JP4969771B2 - 固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 - Google Patents
固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4969771B2 JP4969771B2 JP2004204208A JP2004204208A JP4969771B2 JP 4969771 B2 JP4969771 B2 JP 4969771B2 JP 2004204208 A JP2004204208 A JP 2004204208A JP 2004204208 A JP2004204208 A JP 2004204208A JP 4969771 B2 JP4969771 B2 JP 4969771B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- capacitor
- circuit
- pixel
- capacitors
- stack
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims description 169
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 33
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 11
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 6
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 6
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/60—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
- H04N25/616—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise involving a correlated sampling function, e.g. correlated double sampling [CDS] or triple sampling
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/71—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/71—Charge-coupled device [CCD] sensors; Charge-transfer registers specially adapted for CCD sensors
- H04N25/75—Circuitry for providing, modifying or processing image signals from the pixel array
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/77—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components
- H04N25/772—Pixel circuitry, e.g. memories, A/D converters, pixel amplifiers, shared circuits or shared components comprising A/D, V/T, V/F, I/T or I/F converters
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/70—SSIS architectures; Circuits associated therewith
- H04N25/76—Addressed sensors, e.g. MOS or CMOS sensors
- H04N25/78—Readout circuits for addressed sensors, e.g. output amplifiers or A/D converters
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Description
本発明による固体撮像装置は、光電変換素子を含む画素が行列状に配置されてなる画素アレイ部と、前記画素アレイ部の各画素から出力される信号の処理に用いるキャパシタを含み、前記画素アレイ部の画素列ごとに配された信号処理回路と、を備え、前記信号処理回路の各々に含まれる前記キャパシタが、基板にコンタクトをとるために形成された金属配線の頭部の上面および側面に容量が形成されたスタックキャパシタを複数、行列状に配置して構成され、前記キャパシタを構成する複数のスタックキャパシタを行方向に並べる数が、前記画素の行方向のピッチに合わせて決められており、前記複数のスタックキャパシタを列方向に並べる数と、前記スタックキャパシタの前記金属配線の頭部の側面の高さとが、前記キャパシタの容量値に応じて決められている。
カラム回路15は、画素アレイ部12の水平方向の画素ごと、即ち垂直信号線121ごとに配される信号処理回路であり、例えばS/H(サンプルホールド)回路およびCDS(Correlated Double Sampling;相関二重サンプリング)回路151(以下、「S/H、CDS回路151」と記す)を有している。このS/H、CDS回路151をカラム回路15の実施例1に係る信号処理回路として説明する。
図3は、スタックキャパシタの構成の一例を示す断面図である。図3に示すように、スタックキャパシタは、シリコン基板21の例えばn型拡散層22に電気的なコンタクトをとるために形成された断面T字状の金属配線23と、当該金属配線23の頭部23Aの周囲に配された絶縁膜24と、金属配線23の頭部23A上に絶縁膜24を介して形成された例えばポリシリコンからなる抵抗が低い蓄積電極25とを有するMIM(Metal Insulator Metal)構造のキャパシタとなっている。
図4は、トレンチキャパシタの構成の一例を示す断面図である。図4に示すように、トレンチキャパシタは、シリコン基板31の深さ方向に形成されたトレンチ32と、このトレンチ32の表面に形成された濃度が濃く、抵抗が低いn層33と、このn層33の表面に沿って形成された絶縁膜34と、トレンチ32内にn層33および絶縁膜34を介して埋め込まれた蓄積電極35とを有するMIM構造のキャパシタとなっている。
実施例1では、カラム回路15としてS/H、CDS回路151を用いる場合を例に挙げたが、本実施例2では、カラム回路15としてA/D(アナログ/デジタル)変換回路152を用いるものとする。このAD変換回路152も、画素アレイ部12の垂直画素列ごとに配されることになる。
Claims (5)
- 光電変換素子を含む画素が行列状に配置されてなる画素アレイ部と、前記画素アレイ部の各画素から出力される信号の処理に用いるキャパシタを含み、前記画素アレイ部の画素列ごとに配された信号処理回路と、を備え、前記信号処理回路に含まれる前記キャパシタが、基板にコンタクトをとるために形成された金属配線の頭部の上面および側面に容量が形成されたスタックキャパシタを複数、行列状に配置して構成された、
固体撮像装置の前記キャパシタの容量値を調整する方法であって、
前記キャパシタを構成する複数のスタックキャパシタの行方向の数を、前記画素の行方向のピッチに合わせて調整し、
前記キャパシタの容量値を、前記複数のスタックキャパシタの列方向の数と、各スタックキャパシタの前記金属配線の頭部の側面の高さと、を変えることで調整する、
固体撮像装置のキャパシタ調整方法。 - 前記信号処理回路は、サンプルホールド回路および相関二重サンプリング回路である
請求項1記載の固体撮像装置のキャパシタ調整方法。 - 前記信号処理回路は、前記キャパシタを含むアナログ/デジタル変換回路である
請求項1記載の固体撮像装置のキャパシタ調整方法。 - 前記アナログ/デジタル変換回路は、アナログ/デジタル変換後の信号を記憶するDRAMを有し、当該DRAMのキャパシタが、前記複数のスタックキャパシタからなるキャパシタである
請求項3記載の固体撮像装置のキャパシタ調整方法。 - 光電変換素子を含む画素が行列状に配置されてなる画素アレイ部と、
前記画素アレイ部の各画素から出力される信号の処理に用いるキャパシタを含み、前記画素アレイ部の画素列ごとに配された信号処理回路と、
を備え、
前記信号処理回路の各々に含まれる前記キャパシタが、基板にコンタクトをとるために形成された金属配線の頭部の上面および側面に容量が形成されたスタックキャパシタを複数、行列状に配置して構成され、
前記キャパシタを構成する複数のスタックキャパシタを行方向に並べる数が、前記画素の行方向のピッチに合わせて決められており、
前記複数のスタックキャパシタを列方向に並べる数と、前記スタックキャパシタの前記金属配線の頭部の側面の高さとが、前記キャパシタの容量値に応じて決められている
固体撮像装置。
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004204208A JP4969771B2 (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | 固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 |
TW094122378A TWI279911B (en) | 2004-07-12 | 2005-07-01 | Solid state image pickup device |
US11/176,476 US9077922B2 (en) | 2004-07-12 | 2005-07-07 | Solid state image pickup device having a capacitor structure made up of a plurality of capacitors |
CNB2005100819324A CN100438056C (zh) | 2004-07-12 | 2005-07-08 | 固态图像拾取装置 |
CN2008101619846A CN101394474B (zh) | 2004-07-12 | 2005-07-08 | 固态图像拾取装置 |
KR1020050062284A KR101143698B1 (ko) | 2004-07-12 | 2005-07-11 | 고체 촬상 장치 |
US14/701,972 US9386250B2 (en) | 2004-07-12 | 2015-05-01 | Solid state image pickup device having a capacitor structure made up of a plurality of capacitors |
US15/070,081 US9661246B2 (en) | 2004-07-12 | 2016-03-15 | Solid state image pickup device having a capacitor structure made up of a plurality of capacitors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004204208A JP4969771B2 (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | 固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006032374A JP2006032374A (ja) | 2006-02-02 |
JP4969771B2 true JP4969771B2 (ja) | 2012-07-04 |
Family
ID=35540924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004204208A Expired - Fee Related JP4969771B2 (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | 固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9077922B2 (ja) |
JP (1) | JP4969771B2 (ja) |
KR (1) | KR101143698B1 (ja) |
CN (2) | CN101394474B (ja) |
TW (1) | TWI279911B (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4969771B2 (ja) * | 2004-07-12 | 2012-07-04 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 |
JP4529834B2 (ja) * | 2005-07-29 | 2010-08-25 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の駆動方法および撮像装置 |
JP2007329722A (ja) * | 2006-06-08 | 2007-12-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像素子、デジタルカメラ |
US7247831B1 (en) * | 2006-07-25 | 2007-07-24 | Micron Technology, Inc. | Reduction in size of column sample and hold circuitry in a CMOS imager |
US7470882B2 (en) * | 2006-07-25 | 2008-12-30 | Micron Technology, Inc. | Reduction in size of column sample and hold circuitry in a CMOS imager |
JP2008103444A (ja) * | 2006-10-18 | 2008-05-01 | Sony Corp | 固体撮像装置及び撮像装置 |
KR100864180B1 (ko) | 2006-12-28 | 2008-10-17 | 전자부품연구원 | 씨모스 이미지 센서 및 이미지 데이타 처리방법 |
JP4325703B2 (ja) * | 2007-05-24 | 2009-09-02 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の信号処理装置および信号処理方法、ならびに撮像装置 |
KR100847742B1 (ko) * | 2007-08-20 | 2008-07-22 | 배정훈 | 변환이득 조절이 가능한 공통 칼럼 액티브 cmos 이미지센서 |
JP5176453B2 (ja) * | 2007-09-27 | 2013-04-03 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法及び撮像装置 |
JP5302644B2 (ja) | 2008-12-03 | 2013-10-02 | キヤノン株式会社 | 撮像装置、及び撮像システム |
JP4835710B2 (ja) * | 2009-03-17 | 2011-12-14 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置、固体撮像装置の製造方法、固体撮像装置の駆動方法、及び電子機器 |
JP5489570B2 (ja) * | 2009-07-27 | 2014-05-14 | キヤノン株式会社 | 光電変換装置及び撮像システム |
JP4803306B1 (ja) * | 2010-04-07 | 2011-10-26 | ソニー株式会社 | 電池パックおよび電池パックの製造方法 |
JP2012253624A (ja) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Sony Corp | 固体撮像装置およびカメラシステム |
US9145383B2 (en) | 2012-08-10 | 2015-09-29 | Hallstar Innovations Corp. | Compositions, apparatus, systems, and methods for resolving electronic excited states |
JP6279332B2 (ja) * | 2014-01-21 | 2018-02-14 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
EP3258492A4 (en) * | 2015-02-10 | 2018-11-21 | Olympus Corporation | Image-capture element |
US11049861B2 (en) * | 2015-09-25 | 2021-06-29 | Intel Corporation | Method, device and system to provide capacitance for a dynamic random access memory cell |
CN107948552B (zh) * | 2017-12-28 | 2020-03-31 | 德淮半导体有限公司 | 图像传感器及其形成方法 |
JP2020047734A (ja) * | 2018-09-18 | 2020-03-26 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 固体撮像装置及び電子機器 |
KR102611170B1 (ko) * | 2018-12-28 | 2023-12-08 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 수직 핀형 캐패시터 및 이를 포함하는 이미지 센싱 장치 |
KR20200097841A (ko) | 2019-02-08 | 2020-08-20 | 삼성전자주식회사 | 이미지 센서 장치 |
KR102661820B1 (ko) | 2019-02-11 | 2024-05-02 | 삼성전자주식회사 | 이미지 센서 및 그것의 구동 방법 |
JP2022118787A (ja) | 2021-02-03 | 2022-08-16 | セイコーエプソン株式会社 | 可変容量回路、回路装置及び発振器 |
Family Cites Families (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61179568A (ja) * | 1984-12-29 | 1986-08-12 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置の製造方法 |
JPH04211163A (ja) * | 1985-05-03 | 1992-08-03 | Texas Instr Inc <Ti> | 集積回路 |
JP2820085B2 (ja) * | 1995-10-14 | 1998-11-05 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置とその製造方法 |
JP3142239B2 (ja) * | 1996-06-11 | 2001-03-07 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置 |
JPH1012838A (ja) * | 1996-06-21 | 1998-01-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
TW427012B (en) * | 1996-08-16 | 2001-03-21 | United Microelectronics Corp | The manufacturing method of double-combined capacitor DRAM cells |
JP4013293B2 (ja) * | 1997-09-01 | 2007-11-28 | セイコーエプソン株式会社 | 表示装置兼用型イメージセンサ装置及びアクティブマトリクス型表示装置 |
JP3532751B2 (ja) * | 1998-01-22 | 2004-05-31 | 株式会社東芝 | 混在型半導体集積回路装置及びその製造方法 |
TW461049B (en) * | 1998-02-27 | 2001-10-21 | Mosel Vitelic Inc | Bottom electrode process and structure of capacitor |
US6222175B1 (en) * | 1998-03-10 | 2001-04-24 | Photobit Corporation | Charge-domain analog readout for an image sensor |
US6552745B1 (en) * | 1998-04-08 | 2003-04-22 | Agilent Technologies, Inc. | CMOS active pixel with memory for imaging sensors |
JP3592106B2 (ja) * | 1998-11-27 | 2004-11-24 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置およびカメラ |
JP3194375B2 (ja) * | 1998-12-21 | 2001-07-30 | 日本電気株式会社 | 特性評価用半導体装置および特性評価方法 |
DE19907174C1 (de) * | 1999-02-19 | 2000-09-14 | Siemens Ag | Verfahren zum Herstellen einer DRAM-Zelle mit einem Grabenkondensator |
US6204524B1 (en) * | 1999-07-14 | 2001-03-20 | Micron Technology, Inc. | CMOS imager with storage capacitor |
JP3596749B2 (ja) * | 1999-12-01 | 2004-12-02 | 日本ビクター株式会社 | Cmosイメージセンサ |
JP4777496B2 (ja) * | 2000-02-10 | 2011-09-21 | 富士フイルム株式会社 | 固体撮像素子 |
JP2001245309A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-09-07 | Victor Co Of Japan Ltd | Cmosイメージセンサ |
JP2001285720A (ja) * | 2000-04-03 | 2001-10-12 | Fuji Film Microdevices Co Ltd | Mos型固体撮像装置および電子カメラ |
US6492241B1 (en) * | 2000-04-10 | 2002-12-10 | Micron Technology, Inc. | Integrated capacitors fabricated with conductive metal oxides |
US20020186312A1 (en) * | 2000-11-27 | 2002-12-12 | Moshe Stark | Programmable resolution CMOS image sensor |
US6525304B1 (en) * | 2000-11-28 | 2003-02-25 | Foveon, Inc. | Circuitry for converting analog signals from pixel sensor to a digital and for storing the digital signal |
KR100399954B1 (ko) * | 2000-12-14 | 2003-09-29 | 주식회사 하이닉스반도체 | 아날로그 상호 연관된 이중 샘플링 기능을 수행하는씨모스 이미지 센서용 비교 장치 |
JP2002320235A (ja) * | 2001-04-19 | 2002-10-31 | Fujitsu Ltd | 空間解像度の低下を抑えて縮小画像信号を生成するcmosイメージセンサ |
JP3827145B2 (ja) * | 2001-07-03 | 2006-09-27 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置 |
JP2003152086A (ja) * | 2001-11-15 | 2003-05-23 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
JP3870088B2 (ja) * | 2001-12-26 | 2007-01-17 | キヤノン株式会社 | 固体撮像装置及びシステム |
JP3992504B2 (ja) * | 2002-02-04 | 2007-10-17 | 富士通株式会社 | Cmosイメージセンサ |
JP3509022B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2004-03-22 | 沖電気工業株式会社 | チョッパ型コンパレータ |
JP3904111B2 (ja) * | 2002-06-04 | 2007-04-11 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置及びその信号処理方法 |
US6785120B1 (en) * | 2003-07-03 | 2004-08-31 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming hafnium-containing materials, methods of forming hafnium oxide, and capacitor constructions comprising hafnium oxide |
US7154075B2 (en) * | 2003-11-13 | 2006-12-26 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for pixel signal binning and interpolation in column circuits of a sensor circuit |
JP4969771B2 (ja) * | 2004-07-12 | 2012-07-04 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 |
-
2004
- 2004-07-12 JP JP2004204208A patent/JP4969771B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-01 TW TW094122378A patent/TWI279911B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-07-07 US US11/176,476 patent/US9077922B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-08 CN CN2008101619846A patent/CN101394474B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-08 CN CNB2005100819324A patent/CN100438056C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-11 KR KR1020050062284A patent/KR101143698B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2015
- 2015-05-01 US US14/701,972 patent/US9386250B2/en active Active
-
2016
- 2016-03-15 US US15/070,081 patent/US9661246B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9077922B2 (en) | 2015-07-07 |
KR101143698B1 (ko) | 2012-05-09 |
TW200614496A (en) | 2006-05-01 |
CN1722458A (zh) | 2006-01-18 |
CN101394474B (zh) | 2011-11-09 |
TWI279911B (en) | 2007-04-21 |
US9386250B2 (en) | 2016-07-05 |
US20060007338A1 (en) | 2006-01-12 |
JP2006032374A (ja) | 2006-02-02 |
CN101394474A (zh) | 2009-03-25 |
US20160198106A1 (en) | 2016-07-07 |
CN100438056C (zh) | 2008-11-26 |
US9661246B2 (en) | 2017-05-23 |
US20150237279A1 (en) | 2015-08-20 |
KR20060050050A (ko) | 2006-05-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4969771B2 (ja) | 固体撮像装置及びそのキャパシタ調整方法 | |
US11798961B2 (en) | Imaging device and imaging system | |
US11146752B2 (en) | Solid-state imaging apparatus, driving method of the solid-state imaging apparatus, and electronic equipment | |
JP3734717B2 (ja) | イメージセンサ | |
US7595828B2 (en) | Solid-state image pickup device and driving method therefor | |
KR100680469B1 (ko) | 인접한 화소들 사이의 센싱노드들이 공유된 씨모스 이미지센서 | |
KR101900668B1 (ko) | 고체 촬상 소자 및 촬상 장치 | |
KR20060070470A (ko) | 고체 촬상 장치 및 고체 촬상 장치의 구동 방법 | |
JP5495551B2 (ja) | 固体撮像装置 | |
JP4533367B2 (ja) | 固体撮像装置 | |
US20170302872A1 (en) | Solid-state imaging device, signal processing method, and electronic device | |
US20090046187A1 (en) | Solid-state imaging device | |
JP4510523B2 (ja) | 固体撮像装置および撮像システム | |
JP4720402B2 (ja) | 固体撮像装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051028 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080414 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090623 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090818 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20091007 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20091015 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20091104 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100203 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100215 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20100305 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120206 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120404 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150413 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |