JP4976617B2 - 新規なベンゾフェノン誘導体およびその塩 - Google Patents
新規なベンゾフェノン誘導体およびその塩 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4976617B2 JP4976617B2 JP2001075228A JP2001075228A JP4976617B2 JP 4976617 B2 JP4976617 B2 JP 4976617B2 JP 2001075228 A JP2001075228 A JP 2001075228A JP 2001075228 A JP2001075228 A JP 2001075228A JP 4976617 B2 JP4976617 B2 JP 4976617B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- general formula
- reaction
- group
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、優れた抗関節炎作用および関節炎による骨破壊を抑止する作用を有し、優れた関節疾患予防・治療・改善効果を発揮する新規なベンゾフェノン誘導体またはその塩に関する。
【0002】
【従来の技術】
慢性関節リウマチに代表される結合織疾患性関節炎や変形性関節症などの関節疾患は、軟骨・骨破壊の進行により、機能障害をもたらし、日常生活に大きな影響を与える疾患である。
これまで、慢性関節リウマチ、その他の関節炎の薬物治療には、アスピリン、インドメタシン等の非ステロイド性抗炎症剤(NSAIDs)、金剤、D-ペニシラミンなどの疾患修飾性抗リウマチ剤(DMARDs)、メトトレキサートなどの免疫抑制剤および副腎皮質ステロイドなどが使用されてきた。しかしながら、現在用いられている治療法では、関節炎の最大の問題である骨破壊の進行を完全に抑制することができず、副作用の点からも長期間使用が困難であるため満足のいく治療ができていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
それ故、優れた抗関節炎作用を有し、関節炎によって引き起こされる骨破壊を抑止する安全性の高い薬剤の開発が望まれていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】
このような状況下において、本発明者らは鋭意研究を行った結果、一般式
【化2】
「式中、R1は、置換されていてもよい低級アルキル基を;R2は、水素原子またはカルボキシル保護基を意味する。」
で表されるベンゾフェノン誘導体またはその塩が優れた抗関節炎作用を有し、関節炎治療剤として有用であることおよび高い安全性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】
以下、本発明化合物について詳述する。
本明細書において、特にことわらない限り、ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を;アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシルおよびオクチルなどの直鎖状または分枝鎖状C1-12アルキル基を;低級アルキル基とは、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチルおよびヘキシルなどの直鎖状または分枝鎖状C1-6アルキル基を;アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニルおよびオクテニルなどの直鎖状または分枝鎖状C2-12アルケニル基を;低級アルケニル基とは、たとえば、ビニル、アリル、イソプロペニル、ブテニルおよびペンテニルなどの直鎖状または分枝鎖状C2-6アルケニル基を;シクロアルキル基とは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルなどのC3-6シクロアルキル基を;
【0006】
アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシおよびオクチルオキシなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-12アルコキシ基を;低級アルコキシ基とは、たとえば、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシおよびペンチルオキシなどの直鎖状または分枝鎖状C1-6アルコキシ基を;低級アルコキシカルボニル基とは、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニルおよびペンチルオキシカルボニルなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-6アルコキシカルボニル基を;
【0007】
アルカノイルオキシ基とは、たとえば、アセトキシ、プロパノイルオキシ、n−ブタノイルオキシ、ピバロイルオキシなどの直鎖状または分枝鎖状C1-12アルカノイルオキシ基を;アシル基とは、たとえば、ホルミル基、アセチルもしくはプロピオニルなどのC2-12アルカノイル基、ベンゾイルもしくはナフトイルなどのアロイル基およびニコチノイル、テノイル、ピロリジノカルボニルもしくはフロイル基などの複素環カルボニル基などのアシル基を;アリール基とは、たとえば、フェニル、トリルおよびナフチルなどの基を;低級アルキリデン基とは、たとえば、メチレン、エチリデン、プロピリデンおよびイソプロピリデンなどのC1-6アルキリデン基を;低級アルキルチオ基とは、たとえば、メチルチオ、エチルチオ、n−プロピルチオ、イソプロピルチオ、n−ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオおよびイソペンチルチオなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-6アルキルチオ基を;低級アルキルアミノ基とは、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよびメチルエチルアミノなどのモノまたはジ−C1-6アルキルアミノ基を;低級アルコキシイミノ基とは、たとえば、メトキシイミノおよびエトキシイミノなどの直鎖状もしくは分枝鎖状のC1-6アルコキシイミノ基を;脱離基とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子などのハロゲン原子、メチルスルホニルオキシなどのアルキルスルホニルオキシ基もしくはパラトルエンスルホニルオキシおよびベンゼンスルホニルオキシなどのアリールスルホニルオキシ基などの基を;
【0008】
環状アミノ基とは、たとえば、飽和の環状アミノおよび不飽和の環状アミノ基のいずれでもよく、また当該環内にさらに1つまたはそれ以上の窒素原子、酸素原子、硫黄原子などの異項原子およびカルボニル炭素を含んでいてもよく、さらに単環であっても2−3環性であってもよく、さらに具体的には、アジリジン−1−イル、アゼチジン−1−イル、ピロリジン−1−イル、ピロリン−1−イル、ピロール−1−イル、ジヒドロピリジン−1−イル、ピペリジノ、ジヒドロアゼピン−1−イルおよびペルヒドロアゼピン−1−イルなどの窒素原子1個を有する飽和または不飽和の単環式3−7員の環状アミノ基;イミダゾール−1−イル、イミダゾリジン−1−イル、イミダゾリン−1−イル、ピラゾリジン−1−イル、ピペラジン−1−イル、1,4−ジヒドロピラジン−1−イル、1,2−ジヒドロピリミジン−1−イル、ペルヒドロピラジン−1−イルおよびホモピペラジン−1−イルなどの窒素原子2個を有する飽和または不飽和の単環式3−7員の環状アミノ基;1,2,4−トリアゾール−1−イル、1,2,3−トリアゾール−1−イル、1,2−ジヒドロ−1,2,4−トリアジン−1−イルおよびペルヒドロ−S−トリアジン−1−イルなどの窒素原子3個以上を有する飽和または不飽和の単環式3−7員の環状アミノ基;オキサゾリジン−3−イル、イソオキサゾリジン−2−イル、モルホリノ、1,3−オキサゾリジン−3−イル、チアゾリジン−1−イル、イソチアゾリジン−1−イル、チオモルホリノ、ホモチオモルホリン−1−イルおよび1,2,4−チアジアゾリン−2−イルなどの窒素原子以外に酸素原子および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子1−4個を有する飽和または不飽和の単環式4−7員の環状アミノ基;イソインドリン−2−イル、インドリン−1−イル、1H−インダゾール−1−イル、プリン−7−イルおよびテトラヒドロキノリン−1−イルなどの飽和または不飽和の2−3環性の環状アミノ基;ならびに5−アザスピロ[2,4]ヘプタン−5−イル、2,8−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン−8−イル、3−アザビシクロ[3.1.0]ヘキサン−3−イル、2−オキサ−5,8−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナン−8−イル、2,8−ジアザスピロ[4,4]ノナン−2−イルおよび7−アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン−7−イルなどのスピロ式または架橋式の飽和または不飽和の5−12員の環状アミノ基を;
【0009】
複素環式基とは、たとえば、アゼチジニル、チエニル、フリル、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、フラザニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、1,3,4−オキサジアゾリル、1,2,3−チアジアゾリル、1,2,4−チアジアゾリル、1,3,4−チアジアゾリル、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、チアトリアゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、ピラニル、モルホリニル、1,2,4−トリアジニル、ベンゾチエニル、ナフトチエニル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、クロメニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シノリニル、フテリジニル、イソクロマニル、クロマニル、インドリニル、イソインドリニル、ベンゾオキサゾリル、トリアゾロピリジル、テトラゾロピリダジニル、テトラゾロピリミジニル、チアゾロピリダジニル、チアジアゾロピリダジニル、トリアゾロピリダジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリル、1,2,3,4−テトラヒドロキノリル、イミダゾ「1,2−b][1,2,4]トリアジニルおよびキヌクリジニルなどのような酸素原子、窒素原子および硫黄原子から選ばれる少なくとも1つの異項原子を含有する4−7員または縮合複素環式基をそれぞれ意味する。
【0010】
カルボキシル基の保護基としては、通常のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、メチル、エチル、n-プロピル、iso-プロピル、1,1−ジメチルプロピル、n-ブチルおよびtert-ブチルなどのアルキル基;フェニルおよびナフチルなどのアリール基;ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、p-ニトロベンジル、p-メトキシベンジルおよびビス(p-メトキシフェニル)メチルなどのアルアルキル基;アセチルメチル、ベンゾイルメチル、p-ニトロベンゾイルメチル、p-ブロモベンゾイルメチルおよびp-メタンスルホニルベンゾイルメチルなどのアシル−アルキル基;2−テトラヒドロピラニルおよび2−テトラヒドロフラニルなどの含酸素複素環式基;2,2,2−トリクロロエチルなどのハロゲノ−アルキル基;2−(トリメチルシリル)エチルなどのアルキルシリルアルキル基;アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチルおよびピバロイルオキシメチルなどのアシルオキシアルキル基;フタルイミドメチルおよびスクシンイミドメチルなどの含窒素複素環式−アルキル基;シクロヘキシルなどのシクロアルキル基;メトキシメチル、メトキシエトキシメチルおよび2−(トリメチルシリル)エトキシメチルなどのアルコキシ−アルキル基;ベンジルオキシメチルなどのアル−アルコキシ−アルキル基;メチルチオメチルおよび2−メチルチオエチルなどのアルキルチオ−アルキル基;フェニルチオメチルなどのアリールチオ−アルキル基;1,1−ジメチル−2−プロペニル、3−メチル−3−ブテニルおよびアリルなどのアルケニル基;ならびにトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、tert-ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびtert-ブチルメトキシフェニルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
【0011】
アミノ基の保護基としては、通常のアミノ保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、p-ニトロベンジルオキシカルボニル、o-ブロモベンジルオキシカルボニル、(モノ−、ジ−、トリ−)クロロアセチル、トリフルオロアセチル、フェニルアセチル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、tert-アミルオキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル、p-メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、4−(フェニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、2−フルフリルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、フタロイル、スクシニル、アラニル、ロイシル、1−アダマンチルオキシカルボニルおよび8−キノリルオキシカルボニルなどのアシル基;ベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアルアルキル基;2−ニトロフェニルチオおよび2,4−ジニトロフェニルチオなどのアリールチオ基;メタンスルホニルおよびp-トルエンスルホニルなどのアルキル−もしくはアリール−スルホニル基;N,N−ジメチルアミノメチレンなどのジアルキルアミノ−アルキリデン基;ベンジリデン、2−ヒドロキシベンジリデン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンジリデンおよび2−ヒドロキシ−1−ナフチルメチレンなどのアルアルキリデン基;3−ヒドロキシ−4−ピリジルメチレンなどの含窒素複素環式アルキリデン基;シクロヘキシリデン、2−エトキシカルボニルシクロヘキシリデン、2−エトキシカルボニルシクロペンチリデン、2−アセチルシクロヘキシリデンおよび3,3−ジメチル−5−オキシシクロヘキシリデンなどのシクロアルキリデン基;ジフェニルホスホリルおよびジベンジルホスホリルなどのジアリール−もしくはジアルアルキルホスホリル基;5−メチル−2−オキソ−2H−1,3−ジオキソール−4−イル−メチルなどの含酸素複素環式アルキル基;ならびにトリメチルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
【0012】
ヒドロキシル基の保護基としては、通常のヒドロキシル保護基として使用し得るすべての基を含み、たとえば、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、4−ブロモベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ジフェニルメトキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、2,2,2−トリブロモエトキシカルボニル、2−(トリメチルシリル)エトキシカルボニル、2−(フェニルスルホニル)エトキシカルボニル、2−(トリフェニルホスホニオ)エトキシカルボニル、2−フルフリルオキシカルボニル、1−アダマンチルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、S−ベンジルチオカルボニル、4−エトキシ−1−ナフチルオキシカルボニル、8−キノリルオキシカルボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピバロイルおよびベンゾイルなどのアシル基;メチル、tert-ブチル、2,2,2−トリクロロエチルおよび2−トリメチルシリルエチルなどのアルキル基;アリルなどのアルケニル基;ベンジル、p-メトキシベンジル、3,4−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよびトリチルなどのアルアルキル基;テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニルなどの含酸素および含硫黄複素環式基;メトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメチル、2−メトキシエトキシメチル、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、2−(トリメチルシリル)エトキシメチルおよび1−エトキシエチルなどのアルコキシ−アルキル基;メタンスルホニルおよびp-トルエンスルホニルなどのアルキル−およびアリール−スルホニル基;ならびにトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、tert-ブチルジメチルシリル、tert-ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチルシリルおよびtert-ブチルメトキシフェニルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
【0013】
一般式[1]の化合物またはその塩における化合物の塩としては、通常知られているアミノ基などの塩基性基またはヒドロキシルもしくはカルボキシル基などの酸性基における塩を挙げることができる。塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素酸および硫酸などの鉱酸との塩;酒石酸、ギ酸、クエン酸、トリクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;ならびにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩を、また、酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩;ならびにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、N−ベンジル−β−フェネチルアミンおよびN,N'−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などを挙げることができる。さらに、上記、塩の中で一般式[1]の化合物の好ましい塩としては、薬理学的に許容される塩が挙げられる。
【0014】
R1における低級アルキル基は、さらに、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、保護されていてもよいカルボキシル基、保護されていてもよいヒドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基、シクロアルキル基、低級アルケニル基、低級アルキリデン基、メルカプト基、低級アルキルチオ基、保護されていてもよい環状アミノ基、保護されていてもよい低級アルキルアミノ基および低級アルコキシイミノ基から選ばれる1つ以上の基で置換されていてもよい。
【0015】
本発明化合物のうち、好ましい化合物としては、R1が、低級アルキル基である化合物が挙げられ、さらに好ましくは、R1が、イソブチル基またはイソプロピル基であり、R2が、水素原子である化合物が挙げられる。
【0016】
本発明の代表的化合物としては、たとえば、次の化合物が挙げられる。
・3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸
・3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソプロポキシフェニル]プロパン酸
【0017】
また、一般式[1]の化合物またはその塩において、異性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など)が存在する場合、本発明は、それらの異性体を包含し、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶を包含するものである。
【0018】
つぎに、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、自体公知の方法を組合せることにより製造されるが、たとえば、つぎに示す製造法1にしたがって合成することができる。
【0019】
[製造法1]
【式1】
【式2】
「式中、R2aは、カルボキシル保護基を;R3は、置換されていてもよいアルキル基を;Zは、脱離基を;R1は、上記と同様の意味を示す。」
【0020】
一般式[3]の化合物は、酸の存在下に一般式[2]の化合物とホルミル化剤を反応させることにより得ることができる。
この反応に用いられる酸としては、四塩化チタン、四塩化スズ、塩化アルミニウムおよびオキシ塩化リンなどが挙げられ、その使用量は、一般式[2]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。この反応に用いられるホルミル化剤としては、α,α−ジクロロメチルメチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミドおよびオルトギ酸エチルなどが挙げられ、その使用量は、一般式[2]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類ならびにn−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類が挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、−78℃〜100℃、好ましくは、−10℃〜30℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
【0021】
一般式[5]の化合物は、酸または塩基の存在下または非存在下に一般式[3]の化合物と酸化剤を反応させることにより得ることができる。
この反応において所望に応じて用いられる酸としては、リン酸二水素ナトリウム、塩酸、硫酸、酢酸およびスルファミン酸などが挙げられ、その使用量は、一般式[3]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。また、所望に応じて用いられる塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ;ならびにピリジンなどが挙げられ、その使用量は、一般式[3]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。この反応に用いられる酸化剤としては、亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム、クロム酸、過マンガン酸カリウム、過酸化水素、酸化ルテニウム、酸化ニッケル、酸化銀および硝酸銀などが挙げられる。酸化剤の使用量は、一般式[3]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、テトラヒドロフラン、エチルエーテルおよびジオキサンなどのエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;アセトニトリルなどのニトリル類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;トルエンおよびベンゼンなどの芳香族炭化水素類;ジメチルスルホキシド;ピリジンならびに水などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、0℃〜100℃、好ましくは、0℃〜50℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
【0022】
一般式[5]の化合物は、酸または塩基の存在下または非存在下に一般式[4]の化合物と酸化剤を反応させることにより得ることができる。
この反応において、所望に応じて用いられる酸としては、硫酸および酢酸などが挙げられ、その使用量は、一般式[4]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。また、所望に応じて用いられる塩基としては、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなどの水酸化アルカリならびにピリジンなどが挙げられ、その使用量は、一般式[4]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。この反応に用いられる酸化剤としては、クロム酸および過マンガン酸カリウムなどが挙げられる。酸化剤の使用量は、一般式[4]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;ピリジンならびに水などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、0℃〜100℃、好ましくは、20℃〜100℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
【0023】
一般式[7]の化合物は、酸の存在下に一般式[5]の化合物の酸塩化物または酸無水物および一般式[6]の化合物をフリーデル・クラフツ(Friedel-Crafts)反応に付すことにより得ることができる。
この反応で使用する一般式[5]の化合物の酸塩化物または酸無水物は、一般式[5]の化合物を塩化チオニル、塩化オキサリル、五塩化リン、無水酢酸およびクロロギ酸エチルなどの活性化剤と反応させることにより得ることができる。活性化剤の使用量は、一般式[5]の化合物に対して、1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。また、一般式[5]の化合物の酸塩化物を得る反応において、触媒としてN,N−ジメチルホルムアミドを一般式[5]の化合物に対して、0.001〜1倍モル、好ましくは、0.01〜0.5倍モルを添加してもよい。この反応に用いられる酸としては、四塩化スズ、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素および塩化亜鉛などが挙げられ、その使用量は、一般式[5]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。また、一般式[6]の化合物の使用量は、一般式[5]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜2倍モルであればよい。この反応において、たとえば、2’−ヒドロキシアセトフェノン、アニソールおよび酢酸エチルなどの添加剤を使用してもよい。この反応で使用される溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;ニトロベンゼンならびに二硫化炭素などが挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、−78℃〜100℃で、好ましくは、−50℃〜30℃で、30分間〜24時間実施すればよい。
【0024】
一般式[1a]の化合物は、酸、塩基または塩の存在下、一般式[7]の化合物を脱アルキル化反応に付すことにより得ることができる。
この反応に用いられる酸としては、塩酸、硫酸および臭化水素酸などの鉱酸;トリフルオロ酢酸、チオフェノールなどの有機酸;ならびにヨウ化トリメチルシラン、塩化アルミニウム、三臭化ホウ素および塩化亜鉛などが挙げられる。この反応に用いられる塩基としては、エチルメルカプタンナトリウム塩、リチウムジイソプロピルアミドなどが挙げられる。また、この反応に用いられる塩としては、シアン化ナトリウム、ヨウ化リチウム、ピリジン塩酸塩などが挙げられる。酸、塩基および塩の使用量は、各々、一般式[7]の化合物に対して0.5〜20倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル類;アセトニトリルなどのニトリル類;メタノール、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、鉱酸を用いる場合は、水を用いてもよい。また、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、−78℃〜150℃で、好ましくは、−78〜110℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
【0025】
一般式[1b]の化合物は、一般式[1a]の化合物を(1)酸もしくは(2)塩基での加水分解反応、(3)塩を用いた脱エステル化反応または(4)金属触媒水素添加反応を含む還元的脱エステル化反応などの脱保護反応に付すことにより得ることができる。
酸での加水分解反応に用いられる酸としては、ギ酸、塩酸、硫酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸、塩化アルミニウムおよびヨウ化トリメチルシランなどが挙げられ、その使用量は、一般式[1a]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜100倍モルであればよい。塩基での加水分解反応に用いられる塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化バリウムなどの水酸化アルカリならびにフッ化テトラブチルアンモニウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[1a]の化合物に対して1〜1000倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。塩を用いた脱エステル化反応で用いられる塩としては、ヨウ化リチウムおよび塩化ナトリウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[1a]の化合物に対して1〜10倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。また、たとえば、金属触媒水素添加反応を含む還元的脱エステル化反応で用いられる触媒としては、パラジウム−炭素、パラジウム−ブラックおよび水酸化パラジウムなどが挙げられ、その使用量は、一般式[1a]の化合物に対して0.001〜1倍%(W/W)、好ましくは、0.01〜0.5倍%(W/W)であればよい。金属触媒水素添加反応を含む還元的脱エステル化反応に用いられる還元剤としては、水素、ギ酸、シクロヘキセンおよび亜鉛などが挙げられ、その使用量は、一般式[1a]の化合物に対して1〜100倍モル、好ましくは、1〜10倍モルであればよい。(1)の反応で使用される溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;ニトロメタンなどのニトロ類;ジメチルスルホキシド;N,N−ジメチルホルムアミド;ならびに水などが挙げられる。(2)の反応で使用される溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンおよびアニソールなどのエーテル類;N,N−ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド;ピリジン;ならびに水などが挙げられる。(3)の反応で使用される溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;トルエン、ベンゼンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;アセトニトリルなどのニトリル類;塩化メチレン、クロロホルムおよび四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンおよびアニソールなどのエーテル類;ニトロメタンなどのニトロ類;ジメチルスルホキシド;ピリジン;N,N−ジメチルホルムアミド;ならびに水などが挙げられる。(4)の反応で使用される溶媒としては、たとえば、メタノール、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;n−ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンおよびアニソールなどのエーテル類;酢酸エチルなどのエステル類;N,N−ジメチルホルムアミド;ならびに水などが挙げられる。これらの溶媒は、一種または二種以上混合して使用してもよい。
これらの反応は、通常、−78〜100℃、好ましくは、5〜60℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
【0026】
一般式[8]の化合物は、酸、塩基または塩の存在下、一般式[7]の化合物を脱アルキル化反応に付すことにより得ることができる。
この反応に用いられる酸としては、塩酸、硫酸および臭化水素酸などの鉱酸;トリフルオロ酢酸;チオフェノールなどの有機酸;ヨウ化トリメチルシラン;塩化アルミニウム;三臭化ホウ素ならびに塩化亜鉛などが挙げられる。この反応に用いられる塩基としては、エチルメルカプタンナトリウム塩、リチウムジイソプロピルアミドなどが、挙げられる。また、この反応に用いられる塩としては、シアン化ナトリウム、ヨウ化リチウム、ピリジン塩酸塩などが挙げられ、酸、塩基および塩の使用量は、各々、一般式[7]の化合物に対して1〜100倍モル、好ましくは、3〜50倍モルであればよい。この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル類;アセトニトリルなどのニトリル類;メタノール、エタノールおよびイソプロピルアルコールなどのアルコール類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、鉱酸を用いる場合は、水を用いてもよい。また、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、−78℃〜150℃で、好ましくは、20〜110℃で、1〜48時間実施すればよい。
【0027】
一般式[1c]の化合物は、塩基の存在下に一般式[8]の化合物を一般式[9]の化合物とイソプロピル化反応に付すことにより得ることができる。
この反応に用いられる一般式[9]の化合物の使用量は、一般式[8]の化合物に対して、1〜20倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。また、この反応に用いられる塩基としては、たとえば、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンおよびピリジンなどの有機アミン類;水素化ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物;ならびに炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属炭酸塩などが挙げられ、その使用量は、一般式[8]の化合物に対して1〜20倍モル、好ましくは、1〜5倍モルであればよい。この反応で用いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、たとえば、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢酸メチルおよび酢酸エチルなどのエステル類;アセトニトリルなどのニトリル類; N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類;クロロホルムおよび塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素類;ならびにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類が挙げられ、これらの溶媒を一種または二種以上混合して使用してもよい。
この反応は、通常、0〜200℃、好ましくは、25〜150℃で、10分間〜24時間実施すればよい。
【0028】
式[1d]の化合物は、一般式[1c]の化合物を酸または塩基での加水分解反応、塩を用いた脱エステル化反応または金属触媒水素添加反応を含む還元的脱エステル化反応などの脱保護反応に付すことにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[1a]の化合物から一般式[1b]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0029】
また、製造法1で出発原料として用いている一般式[2]の化合物は、たとえば、サリチルアルデヒドを常法でアルキル化し、ついでホーナー・ワズワース・エモンズ反応などを用いて増炭反応を行った後、金属触媒水素添加反応を行うことによって得ることができる。たとえば、3−(2−ヒドロキシフェニル)プロパン酸をアルキル化することによっても得ることができる。
【0030】
次に、製造法1で使用される一般式[8]の化合物またはその塩の合成法について製造法AおよびBに説明する。
【0031】
[製造法A]
【式3】
「式中、R4、R5、R6は、置換されていてもよいアルキル基を;R2aは、上記したと同様の意味を示す。」
【0032】
一般式[12]の化合物は、一般式[10]の化合物を一般式[11]の化合物と反応させることにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[5]の化合物から一般式[7]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0033】
一般式[8]の化合物は、一般式[12]の化合物を脱アルキル化反応に付すことにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[7]の化合物から一般式[8]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0034】
[製造法B]
【式4】
「式中、R4、R5、R6は、置換されていてもよいアルキル基を;R2aは、上記したと同様の意味を示す。」
【0035】
一般式[13]の化合物は、一般式[11]の化合物をホルミル化反応に付すことにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[2]の化合物から一般式[3]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0036】
一般式[15]の化合物は、一般式[13]の化合物を酸化反応に付すことにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[3]の化合物から一般式[5]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0037】
一般式[15]の化合物は、一般式[14]の化合物を酸化反応に付すことにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[4]の化合物から一般式[5]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0038】
一般式[12]の化合物は、一般式[15]の化合物を一般式[16]の化合物とフリーデルクラフツ反応に付すことにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[5]の化合物から一般式[7]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0039】
一般式[8]の化合物は、一般式[12]の化合物を脱アルキル化反応に付すことにより得ることができる。
この反応は、製造法1の一般式[7]の化合物から一般式[8]の化合物を得る方法と同様にして実施すればよい。
【0040】
また、上記製造法において、一般式[8]の化合物は、新規化合物であり、一般式[1]の化合物の製造法において重要な中間体である。
【0041】
上記した製造法で使用される化合物において、塩の形態を取りうる化合物は、塩として使用することもでき、それらの塩としては、たとえば、一般式[1]の化合物の塩で説明したと同様の塩が挙げられる。
【0042】
上記した製造法で使用される化合物において、異性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など)が存在する場合、これらの異性体も使用することができ、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶が存在する場合、これらの溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶も使用することができる。また、上記した製造法で使用される化合物において、保護しうる置換基、たとえば、アミノ基、ヒドロキシル基またはカルボキシル基などを有している化合物は、予めこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反応後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離することもできる。
【0043】
このようにして得られた一般式[1]の化合物を、例えば、酸化、還元、転位、置換、ハロゲン化、脱水または加水分解などの自体公知の反応に付すかあるいはそれらを適宜組み合わせることによって、他の一般式[1]の化合物に誘導することができる。また、一般式[1]の化合物またはその塩は、抽出、晶出および/またはカラムクロマトグラフィーなどの常法にしたがって単離精製することができる。
【0044】
本発明化合物を医薬として用いる場合、通常製剤化に使用される賦形剤、担体および希釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよく、これらは常法にしたがって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、粉体製剤、坐剤、軟膏剤または注射剤などの形態で経口または非経口で投与することができる。また投与方法、投与量および投与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択することができ、通常成人に対しては、経口または非経口(たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など)的投与により、1日、0.1〜100mg/kgを1回から数回に分割して投与すればよい。
【0045】
試験例 マウスのII型コラーゲン関節炎
8週齢の雄性DBA/1Jマウス(日本チャールス・リバー)を使用した。0.1mol/L酢酸に溶解した2mg/mLウシII型コラーゲン溶液(高研)に等量のフロインド完全アジュバント(ジフコ(DIFCO)社製)を加え、エマルジョンを作製し、0.2mLを尾根部皮内に注射した。初回接種時から21日後に同様の処置を行い、関節炎を誘発した。試験化合物を0.5%メチルセルロース水溶液に懸濁し、3mg/kgを21日後から35日後まで1日1回経口投与した。なお、コントロール群(陰性対照群)には、0.5%メチルセルロース水溶液を同様に投与した。関節炎の強さは、変化なしを0点、1、2指関節の腫脹もしくは手根部・足根部関節のみの軽い腫脹を1点、それ以上の関節に腫脹・発赤のみられるものを2点、前肢又は後肢全体にわたって明らかな腫脹が認められるものを3点とし、四肢の合計の満点を12点とする関節炎スコアとして評価した。骨破壊の程度は、36日後に四肢のX線写真を撮影し、第2〜5指間関節、第1〜5中手指及び中足指関節、踵骨については骨破壊像の有無により0または1点、手根部及び足根部については破壊の程度により0〜3点で評価し、四肢で最高50点の骨破壊スコアとした。抑制率は、以下の式で求めた。
抑制率(%)=100−(試験化合物のスコア/コントロールのスコア)×100
36日後における各試験化合物の関節炎および骨破壊抑制率を表1に示す。
【0046】
【表1】
【0047】
【実施例】
つぎに本発明化合物を参考例および実施例で説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
溶離液における混合比は、すべて容量比である。
また、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにおける担体は、シリカゲルBW-127ZH(富士シリシア化学社製)を用いた。
【0048】
実施例1
3−[5−(2,4−ジイソプロポキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル2.0gを塩化メチレン20mLに溶解させ、室温で塩化アルミニウム822mgを添加後、室温で30分間撹拌した。反応混合物を氷水に加えて有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=2:1]で精製することにより、淡黄色油状物の3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル585mgを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.8Hz), 1.23(3H,t,J=7.3Hz), 1.38(6H,d,J=6.1Hz), 1.92-2.40(1H,m), 2.61-2.72(2H,m), 2.92-3.12(2H,m), 3.82(2H,d,J=6.1Hz), 4.13(2H,q,J=7.1Hz), 4.50-4.77(1H,m), 6.34-6.50(2H,m), 6.88(1H,d,J=9.3Hz), 7.49-7.58(3H,m), 12.70(1H,s)
【0049】
実施例2
3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル545mgをエタノール2.5mLに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム1.5mLを加えた後に、室温で2.5時間撹拌した。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去することにより、淡黄色固形物の3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸444mgを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.6Hz), 1.36(6H,d,J=6.1Hz), 1.95-2.31(1H,m), 2.61-3.12(4H,m), 3.82(2H,d,J=6.1Hz), 4.50-4.77(1H,m), 6.32-6.49(2H,m), 6.89(1H,d,J=9.3Hz), 7.48-7.62(3H,m), 10.00(1H,br), 12.68(1H,s)
【0050】
実施例3
実施例1と同様にして3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソプロポキシフェニル]プロパン酸イソプロピルを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.19(6H,d,J=6.4Hz), 1.38(6H,d,J=6.1Hz), 1.39(6H,d,J=6.1Hz), 2.56-2.66(2H,m), 2.88-3.06(2H,m), 4.42-5.13(3H,m), 6.33-6.49(2H,m), 6.89(1H,d,J=9.3Hz), 7.50-7.60(3H,m), 12.70(1H,s)
実施例4
実施例2と同様にして3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソプロポキシフェニル]プロパン酸を得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.36(6H,d,J=6.1Hz), 1.39(6H,d,J=5.9Hz), 2.61-3.08(4H,m), 4.49-4.74(2H,m), 6.33-6.49(2H,m), 6.90(1H,d,J=9.3Hz), 7.50-7.60(3H,m), 11.18(1H,br), 12.69(1H,s)
【0051】
実施例5
3−[5−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)−2−ヒドロキシフェニル]プロパン酸メチル5.0g、炭酸カリウム9.6gおよびヨウ化イソプロピル6.4mLをN,N−ジメチルホルムアミド50mLに懸濁させ、50〜60℃で2時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で精製することにより、無色油状物の3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソプロポキシフェニル]プロパン酸メチル4.7gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.36(6H,d,J=6.1Hz), 1.38(6H,d,J=6.1Hz), 2.52-3.06(4H,m), 3.66(3H,s), 4.49-4.80(2H,m), 6.30-6.48(2H,m), 6.88(1H,d,J=9.3Hz), 7.49-7.58(3H,m), 12.69(1H,s)
【0052】
実施例6
3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソプロポキシフェニル]プロパン酸メチル6.5gをメタノール65mLに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム6.5mLを加えた後、60℃で4時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去することにより、淡黄色固形物の3−[5−(2−ヒドロキシ−4−イソプロポキシベンゾイル)−2−イソプロポキシフェニル]プロパン酸4.3gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.36(6H,d,J=6.1Hz), 1.39(6H,d,J=5.9Hz), 2.61-3.08(4H,m), 4.49-4.74(2H,m), 6.33-6.49(2H,m), 6.90(1H,d,J=9.3Hz), 7.50-7.60(3H,m), 11.18(1H,br), 12.69(1H,s)
【0053】
参考例1
3−(2−ヒドロキシフェニル)プロパン酸5.0g、炭酸カリウム12.5gおよびヨウ化イソプロピル7.5mLをN,N−ジメチルホルムアミド50mLに懸濁させ、80〜120℃で5時間撹拌した。反応混合物をろ過後、ろ液に炭酸カリウム10.39gおよびヨウ化イソプロピル6mLを添加し、80〜120℃で3時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=10:1]で精製することにより、無色油状物の3−(2−イソプロポキシフェニル)プロパン酸イソプロピル4.55gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.20(6H,d,J=6.1Hz), 1.34(6H,d,J=6.1Hz), 2.46-2.68(2H,m), 2.84-3.01(2H,m), 4.42-4.69(1H,m), 4.85-5.14(1H,m), 6.74-6.89(2H,m), 7.10-7.25(2H,m)
【0054】
参考例2
3−(2−イソプロポキシフェニル)プロパン酸イソプロピル4.38gを塩化メチレン44mLに溶解させ、−5℃で四塩化チタン3.84mL、0〜15℃でα,α−ジクロロメチルメチルエーテル1.9mLを順次滴下後、−5〜−3℃で1時間撹拌した。反応混合物をクロロホルムおよび水の混合物に加え、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をアセトニトリル20mLに溶解させ、水9mLに溶解させたリン酸二水素ナトリウム二水和物7.34g、30%過酸化水素水2.9mLおよび水5.6mLに溶解させた80%亜塩素酸ナトリウム3.17gを5〜10℃で順次加えた後、室温で1時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=1:1]で精製することにより、淡黄褐色固形物の4−イソプロポキシ−3−(3−イソプロポキシ−3−オキソプロピル)安息香酸2.69gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.22(6H,d,J=6.1Hz), 1.38(6H,d,J=5.9Hz), 2.49-2.67(2H,m), 2.87-3.03(2H,m), 4.50-5.23(2H,m), 6.87(1H,d,J=9.3Hz), 7.92-8.03(2H,m), 10.88(1H,br)
【0055】
参考例3
レゾルシン10.0g、炭酸カリウム87.8gおよびヨウ化イソプロピル54mLをN,N−ジメチルホルムアミド100mLに懸濁させ、90〜110℃で10時間撹拌した。反応混合物をろ過後、ろ液に炭酸カリウム43.9gおよびヨウ化イソプロピル27mLを添加し、120〜130℃で3時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=10:1]で精製することにより、淡褐色油状物の1,3−ジイソプロポキシベンゼン6.68gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.32(12H,d,J=6.1Hz), 4.30-4.72(2H,m), 6.42-6.51(3H,m), 7.03-7.23(1H,m)
【0056】
参考例4
サリチルアルデヒド70.0gおよび炭酸カリウム158.5gをN,N−ジメチルホルムアミド700mLに懸濁させ、70℃で3−クロロ−2−メチル−1−プロペン68mLを30分間かけて滴下後、同温で30分間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH3に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をエタノール350mLに溶解させ、5%パラジウム−炭素7.0gを添加後、水素気流下、35℃で4時間撹拌した。反応混合物をセライトろ過後、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:トルエン=2:1]で精製することにより、淡黄色油状物の2−イソブトキシベンズアルデヒド92.4gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.6Hz), 2.0-2.2(1H,m), 3.85(2H,d,J=6.4Hz), 6.9-7.1(2H,m), 7.4-7.7(1H,m), 7.83(1H,dd,J=8.1,2.0Hz), 10.55(1H,s)
【0057】
参考例5
60%水素化ナトリウム0.92gをテトラヒドロフラン30mLに懸濁させ、室温でジエチルホスホノ酢酸エチル5.0mLを5分間かけて滴下後、40℃で30分間撹拌した。ついで、テトラヒドロフラン20mLに溶解させた2−イソブトキシベンズアルデヒド3.40gを室温で20分間かけて滴下後、同温で1時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=9:1]で精製することにより、淡黄色油状物の3−(2−イソブトキシフェニル)−2−プロペン酸エチル4.30gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.32(3H,t,J=7.1Hz), 1.8-2.4(1H,m), 3.78(2H,d,J=6.4Hz), 4.25(2H,q,J=7.1Hz), 6.53(1H,d,J=16.4Hz), 6.8-7.6(4H,m), 8.10(1H,d,J=16.1Hz)
【0058】
参考例6
3−(2−イソブトキシフェニル)−2−プロペン酸エチル1.50gをエタノール15mLに溶解させ、5%パラジウム−炭素0.3gを添加後、水素気流下、室温で1時間撹拌した。反応混合物をセライトろ過後、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=9:1]で精製することにより、無色油状物の3−(2−イソブトキシフェニル)プロパン酸エチル0.76gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.04(6H,d,J=6.6Hz), 1.22(3H,t,J=7.1Hz), 1.9-2.3(1H,m), 2.5-2.7(2H,m), 2.9-3.1(2H,m), 3.73(2H,d,J=6.4Hz), 4.12(2H,q,J=6.8Hz), 6.7-7.3(4H,m)
【0059】
参考例7
3−(2−イソブトキシフェニル)−2−プロパン酸エチル12.8gを塩化メチレン128mLに溶解させ、5〜10℃で四塩化チタン11.2mLおよびα,α−ジクロロメチルメチルエーテル5.1mLを順次滴下後、室温で30分間撹拌した。反応混合物を塩化メチレンおよび水の混合物に加え、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=10:1]で精製することにより、淡黄色油状物の3−(5−ホルミル−2−イソブトキシフェニル)プロパン酸エチル13.4gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.6Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 2.0-2.4(1H,m), 2.5-2.8(2H,m), 2.9-3.1(2H,m), 3.84(2H,d,J=6.4Hz), 4.13(2H,q,J=7.1Hz), 6.93(1H,d,J=9.0Hz), 7.7-7.9(2H,m), 9.85(1H,s)
【0060】
参考例8
3−(5−ホルミル−2−イソブトキシフェニル)プロパン酸エチル13.9gをアセトニトリル139mLに溶解させ、5〜10℃で水100mLに溶解させたリン酸二水素ナトリウム二水和物21.0g、30%過酸化水素水11.3mLおよび水39mLに溶解させた80%亜塩素酸ナトリウム11.3gを順次加えた後、室温で4時間撹拌した。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、有機層を分取した。得られた有機層を5%チオ硫酸ナトリウム水溶液、水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去することで、淡黄色固形物の4−イソブトキシ−3−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)安息香酸13.2gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.07(6H,d,J=6.6Hz), 1.25(3H,t,J=7.3Hz), 2.0-2.4(1H,m), 2.5-2.8(2H,m), 2.9-3.1(2H,m), 3.82(2H,d,J=6.1Hz), 4.14(2H,q,J=7.1Hz), 6.85(1H,d,J=8.0Hz), 7.9-8.1(2H,m), 9.0-9.8(1H,brs)
【0061】
参考例9
4−イソブトキシ−3−(3−エトキシ−3−オキソプロピル)安息香酸5.12gを塩化メチレン51mLに溶解させ、室温で塩化オキサリル1.8mL、N,N−ジメチルホルムアミド20μLを順次添加後、室温で1時間撹拌した。反応混合物に−30〜−20℃で塩化アルミニウム4.64gおよび1,3−ジイソプロポキシベンゼン3.3gを順次添加後に昇温し、5℃で1時間撹拌した。反応混合物を氷水に加えて有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=5:1]で精製することにより、淡黄色油状物の3−[5−(2,4−ジイソプロポキシベンゾイル)−2−イソブトキシフェニル]プロパン酸エチル5.05gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.06(6H,d,J=6.6Hz), 1.10(6H,d,J=6.1Hz), 1.23(3H,t,J=7.1Hz), 1.38(6H,d,J=6.1Hz), 1.91-2.38(1H,m), 2.47-2.69(2H,m), 2.87-3.07(2H,m), 3.80(2H,d,J=6.4Hz), 4.00-4.81(4H,m), 6.46-6.58(2H,m), 6.79(1H,d,J=9.3Hz), 7.33(1H,d,J=8.6Hz), 7.58-7.71(2H,m)
【0062】
参考例10
参考例9と同様にして3−[5−(2,4−ジイソプロポキシベンゾイル)−2−イソプロポキシフェニル]プロパン酸イソプロピルを得た。
NMR(CDCl3)δ値:1.10(6H,d,J=6.1Hz), 1.20(6H,d,J=6.4Hz), 1.37(12H,d,J=6.1Hz), 2.43-2.62(2H,m), 2.83-3.03(2H,m), 4.02-5.20(4H,m), 6.46-6.58(2H,m), 6.80(1H,d,J=9.3Hz), 7.33(1H,d,J=8.1Hz), 7.55-7.67(2H,m)
【0063】
参考例11
2,4−ジヒドロキシ安息香酸50g、炭酸カリウム269g、ジメチル硫酸123mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド500mLの懸濁液を70〜80℃で6.5時間撹拌した。さらに、炭酸カリウム90gおよびジメチル硫酸61mLを加えた後、110〜115℃で4時間撹拌した。反応混合物を酢酸エチルおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=1:2]で精製することにより、黄色油状物の2,4−ジメトキシ安息香酸メチル54gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:3.85(6H,s), 3.89(3H,s), 6.42-6.55(2H,m), 7.85(1H,d,J=9.3Hz)
【0064】
参考例12
2,4−ジメトキシ安息香酸メチル53gをエタノール160mLに溶解させ、5mol/L水酸化ナトリウム104mLを加えた後に、25〜40℃で2時間撹拌した。反応混合物にクロロホルムおよび水を加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去することにより、白色固形物の2,4−ジメトキシ安息香酸45gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:3.88(3H,s), 4.04(3H,s), 6.53-6.69(2H,m), 8.11(1H,d,J=8.5Hz), 10.34(1H,br)
【0065】
参考例13
2,4−ジメトキシ安息香酸15gを塩化メチレン150mLに溶解させ、室温で塩化オキサリル8.6mLおよびN,N−ジメチルホルムアミド20μLを順次加えた後、室温で4時間撹拌した。−45〜−40℃で塩化アルミニウム32.9gを添加後、−45〜−15℃で3−(2−メトキシフェニル)プロパン酸メチル19.2gを滴下し、3時間かけて室温まで昇温させた。反応混合物を氷水に加え、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=1:2]で精製することにより、黄色固形物の3−[5−(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2−メトキシフェニル]プロパン酸メチル15.05gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:2.48-2.68(2H,m), 2.89-3.03(2H,m), 3.66(3H,s), 3.72(3H,s), 3.86(3H,s), 3.88(3H,s), 6.47-6.57(2H,m), 6.83(1H,d,J=9.0Hz), 7.32(1H,d,J=9.0Hz), 7.64-7.72(2H,m)
【0066】
参考例14
3−[5−(2,4−ジメトキシベンゾイル)−2−メトキシフェニル]プロパン酸メチル500mgの1,2−ジクロロエタン5mL溶液に2’−ヒドロキシアセトフェノン0.5mLおよび塩化アルミニウム1.86gを添加後、35〜55℃で2時間撹拌した。反応混合物を氷水に加えて有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=1:1]で精製することにより、黄色固形物の3−[5−(2,4−ジヒドロキシベンゾイル)−2−ヒドロキシフェニル]プロパン酸メチル316mgを得た。
NMR (CDCl3)δ値:2.72-2.98(4H,m), 3.69(3H,s), 6.32-6.46(2H,m), 6.87(1H,d,J=8.1Hz), 7.36-7.53(3H,m), 8.17(2H,brs), 12.64(1H,s)
【0067】
参考例15
3,4−ジヒドロクマリン50gのメタノール150mL溶液にナトリウムメチラート(28%メタノール溶液)78gを室温で添加後、同温で10分間撹拌した。そこへ、ジメチル硫酸96mLおよびナトリウムメチラート(28%メタノール溶液)78gを順次添加し、20〜40℃で30分間攪拌した。反応混合物を塩化メチレンおよび水の混合物に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整し、有機層を分取した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下に溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=1:1]で精製することにより、無色油状物の3−(2−メトキシフェニル)プロパン酸メチル61gを得た。
NMR(CDCl3)δ値:2.50-2.69(2H,m), 2.86-3.04(2H,m), 3.66(3H,s), 3.82(3H,s), 6.79-6.94(2H,m), 7.11-7.30(2H,m)
【0068】
【発明の効果】
本発明の新規なベンゾフェノン誘導体またはその塩は、優れた抗関節炎作用および関節炎による骨破壊を抑止する作用を有し、優れた関節炎治療剤として有用である。
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001075228A JP4976617B2 (ja) | 2000-03-17 | 2001-03-16 | 新規なベンゾフェノン誘導体およびその塩 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000075822 | 2000-03-17 | ||
JP2000075822 | 2000-03-17 | ||
JP2000-75822 | 2000-03-17 | ||
JP2001075228A JP4976617B2 (ja) | 2000-03-17 | 2001-03-16 | 新規なベンゾフェノン誘導体およびその塩 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001328958A JP2001328958A (ja) | 2001-11-27 |
JP4976617B2 true JP4976617B2 (ja) | 2012-07-18 |
Family
ID=26587776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001075228A Expired - Lifetime JP4976617B2 (ja) | 2000-03-17 | 2001-03-16 | 新規なベンゾフェノン誘導体およびその塩 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4976617B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2002349777B2 (en) * | 2001-11-16 | 2007-12-20 | Toyama Chemical Co., Ltd. | Novel benzophenone derivatives or salts thereof |
JP2007204460A (ja) * | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Air Water Inc | インドールカルボン酸エステル類の製造方法 |
WO2007138996A1 (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Toyama Chemical Co., Ltd. | 3-{5-[4-(シクロペンチルオキシ)-2-ヒドロキシベンゾイル]-2-[(3-ヒドロキシ-1,2-ベンズイソオキサゾール-6-イル)メトキシ]フェニル}プロピオン酸の新規な結晶 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE788316A (fr) * | 1971-09-03 | 1973-03-01 | Roussel Uclaf | Nouveaux derives de l'acide butyrique et procede de preparation |
US4683241A (en) * | 1984-05-21 | 1987-07-28 | G. D. Searle & Co. | Phenolic ester derivatives as elastase inhibitors |
CN100378063C (zh) * | 1998-11-05 | 2008-04-02 | 富山化学工业株式会社 | 新型化合物及其医药用途 |
-
2001
- 2001-03-16 JP JP2001075228A patent/JP4976617B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001328958A (ja) | 2001-11-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3094453B2 (ja) | チエノトリアゾロジアゼピン化合物およびその医薬用途 | |
CN103751194B (zh) | 用于治疗病症的方法和组合物 | |
EP3802467A1 (en) | Spirocyclic compounds | |
CA1059988A (en) | Process for the manufacture of enol derivatives | |
JP3802581B2 (ja) | 新規なビフェニル誘導体またはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤 | |
JP4976617B2 (ja) | 新規なベンゾフェノン誘導体およびその塩 | |
JPS625987A (ja) | エラスタ−ゼ阻害剤として有用なβ−ラクタムのテトラゾリル誘導体 | |
AU612990B2 (en) | Antibiotic compounds | |
JP4028607B2 (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 | |
JPH08151368A (ja) | 新規なナフチリドンまたはキノロン化合物もしくはそれらの塩、それらからなる抗ウイルス剤 | |
JP3713291B2 (ja) | 新規なキノロンまたはナフチリドン化合物もしくはそれらの塩、それらからなる抗ヘルペスウイルス剤 | |
JP4542704B2 (ja) | 新規なスピロ化合物またはその塩、それらを含有する自己免疫疾患の予防・治療剤およびap−1阻害剤 | |
JPS641468B2 (ja) | ||
JP3914276B2 (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 | |
JPS6016989A (ja) | オキソ飽和異項環カルボンアミドセフエム化合物 | |
GB2233330A (en) | Penams | |
JPH1045765A (ja) | 新規なセファロスポリン類またはその塩 | |
JPH11279180A (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤 | |
JP2007503447A (ja) | 神経治療セファゾリン経口投与組成物 | |
JPS58210061A (ja) | 1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その製造法および用途 | |
EP0021676A1 (en) | 3-Methoxy-2-oxoazetidine derivatives and their production | |
JP4549461B2 (ja) | 7−ブロモ−キノロンカルボン酸誘導体の製造法 | |
JP3281522B2 (ja) | 新規な2,3−ジケトピペラジン誘導体またはその塩 | |
JPH0940605A (ja) | 新規なフェニルプロピオン酸誘導体またはその塩およびそれらを含有する抗炎症剤もしくはシクロオキシゲナーゼ阻害剤 | |
CA1140554A (en) | Process for the manufacture of 2-(2-oxoazetidin-1-yl)-crotonic acid derivatives |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20010425 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080313 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110715 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110715 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120403 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4976617 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150420 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |