2016-01-01 | Eurokera | Vitroceramiques de quartz-beta, transparentes, essentiellement incolores et non diffusantes; articles en lesdites vitroceramiques; verres precurseurs |
CN107973530B (zh) * | 2012-08-28 | 2022-03-01 | 康宁股份有限公司 | 有色和不透明玻璃-陶瓷,相关的可着色和可陶瓷化玻璃,和相关方法 |
JP6391926B2 (ja) * | 2012-10-10 | 2018-09-19 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス及びその製造方法 |
CN103011602B (zh) * | 2012-12-26 | 2016-02-17 | 中国人民解放军第四军医大学 | 一种强韧化玻璃陶瓷及其制备方法 |
CN103043910A (zh) * | 2012-12-26 | 2013-04-17 | 中国人民解放军第四军医大学 | 一种用于制作牙科修复体的玻璃陶瓷及其制备方法 |
US9440878B2 (en) | 2013-02-28 | 2016-09-13 | Corning Incorporated | Fusion formable lithium aluminosilicate glass ceramic |
TWI817081B (zh) | 2014-10-08 | 2023-10-01 | 美商康寧公司 | 具有葉長石及矽酸鋰結構的高強度玻璃陶瓷 |
WO2016069823A1 (en) * | 2014-10-30 | 2016-05-06 | Corning Incorporated | Glass-ceramic compositions and laminated glass articles incorporating the same |
EP4273107A3 (de) * | 2015-08-25 | 2024-01-24 | Ivoclar Vivadent AG | Lithiumsilikat-tiefquarz-glaskeramik |
US10043903B2 (en) | 2015-12-21 | 2018-08-07 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor devices with source/drain stress liner |
CN106116162B (zh) * | 2016-06-15 | 2018-11-06 | 山东智汇专利运营有限公司 | 一种教学用研钵及其制备方法 |
JP7333159B2 (ja) * | 2016-12-26 | 2023-08-24 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス基板の製造方法 |
CN111348833B (zh) * | 2017-12-01 | 2022-04-08 | 成都光明光电股份有限公司 | 微晶玻璃及其基板 |
JP7079851B2 (ja) * | 2017-12-01 | 2022-06-02 | シーディージーエム グラス カンパニー リミテッド | 結晶化ガラスおよびその基板 |
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EP3694813A2 (en) * | 2018-07-16 | 2020-08-19 | Corning Incorporated | Glass-ceramic articles with increased resistance to fracture and methods for making the same |
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CN111099829B (zh) * | 2018-10-26 | 2021-03-09 | 成都光明光电股份有限公司 | 透明微晶玻璃、微晶玻璃制品及其制备方法 |
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CN109231840B (zh) * | 2018-11-29 | 2019-11-15 | 成都贝施美生物科技有限公司 | 一种玻璃陶瓷及其制备方法 |
CN113302163B (zh) * | 2019-01-16 | 2024-06-11 | 康宁股份有限公司 | 基于二硅酸锂盐、锆石和磷灰石的玻璃陶瓷 |
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CN110104955B (zh) * | 2019-05-27 | 2021-12-17 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种化学强化的自结晶玻璃陶瓷及其制备方法 |
WO2022044799A1 (ja) * | 2020-08-24 | 2022-03-03 | Agc株式会社 | ガラス、化学強化ガラスおよび曲面形状を含むガラスの製造方法 |
JP7052956B1 (ja) * | 2020-10-19 | 2022-04-12 | 湖州大享玻璃制品有限公司 | Li2O-Al2O3-SiO2系結晶化ガラス及びLi2O-Al2O3-SiO2系結晶性ガラス |
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US6344423B2 (en) * | 1998-02-26 | 2002-02-05 | Kabushiki Kaisha Ohara | High rigidity glass-ceramic substrate for a magnetic information storage medium |
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US6582826B1 (en) * | 1998-03-23 | 2003-06-24 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramics |
US6383645B1 (en) * | 1998-03-23 | 2002-05-07 | Kabushiki Kaisha Ohara | Glass-ceramic substrate for an information storage medium |
JPH11328601A (ja) | 1998-05-12 | 1999-11-30 | Asahi Techno Glass Corp | 記録媒体用ガラス基板、ガラス基板を用いた記録媒体および記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2000143290A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-23 | Ngk Insulators Ltd | 結晶化ガラス、磁気ディスク用基板、磁気ディスクおよび結晶化ガラスの製造方法 |
WO2000034196A2 (en) | 1998-12-11 | 2000-06-15 | Jeneric/Pentron Incorporated | Pressable lithium disilicate glass ceramics |
JP2001035417A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-09 | Ohara Inc | Crt用ガラスセラミックス |
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WO2001021539A1 (fr) | 1999-09-21 | 2001-03-29 | Kabushiki Kaisha Ohara | Element de maintien pour disque de stockage d'information et unite de disque de stockage d'information |
JP2001148114A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Ohara Inc | 情報磁気記憶媒体用ガラスセラミックス基板。 |
JP2001240420A (ja) | 1999-12-24 | 2001-09-04 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板およびその製造方法 |
US20010007723A1 (en) | 1999-12-24 | 2001-07-12 | Takahiro Tokumoto | Glass substrate for magnetic recording medium, manufacturing method thereof, and magnetic recording medium incorporating the glass substrate |
JP4224925B2 (ja) | 2000-04-03 | 2009-02-18 | コニカミノルタオプト株式会社 | ガラス組成物 |
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DE10110225C2 (de) * | 2001-03-02 | 2003-07-17 | Schott Glas | Glaskeramisches Trägermaterial, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
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